JP2001037230A - 多点加圧式半導体スタック用球面座、及びボルト - Google Patents
多点加圧式半導体スタック用球面座、及びボルトInfo
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- JP2001037230A JP2001037230A JP11201304A JP20130499A JP2001037230A JP 2001037230 A JP2001037230 A JP 2001037230A JP 11201304 A JP11201304 A JP 11201304A JP 20130499 A JP20130499 A JP 20130499A JP 2001037230 A JP2001037230 A JP 2001037230A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 多点加圧式半導体スタックの加圧作業時、加
圧軸方向中心出しを容易にすることが可能な多点加圧式
半導体スタック用球面座、及びボルトを提供する。 【解決手段】 球面座３Ｃのボルト接触面側の略中央部
に、４個のボルト４Ａと内接する円柱状の突起部１１を
設ける。これにより、４個のボルト４Ａの位置を規制す
ることができるので、半導体スタックの加圧作業時に球
面座３Ｃの加圧軸方向中心出しが容易に出来る。
圧軸方向中心出しを容易にすることが可能な多点加圧式
半導体スタック用球面座、及びボルトを提供する。 【解決手段】 球面座３Ｃのボルト接触面側の略中央部
に、４個のボルト４Ａと内接する円柱状の突起部１１を
設ける。これにより、４個のボルト４Ａの位置を規制す
ることができるので、半導体スタックの加圧作業時に球
面座３Ｃの加圧軸方向中心出しが容易に出来る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、大容量の交流電力
と直流電力の変換などに用いる半導体スタックの加圧に
使用する多点加圧式半導体スタック用球面座、及びボル
トに関する。
と直流電力の変換などに用いる半導体スタックの加圧に
使用する多点加圧式半導体スタック用球面座、及びボル
トに関する。
【０００２】
【従来の技術】大容量の電力変換に用いる半導体スタッ
クに使用する半導体としては、サイリスタ、光サイリス
タ、ＧＴＯサイリスタ、ＩＧＢＴ等があるが、ここでは
サイリスタを例に取り、多点加圧式サイリスタスタック
用球面座、及びボルトに関して説明する。
クに使用する半導体としては、サイリスタ、光サイリス
タ、ＧＴＯサイリスタ、ＩＧＢＴ等があるが、ここでは
サイリスタを例に取り、多点加圧式サイリスタスタック
用球面座、及びボルトに関して説明する。
【０００３】従来の多点加圧式サイリスタスタックは、
サイリスタおよびサイリスタ冷却用ヒートシンクおよび
両者の積層圧接構造を保持するための絶縁スタッドまた
はバンド、押さえ板、球面座、皿バネ、皿バネ受け座、
ボルト等が必要とされていた。
サイリスタおよびサイリスタ冷却用ヒートシンクおよび
両者の積層圧接構造を保持するための絶縁スタッドまた
はバンド、押さえ板、球面座、皿バネ、皿バネ受け座、
ボルト等が必要とされていた。
【０００４】図を用いて従来の多点加圧式サイリスタス
タックの構成を説明する。図７（ａ）は、従来の多点加
圧式サイリスタスタックの構成を示す平面図であり、同
図（ｂ）は、その正面図である。
タックの構成を説明する。図７（ａ）は、従来の多点加
圧式サイリスタスタックの構成を示す平面図であり、同
図（ｂ）は、その正面図である。
【０００５】図７に示すように、サイリスタスタック
は、例えば、２個のサイリスタ１、及び３個の水冷ヒー
トシンク２を交互に直列接続して構成されており、皿バ
ネ７の反力を利用して圧接保持されている。サイリスタ
１は水冷ヒートシンク２により両側から挟まれ、その両
端は球面座３Ａ、３Ｂで保持されている。
は、例えば、２個のサイリスタ１、及び３個の水冷ヒー
トシンク２を交互に直列接続して構成されており、皿バ
ネ７の反力を利用して圧接保持されている。サイリスタ
１は水冷ヒートシンク２により両側から挟まれ、その両
端は球面座３Ａ、３Ｂで保持されている。
【０００６】サイリスタスタックの圧接力は、この球面
座３Ａを複数のボルト４で押すことで得られており、そ
の圧接力は、皿バネ受け座５と押え板６Ａの間に皿バネ
７を挟み込み、ボルト４をねじ込んでいくと絶縁バンド
８の拘束によって生じる皿バネ７の反力によって発生さ
れている。
座３Ａを複数のボルト４で押すことで得られており、そ
の圧接力は、皿バネ受け座５と押え板６Ａの間に皿バネ
７を挟み込み、ボルト４をねじ込んでいくと絶縁バンド
８の拘束によって生じる皿バネ７の反力によって発生さ
れている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
従来の多点加圧式サイリスタスタックでは、加圧力を得
る為に使用しているボルトが複数であった為、加圧作業
時ボルトによる加圧力を受ける球面座の、加圧軸方向中
心出しをすることが困難であった。
従来の多点加圧式サイリスタスタックでは、加圧力を得
る為に使用しているボルトが複数であった為、加圧作業
時ボルトによる加圧力を受ける球面座の、加圧軸方向中
心出しをすることが困難であった。
【０００８】本発明は、従来のこのような点に鑑み為さ
れたもので、多点加圧式半導体スタックの加圧作業時、
加圧軸方向中心出しを容易にすることが可能な多点加圧
式半導体スタック用球面座、及びボルトを提供すること
を目的とする。
れたもので、多点加圧式半導体スタックの加圧作業時、
加圧軸方向中心出しを容易にすることが可能な多点加圧
式半導体スタック用球面座、及びボルトを提供すること
を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する為
に、請求項１に記載の本発明は、少なくとも一つの半導
体とこの半導体を冷却するためのヒートシンクを積層し
た半導体スタックを複数のボルトとともに圧接保持する
多点加圧式半導体スタック用球面座において、ボルトと
接触する面の側に、ボルトと接する突起部を有すること
を特徴とする。
に、請求項１に記載の本発明は、少なくとも一つの半導
体とこの半導体を冷却するためのヒートシンクを積層し
た半導体スタックを複数のボルトとともに圧接保持する
多点加圧式半導体スタック用球面座において、ボルトと
接触する面の側に、ボルトと接する突起部を有すること
を特徴とする。
【００１０】このような構成により、加圧作業時に球面
座の加圧軸方向の中心出しが容易に出来ることになり、
均等な加圧力分布を得ることが出来る。
座の加圧軸方向の中心出しが容易に出来ることになり、
均等な加圧力分布を得ることが出来る。
【００１１】また、請求項２に記載の本発明は、少なく
とも一つの半導体とこの半導体を冷却するためのヒート
シンクを積層した半導体スタックを複数のボルトととも
に圧接保持する多点加圧式半導体スタック用球面座にお
いて、ボルトと接触する面の側に、前記ボルトの少なく
とも一部が接した状態で嵌まるざぐり部または環状のざ
ぐり溝を有することを特徴とする。
とも一つの半導体とこの半導体を冷却するためのヒート
シンクを積層した半導体スタックを複数のボルトととも
に圧接保持する多点加圧式半導体スタック用球面座にお
いて、ボルトと接触する面の側に、前記ボルトの少なく
とも一部が接した状態で嵌まるざぐり部または環状のざ
ぐり溝を有することを特徴とする。
【００１２】このような構成によっても、加圧作業時に
球面座の加圧軸方向の中心出しが容易に出来ることにな
り、均等な加圧力分布を得ることが出来る。
球面座の加圧軸方向の中心出しが容易に出来ることにな
り、均等な加圧力分布を得ることが出来る。
【００１３】また、請求項３に記載の本発明は、少なく
とも一つの半導体とこの半導体を冷却するためのヒート
シンクを積層した半導体スタックを球面座とともに圧接
保持する多点加圧式半導体スタック用ボルトにおいて、
球面座に形成された突起部またはざぐり部または環状の
ざぐり溝の表面と接する部分について、ネジが無い状態
としたことを特徴とする。
とも一つの半導体とこの半導体を冷却するためのヒート
シンクを積層した半導体スタックを球面座とともに圧接
保持する多点加圧式半導体スタック用ボルトにおいて、
球面座に形成された突起部またはざぐり部または環状の
ざぐり溝の表面と接する部分について、ネジが無い状態
としたことを特徴とする。
【００１４】このような構成により、加圧作業時に、球
面座に形成された突起部またはざぐり部または環状のざ
ぐり溝との接触によってネジ部が潰れないようにするこ
とが出来る。
面座に形成された突起部またはざぐり部または環状のざ
ぐり溝との接触によってネジ部が潰れないようにするこ
とが出来る。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について詳細に説明する。
施形態について詳細に説明する。
【００１６】従来の多点加圧式サイリスタスタックにつ
いて図７を用いて説明したように、球面座３Ａは、加圧
作業時に複数のボルト４をねじ込むと動く等により、加
圧軸方向中心出しをすることが難しかった。
いて図７を用いて説明したように、球面座３Ａは、加圧
作業時に複数のボルト４をねじ込むと動く等により、加
圧軸方向中心出しをすることが難しかった。
【００１７】以下に説明する本発明の実施形態において
は、図７に示す多点加圧式サイリスタスタックにおい
て、この球面座３Ａまたはボルト４を種々の構成とする
ことにより、加圧軸方向中心出しが容易に出来、均等な
加圧力分布を得られるようにしたものである。
は、図７に示す多点加圧式サイリスタスタックにおい
て、この球面座３Ａまたはボルト４を種々の構成とする
ことにより、加圧軸方向中心出しが容易に出来、均等な
加圧力分布を得られるようにしたものである。
【００１８】（第１の実施形態）まず、本発明の第１の
実施形態について説明する。図１は第１の実施形態の主
要部である球面座及びボルトの構成を示す図で、（ａ）
はその正面図、（ｂ）はその側面図である。
実施形態について説明する。図１は第１の実施形態の主
要部である球面座及びボルトの構成を示す図で、（ａ）
はその正面図、（ｂ）はその側面図である。
【００１９】この実施形態は、図１に示すように、球面
座３Ｃのボルト接触面側の略中央部に、４個のボルト４
Ａと内接する円柱状の突起部１１を設けたものである。
座３Ｃのボルト接触面側の略中央部に、４個のボルト４
Ａと内接する円柱状の突起部１１を設けたものである。
【００２０】このような突起部１１を設けることによ
り、４個のボルト４Ａの位置を規制することができるの
で、加圧作業時に球面座３Ｃの加圧軸方向中心出しが容
易に出来ることになり、均等な加圧力分布を得ることが
出来る。
り、４個のボルト４Ａの位置を規制することができるの
で、加圧作業時に球面座３Ｃの加圧軸方向中心出しが容
易に出来ることになり、均等な加圧力分布を得ることが
出来る。
【００２１】（第２の実施形態）次に、本発明の第２の
実施形態について説明する。図２は第２の実施形態の主
要部である球面座及びボルトの構成を示す図で、（ａ）
はその正面図、（ｂ）はその側面図である。
実施形態について説明する。図２は第２の実施形態の主
要部である球面座及びボルトの構成を示す図で、（ａ）
はその正面図、（ｂ）はその側面図である。
【００２２】この実施形態は、球面座３Ｄのボルト接触
面側に、４個のボルト４Ａが外接して嵌まる円形のざぐ
り部１２を設けたものである。
面側に、４個のボルト４Ａが外接して嵌まる円形のざぐ
り部１２を設けたものである。
【００２３】このようなざぐり部１２を設けることによ
り、４個のボルト４Ａの位置を規制することができるの
で、加圧作業時に球面座３Ｄの加圧軸方向中心出しが容
易に出来ることになり、均等な加圧力分布を得ることが
出来る。
り、４個のボルト４Ａの位置を規制することができるの
で、加圧作業時に球面座３Ｄの加圧軸方向中心出しが容
易に出来ることになり、均等な加圧力分布を得ることが
出来る。
【００２４】（第３の実施形態）次に、本発明の第３の
実施形態について説明する。図３は第３の実施形態の主
要部である球面座及びボルトの構成を示す図で、（ａ）
はその正面図、（ｂ）はその側面図である。
実施形態について説明する。図３は第３の実施形態の主
要部である球面座及びボルトの構成を示す図で、（ａ）
はその正面図、（ｂ）はその側面図である。
【００２５】この実施形態は、球面座３Ｅのボルト接触
面側に、４個のボルト４Ａの各々が個々に嵌まるざぐり
部１３を設けたものである。
面側に、４個のボルト４Ａの各々が個々に嵌まるざぐり
部１３を設けたものである。
【００２６】このようなざぐり部１３を設けることによ
り、４個のボルト４Ａの位置を規制することができるの
で、加圧作業時に球面座３Ｅの加圧軸方向中心出しが容
易に出来ることになり、均等な加圧力分布を得ることが
出来る。
り、４個のボルト４Ａの位置を規制することができるの
で、加圧作業時に球面座３Ｅの加圧軸方向中心出しが容
易に出来ることになり、均等な加圧力分布を得ることが
出来る。
【００２７】（第４の実施形態）次に、本発明の第４の
実施形態について説明する。図４は第４の実施形態の主
要部である球面座及びボルトの構成を示す図で、（ａ）
はその正面図、（ｂ）はその側面図である。
実施形態について説明する。図４は第４の実施形態の主
要部である球面座及びボルトの構成を示す図で、（ａ）
はその正面図、（ｂ）はその側面図である。
【００２８】この実施形態は、球面座３Ｆのボルト接触
面側に、４個のボルト４Ａが嵌まる環状（ドーナツ状）
のざぐり溝１４を設けたものである。
面側に、４個のボルト４Ａが嵌まる環状（ドーナツ状）
のざぐり溝１４を設けたものである。
【００２９】このようなざぐり溝１４を設けることによ
り、４個のボルト４Ａの位置を規制することができるの
で、加圧作業時に球面座３Ｆの加圧軸方向中心出しが容
易に出来ることになり、均等な加圧力分布を得ることが
出来る。
り、４個のボルト４Ａの位置を規制することができるの
で、加圧作業時に球面座３Ｆの加圧軸方向中心出しが容
易に出来ることになり、均等な加圧力分布を得ることが
出来る。
【００３０】（第５の実施形態）次に、本発明の第５の
実施形態について説明する。
実施形態について説明する。
【００３１】図５は第５の実施形態の主要部である球面
座及びボルトの構成を示す図で、（ａ）はその正面図、
（ｂ）はその側面図である。
座及びボルトの構成を示す図で、（ａ）はその正面図、
（ｂ）はその側面図である。
【００３２】この実施形態は、図５に示すように、第４
の実施形態で説明したざぐり溝の側面の底部につながる
部分を円弧型としたものである。このようなざぐり溝１
５を球面座３Ｇのボルト接触面側に設けるとともに、ボ
ルト４Ｂの先端を球面座３Ｇの円弧型のざぐり溝１５と
同形状に丸め、両者の接触面を滑らかにしている。
の実施形態で説明したざぐり溝の側面の底部につながる
部分を円弧型としたものである。このようなざぐり溝１
５を球面座３Ｇのボルト接触面側に設けるとともに、ボ
ルト４Ｂの先端を球面座３Ｇの円弧型のざぐり溝１５と
同形状に丸め、両者の接触面を滑らかにしている。
【００３３】このような円弧型のざぐり溝１５と、先端
を同形状に丸めたボルト４Ｂにより、加圧時に球面座の
加圧軸方向中心出しが容易に出来ることになり、均等な
加圧力分布を得ることが出来る。
を同形状に丸めたボルト４Ｂにより、加圧時に球面座の
加圧軸方向中心出しが容易に出来ることになり、均等な
加圧力分布を得ることが出来る。
【００３４】なお、第１の実施形態における円柱状の突
起部１１の付け根の部分、または第２、第３の実施形態
におけるざぐり部１２、１３の側面の底部につながる部
分を円弧型にし、ボルト４Ａの先端をこれらと同形状に
丸めるように構成することも出来る。
起部１１の付け根の部分、または第２、第３の実施形態
におけるざぐり部１２、１３の側面の底部につながる部
分を円弧型にし、ボルト４Ａの先端をこれらと同形状に
丸めるように構成することも出来る。
【００３５】（第６の実施形態）次に、本発明の第６の
実施形態について説明する。図６は第６の実施形態の主
要部であるボルトの構成を示す正面図である。
実施形態について説明する。図６は第６の実施形態の主
要部であるボルトの構成を示す正面図である。
【００３６】この実施形態は、図６に示すように、第１
の実施形態における突起部１１、第２、第３の実施形態
におけるざぐり部１２、１３、または第４の実施形態に
おけるざぐり溝１４の表面と接する部分について、ボル
ト４Ｃのネジ部分を削ることによりネジが無い状態とし
たものである。
の実施形態における突起部１１、第２、第３の実施形態
におけるざぐり部１２、１３、または第４の実施形態に
おけるざぐり溝１４の表面と接する部分について、ボル
ト４Ｃのネジ部分を削ることによりネジが無い状態とし
たものである。
【００３７】このようにボルト４Ｃの所定部分につい
て、ネジ部分を削りネジが無い状態としたことで、両者
の接触によってネジ部が潰れないようにすることが出来
る。
て、ネジ部分を削りネジが無い状態としたことで、両者
の接触によってネジ部が潰れないようにすることが出来
る。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の多点加圧
式半導体スタック用球面座、及びボルトによれば、大容
量の交流電力と直流電力の変換等に用いられる多点加圧
式半導体スタックの加圧作業時、半導体スタック用球面
座の加圧軸方向中心出しが容易にできるようになる。
式半導体スタック用球面座、及びボルトによれば、大容
量の交流電力と直流電力の変換等に用いられる多点加圧
式半導体スタックの加圧作業時、半導体スタック用球面
座の加圧軸方向中心出しが容易にできるようになる。
【図１】 本発明の第１の実施形態の主要部の構成を示
す図。
す図。
【図２】 本発明の第２の実施形態の主要部の構成を示
す図。
す図。
【図３】 本発明の第３の実施形態の主要部の構成を示
す図。
す図。
【図４】 本発明の第４の実施形態の主要部の構成を示
す図。
す図。
【図５】 本発明の第５の実施形態の主要部の構成を示
す図。
す図。
【図６】 本発明の第６の実施形態の主要部の構成を示
す図。
す図。
【図７】 従来の多点加圧式サイリスタスタックの構成
を示す図。
を示す図。
【符号の説明】 １…サイリスタ ２…水冷ヒートシンク ３、３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ、３Ｅ、３Ｆ、３Ｇ…球面
座 ４、４Ａ、４Ｂ、４Ｃ…ボルト ５…皿バネ受け座 ６Ａ、６Ｂ…押え板 ７…皿バネ ８…絶縁バンド １１…突起部 １２、１３…ざぐり部 １４、１５…ざぐり溝
座 ４、４Ａ、４Ｂ、４Ｃ…ボルト ５…皿バネ受け座 ６Ａ、６Ｂ…押え板 ７…皿バネ ８…絶縁バンド １１…突起部 １２、１３…ざぐり部 １４、１５…ざぐり溝
Claims (3)
- 【請求項１】少なくとも一つの半導体とこの半導体を冷
却するためのヒートシンクを積層した半導体スタックを
複数のボルトとともに圧接保持する多点加圧式半導体ス
タック用球面座において、前記ボルトと接触する面の側
に、前記ボルトと接する突起部を有することを特徴とし
た多点加圧式半導体スタック用球面座。 - 【請求項２】少なくとも一つの半導体とこの半導体を冷
却するためのヒートシンクを積層した半導体スタックを
複数のボルトとともに圧接保持する多点加圧式半導体ス
タック用球面座において、前記ボルトと接触する面の側
に、前記ボルトの少なくとも一部が接した状態で嵌まる
ざぐり部または環状のざぐり溝を有することを特徴とし
た多点加圧式半導体スタック用球面座。 - 【請求項３】少なくとも一つの半導体とこの半導体を冷
却するためのヒートシンクを積層した半導体スタックを
球面座とともに圧接保持する多点加圧式半導体スタック
用ボルトにおいて、前記球面座に形成された突起部また
はざぐり部または環状のざぐり溝の表面と接する部分に
ついて、ネジが無い状態としたことを特徴とした多点加
圧式半導体スタック用ボルト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11201304A JP2001037230A (ja) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | 多点加圧式半導体スタック用球面座、及びボルト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11201304A JP2001037230A (ja) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | 多点加圧式半導体スタック用球面座、及びボルト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001037230A true JP2001037230A (ja) | 2001-02-09 |
Family
ID=16438791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11201304A Pending JP2001037230A (ja) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | 多点加圧式半導体スタック用球面座、及びボルト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001037230A (ja) |
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-
1999
- 1999-07-15 JP JP11201304A patent/JP2001037230A/ja active Pending
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