JP2001023422A - 平板照明装置及びそれに使用されるホログラム導光板の製造方法 - Google Patents
平板照明装置及びそれに使用されるホログラム導光板の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 改善された平板照明装置、特に高性能で安い
製造費用で製造され得る平板照明装置を提供する。 【解決手段】 平板表示装置に使用される平板照明装置
であって、長手方向に延長された１つ以上の光源１と、
前記光源の長手方向に光源と側面が連接するように位置
し、前記光源から出た光の進行方向を回転させ、下面に
は光の強さの分布を均一にする機能を果す第１ホログラ
ム層１４が形成されているホログラム導光板１２と、前
記ホログラム導光板の下に位置し、光の散乱及び反射を
同時に遂行する反射板１３と、を備え、前記第１ホログ
ラム層は、ホログラムの模様の面積密度が、前記光源が
位置している部分は低く光源から遠くなるほど高くなる
ように形成されて成る。
製造費用で製造され得る平板照明装置を提供する。 【解決手段】 平板表示装置に使用される平板照明装置
であって、長手方向に延長された１つ以上の光源１と、
前記光源の長手方向に光源と側面が連接するように位置
し、前記光源から出た光の進行方向を回転させ、下面に
は光の強さの分布を均一にする機能を果す第１ホログラ
ム層１４が形成されているホログラム導光板１２と、前
記ホログラム導光板の下に位置し、光の散乱及び反射を
同時に遂行する反射板１３と、を備え、前記第１ホログ
ラム層は、ホログラムの模様の面積密度が、前記光源が
位置している部分は低く光源から遠くなるほど高くなる
ように形成されて成る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＬＣＤ（Liquid Cry
stal Display）のような平板表示装置に使用される平板
照明装置及びその製造方法に係り、より詳しくは、ＬＣ
Ｄ又はこれと類似した表示装置における後面照明（back
lighting）手段として使用される平板照明装置の改善
に関する技術である。
stal Display）のような平板表示装置に使用される平板
照明装置及びその製造方法に係り、より詳しくは、ＬＣ
Ｄ又はこれと類似した表示装置における後面照明（back
lighting）手段として使用される平板照明装置の改善
に関する技術である。
【０００２】
【従来の技術】最近は、厚い既存のＣＲＴを使用するモ
ニタの代わりに薄くて軽く電磁波も放出しない平板表示
機（plane panel display）の開発が活発に進められて
おり、そのうち、特に液晶を利用した表示装置であるＬ
ＣＤが代表的な平板表示機として広く使用されている。
このようなＬＣＤにはＬＣＤの後面で発光する平板照明
装置（Plane light source unit）が必要であり、この
ような照明装置の代表的な構成を図１Ａないし１Ｃに示
す。まず、図１Ａないし１Ｃに基づいて、平板表示装置
の構成を概略的に説明する。
ニタの代わりに薄くて軽く電磁波も放出しない平板表示
機（plane panel display）の開発が活発に進められて
おり、そのうち、特に液晶を利用した表示装置であるＬ
ＣＤが代表的な平板表示機として広く使用されている。
このようなＬＣＤにはＬＣＤの後面で発光する平板照明
装置（Plane light source unit）が必要であり、この
ような照明装置の代表的な構成を図１Ａないし１Ｃに示
す。まず、図１Ａないし１Ｃに基づいて、平板表示装置
の構成を概略的に説明する。
【０００３】図１Ａのような構成は相対的に中小型ＬＣ
Ｄ（例えば、ノートブックコンピュータ用）に使用さ
れ、図１Ｂ又は１Ｃのような構成は主に大型ＬＣＤ（例
えば、モニタ用及び壁掛けＴＶ用）に使用される。
Ｄ（例えば、ノートブックコンピュータ用）に使用さ
れ、図１Ｂ又は１Ｃのような構成は主に大型ＬＣＤ（例
えば、モニタ用及び壁掛けＴＶ用）に使用される。
【０００４】まず、図１Ａに基づいて中小型ＬＣＤに使
用される平板照明装置の構成を説明すると、線形ランプ
のように長い光源１を導光板（light-guide plate）２
の一側面に配置し、この導光板の下には光の散乱及び反
射を同時に遂行する反射板３を配置し、導光板の上には
第１拡散板４、第１プリズム板６、第２プリズム板７、
第２拡散板５を順に積層した後、その上にＬＣＤパネル
８を装着して構成される。第１プリズム板６は図２の
（ａ）のようにプリズム角がＸ軸と平行に形成されてお
り、第２プリズム板７は図２の（ｂ）のようにプリズム
角がＺ軸と平行に形成されている。
用される平板照明装置の構成を説明すると、線形ランプ
のように長い光源１を導光板（light-guide plate）２
の一側面に配置し、この導光板の下には光の散乱及び反
射を同時に遂行する反射板３を配置し、導光板の上には
第１拡散板４、第１プリズム板６、第２プリズム板７、
第２拡散板５を順に積層した後、その上にＬＣＤパネル
８を装着して構成される。第１プリズム板６は図２の
（ａ）のようにプリズム角がＸ軸と平行に形成されてお
り、第２プリズム板７は図２の（ｂ）のようにプリズム
角がＺ軸と平行に形成されている。
【０００５】次に図１Ｂに基づいて大型ＬＣＤに使用さ
れる平板照明装置の構成を説明すると、線形ランプのよ
うに長い２つの光源１、１’を導光板２の両側に配置
し、この導光板の下には光の散乱及び反射を同時に遂行
する反射板３を配置し、導光板の上には２枚の拡散板
４、５を順に積層した後、その上にＬＣＤパネル８を装
着して構成される。
れる平板照明装置の構成を説明すると、線形ランプのよ
うに長い２つの光源１、１’を導光板２の両側に配置
し、この導光板の下には光の散乱及び反射を同時に遂行
する反射板３を配置し、導光板の上には２枚の拡散板
４、５を順に積層した後、その上にＬＣＤパネル８を装
着して構成される。
【０００６】また、図１Ｃに基づいて大型ＬＣＤに使用
される平板照明装置の他の構成を説明すると、１つ以上
の光源１の上に導光板２を配置し、前記光源１の下には
光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板３を配置し、
導光板の上には２枚以上の拡散板４を順に積層した後、
その上にＬＣＤパネル８を装着して構成される。
される平板照明装置の他の構成を説明すると、１つ以上
の光源１の上に導光板２を配置し、前記光源１の下には
光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板３を配置し、
導光板の上には２枚以上の拡散板４を順に積層した後、
その上にＬＣＤパネル８を装着して構成される。
【０００７】図１Ａ及び１Ｂに示された従来の平板照明
装置において、ＬＣＤ画面に画像が均一に正確に表示さ
れるためには、前記ＬＣＤパネルに入射する光の強さの
分布がＬＣＤパネル全体にわたって均一に分布すること
が要求される。このために、従来に採択された方式は導
光板に凹凸を形成するなどの付加的な処理を行う方法で
あった。これについて以下でより詳しく説明する。
装置において、ＬＣＤ画面に画像が均一に正確に表示さ
れるためには、前記ＬＣＤパネルに入射する光の強さの
分布がＬＣＤパネル全体にわたって均一に分布すること
が要求される。このために、従来に採択された方式は導
光板に凹凸を形成するなどの付加的な処理を行う方法で
あった。これについて以下でより詳しく説明する。
【０００８】前述の目的を達成するために従来に使用さ
れた導光板の構成を図３に基づいて具体的に説明する。
ＬＣＤパネルに入射する光の強さの分布がＬＣＤパネル
全体にわたって均一になるようにするために付加される
導光板処理の代表的な方式には、図３の（ａ）のように
導光板２の下面（又は上面）に光源１の長手方向に平行
に形成されたプリズム形態の凹凸を 形成する方式、又
は（ｂ）のように斑点模様形態の半球形凹凸を導光板２
の下面（又は上面）に形成する方式、又は（ｃ）のよう
に散乱剤２ａが入っているインク２ｉを斑点模様形態に
印刷する方式などがある。
れた導光板の構成を図３に基づいて具体的に説明する。
ＬＣＤパネルに入射する光の強さの分布がＬＣＤパネル
全体にわたって均一になるようにするために付加される
導光板処理の代表的な方式には、図３の（ａ）のように
導光板２の下面（又は上面）に光源１の長手方向に平行
に形成されたプリズム形態の凹凸を 形成する方式、又
は（ｂ）のように斑点模様形態の半球形凹凸を導光板２
の下面（又は上面）に形成する方式、又は（ｃ）のよう
に散乱剤２ａが入っているインク２ｉを斑点模様形態に
印刷する方式などがある。
【０００９】このような導光板を使用して図１Ａ又は１
Ｂのような平板照明装置を構成する場合の一般的な動作
原理（光線の進行過程）を以下で説明する。
Ｂのような平板照明装置を構成する場合の一般的な動作
原理（光線の進行過程）を以下で説明する。
【００１０】図４に基づいて、図１Ａの側面に光源が位
置する中小型ＬＣＤパネルに一般に使用される平板照明
装置の動作原理を説明すると、光源１から出る光線が導
光板２の一側面を通じて入射すると、入射した光線は導
光板の上面又は下面で全反射しながら導光板の内部を進
む。このような光線が導光板で全反射しながら進む途中
（Ｒ１）で、全反射条件を満たさない角度で導光板の上
面に入射したり、図３のように導光板の下面に形成され
た凹凸又は散乱剤インクにぶつかってそこから散乱され
るのに伴って全反射条件を満たさないようになると、光
線（Ｒ３）はその中心軸（Ｃ）が導光板の上面と一定の
角度（θ１）に維持されながら導光板の上面を通して出
るようになる。一方、全反射条件を満たさない角度で導
光板の下面に入射した光線は、反射板３によって再び散
乱及び反射されて再び導光板に入射する（Ｒ２）。導光
板から出た光線（Ｒ３）は第１拡散板４に入射してこの
拡散板によって再び拡散されてＸ軸と光線（Ｒ４）とが
なす角度（θ２）が大きくなる。このような光線は第１
プリズム板６に入射する。第１プリズム板６はＸ軸と平
行に延長された角を有するように形成されているため、
ＸＹ平面に入射する光線には影響を及ぼさないが、ＹＺ
平面に入射する光線には拡散角度を狭くする役割を果
す。従って、第１プリズム板６を通過した光線はＹＺ平
面上で光線の拡散角が小さくなる。この光線（Ｒ５）は
プリズム角がＺ軸と平行に形成された第２プリズム板７
に入射してこの第２プリズム板７によって光線（Ｒ６）
の中心軸（Ｃ）がＹ軸と平行になる。即ち、２枚のプリ
ズム板によって拡散角度が小さくなり中心軸（Ｃ）が導
光板の上面と垂直をなす光線（Ｒ６）は第２拡散板５に
よって再び散乱されて、均一な光分布を有してＬＣＤパ
ネル８に入射する。
置する中小型ＬＣＤパネルに一般に使用される平板照明
装置の動作原理を説明すると、光源１から出る光線が導
光板２の一側面を通じて入射すると、入射した光線は導
光板の上面又は下面で全反射しながら導光板の内部を進
む。このような光線が導光板で全反射しながら進む途中
（Ｒ１）で、全反射条件を満たさない角度で導光板の上
面に入射したり、図３のように導光板の下面に形成され
た凹凸又は散乱剤インクにぶつかってそこから散乱され
るのに伴って全反射条件を満たさないようになると、光
線（Ｒ３）はその中心軸（Ｃ）が導光板の上面と一定の
角度（θ１）に維持されながら導光板の上面を通して出
るようになる。一方、全反射条件を満たさない角度で導
光板の下面に入射した光線は、反射板３によって再び散
乱及び反射されて再び導光板に入射する（Ｒ２）。導光
板から出た光線（Ｒ３）は第１拡散板４に入射してこの
拡散板によって再び拡散されてＸ軸と光線（Ｒ４）とが
なす角度（θ２）が大きくなる。このような光線は第１
プリズム板６に入射する。第１プリズム板６はＸ軸と平
行に延長された角を有するように形成されているため、
ＸＹ平面に入射する光線には影響を及ぼさないが、ＹＺ
平面に入射する光線には拡散角度を狭くする役割を果
す。従って、第１プリズム板６を通過した光線はＹＺ平
面上で光線の拡散角が小さくなる。この光線（Ｒ５）は
プリズム角がＺ軸と平行に形成された第２プリズム板７
に入射してこの第２プリズム板７によって光線（Ｒ６）
の中心軸（Ｃ）がＹ軸と平行になる。即ち、２枚のプリ
ズム板によって拡散角度が小さくなり中心軸（Ｃ）が導
光板の上面と垂直をなす光線（Ｒ６）は第２拡散板５に
よって再び散乱されて、均一な光分布を有してＬＣＤパ
ネル８に入射する。
【００１１】図５に基づいて、図１Ｂの側面に光源が位
置する大型ＬＣＤパネルの平板照明装置の光線進行過程
を説明する。図５の（ａ）に示されているように、まず
導光板２の両側面に位置する２つの光源１、１’から出
る光線が導光板２の両側辺を通して入射されると、入射
した光線は導光板の上面又は下面で全反射しながら導光
板の内部を進む。このような光線が導光板で全反射しな
がら進む途中で、全反射条件を満たさない角度で導光板
の上面に入射したり、又は図３のように導光板の下面に
形成された凹凸又は散乱剤インクにぶつかって散乱する
のに伴って全反射条件を満たさないようになると、導光
板２の上面を通して出る光線の光分布は図５の（ｂ）に
示されているように２つの山が存在する形態になる。こ
のような光分布を有する光線が第１拡散板４を通過する
と図５の（ｃ）のようにその分布がより均一になり、第
２拡散板５を通過すると図５の（ｄ）のように全般的に
均一な光分布を有するようになるので、結果的にＬＣＤ
パネル８に入射する光の強さの分布が均一になる。
置する大型ＬＣＤパネルの平板照明装置の光線進行過程
を説明する。図５の（ａ）に示されているように、まず
導光板２の両側面に位置する２つの光源１、１’から出
る光線が導光板２の両側辺を通して入射されると、入射
した光線は導光板の上面又は下面で全反射しながら導光
板の内部を進む。このような光線が導光板で全反射しな
がら進む途中で、全反射条件を満たさない角度で導光板
の上面に入射したり、又は図３のように導光板の下面に
形成された凹凸又は散乱剤インクにぶつかって散乱する
のに伴って全反射条件を満たさないようになると、導光
板２の上面を通して出る光線の光分布は図５の（ｂ）に
示されているように２つの山が存在する形態になる。こ
のような光分布を有する光線が第１拡散板４を通過する
と図５の（ｃ）のようにその分布がより均一になり、第
２拡散板５を通過すると図５の（ｄ）のように全般的に
均一な光分布を有するようになるので、結果的にＬＣＤ
パネル８に入射する光の強さの分布が均一になる。
【００１２】このような従来の技術において、ＬＣＤパ
ネル８に入射する光の強さの分布をＬＣＤパネル全体に
わたって全般的に均一に形成するために、導光板（例え
ば、図３に示したもののような導光板）を特殊に製造し
なければならない。このような従来の導光板を製造する
ために使用される方法として例えば導光板に凹凸を付加
する方式の場合（図３の（ａ）（ｂ）部分）には、凹凸
を形成するためにダイヤモンド刃で加工をする方法、或
いは凹凸模様の微細パターンの金型物を製作して射出す
る方法が使用される。しかし、ダイヤモンド刃による加
工方法はダイヤモンドで微細パターンを形成する時に発
生する屑の除去が難しくパターンを形成するのに多くの
時間がかかる。また、金型物による射出方法は大きさが
数十μｍ程度で小さく大きさが均一でない微細パターン
の金型物を製作することが容易でないだけでなく製作費
用も非常に高い。従って、このような金型物による導光
板製造方式は導光板の価格を上昇させる要因になり、製
造条件も難しいため、結果的に製品の不良率を増加させ
る。
ネル８に入射する光の強さの分布をＬＣＤパネル全体に
わたって全般的に均一に形成するために、導光板（例え
ば、図３に示したもののような導光板）を特殊に製造し
なければならない。このような従来の導光板を製造する
ために使用される方法として例えば導光板に凹凸を付加
する方式の場合（図３の（ａ）（ｂ）部分）には、凹凸
を形成するためにダイヤモンド刃で加工をする方法、或
いは凹凸模様の微細パターンの金型物を製作して射出す
る方法が使用される。しかし、ダイヤモンド刃による加
工方法はダイヤモンドで微細パターンを形成する時に発
生する屑の除去が難しくパターンを形成するのに多くの
時間がかかる。また、金型物による射出方法は大きさが
数十μｍ程度で小さく大きさが均一でない微細パターン
の金型物を製作することが容易でないだけでなく製作費
用も非常に高い。従って、このような金型物による導光
板製造方式は導光板の価格を上昇させる要因になり、製
造条件も難しいため、結果的に製品の不良率を増加させ
る。
【００１３】一方、図３の（ｃ）部分のように凹凸を形
成する代わりにドットパターンを印刷する方式は、印刷
する過程に長い時間がかかって生産能率を低下させるだ
けでなく不良率が高いため生産性の低下をもたらし、こ
れによって結果的に導光板の価格を上昇させる。また、
インク及びインクに添加された散乱剤が光を吸収する役
割を果すため光の強さが低下する短所も有している。
成する代わりにドットパターンを印刷する方式は、印刷
する過程に長い時間がかかって生産能率を低下させるだ
けでなく不良率が高いため生産性の低下をもたらし、こ
れによって結果的に導光板の価格を上昇させる。また、
インク及びインクに添加された散乱剤が光を吸収する役
割を果すため光の強さが低下する短所も有している。
【００１４】また、図６に基づいて、光源が導光板の後
に位置する図１Ｃの大型ＬＣＤパネルに一般に使用され
る平板照明装置の場合について説明すると、光源１から
出る光線は導光板２の下面に直接入射したり（Ｒ２）、
光源の下に位置する反射板３に入射して（Ｒ１）、反射
板によって再び散乱及び反射されて再び導光板２に入射
する。導光板２に入射する光線は導光板の上面を通過す
るため、導光板の上面の光の強さの分布は図６の（ｃ）
分布図のようにランプが位置する部分の光の強さが周辺
より大きい。このような光の強さの分布は、光線が拡散
板を順に通過して拡散しながらＬＣＤパネルに入射する
時には図６の（ｂ）の分布図のように全般的に均一にな
る。
に位置する図１Ｃの大型ＬＣＤパネルに一般に使用され
る平板照明装置の場合について説明すると、光源１から
出る光線は導光板２の下面に直接入射したり（Ｒ２）、
光源の下に位置する反射板３に入射して（Ｒ１）、反射
板によって再び散乱及び反射されて再び導光板２に入射
する。導光板２に入射する光線は導光板の上面を通過す
るため、導光板の上面の光の強さの分布は図６の（ｃ）
分布図のようにランプが位置する部分の光の強さが周辺
より大きい。このような光の強さの分布は、光線が拡散
板を順に通過して拡散しながらＬＣＤパネルに入射する
時には図６の（ｂ）の分布図のように全般的に均一にな
る。
【００１５】このような従来の技術においては、ＬＣＤ
パネル８に入射する光の強さの分布をＬＣＤパネル全体
にわたって全般的に均一に形成するために多数の拡散板
を使用しなければならない。また、多数の拡散板によっ
てＬＣＤパネルに入射する光の強さが減少するので、ラ
ンプの個数を増加させたり高輝度のランプを使用しなけ
ればならない。さらに、高価の拡散板を多数使用するの
で製造費用が上昇するという問題点を有している。
パネル８に入射する光の強さの分布をＬＣＤパネル全体
にわたって全般的に均一に形成するために多数の拡散板
を使用しなければならない。また、多数の拡散板によっ
てＬＣＤパネルに入射する光の強さが減少するので、ラ
ンプの個数を増加させたり高輝度のランプを使用しなけ
ればならない。さらに、高価の拡散板を多数使用するの
で製造費用が上昇するという問題点を有している。
【００１６】また、前述の従来の全ての方式は光の均一
性及びＬＣＤの視野角を確保するために、図１Ａないし
１Ｃに示されているように、多数の拡散板及び高価のプ
リズム板を使用しなければならないので、組立過程が複
雑になると共に製品の製造費用を上昇させるという問題
点がある。
性及びＬＣＤの視野角を確保するために、図１Ａないし
１Ｃに示されているように、多数の拡散板及び高価のプ
リズム板を使用しなければならないので、組立過程が複
雑になると共に製品の製造費用を上昇させるという問題
点がある。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点を
解消するためのものであって、その目的は改善された平
板照明装置、特に高性能で安い製造費用で製造され得る
平板照明装置を提供することにある。
解消するためのものであって、その目的は改善された平
板照明装置、特に高性能で安い製造費用で製造され得る
平板照明装置を提供することにある。
【００１８】本発明の他の目的は、前記改善された平板
照明装置に使用され得るホログラム導光板及びこれを製
造する方法を提供することにある。
照明装置に使用され得るホログラム導光板及びこれを製
造する方法を提供することにある。
【００１９】本発明のまた他の目的は、前記改善された
平板照明装置に使用され得る多様なホログラム拡散板及
びこれを製造する方法を提供することにある。
平板照明装置に使用され得る多様なホログラム拡散板及
びこれを製造する方法を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明によって提供される平板照明装置は、平板表示
装置に使用される平板照明装置であって、長手方向に延
長された１つ以上の光源と、前記光源の長手方向に光源
と側面が連接するように位置し、前記光源から出た光の
進行方向を回転させ、下面には光の強さの分布を均一に
する機能を果す第１ホログラム層が形成されているホロ
グラム導光板と、前記ホログラム導光板の下に位置し、
光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板と、を備え、
前記ホログラム導光板の下面に形成された第１ホログラ
ム層は、ホログラムの模様の面積密度が、前記光源が位
置している部分は低く光源から遠くなるほど高くなるよ
うに形成される平板照明装置である。
に本発明によって提供される平板照明装置は、平板表示
装置に使用される平板照明装置であって、長手方向に延
長された１つ以上の光源と、前記光源の長手方向に光源
と側面が連接するように位置し、前記光源から出た光の
進行方向を回転させ、下面には光の強さの分布を均一に
する機能を果す第１ホログラム層が形成されているホロ
グラム導光板と、前記ホログラム導光板の下に位置し、
光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板と、を備え、
前記ホログラム導光板の下面に形成された第１ホログラ
ム層は、ホログラムの模様の面積密度が、前記光源が位
置している部分は低く光源から遠くなるほど高くなるよ
うに形成される平板照明装置である。
【００２１】また、ホログラム導光板の上面には光の強
さの分布を均一にする第２ホログラム層又は光の拡散角
度を調節する第２ホログラムが形成され得る。
さの分布を均一にする第２ホログラム層又は光の拡散角
度を調節する第２ホログラムが形成され得る。
【００２２】本発明の他の側面から提供される平板表示
装置用平板照明装置は、１つ以上の光源と，前記光源の
下に位置し、光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板
と，前記光源の上に位置し、上下面のうちの一面に第１
ホログラム層が形成されているホログラム導光板と，前
記ホログラム導光板の上に位置し、前記ホログラム導光
板を通過した光を拡散させる拡散板とを備え、前記第１
ホログラム層はホログラムをなす凹凸の密度が前記光源
が位置している部分は高く光源から遠くなるほど密度が
低くなるように形成される平板照明装置である。
装置用平板照明装置は、１つ以上の光源と，前記光源の
下に位置し、光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板
と，前記光源の上に位置し、上下面のうちの一面に第１
ホログラム層が形成されているホログラム導光板と，前
記ホログラム導光板の上に位置し、前記ホログラム導光
板を通過した光を拡散させる拡散板とを備え、前記第１
ホログラム層はホログラムをなす凹凸の密度が前記光源
が位置している部分は高く光源から遠くなるほど密度が
低くなるように形成される平板照明装置である。
【００２３】本発明のまた他の側面から提供される平板
表示装置用平板照明装置に使用されるホログラム導光板
を製造する方法は、上面又は下面のうちの一面にホログ
ラム拡散層が形成されているホログラム導光板を製造す
る方法であって、ａ）レーザーから出射されるレーザー
ビームを拡大させる段階と、ｂ）前記拡大されたレーザ
ービームを拡散板に入射させる段階と、ｃ）感光剤が塗
布された基板を前記拡散板から一定の距離だけ離れたと
ころに位置させ、遮断板を用いて基板の一部領域のみを
前記レーザービームに露出させた後、レーザービームを
遮断する段階と、ｄ）前記基板と拡散板との距離を増加
させ、前段階でレーザービームに照射された領域は遮断
板で覆い、前記ｃ）段階でレーザービームに照射された
領域に隣接して照射されなかった領域を前記レーザービ
ームに露出させた後、レーザービームを遮断する段階
と、ｅ）前記ｃ）段階及びｄ）段階を、前記感光剤が塗
布された基板全体にレーザービームが照射されるまで反
復する段階と、ｆ）前記基板を現像して感光剤をエッチ
ングする段階と、ｇ）前記基板上に無電解メッキを行っ
て、感光剤がエッチングされた形態の通り金属スタンパ
を製造する段階と、ｈ）導光板材料にＵＶ硬化剤を塗布
した後、ＵＶ硬化剤が完全に硬化しない程度に紫外線に
照射されたＵＶ硬化剤に前記スタンパを圧着する段階
と、ｉ）紫外線を照射してＵＶ硬化剤を完全に硬化させ
る段階とを含むホログラム導光板製造方法である。
表示装置用平板照明装置に使用されるホログラム導光板
を製造する方法は、上面又は下面のうちの一面にホログ
ラム拡散層が形成されているホログラム導光板を製造す
る方法であって、ａ）レーザーから出射されるレーザー
ビームを拡大させる段階と、ｂ）前記拡大されたレーザ
ービームを拡散板に入射させる段階と、ｃ）感光剤が塗
布された基板を前記拡散板から一定の距離だけ離れたと
ころに位置させ、遮断板を用いて基板の一部領域のみを
前記レーザービームに露出させた後、レーザービームを
遮断する段階と、ｄ）前記基板と拡散板との距離を増加
させ、前段階でレーザービームに照射された領域は遮断
板で覆い、前記ｃ）段階でレーザービームに照射された
領域に隣接して照射されなかった領域を前記レーザービ
ームに露出させた後、レーザービームを遮断する段階
と、ｅ）前記ｃ）段階及びｄ）段階を、前記感光剤が塗
布された基板全体にレーザービームが照射されるまで反
復する段階と、ｆ）前記基板を現像して感光剤をエッチ
ングする段階と、ｇ）前記基板上に無電解メッキを行っ
て、感光剤がエッチングされた形態の通り金属スタンパ
を製造する段階と、ｈ）導光板材料にＵＶ硬化剤を塗布
した後、ＵＶ硬化剤が完全に硬化しない程度に紫外線に
照射されたＵＶ硬化剤に前記スタンパを圧着する段階
と、ｉ）紫外線を照射してＵＶ硬化剤を完全に硬化させ
る段階とを含むホログラム導光板製造方法である。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本願発
明による実施の形態について説明する。本明細書には１
０の実施の形態が提示され、実施の形態１ないし実施の
形態６は主に中小型ＬＣＤに使用される平板照明装置に
係り、実施の形態７ないし実施の形態１０は主に大型Ｌ
ＣＤに使用される平板照明装置に係る。
明による実施の形態について説明する。本明細書には１
０の実施の形態が提示され、実施の形態１ないし実施の
形態６は主に中小型ＬＣＤに使用される平板照明装置に
係り、実施の形態７ないし実施の形態１０は主に大型Ｌ
ＣＤに使用される平板照明装置に係る。
【００２５】実施の形態１ 本発明の実施の形態１を図７に基づいて説明する。ま
ず、中小型ＬＣＤに関して本発明を具現した形態につい
て説明すると、図７に示されているように、光源である
長いランプ１１の長手方向に一側面が平行に形成された
ホログラム導光板１２が配置される。説明の便宜のため
に、本明細書において、光源はＺ軸と平行に延長された
ものとし、導光板はＸＺ平面に位置しているものとす
る。ホログラム導光板１２の下面には導光板を通して出
射する光の強さの分布を均一にする機能を果すホログラ
ム層１４が形成されている。ホログラム導光板１２の下
には光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板１３が位
置し、導光板１２の上には第１拡散板１６、図２の
（ａ）のようにプリズム角がＸ軸と平行に形成された第
１プリズム板１７、図２の（ｂ）のようにプリズム角が
Ｚ軸と平行に形成された第２プリズム板１８、そして第
２拡散板１９が順に積層されるように構成される。
ず、中小型ＬＣＤに関して本発明を具現した形態につい
て説明すると、図７に示されているように、光源である
長いランプ１１の長手方向に一側面が平行に形成された
ホログラム導光板１２が配置される。説明の便宜のため
に、本明細書において、光源はＺ軸と平行に延長された
ものとし、導光板はＸＺ平面に位置しているものとす
る。ホログラム導光板１２の下面には導光板を通して出
射する光の強さの分布を均一にする機能を果すホログラ
ム層１４が形成されている。ホログラム導光板１２の下
には光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板１３が位
置し、導光板１２の上には第１拡散板１６、図２の
（ａ）のようにプリズム角がＸ軸と平行に形成された第
１プリズム板１７、図２の（ｂ）のようにプリズム角が
Ｚ軸と平行に形成された第２プリズム板１８、そして第
２拡散板１９が順に積層されるように構成される。
【００２６】図８Ａないし８Ｄ、図９Ａ及び９Ｂはホロ
グラム導光板１２の下面に形成されるホログラム層１４
を製造するのに使用され得るマスクの形態を図示してい
る。即ち、ホログラム層１４は、例えば図８Ａないし８
Ｄ、図９Ａ及び９Ｂに示された形態のうちのいずれか１
つの形態のマスクで製造されてそのマスクと同一の形態
を有するホログラムから形成される。このようなマスク
パターンはコンピュータでＣＡＤなどを用いて通常の方
法で透明フィルム上に形成することができる。マスクパ
ターンのうち、模様が存在する部分（円形内部）は透明
でそれ以外の部分は光を遮断し得るように不透明であ
る。従って、模様が存在する部分にのみホログラムが形
成される。図８Ａは、円形（又は多角形）の模様をマス
クパターン全体に形成することにおいて、Ｘ軸方向の模
様の中心間の間隔ＧｘとＺ軸方向の模様の中心間の間隔
Ｇｚとが一定であるように配置し、光源が位置する側
（Ａ）の模様の大きさは小さく光源から遠くなるほど大
きさが次第に大きくなるようにする形態である。図８Ｂ
は、図８Ａの形態において、模様の中心がＸ軸方向に同
一線上にあるのではなく一列おきに（in every other l
ine）Ｘ軸方向に同一線上にある形態である。即ち、隣
接した二列の中心はＺ軸方向に模様間の距離の半分（Ｇ
ｈ＝Ｇｚ／２）だけ移動させた形態である。図８Ｃは、
模様の大きさは一定に形成されているが、光源が位置す
る側（Ａ）の模様のＸ軸方向の間隔は広くし光源から遠
くなるほど間隔を狭くする形態（即ち、Ｇｘ１＞Ｇｘ
２）であり、Ｚ軸方向の間隔は光源が位置する側（Ａ）
の間隔Ｇｚ１が光源から遠く位置した側の間隔Ｇｚｉと
同一にするか或いはＧｚｎを光源から遠くなるほど狭く
して（即ち、Ｇｚ１＞＝Ｇｚｉ）模様の面積密度をより
増大させた形態である（但し、図８Ｃに示されたものは
Ｇｚ１＝Ｇｚ２の場合である）。図８Ｄは、図８Ｃの形
態において、一列おきにＺ軸方向に模様間の距離の半分
（Ｇｈ’＝Ｇｚｎ／２）だけ模様を移動させた形態であ
る。
グラム導光板１２の下面に形成されるホログラム層１４
を製造するのに使用され得るマスクの形態を図示してい
る。即ち、ホログラム層１４は、例えば図８Ａないし８
Ｄ、図９Ａ及び９Ｂに示された形態のうちのいずれか１
つの形態のマスクで製造されてそのマスクと同一の形態
を有するホログラムから形成される。このようなマスク
パターンはコンピュータでＣＡＤなどを用いて通常の方
法で透明フィルム上に形成することができる。マスクパ
ターンのうち、模様が存在する部分（円形内部）は透明
でそれ以外の部分は光を遮断し得るように不透明であ
る。従って、模様が存在する部分にのみホログラムが形
成される。図８Ａは、円形（又は多角形）の模様をマス
クパターン全体に形成することにおいて、Ｘ軸方向の模
様の中心間の間隔ＧｘとＺ軸方向の模様の中心間の間隔
Ｇｚとが一定であるように配置し、光源が位置する側
（Ａ）の模様の大きさは小さく光源から遠くなるほど大
きさが次第に大きくなるようにする形態である。図８Ｂ
は、図８Ａの形態において、模様の中心がＸ軸方向に同
一線上にあるのではなく一列おきに（in every other l
ine）Ｘ軸方向に同一線上にある形態である。即ち、隣
接した二列の中心はＺ軸方向に模様間の距離の半分（Ｇ
ｈ＝Ｇｚ／２）だけ移動させた形態である。図８Ｃは、
模様の大きさは一定に形成されているが、光源が位置す
る側（Ａ）の模様のＸ軸方向の間隔は広くし光源から遠
くなるほど間隔を狭くする形態（即ち、Ｇｘ１＞Ｇｘ
２）であり、Ｚ軸方向の間隔は光源が位置する側（Ａ）
の間隔Ｇｚ１が光源から遠く位置した側の間隔Ｇｚｉと
同一にするか或いはＧｚｎを光源から遠くなるほど狭く
して（即ち、Ｇｚ１＞＝Ｇｚｉ）模様の面積密度をより
増大させた形態である（但し、図８Ｃに示されたものは
Ｇｚ１＝Ｇｚ２の場合である）。図８Ｄは、図８Ｃの形
態において、一列おきにＺ軸方向に模様間の距離の半分
（Ｇｈ’＝Ｇｚｎ／２）だけ模様を移動させた形態であ
る。
【００２７】また、図９Ａは前記ホログラムが形成され
る部分が縞模様（帯模様）に形成されいる場合のマスク
形態を図示しているものであって、Ｘ軸方向の縞模様の
間隔（より正確には各縞模様帯の長手方向の中心線間の
間隔）は一定であるが（Ｇｚ１＝Ｇｚ２）、縞模様の幅
は光源から遠くなるほど大きくなるようにした（Ｗ１＜
Ｗ２）形態である。一方、図９Ｂの場合は縞模様の大き
さは同一であるが（Ｗ３＝Ｗ４）、光源から遠くなるほ
ど縞模様間の間隔が狭くなるようにして縞模様の面積密
度を増大させた形態である。
る部分が縞模様（帯模様）に形成されいる場合のマスク
形態を図示しているものであって、Ｘ軸方向の縞模様の
間隔（より正確には各縞模様帯の長手方向の中心線間の
間隔）は一定であるが（Ｇｚ１＝Ｇｚ２）、縞模様の幅
は光源から遠くなるほど大きくなるようにした（Ｗ１＜
Ｗ２）形態である。一方、図９Ｂの場合は縞模様の大き
さは同一であるが（Ｗ３＝Ｗ４）、光源から遠くなるほ
ど縞模様間の間隔が狭くなるようにして縞模様の面積密
度を増大させた形態である。
【００２８】このようにホログラムが形成される模様の
面積密度を光源側は小さく光源から遠くなるほど大きく
なるようにするのは、光源側は光の散乱を減少させ光源
から遠くなるほど光の散乱を増大させることによって光
の分布を均一にするためである。
面積密度を光源側は小さく光源から遠くなるほど大きく
なるようにするのは、光源側は光の散乱を減少させ光源
から遠くなるほど光の散乱を増大させることによって光
の分布を均一にするためである。
【００２９】次に、図１０ないし図１９に基づいてホロ
グラム導光板を製造する方法を説明する。ホログラム導
光板を製造する方法は、まず図８Ａないし９Ｂのような
マスク形態を有するホログラム板を形成した後、このホ
ログラム板を使用してマスタスタンパを製造し、このマ
スタスタンパでホログラム導光板を製造する。
グラム導光板を製造する方法を説明する。ホログラム導
光板を製造する方法は、まず図８Ａないし９Ｂのような
マスク形態を有するホログラム板を形成した後、このホ
ログラム板を使用してマスタスタンパを製造し、このマ
スタスタンパでホログラム導光板を製造する。
【００３０】まず、図１０に基づいて前記マスク形態を
有するホログラム板の製造方法を説明する。まず、レー
ザー１００から出射されるレーザービームをレンズ１０
１、１０２を使用して拡大させ、このように拡大された
レーザービームを拡散板１０３（Ground glass diffuse
r）に入射させて拡散させる。その次に、拡散板１０３
から一定の距離Ｌだけ離れたところに感光剤１０６が塗
布されたガラス板１０５を位置させ、感光剤が塗布され
た方の面に模様が存在する部分は透明でそれ以外の部分
は光を遮断し得るように不透明なマスク（図８Ａないし
８Ｄ、図９Ａ及び９Ｂの形態のうちのいずれか１つの形
態のマスク）１０４を付着し、マスクの透明な部分を通
して拡散板１０３から散乱されるレーザービームで感光
剤１０６を露出する。前記のような装置の構成によっ
て、マスク１０４の透明な部分を通して拡散板１０３か
ら拡散されたレーザービームが感光剤を感光させ、一定
時間が経過した後で現像過程を経ると、図１１に示され
ているように、ホログラム板１０９が製造される。ホロ
グラム板１０９には図８Ａないし図９Ｂのマスクのよう
な形態にレーザービームに照射された部分の感光剤がレ
ーザービームのスペクル（speckle）の模様通りにエッ
チングされてホログラム１０８が形成されている。即
ち、使用したマスクの模様通りにホログラム１０８が配
列されたホログラム板１０９が製造される。
有するホログラム板の製造方法を説明する。まず、レー
ザー１００から出射されるレーザービームをレンズ１０
１、１０２を使用して拡大させ、このように拡大された
レーザービームを拡散板１０３（Ground glass diffuse
r）に入射させて拡散させる。その次に、拡散板１０３
から一定の距離Ｌだけ離れたところに感光剤１０６が塗
布されたガラス板１０５を位置させ、感光剤が塗布され
た方の面に模様が存在する部分は透明でそれ以外の部分
は光を遮断し得るように不透明なマスク（図８Ａないし
８Ｄ、図９Ａ及び９Ｂの形態のうちのいずれか１つの形
態のマスク）１０４を付着し、マスクの透明な部分を通
して拡散板１０３から散乱されるレーザービームで感光
剤１０６を露出する。前記のような装置の構成によっ
て、マスク１０４の透明な部分を通して拡散板１０３か
ら拡散されたレーザービームが感光剤を感光させ、一定
時間が経過した後で現像過程を経ると、図１１に示され
ているように、ホログラム板１０９が製造される。ホロ
グラム板１０９には図８Ａないし図９Ｂのマスクのよう
な形態にレーザービームに照射された部分の感光剤がレ
ーザービームのスペクル（speckle）の模様通りにエッ
チングされてホログラム１０８が形成されている。即
ち、使用したマスクの模様通りにホログラム１０８が配
列されたホログラム板１０９が製造される。
【００３１】その次に、図１２のようにスタンパを製造
する。ホログラム板１０９に無電解メッキを行うと、ホ
ログラム１０８とマスク１０４とによってレーザービー
ムに露出されずに残っている感光剤１０６の上に金属膜
１１０が形成され（Ｓ１、Ｓ２）、この金属膜１１０を
分離すると、ガラス板１０５上に存在するホログラム１
０８の模様が陽刻の形態１１１通りに複製されて金属マ
スタであるスタンパ１１０が製造される（Ｓ３）。図１
３はスタンパ１１０の凹凸部分を拡大した図面である。
する。ホログラム板１０９に無電解メッキを行うと、ホ
ログラム１０８とマスク１０４とによってレーザービー
ムに露出されずに残っている感光剤１０６の上に金属膜
１１０が形成され（Ｓ１、Ｓ２）、この金属膜１１０を
分離すると、ガラス板１０５上に存在するホログラム１
０８の模様が陽刻の形態１１１通りに複製されて金属マ
スタであるスタンパ１１０が製造される（Ｓ３）。図１
３はスタンパ１１０の凹凸部分を拡大した図面である。
【００３２】以下、図１４ないし図１６に基づいて前述
のように製造されたスタンパを使用してホログラム導光
板を製造する互いに異なる３つの方法について説明す
る。
のように製造されたスタンパを使用してホログラム導光
板を製造する互いに異なる３つの方法について説明す
る。
【００３３】まず、図１４に示した第１のＵＶ硬化方法
を説明すると、ホログラム導光板を製造する透明な導光
板材料４００上にＵＶ（Ultra Violet）硬化剤４０１を
塗布した後（Ｓ１１）、ＵＶランプ４０ＬによりＵＶを
前記ＵＶ硬化剤が完全に固まらない程度の時間のみ照射
する（Ｓ１２）。その次に、前述の方式で製造されたス
タンパ３０４が付着された圧着機４０３で導光板上に塗
布されたＵＶ硬化剤にスタンパの模様を圧着して形成
し、圧着された状態で再びＵＶを照射する（Ｓ１３）。
その後、圧着機４０３を導光板から分離すると（Ｓ１
４）、図８Ａないし図９Ｂに示されているような形態の
ホログラム層が形成されたホログラム導光板が完成す
る。
を説明すると、ホログラム導光板を製造する透明な導光
板材料４００上にＵＶ（Ultra Violet）硬化剤４０１を
塗布した後（Ｓ１１）、ＵＶランプ４０ＬによりＵＶを
前記ＵＶ硬化剤が完全に固まらない程度の時間のみ照射
する（Ｓ１２）。その次に、前述の方式で製造されたス
タンパ３０４が付着された圧着機４０３で導光板上に塗
布されたＵＶ硬化剤にスタンパの模様を圧着して形成
し、圧着された状態で再びＵＶを照射する（Ｓ１３）。
その後、圧着機４０３を導光板から分離すると（Ｓ１
４）、図８Ａないし図９Ｂに示されているような形態の
ホログラム層が形成されたホログラム導光板が完成す
る。
【００３４】ホログラム導光板を製造する第２の方法で
ある図１５に示した方法は、図１４による方法と比較す
ると、ＵＶ硬化剤５０１を塗布した後（Ｓ２１）にＵＶ
硬化剤が完全に固まらない程度の時間のみＵＶを照射す
る段階（Ｓ２２）までは同一である。但し、図１５に示
された方法は圧着機５０３で圧着する間にＵＶを照射す
るのではなく、圧着後に一旦圧着機を導光板から分離し
てから（Ｓ２３）ＵＶを照射して（Ｓ２４）導光板上に
塗布されたＵＶ硬化剤を固めてホログラム層を形成する
（Ｓ２５）点で相異する。
ある図１５に示した方法は、図１４による方法と比較す
ると、ＵＶ硬化剤５０１を塗布した後（Ｓ２１）にＵＶ
硬化剤が完全に固まらない程度の時間のみＵＶを照射す
る段階（Ｓ２２）までは同一である。但し、図１５に示
された方法は圧着機５０３で圧着する間にＵＶを照射す
るのではなく、圧着後に一旦圧着機を導光板から分離し
てから（Ｓ２３）ＵＶを照射して（Ｓ２４）導光板上に
塗布されたＵＶ硬化剤を固めてホログラム層を形成する
（Ｓ２５）点で相異する。
【００３５】ホログラム導光板を製造する第３の方法で
ある図１６に示した方法は、前述の方式で製造されたス
タンパを導光板を射出する金型構造物７００の上に設置
し（Ｓ４１）導光板材料７０１を金型に注入する射出方
式で製造するものである。導光板材料７０１を金型に注
入してから（Ｓ４２）一定の時間が経過した後に金型を
分離すると、導光板上に図８Ａないし図９に示されたよ
うな形態のホログラムが形成されたホログラム導光板７
０３が製造される（Ｓ４３）。
ある図１６に示した方法は、前述の方式で製造されたス
タンパを導光板を射出する金型構造物７００の上に設置
し（Ｓ４１）導光板材料７０１を金型に注入する射出方
式で製造するものである。導光板材料７０１を金型に注
入してから（Ｓ４２）一定の時間が経過した後に金型を
分離すると、導光板上に図８Ａないし図９に示されたよ
うな形態のホログラムが形成されたホログラム導光板７
０３が製造される（Ｓ４３）。
【００３６】また、前述のようにスタンパを陽刻に形成
するのではなく、陰刻に形成されたスタンパを製造して
ホログラム層を製造する方法を図１７に示す。
するのではなく、陰刻に形成されたスタンパを製造して
ホログラム層を製造する方法を図１７に示す。
【００３７】即ち、図１７に示すように、レーザー２０
０から出射されるレーザービームをレンズ２０１、２０
２を使用して拡大させ、このように拡大されたレーザー
ビームを拡散板２０３に入射させて拡散させる。その次
に、拡散板から一定の距離Ｌだけ離れたところに、感光
剤２０４が塗布されたガラス板２０５を感光剤が塗布さ
れた方の面が拡散板２０３に向かうようにして、拡散板
２０３から散乱されるレーザービームに露出させる。前
記のような装置の構成によって、一定時間レーザービー
ムに露出させるとレーザービームのスペクル模様通りに
感光剤２０４が感光され、このようにレーザービームに
１次感光された感光剤２０４が塗布されているガラス板
２０５上に前述のものとは反対に模様が存在する部分は
不透明でそれ以外の部分は光が通過し得るように透明な
図８Ａないし図９Ｂの形態のうちのいずれか１つの形態
の模様パターンを有するマスク２０７を付着し、このマ
スクの透明な部分を通してＵＶランプ２０６でＵＶを照
射する。ＵＶを照射した後に現像すると、図１８のよう
にＵＶが照射された部分は完全にエッチングされ、レー
ザービームに１次照射されてマスク２０７によってＵＶ
の照射が遮断された部分はスペクルの模様通りに部分エ
ッチングされて陽刻のホログラム２０８が形成される。
即ち、使用したマスクの模様通りにホログラム２０８が
配列されたホログラム板２０９が製造される。このよう
に製造したホログラム板２０９に図１９のように無電解
メッキを行うと、ホログラム２０８及び感光剤２０４が
完全にエッチングされて露出されたガラス面上に金属膜
２１０が形成される（Ｓ３１、Ｓ３２）。その後、金属
膜２１０を分離すると、ガラス板２０５上に存在するホ
ログラム２０８が陰刻の形態にその通りに複製されて陰
刻の金属マスタであるスタンパ２１０が製造される（Ｓ
３３）。陰刻スタンパの場合も、陽刻スタンパの場合と
類似して、図１４、図１５又は図１６に示されたホログ
ラム導光板製造方法を使用して図８Ａないし図９Ｂのよ
うな形態のホログラム層５０６、５０６’が形成された
ホログラム導光板を製造することができる。
０から出射されるレーザービームをレンズ２０１、２０
２を使用して拡大させ、このように拡大されたレーザー
ビームを拡散板２０３に入射させて拡散させる。その次
に、拡散板から一定の距離Ｌだけ離れたところに、感光
剤２０４が塗布されたガラス板２０５を感光剤が塗布さ
れた方の面が拡散板２０３に向かうようにして、拡散板
２０３から散乱されるレーザービームに露出させる。前
記のような装置の構成によって、一定時間レーザービー
ムに露出させるとレーザービームのスペクル模様通りに
感光剤２０４が感光され、このようにレーザービームに
１次感光された感光剤２０４が塗布されているガラス板
２０５上に前述のものとは反対に模様が存在する部分は
不透明でそれ以外の部分は光が通過し得るように透明な
図８Ａないし図９Ｂの形態のうちのいずれか１つの形態
の模様パターンを有するマスク２０７を付着し、このマ
スクの透明な部分を通してＵＶランプ２０６でＵＶを照
射する。ＵＶを照射した後に現像すると、図１８のよう
にＵＶが照射された部分は完全にエッチングされ、レー
ザービームに１次照射されてマスク２０７によってＵＶ
の照射が遮断された部分はスペクルの模様通りに部分エ
ッチングされて陽刻のホログラム２０８が形成される。
即ち、使用したマスクの模様通りにホログラム２０８が
配列されたホログラム板２０９が製造される。このよう
に製造したホログラム板２０９に図１９のように無電解
メッキを行うと、ホログラム２０８及び感光剤２０４が
完全にエッチングされて露出されたガラス面上に金属膜
２１０が形成される（Ｓ３１、Ｓ３２）。その後、金属
膜２１０を分離すると、ガラス板２０５上に存在するホ
ログラム２０８が陰刻の形態にその通りに複製されて陰
刻の金属マスタであるスタンパ２１０が製造される（Ｓ
３３）。陰刻スタンパの場合も、陽刻スタンパの場合と
類似して、図１４、図１５又は図１６に示されたホログ
ラム導光板製造方法を使用して図８Ａないし図９Ｂのよ
うな形態のホログラム層５０６、５０６’が形成された
ホログラム導光板を製造することができる。
【００３８】図５３（ａ）は図１０及び図１２のように
製造された陽刻スタンパを使用して製造したホログラム
導光板、図５３（ｂ）は図１７及び図１９のように製造
された陰刻スタンパを使用して製造したホログラム導光
板を図示したものである。
製造された陽刻スタンパを使用して製造したホログラム
導光板、図５３（ｂ）は図１７及び図１９のように製造
された陰刻スタンパを使用して製造したホログラム導光
板を図示したものである。
【００３９】実施の形態２ 以下、図２０に基づいて本発明の実施の形態２を説明す
る。実施の形態２も中小型ＬＣＤに使用される平板照明
装置に関するものである。
る。実施の形態２も中小型ＬＣＤに使用される平板照明
装置に関するものである。
【００４０】まず、図２０に基づいて本発明による実施
の形態２を説明すると、光源である長いランプ２１の長
手方向に一側面が平行に形成されたホログラム導光板２
２が配置される。ホログラム導光板２２の下面には第１
ホログラム層２４が形成されており、上面には第２ホロ
グラム層２５が形成されているので、導光板を通して出
る光の強さの分布が均一になる。ホログラム導光板２２
の下には光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板２３
が位置し、ホログラム導光板２２の上には図２の（ａ）
のようにプリズム角がＸ軸と平行に形成された第１プリ
ズム板２７、図２の（ｂ）のようにプリズム角がＺ軸と
平行に形成された第２プリズム板２８、そして第２拡散
板２９が順に積層されるように構成される。
の形態２を説明すると、光源である長いランプ２１の長
手方向に一側面が平行に形成されたホログラム導光板２
２が配置される。ホログラム導光板２２の下面には第１
ホログラム層２４が形成されており、上面には第２ホロ
グラム層２５が形成されているので、導光板を通して出
る光の強さの分布が均一になる。ホログラム導光板２２
の下には光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板２３
が位置し、ホログラム導光板２２の上には図２の（ａ）
のようにプリズム角がＸ軸と平行に形成された第１プリ
ズム板２７、図２の（ｂ）のようにプリズム角がＺ軸と
平行に形成された第２プリズム板２８、そして第２拡散
板２９が順に積層されるように構成される。
【００４１】ホログラム導光板２２の下面に形成されて
いる第１ホログラム層２４は図８Ａないし図９Ｂのうち
のいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマスク
と同一の形態を有し（図１０又は図１７参照）、図１２
又は図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式と同
一の方法で第１ホログラム層２４用第１スタンパを製造
することができる。
いる第１ホログラム層２４は図８Ａないし図９Ｂのうち
のいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマスク
と同一の形態を有し（図１０又は図１７参照）、図１２
又は図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式と同
一の方法で第１ホログラム層２４用第１スタンパを製造
することができる。
【００４２】一方、ホログラム導光板の上面に形成され
る第２ホログラム層２５は次のような方法で形成され得
る。まず、図２１、図２３Ａ及び２３Ｂに示された２つ
の方法を使用してホログラム板を製造し、スタンパを製
造した後に導光板を形成する。
る第２ホログラム層２５は次のような方法で形成され得
る。まず、図２１、図２３Ａ及び２３Ｂに示された２つ
の方法を使用してホログラム板を製造し、スタンパを製
造した後に導光板を形成する。
【００４３】図２１によるホログラム板の製造方法をよ
り詳しく説明すると、レーザー３００から出射されるレ
ーザービームをレンズ３０１、３０２を用いて拡大さ
せ、拡大されたレーザービームを拡散板３０３に入射さ
せて拡散させる。また、拡散板から一定の距離Ｌだけ離
れたところに、感光剤３０４が塗布されたガラス板３０
５をレーザービームの光軸とθｓの角度をなすように設
置する。これによって、ガラス板３０５の一角Ａは拡散
板からＬ１（Ｌ１＝Ｌ−Ｌｃｏｓ θｓ／２）だけ離
れ、反対の一角ＢはＬ２（Ｌ２＝Ｌ＋Ｌ ｃｏｓ θｓ／
２）だけ離れ、拡散板３０３から拡散されたレーザービ
ームが傾いて位置したガラス板に照射される。拡散板３
０３から拡散されるレーザービームのスペクル模様の大
きさは距離が遠いほど増加する。言い換えれば、拡散板
３０３に近い位置では小さいスペクル模様が分布されて
凹凸の密度が高く、拡散板から遠くなるほどスペクル模
様が大きくなって凹凸の密度が低くなる。従って、図２
３のような光学系を構成すると、拡散板と距離が最も近
いＡから距離が最も遠いＢまでスペクルの模様の大きさ
が次第に増大し、このような構成で感光剤が塗布された
ガラス板３０５にレーザービームを照射した後で現像す
ると、図２２のように、ＡからＢまでの凹凸の密度が次
第に減少するホログラム３０４’、３０４’’からなる
ホログラム板３０６が製造される。
り詳しく説明すると、レーザー３００から出射されるレ
ーザービームをレンズ３０１、３０２を用いて拡大さ
せ、拡大されたレーザービームを拡散板３０３に入射さ
せて拡散させる。また、拡散板から一定の距離Ｌだけ離
れたところに、感光剤３０４が塗布されたガラス板３０
５をレーザービームの光軸とθｓの角度をなすように設
置する。これによって、ガラス板３０５の一角Ａは拡散
板からＬ１（Ｌ１＝Ｌ−Ｌｃｏｓ θｓ／２）だけ離
れ、反対の一角ＢはＬ２（Ｌ２＝Ｌ＋Ｌ ｃｏｓ θｓ／
２）だけ離れ、拡散板３０３から拡散されたレーザービ
ームが傾いて位置したガラス板に照射される。拡散板３
０３から拡散されるレーザービームのスペクル模様の大
きさは距離が遠いほど増加する。言い換えれば、拡散板
３０３に近い位置では小さいスペクル模様が分布されて
凹凸の密度が高く、拡散板から遠くなるほどスペクル模
様が大きくなって凹凸の密度が低くなる。従って、図２
３のような光学系を構成すると、拡散板と距離が最も近
いＡから距離が最も遠いＢまでスペクルの模様の大きさ
が次第に増大し、このような構成で感光剤が塗布された
ガラス板３０５にレーザービームを照射した後で現像す
ると、図２２のように、ＡからＢまでの凹凸の密度が次
第に減少するホログラム３０４’、３０４’’からなる
ホログラム板３０６が製造される。
【００４４】次に、図２３Ａ及び図２３Ｂに基づいて、
凹凸の密度が次第に減少するホログラム板の他の製造方
法について説明する。まず、レーザー６００から出射さ
れるレーザービームをレンズ６０１、６０２を用いて拡
大させ、このように拡大されたレーザービームを拡散板
６０３に入射させて拡散させる。その後、拡散板から一
定の距離Ｌｉだけ離れたところに感光剤６０５が塗布さ
れたガラス板６０６を位置させ、一定部分の幅Ｈｉだけ
残した状態で、感光剤６０５が塗布されたガラス板６０
６の他の部分（Ｈｉ以外の部分）を遮断板６０４で覆
う。Ｈｉ部分を拡散板から拡散されたレーザービームに
一定時間露出させた後、レーザービーム遮断器６０８で
レーザービームを遮断する。レーザービームが遮断され
た後に拡散板とガラス板６０６との間の距離Ｌｉを増加
させてから、前記レーザービームに露出されたＨｉ部分
は遮断板６０４で覆い、レーザービームに露出されなか
った隣接した他の領域をレーザービームに露出させた
後、レーザービーム遮断器６０８を動作させる。このよ
うな過程を一定して多数回反復すると、ガラス板６０６
は拡散板６０３からＬｎの分だけ離れているようにな
り、ガラス板６０６に塗布された感光剤６０５の露出領
域もＡからＢに向かいながらＨｎ領域が露出される（図
２３Ｂ参照）。露出領域が感光剤６０５が塗布されたガ
ラス板６０６の端に（Ｂ側方向）到達するまで前記過程
を反復した後に感光剤６０５が塗布されたガラス板６０
６を現像すると、感光剤がエッチングされて図２４の
（ａ）、（ｂ）（ｃ）のようにＡからＢまで密度が段階
的に低くなるホログラム６０５’、６０５’’から形成
されるホログラム板６０７、６０７’、６０７’’が製
造される。
凹凸の密度が次第に減少するホログラム板の他の製造方
法について説明する。まず、レーザー６００から出射さ
れるレーザービームをレンズ６０１、６０２を用いて拡
大させ、このように拡大されたレーザービームを拡散板
６０３に入射させて拡散させる。その後、拡散板から一
定の距離Ｌｉだけ離れたところに感光剤６０５が塗布さ
れたガラス板６０６を位置させ、一定部分の幅Ｈｉだけ
残した状態で、感光剤６０５が塗布されたガラス板６０
６の他の部分（Ｈｉ以外の部分）を遮断板６０４で覆
う。Ｈｉ部分を拡散板から拡散されたレーザービームに
一定時間露出させた後、レーザービーム遮断器６０８で
レーザービームを遮断する。レーザービームが遮断され
た後に拡散板とガラス板６０６との間の距離Ｌｉを増加
させてから、前記レーザービームに露出されたＨｉ部分
は遮断板６０４で覆い、レーザービームに露出されなか
った隣接した他の領域をレーザービームに露出させた
後、レーザービーム遮断器６０８を動作させる。このよ
うな過程を一定して多数回反復すると、ガラス板６０６
は拡散板６０３からＬｎの分だけ離れているようにな
り、ガラス板６０６に塗布された感光剤６０５の露出領
域もＡからＢに向かいながらＨｎ領域が露出される（図
２３Ｂ参照）。露出領域が感光剤６０５が塗布されたガ
ラス板６０６の端に（Ｂ側方向）到達するまで前記過程
を反復した後に感光剤６０５が塗布されたガラス板６０
６を現像すると、感光剤がエッチングされて図２４の
（ａ）、（ｂ）（ｃ）のようにＡからＢまで密度が段階
的に低くなるホログラム６０５’、６０５’’から形成
されるホログラム板６０７、６０７’、６０７’’が製
造される。
【００４５】図２４は図２３Ａ及び２３Ｂの方法によっ
て製造された第２ホログラム層に対するホログラム板を
示したものであって、（ａ）はＡからＢまでの露出領域
Ｈｉを一定に（Ｈｉ＝Ｈｎ）する場合であり、（ｂ）は
ＡからＢまでの露出領域Ｈｉを次第に増加（Ｈｉ＜Ｈ
ｎ）させる場合であり、（ｃ）はＡからＢまでの露出領
域Ｈｉを次第に減少（Ｈｉ＞Ｈｎ）させる場合に製造さ
れたホログラム板６０７、６０７’、６０７’’をそれ
ぞれ示す。以上のように第２ホログラム層に対するホロ
グラム板が製造されると、図１２に示された方法のよう
に第２ホログラム層用マスタスタンパを製造することが
できる。
て製造された第２ホログラム層に対するホログラム板を
示したものであって、（ａ）はＡからＢまでの露出領域
Ｈｉを一定に（Ｈｉ＝Ｈｎ）する場合であり、（ｂ）は
ＡからＢまでの露出領域Ｈｉを次第に増加（Ｈｉ＜Ｈ
ｎ）させる場合であり、（ｃ）はＡからＢまでの露出領
域Ｈｉを次第に減少（Ｈｉ＞Ｈｎ）させる場合に製造さ
れたホログラム板６０７、６０７’、６０７’’をそれ
ぞれ示す。以上のように第２ホログラム層に対するホロ
グラム板が製造されると、図１２に示された方法のよう
に第２ホログラム層用マスタスタンパを製造することが
できる。
【００４６】以下、図２５及び図２６に基づいて前記の
ように製造された第１及び第２スタンパを使用して下面
及び上面にそれぞれ第１ホログラム層及び第２ホログラ
ム層が形成されたホログラム導光板を製造する２つの互
いに異なる方法について説明する。
ように製造された第１及び第２スタンパを使用して下面
及び上面にそれぞれ第１ホログラム層及び第２ホログラ
ム層が形成されたホログラム導光板を製造する２つの互
いに異なる方法について説明する。
【００４７】まず図２５に示されている第１の方法を説
明すると、透明な導光板材料８００の上面及び下面にそ
れぞれＵＶ（Ultra Violet）硬化剤８０１、８０１’を
塗布した後（Ｓ５１）、ＵＶを前記ＵＶ硬化剤が完全に
固まらない程度の時間のみ照射する（Ｓ５２）。その
後、前述の方式で製造された第１及び第２スタンパ８０
４、８０３がそれぞれ付着された圧着機８０５’、８０
５で導光板上に塗布されたＵＶ硬化剤にスタンパの模様
を導光板の上面及び下面に同時に圧着して形成し、一定
の時間が経過した後に圧着機を導光板から分離させる
（Ｓ５３）。その次に圧着機を分離した導光板上にＵＶ
を照射すると（Ｓ５４）、導光板の下面には図８Ａない
し図９Ｂの形態のうちのいずれか１つの形態のような形
態にホログラムが配列された第１ホログラム層８０６
が、導光板の上面には図２２又は図２４の（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）の形態のうちのいずれか１つの形態のよ
うな形態を有する第２ホログラム層８０６’が形成され
る（Ｓ５５）。
明すると、透明な導光板材料８００の上面及び下面にそ
れぞれＵＶ（Ultra Violet）硬化剤８０１、８０１’を
塗布した後（Ｓ５１）、ＵＶを前記ＵＶ硬化剤が完全に
固まらない程度の時間のみ照射する（Ｓ５２）。その
後、前述の方式で製造された第１及び第２スタンパ８０
４、８０３がそれぞれ付着された圧着機８０５’、８０
５で導光板上に塗布されたＵＶ硬化剤にスタンパの模様
を導光板の上面及び下面に同時に圧着して形成し、一定
の時間が経過した後に圧着機を導光板から分離させる
（Ｓ５３）。その次に圧着機を分離した導光板上にＵＶ
を照射すると（Ｓ５４）、導光板の下面には図８Ａない
し図９Ｂの形態のうちのいずれか１つの形態のような形
態にホログラムが配列された第１ホログラム層８０６
が、導光板の上面には図２２又は図２４の（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）の形態のうちのいずれか１つの形態のよ
うな形態を有する第２ホログラム層８０６’が形成され
る（Ｓ５５）。
【００４８】ホログラム導光板を製造する第２の方法で
ある図２６に示した方法は、前述の方式で製造された第
１及び第２スタンパ９０３、９０２を導光板を射出する
金型構造物９００の上下に設置し（Ｓ６１）、導光板材
料９０１を金型に注入する射出方式で製造する方法であ
る。導光板材料９０１を金型に注入してから（Ｓ６
２）、一定時間が経過した後に金型を分離すると、図８
Ａないし図９Ｂの形態のうちのいずれか１つの形態のよ
うな形態にホログラムが配列された第１ホログラム層が
導光板９０４の下面に形成され、図２２又は図２４の
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の形態のうちのいずれか１つの
形態のような形態を有する第２ホログラム層が導光板６
０４の上面に形成される（Ｓ６３）。
ある図２６に示した方法は、前述の方式で製造された第
１及び第２スタンパ９０３、９０２を導光板を射出する
金型構造物９００の上下に設置し（Ｓ６１）、導光板材
料９０１を金型に注入する射出方式で製造する方法であ
る。導光板材料９０１を金型に注入してから（Ｓ６
２）、一定時間が経過した後に金型を分離すると、図８
Ａないし図９Ｂの形態のうちのいずれか１つの形態のよ
うな形態にホログラムが配列された第１ホログラム層が
導光板９０４の下面に形成され、図２２又は図２４の
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の形態のうちのいずれか１つの
形態のような形態を有する第２ホログラム層が導光板６
０４の上面に形成される（Ｓ６３）。
【００４９】実施の形態３ 本発明の実施の形態３を図２７に基づいて説明する。実
施の形態３も中小型ＬＣＤに使用される平板照明装置に
関する。
施の形態３も中小型ＬＣＤに使用される平板照明装置に
関する。
【００５０】本発明による実施の形態３について説明す
ると、図２７に示されているように、光源である長いラ
ンプ３１の長手方向に一側面が平行に形成されたホログ
ラム導光板３２が配置される。ホログラム導光板３２の
下面には導光板を通して出射する光の強さの分布を均一
にする機能を果す第１ホログラム層３４が形成されてお
り、導光板３２の上面にはＸ軸方向に拡散される光の拡
散角度がＺ軸方向に拡散される光の拡散角度より大きく
なるようにするビーム整形第２ホログラム層３５が形成
されている。ホログラム導光板３２の下には光の散乱及
び反射を同時に遂行する反射板３３が位置し、導光板３
２の上にはプリズム角がＺ軸方向に形成されたプリズム
板３６、そして拡散板３７が順に積層されるように構成
される。
ると、図２７に示されているように、光源である長いラ
ンプ３１の長手方向に一側面が平行に形成されたホログ
ラム導光板３２が配置される。ホログラム導光板３２の
下面には導光板を通して出射する光の強さの分布を均一
にする機能を果す第１ホログラム層３４が形成されてお
り、導光板３２の上面にはＸ軸方向に拡散される光の拡
散角度がＺ軸方向に拡散される光の拡散角度より大きく
なるようにするビーム整形第２ホログラム層３５が形成
されている。ホログラム導光板３２の下には光の散乱及
び反射を同時に遂行する反射板３３が位置し、導光板３
２の上にはプリズム角がＺ軸方向に形成されたプリズム
板３６、そして拡散板３７が順に積層されるように構成
される。
【００５１】第２ホログラム層の拡散特性は図５２Ｂに
示されており、これを通過した光がＺ軸方向に拡散する
角度がＸ軸方向に拡散する角度より大きくなるためビー
ム整形ホログラム層とも称する。
示されており、これを通過した光がＺ軸方向に拡散する
角度がＸ軸方向に拡散する角度より大きくなるためビー
ム整形ホログラム層とも称する。
【００５２】ホログラム導光板３２の下面に形成されて
いる第１ホログラム層３４は図８Ａないし図９Ｂのうち
のいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマスク
と同一の形態を有し、図１０ないし図１３及び図１７な
いし図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式と同
一の方法で第１ホログラム層３４用第１スタンパを製造
することができる。
いる第１ホログラム層３４は図８Ａないし図９Ｂのうち
のいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマスク
と同一の形態を有し、図１０ないし図１３及び図１７な
いし図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式と同
一の方法で第１ホログラム層３４用第１スタンパを製造
することができる。
【００５３】一方、ホログラム導光板の上面に形成され
るビーム整形第２ホログラム層３５は次のような方法で
形成され得る。まず、図２８Ａ及び２８Ｂに示された方
法を使用してホログラム板を製造し、スタンパを製造し
た後に導光板を形成する。
るビーム整形第２ホログラム層３５は次のような方法で
形成され得る。まず、図２８Ａ及び２８Ｂに示された方
法を使用してホログラム板を製造し、スタンパを製造し
た後に導光板を形成する。
【００５４】図２８Ａ及び２８Ｂに基づいて第２ホログ
ラム層用ホログラム板の製造方法をより具体的に説明す
ると、レーザー１３００から出射されるレーザービーム
をレンズ１３０２、１３０３を用いて拡大させ、このよ
うに拡大されたレーザービームをＸＹ平面で曲率を有す
る円筒レンズ（Cylindrical Lens）１３０４を用いて拡
散板１３０５に集束させた後に再び拡散させる。その次
に、拡散板から一定の距離Ｌｉだけ離れたところに感光
剤１３０７が塗布されたガラス板１３０８を位置させ、
一定部分の幅Ｈｉのみ残した状態で感光剤１３０７が塗
布されたガラス板１３０８の他の部分（Ｈｉ以外の部
分）を遮断板１３０６で覆う。Ｈｉ部分を拡散板から拡
散されたレーザービームに一定時間露出させた後、レー
ザービーム遮断器３０１でレーザービームを遮断する。
レーザービームが遮断された後、拡散板とガラス板１３
０８との間の距離Ｌｉを増加させてから、前記レーザー
ビームに露出されたＨｉ部分は遮断板１３０６で覆い、
レーザービームに露出されなかった隣接した他の領域を
レーザービームに露出させた後、レーザービーム遮断器
１３０１を動作させる。このような過程を一定して多数
回反復すると、ガラス板１３０８は拡散板１３０５から
Ｌｎ分だけ離れているようになり、ガラス板１３０８に
塗布された感光剤１３０７の露出領域もＡからＢに向か
いながらＨｎ領域が露出される（図２８Ｂ参照）。露出
領域が感光剤１３０７が塗布されたガラス板１３０８の
端に（Ｂ側方向）到達するまで前記過程を反復した後に
感光剤１３０７が塗布されたガラス板１３０８を現像す
ると、感光剤がエッチングされて図２９の（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）のようにＡからＢまで密度が段階的に低
くなるホログラム（１３０７’、１３０７’’）の形成
されたホログラム板（１３０９、１３０９’、１３０
９’’）が製造される。
ラム層用ホログラム板の製造方法をより具体的に説明す
ると、レーザー１３００から出射されるレーザービーム
をレンズ１３０２、１３０３を用いて拡大させ、このよ
うに拡大されたレーザービームをＸＹ平面で曲率を有す
る円筒レンズ（Cylindrical Lens）１３０４を用いて拡
散板１３０５に集束させた後に再び拡散させる。その次
に、拡散板から一定の距離Ｌｉだけ離れたところに感光
剤１３０７が塗布されたガラス板１３０８を位置させ、
一定部分の幅Ｈｉのみ残した状態で感光剤１３０７が塗
布されたガラス板１３０８の他の部分（Ｈｉ以外の部
分）を遮断板１３０６で覆う。Ｈｉ部分を拡散板から拡
散されたレーザービームに一定時間露出させた後、レー
ザービーム遮断器３０１でレーザービームを遮断する。
レーザービームが遮断された後、拡散板とガラス板１３
０８との間の距離Ｌｉを増加させてから、前記レーザー
ビームに露出されたＨｉ部分は遮断板１３０６で覆い、
レーザービームに露出されなかった隣接した他の領域を
レーザービームに露出させた後、レーザービーム遮断器
１３０１を動作させる。このような過程を一定して多数
回反復すると、ガラス板１３０８は拡散板１３０５から
Ｌｎ分だけ離れているようになり、ガラス板１３０８に
塗布された感光剤１３０７の露出領域もＡからＢに向か
いながらＨｎ領域が露出される（図２８Ｂ参照）。露出
領域が感光剤１３０７が塗布されたガラス板１３０８の
端に（Ｂ側方向）到達するまで前記過程を反復した後に
感光剤１３０７が塗布されたガラス板１３０８を現像す
ると、感光剤がエッチングされて図２９の（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）のようにＡからＢまで密度が段階的に低
くなるホログラム（１３０７’、１３０７’’）の形成
されたホログラム板（１３０９、１３０９’、１３０
９’’）が製造される。
【００５５】図２９は図２８Ａ及び２８Ｂの方法によっ
て製造されたビーム整形第２ホログラム層用ホログラム
拡散板を示したものであって、（ａ）はＡからＢまでの
露出領域Ｈｉを一定にする（Ｈｉ＝Ｈｎ）場合であり、
（ｂ）はＡからＢまでの露出領域Ｈｉを次第に増加させ
る（Ｈｉ＜Ｈｎ）場合であり、（ｃ）はＡからＢまでの
露出領域Ｈｉを次第に減少させる（Ｈｉ＞Ｈｎ）場合に
製造されるホログラム拡散板１３０９、１３０９’、１
３０９’’をそれぞれ示す。
て製造されたビーム整形第２ホログラム層用ホログラム
拡散板を示したものであって、（ａ）はＡからＢまでの
露出領域Ｈｉを一定にする（Ｈｉ＝Ｈｎ）場合であり、
（ｂ）はＡからＢまでの露出領域Ｈｉを次第に増加させ
る（Ｈｉ＜Ｈｎ）場合であり、（ｃ）はＡからＢまでの
露出領域Ｈｉを次第に減少させる（Ｈｉ＞Ｈｎ）場合に
製造されるホログラム拡散板１３０９、１３０９’、１
３０９’’をそれぞれ示す。
【００５６】第２ホログラム層（ビーム整形ホログラム
層）３５に対するホログラム板が製造されると、図１２
に示された方法のように第２ホログラム層用第２マスタ
スタンパを製造することができる。このように製造され
た第１及び第２スタンパを使用して図２５又は図２６に
示された方法で下面及び上面にそれぞれ第１及び第２ホ
ログラム層が形成されたホログラム導光板を製造する。
層）３５に対するホログラム板が製造されると、図１２
に示された方法のように第２ホログラム層用第２マスタ
スタンパを製造することができる。このように製造され
た第１及び第２スタンパを使用して図２５又は図２６に
示された方法で下面及び上面にそれぞれ第１及び第２ホ
ログラム層が形成されたホログラム導光板を製造する。
【００５７】実施の形態４ 以下、図３０に基づいて本発明の実施の形態４を説明す
る。実施の形態４も中小型ＬＣＤに使用される平板照明
装置に関する。
る。実施の形態４も中小型ＬＣＤに使用される平板照明
装置に関する。
【００５８】まず図３０に基づいて本発明による実施の
形態４を説明すると、光源である長いランプ４１の長手
方向に一側面が平行に形成されたホログラム導光板４２
が配置される。ホログラム導光板４２の下面には導光板
を通して出る光の強さの分布を均一にする機能を果す第
１ホログラム層４４が形成されており、上面にはＸ軸方
向に拡散する光の拡散角度がＺ軸方向に拡散する光の拡
散角度より大きくなるようにする（図５２Ｂ参照）ビー
ム整形第２ホログラム層４５が形成されている。ホログ
ラム導光板４２の下には光の散乱及び反射を同時に遂行
する反射板４３が位置し、ホログラム導光板４２の上に
はＺ軸方向に拡散する光の拡散角度がＸ軸方向に拡散す
る光の拡散角度より大きくなるようにするビーム整形ホ
ログラム拡散板４６、そして拡散板４７が順に積層され
るように構成される。
形態４を説明すると、光源である長いランプ４１の長手
方向に一側面が平行に形成されたホログラム導光板４２
が配置される。ホログラム導光板４２の下面には導光板
を通して出る光の強さの分布を均一にする機能を果す第
１ホログラム層４４が形成されており、上面にはＸ軸方
向に拡散する光の拡散角度がＺ軸方向に拡散する光の拡
散角度より大きくなるようにする（図５２Ｂ参照）ビー
ム整形第２ホログラム層４５が形成されている。ホログ
ラム導光板４２の下には光の散乱及び反射を同時に遂行
する反射板４３が位置し、ホログラム導光板４２の上に
はＺ軸方向に拡散する光の拡散角度がＸ軸方向に拡散す
る光の拡散角度より大きくなるようにするビーム整形ホ
ログラム拡散板４６、そして拡散板４７が順に積層され
るように構成される。
【００５９】ホログラム導光板４２の下面に形成されて
いる第１ホログラム層４４は図８Ａないし図９Ｂのうち
のいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマスク
と同一の形態を有し、図１０ないし図１３及び図１７な
いし図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式と同
一の方法で第１ホログラム層４４用第１スタンパを製造
することができる。
いる第１ホログラム層４４は図８Ａないし図９Ｂのうち
のいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマスク
と同一の形態を有し、図１０ないし図１３及び図１７な
いし図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式と同
一の方法で第１ホログラム層４４用第１スタンパを製造
することができる。
【００６０】ホログラム導光板４２の上面に形成される
ビーム整形第２ホログラム層４５も図２８Ａ及び２８
Ｂ、図２９に基づいて実施の形態３で説明した方式と同
一の方法でホログラム板を形成し、図１２のスタンパ製
造過程を経て第２ホログラム層用第２スタンパを製造す
ることができる。
ビーム整形第２ホログラム層４５も図２８Ａ及び２８
Ｂ、図２９に基づいて実施の形態３で説明した方式と同
一の方法でホログラム板を形成し、図１２のスタンパ製
造過程を経て第２ホログラム層用第２スタンパを製造す
ることができる。
【００６１】このように製造された第１及び第２スタン
パを使用して図２５又は図２６に図示された方法で下面
及び上面にそれぞれ第１及び第２ホログラム層が形成さ
れたホログラム導光板を製造する。
パを使用して図２５又は図２６に図示された方法で下面
及び上面にそれぞれ第１及び第２ホログラム層が形成さ
れたホログラム導光板を製造する。
【００６２】一方、導光板の上に位置するビーム整形ホ
ログラム拡散板４６の製造過程は図３１Ａ及び３１Ｂに
示されており、図２８Ａ及び２８Ｂの光学系の構成にお
いて、円筒レンズ１３０４の曲率がＹＺ平面に存在する
ように円筒レンズ１３０４をＹ軸を中心にして９０度回
転させて構成する。拡散板１３０５から一定の距離だけ
離れたところに感光剤が塗布されたガラス板を位置させ
てレーザービームに一定の時間露出させビーム整形ホロ
グラム拡散板用ホログラム板を製造する。その次に、図
１２のような方法でスタンパを製造した後、図３２のよ
うな方法でビーム整形ホログラム拡散板４６を製造す
る。
ログラム拡散板４６の製造過程は図３１Ａ及び３１Ｂに
示されており、図２８Ａ及び２８Ｂの光学系の構成にお
いて、円筒レンズ１３０４の曲率がＹＺ平面に存在する
ように円筒レンズ１３０４をＹ軸を中心にして９０度回
転させて構成する。拡散板１３０５から一定の距離だけ
離れたところに感光剤が塗布されたガラス板を位置させ
てレーザービームに一定の時間露出させビーム整形ホロ
グラム拡散板用ホログラム板を製造する。その次に、図
１２のような方法でスタンパを製造した後、図３２のよ
うな方法でビーム整形ホログラム拡散板４６を製造す
る。
【００６３】より具体的に図３２に基づいてホログラム
拡散板４６の製造方法を説明すると、薄い光学用樹脂７
００の上面にＵＶ（Ultra Violet）硬化剤７０１を塗布
した後（Ｓ７１）、前述の方式で製造されたスタンパ７
０２が付着された圧着機７０３で薄い光学用樹脂７００
上に塗布されたＵＶ硬化剤にスタンパの模様を圧着して
形成し、一定の時間ＵＶを照射した後（Ｓ７２）、圧着
機を導光板から分離させると、ビーム整形ホログラム拡
散板が製造される（Ｓ７３）。
拡散板４６の製造方法を説明すると、薄い光学用樹脂７
００の上面にＵＶ（Ultra Violet）硬化剤７０１を塗布
した後（Ｓ７１）、前述の方式で製造されたスタンパ７
０２が付着された圧着機７０３で薄い光学用樹脂７００
上に塗布されたＵＶ硬化剤にスタンパの模様を圧着して
形成し、一定の時間ＵＶを照射した後（Ｓ７２）、圧着
機を導光板から分離させると、ビーム整形ホログラム拡
散板が製造される（Ｓ７３）。
【００６４】前述の方法で製造したビーム整形ホログラ
ム拡散板４６に入射するビームはＺ軸方向に拡散する光
の拡散角度がＸ軸方向に拡散する光の拡散角度より大き
くなる。即ち、図５２Ｂにおいて座標計をＹ軸を中心に
して９０度回転させた場合である。
ム拡散板４６に入射するビームはＺ軸方向に拡散する光
の拡散角度がＸ軸方向に拡散する光の拡散角度より大き
くなる。即ち、図５２Ｂにおいて座標計をＹ軸を中心に
して９０度回転させた場合である。
【００６５】実施の形態５ 以下、図３３に基づいて本発明の実施の形態５を説明す
る。実施の形態５も中小型ＬＣＤに使用される平板照明
装置に関する。
る。実施の形態５も中小型ＬＣＤに使用される平板照明
装置に関する。
【００６６】まず図３３に基づいて本発明による実施の
形態５を説明すると、光源である長いランプ５１の長手
方向に一側面が平行に形成されたホログラム導光板５２
が配置される。ホログラム導光板５２の下面には導光板
を通じて出る光の強さの分布を均一にする第１ホログラ
ム層５４が形成されており、上面にはＸ軸方向に拡散す
る光の拡散角度がＺ軸方向に拡散する光の拡散角度より
大きくなるようにする特性とＺ軸方向に拡散する光の拡
散角度がＸ軸方向に拡散する光の拡散角度より大きくな
るようにする特性とを同時に有する（図５２Ｃ参照）複
合ビーム整形第２ホログラム層５５が形成されている。
ホログラム導光板５２の下には光の散乱及び反射を同時
に遂行する反射板５３が位置し、ホログラム導光板５２
の上には拡散板５６が順に積層されるように構成され
る。
形態５を説明すると、光源である長いランプ５１の長手
方向に一側面が平行に形成されたホログラム導光板５２
が配置される。ホログラム導光板５２の下面には導光板
を通じて出る光の強さの分布を均一にする第１ホログラ
ム層５４が形成されており、上面にはＸ軸方向に拡散す
る光の拡散角度がＺ軸方向に拡散する光の拡散角度より
大きくなるようにする特性とＺ軸方向に拡散する光の拡
散角度がＸ軸方向に拡散する光の拡散角度より大きくな
るようにする特性とを同時に有する（図５２Ｃ参照）複
合ビーム整形第２ホログラム層５５が形成されている。
ホログラム導光板５２の下には光の散乱及び反射を同時
に遂行する反射板５３が位置し、ホログラム導光板５２
の上には拡散板５６が順に積層されるように構成され
る。
【００６７】ホログラム導光板５２の下面に形成されて
いる第１ホログラム層５４は図８Ａないし図９Ｂのうち
のいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマスク
と同一の形態を有し、図１０ないし図１３及び図１７な
いし図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式と同
一の方法で第１ホログラム層５４用第１スタンパを製造
することができる。
いる第１ホログラム層５４は図８Ａないし図９Ｂのうち
のいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマスク
と同一の形態を有し、図１０ないし図１３及び図１７な
いし図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式と同
一の方法で第１ホログラム層５４用第１スタンパを製造
することができる。
【００６８】一方、ホログラム導光板５２の上面に形成
される複合ビーム整形第２ホログラム層５５に対するホ
ログラム板の製造過程は、感光剤が塗布された１枚のガ
ラス板に実施の形態３の図２８Ａ及び２８Ｂに基づいて
説明したビーム整形ホログラム板を製造する過程と実施
の形態４の図３１Ａ及び３１Ｂに基づいて説明したビー
ム整形ホログラム板を製造する過程とを連続して遂行す
ることによって得られる。即ち、図２８Ａ及び２８Ｂに
示された光学系でレーザー１３００から出射されるレー
ザービームをレンズ１３０２、１３０３を使用して拡大
させ、このように拡大されたレーザービームをＸＹ平面
で曲率を有する円筒レンズ１３０４を用いて１次露出さ
せた後、円筒レンズ１３０４をＹ軸を中心にして９０度
回転させて円筒レンズの曲率がＹＺ平面に存在するよう
にして再び２次露出させる。このように２次露出された
ガラス板１３０８の感光剤１３０７をエッチングしてホ
ログラム板を製造する。このようなホログラム板で再び
前述の図１２のスタンパ製造過程を経て第２ホログラム
層用第２スタンパを製造することができる。
される複合ビーム整形第２ホログラム層５５に対するホ
ログラム板の製造過程は、感光剤が塗布された１枚のガ
ラス板に実施の形態３の図２８Ａ及び２８Ｂに基づいて
説明したビーム整形ホログラム板を製造する過程と実施
の形態４の図３１Ａ及び３１Ｂに基づいて説明したビー
ム整形ホログラム板を製造する過程とを連続して遂行す
ることによって得られる。即ち、図２８Ａ及び２８Ｂに
示された光学系でレーザー１３００から出射されるレー
ザービームをレンズ１３０２、１３０３を使用して拡大
させ、このように拡大されたレーザービームをＸＹ平面
で曲率を有する円筒レンズ１３０４を用いて１次露出さ
せた後、円筒レンズ１３０４をＹ軸を中心にして９０度
回転させて円筒レンズの曲率がＹＺ平面に存在するよう
にして再び２次露出させる。このように２次露出された
ガラス板１３０８の感光剤１３０７をエッチングしてホ
ログラム板を製造する。このようなホログラム板で再び
前述の図１２のスタンパ製造過程を経て第２ホログラム
層用第２スタンパを製造することができる。
【００６９】このように製造された第１及び第２スタン
パを使用して図２５又は図２６に示された方法で下面及
び上面にそれぞれ第１及び第２ホログラム層が形成され
たホログラム導光板を製造する。
パを使用して図２５又は図２６に示された方法で下面及
び上面にそれぞれ第１及び第２ホログラム層が形成され
たホログラム導光板を製造する。
【００７０】前記方法で製造されたホログラム導光板５
２の複合ビーム整形第２ホログラム層５５は図５２Ｃの
ようにＸ軸方向に拡散する光の拡散角度がＺ軸方向に拡
散する光の拡散角度より大きくなるようにする特性とＺ
軸方向に拡散する光の拡散角度がＸ軸方向に拡散する光
の拡散角度より大きくなるようにする特性とを同時に有
する。
２の複合ビーム整形第２ホログラム層５５は図５２Ｃの
ようにＸ軸方向に拡散する光の拡散角度がＺ軸方向に拡
散する光の拡散角度より大きくなるようにする特性とＺ
軸方向に拡散する光の拡散角度がＸ軸方向に拡散する光
の拡散角度より大きくなるようにする特性とを同時に有
する。
【００７１】実施の形態６ 以下、図３４に基づいて本発明による実施の形態６を説
明する。実施の形態６も中小型ＬＣＤに使用される平板
照明装置に関する。
明する。実施の形態６も中小型ＬＣＤに使用される平板
照明装置に関する。
【００７２】まず図３４に基づいて本発明による実施の
形態６を説明すると、光源である長いランプ６１の長手
方向に一側面が平行に形成されたホログラム導光板６２
が配置される。ホログラム導光板６２の下面には導光板
を通じて出る光の強さの分布を均一にする第１ホログラ
ム層６４が形成されており、上面にはＸ軸方向に拡散す
る光の拡散角度がＺ軸方向に拡散する光の拡散角度より
大きくなるようにする（図５２Ｂ参照）ビーム整形第２
ホログラム層６５が形成されている。ホログラム導光板
６２の下には光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板
６３が位置し、ホログラム導光板６２の上にはホログラ
ム導光板６２を通じて出る光の拡散方向を変化させなが
ら光を拡散させるビーム拡散方向変更ホログラム拡散板
６６が順に積層されるように構成される。
形態６を説明すると、光源である長いランプ６１の長手
方向に一側面が平行に形成されたホログラム導光板６２
が配置される。ホログラム導光板６２の下面には導光板
を通じて出る光の強さの分布を均一にする第１ホログラ
ム層６４が形成されており、上面にはＸ軸方向に拡散す
る光の拡散角度がＺ軸方向に拡散する光の拡散角度より
大きくなるようにする（図５２Ｂ参照）ビーム整形第２
ホログラム層６５が形成されている。ホログラム導光板
６２の下には光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板
６３が位置し、ホログラム導光板６２の上にはホログラ
ム導光板６２を通じて出る光の拡散方向を変化させなが
ら光を拡散させるビーム拡散方向変更ホログラム拡散板
６６が順に積層されるように構成される。
【００７３】ホログラム導光板６２の下面に形成されて
いる第１ホログラム層６４は図８Ａないし図９Ｂのうち
のいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマスク
と同一の形態を有し、図１０ないし図１３及び図１７な
いし図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式と同
一の方法で第１ホログラム層６４用第１スタンパを製造
することができる。
いる第１ホログラム層６４は図８Ａないし図９Ｂのうち
のいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマスク
と同一の形態を有し、図１０ないし図１３及び図１７な
いし図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式と同
一の方法で第１ホログラム層６４用第１スタンパを製造
することができる。
【００７４】ホログラム導光板６２の上面に形成される
ビーム整形第２ホログラム層６５も図２８Ａ及び２８
Ｂ、図２９に基づいて実施の形態３で説明した方式と同
一の方法でホログラム板を形成し、図１２のスタンパ製
造過程を経て第２ホログラム層用第２スタンパを製造す
ることができる。
ビーム整形第２ホログラム層６５も図２８Ａ及び２８
Ｂ、図２９に基づいて実施の形態３で説明した方式と同
一の方法でホログラム板を形成し、図１２のスタンパ製
造過程を経て第２ホログラム層用第２スタンパを製造す
ることができる。
【００７５】このように製造された第１及び第２スタン
パを使用して図２５又は図２６に示された方法で下面及
び上面にそれぞれ第１及び第２ホログラム層が形成され
たホログラム導光板を製造する。
パを使用して図２５又は図２６に示された方法で下面及
び上面にそれぞれ第１及び第２ホログラム層が形成され
たホログラム導光板を製造する。
【００７６】一方、導光板の上に位置するビーム拡散方
向変更ホログラム拡散板６６の製造過程を図３５に基づ
いて説明する。
向変更ホログラム拡散板６６の製造過程を図３５に基づ
いて説明する。
【００７７】まず、レーザー１４００から出射されるレ
ーザービームをビーム分割器１４０１を用いて２つのビ
ームに分離する。分離されたビームの１つはレンズ１４
０２、１４０３を用いて拡大させ、このように拡大され
たレーザービームを第１拡散板１４０４に入射させて拡
散させる。分離された他の１つのレーザービームも反射
鏡１４０５でビームの進行方向を変化させてレンズ１４
０６、１４０７を用いて拡大させ、第２拡散板１４０８
に入射させて拡散させる。この時、第１拡散板１４０４
によって拡散されるビームと第２拡散板によって拡散さ
れるビームとの中心軸が感光剤１４０９が塗布されたガ
ラス板１４１０上でθの角度を維持するようにする。こ
のような光学系の構成によってガラス板１４１０上に塗
布された感光剤１４０９をレーザービームに一定時間露
出させて感光剤をエッチングしてホログラム板を製造し
た後、図１２のスタンパ製造過程を経てスタンパを製造
する。その次に、図３２に基づいて実施の形態４で説明
した方式と同一の方法でビーム拡散方向変更ホログラム
拡散板を製造する。前記のように製造されたビーム拡散
方向変更ホログラム拡散板６６にθの角度で入射される
ビームはビーム拡散方向変更ホログラム拡散板６６に対
して垂直に拡散方向が変化して拡散される（図５２Ｄ参
照）。
ーザービームをビーム分割器１４０１を用いて２つのビ
ームに分離する。分離されたビームの１つはレンズ１４
０２、１４０３を用いて拡大させ、このように拡大され
たレーザービームを第１拡散板１４０４に入射させて拡
散させる。分離された他の１つのレーザービームも反射
鏡１４０５でビームの進行方向を変化させてレンズ１４
０６、１４０７を用いて拡大させ、第２拡散板１４０８
に入射させて拡散させる。この時、第１拡散板１４０４
によって拡散されるビームと第２拡散板によって拡散さ
れるビームとの中心軸が感光剤１４０９が塗布されたガ
ラス板１４１０上でθの角度を維持するようにする。こ
のような光学系の構成によってガラス板１４１０上に塗
布された感光剤１４０９をレーザービームに一定時間露
出させて感光剤をエッチングしてホログラム板を製造し
た後、図１２のスタンパ製造過程を経てスタンパを製造
する。その次に、図３２に基づいて実施の形態４で説明
した方式と同一の方法でビーム拡散方向変更ホログラム
拡散板を製造する。前記のように製造されたビーム拡散
方向変更ホログラム拡散板６６にθの角度で入射される
ビームはビーム拡散方向変更ホログラム拡散板６６に対
して垂直に拡散方向が変化して拡散される（図５２Ｄ参
照）。
【００７８】図５２Ａないし５２Ｄはそれぞれ一般的な
従来の拡散板９０１の拡散特性、ビーム整形ホログラム
９０２の拡散特性、複合ビーム整形ホログラム９０３の
拡散特性及びビーム拡散方向変更ホログラム９０４の拡
散特性を例示している。
従来の拡散板９０１の拡散特性、ビーム整形ホログラム
９０２の拡散特性、複合ビーム整形ホログラム９０３の
拡散特性及びビーム拡散方向変更ホログラム９０４の拡
散特性を例示している。
【００７９】以上では中小型ＬＣＤに使用される平板照
明装置に関する実施の形態を説明したが、以下では大型
ＬＣＤに使用される平板照明装置について説明する。
明装置に関する実施の形態を説明したが、以下では大型
ＬＣＤに使用される平板照明装置について説明する。
【００８０】実施の形態７ 本発明の実施の形態７を図３６に基づいて説明する。大
型ＬＣＤに関して本発明を具現した形態について説明す
ると、図３６に示されているように、光源である長い２
つのランプ７１、７１’が平行に位置し、これらの長手
方向に両側面が平行に形成されたホログラム導光板７２
が配置される。説明の便宜のために、本明細書におい
て、光源はＺ軸と平行に延長され、導光板はＸＺ平面に
位置しているとする。即ち、ホログラム導光板７２の両
側面に２つの光源７１、７１’が配置され、導光板７２
の下面には導光板を通じて出射される光の強さの分布を
均一にする機能を果すホログラム層７４が形成されてい
る。
型ＬＣＤに関して本発明を具現した形態について説明す
ると、図３６に示されているように、光源である長い２
つのランプ７１、７１’が平行に位置し、これらの長手
方向に両側面が平行に形成されたホログラム導光板７２
が配置される。説明の便宜のために、本明細書におい
て、光源はＺ軸と平行に延長され、導光板はＸＺ平面に
位置しているとする。即ち、ホログラム導光板７２の両
側面に２つの光源７１、７１’が配置され、導光板７２
の下面には導光板を通じて出射される光の強さの分布を
均一にする機能を果すホログラム層７４が形成されてい
る。
【００８１】ホログラム導光板７２の下には光の散乱及
び反射を同時に遂行する反射板７３が位置し、導光板７
２の上には第１拡散板７６及び第２拡散板７９が順に積
層されるように構成される。
び反射を同時に遂行する反射板７３が位置し、導光板７
２の上には第１拡散板７６及び第２拡散板７９が順に積
層されるように構成される。
【００８２】図３７Ａないし３７Ｄ、図３８Ａ及び３８
Ｂは導光板７２の下面に形成されるホログラム層７４を
製造するのに使用され得るマスクの形態を示している。
即ち、ホログラム層７４は例えば図３７Ａないし３７
Ｄ、図３８Ａ及び３８Ｂに示された形態のうちのいずれ
か１つの形態のマスクで製造されてそのマスクと同一の
形態を有するホログラムから形成される。このようなマ
スクパターンはコンピュータでＣＡＤなどを使用して通
常の方法で透明フィルム上に製造することができる。マ
スクパターンのうち、模様が存在する部分は透明でそれ
以外の部分は光を遮断し得るように不透明である。図３
７Ａ及び３７Ｂは図８Ａ及び８Ｂの円形（又は多角形）
の模様パターンを中心線Ｃで対称になるように形成する
ことによって中心部の模様の面積密度を最も高くし、光
源側に行くほど模様の面積密度を低くするように形成さ
れている。
Ｂは導光板７２の下面に形成されるホログラム層７４を
製造するのに使用され得るマスクの形態を示している。
即ち、ホログラム層７４は例えば図３７Ａないし３７
Ｄ、図３８Ａ及び３８Ｂに示された形態のうちのいずれ
か１つの形態のマスクで製造されてそのマスクと同一の
形態を有するホログラムから形成される。このようなマ
スクパターンはコンピュータでＣＡＤなどを使用して通
常の方法で透明フィルム上に製造することができる。マ
スクパターンのうち、模様が存在する部分は透明でそれ
以外の部分は光を遮断し得るように不透明である。図３
７Ａ及び３７Ｂは図８Ａ及び８Ｂの円形（又は多角形）
の模様パターンを中心線Ｃで対称になるように形成する
ことによって中心部の模様の面積密度を最も高くし、光
源側に行くほど模様の面積密度を低くするように形成さ
れている。
【００８３】即ち、図３７Ａは、円形（又は多角形）模
様をマスクパターン全体に形成することにおいて、Ｘ軸
方向の模様の中心間の間隔ＧｘとＺ軸方向の模様の中心
間の間隔Ｇｚとが一定になるように配置し、光源が位置
する両側（Ａ）の模様の大きさは小さく中心（Ｃ）に行
くほど大きさが次第に大きくなるようにする形態であ
る。図３７Ｂは図３７Ａの形態において模様の中心が一
列おきに（in every other line）Ｘ軸方向に同一線上
に位置するものである。即ち、隣接した二列の中心はＺ
軸方向に模様間の距離の半分だけ移動させた形態であ
る。図３７Ｃは模様の大きさは一定に形成されているが
光源が位置する両側（Ａ）の模様のＸ軸方向の間隔は広
くし中心（Ｃ）に行くほど間隔が狭くなるようにする形
態であり、Ｚ軸方向の間隔は光源が位置する両側（Ａ）
の間隔が中心（Ｃ）に位置した模様の間隔と同一にする
か中心（Ｃ）に行くほど狭くなるようにして模様の面積
密度をより増大させた形態である。図３７Ｄは図３７Ｃ
の形態において一列おきにＺ軸方向に模様間の距離の半
分だけ模様を移動させた形態である。
様をマスクパターン全体に形成することにおいて、Ｘ軸
方向の模様の中心間の間隔ＧｘとＺ軸方向の模様の中心
間の間隔Ｇｚとが一定になるように配置し、光源が位置
する両側（Ａ）の模様の大きさは小さく中心（Ｃ）に行
くほど大きさが次第に大きくなるようにする形態であ
る。図３７Ｂは図３７Ａの形態において模様の中心が一
列おきに（in every other line）Ｘ軸方向に同一線上
に位置するものである。即ち、隣接した二列の中心はＺ
軸方向に模様間の距離の半分だけ移動させた形態であ
る。図３７Ｃは模様の大きさは一定に形成されているが
光源が位置する両側（Ａ）の模様のＸ軸方向の間隔は広
くし中心（Ｃ）に行くほど間隔が狭くなるようにする形
態であり、Ｚ軸方向の間隔は光源が位置する両側（Ａ）
の間隔が中心（Ｃ）に位置した模様の間隔と同一にする
か中心（Ｃ）に行くほど狭くなるようにして模様の面積
密度をより増大させた形態である。図３７Ｄは図３７Ｃ
の形態において一列おきにＺ軸方向に模様間の距離の半
分だけ模様を移動させた形態である。
【００８４】また、ホログラムの模様を縞模様に形成す
る場合にも、例えば図３８Ａ及び３８Ｂに示されたよう
に、光源が一側のみに位置する図９Ａ及び９Ｂの形態が
中心線Ｃで対称になって形成されるようにして中心部の
模様の面積密度を最高にするのが好ましい。
る場合にも、例えば図３８Ａ及び３８Ｂに示されたよう
に、光源が一側のみに位置する図９Ａ及び９Ｂの形態が
中心線Ｃで対称になって形成されるようにして中心部の
模様の面積密度を最高にするのが好ましい。
【００８５】前述のように、光源側における模様の面積
密度は小さく光源から遠くなるほど（中心に行くほど）
模様の面積密度が高くなるようにすることは、光源側で
は光の散乱を減少させ光源から遠くなるほど光の散乱を
増加させることによって光の分布を均一にするためであ
り、図３７Ａないし図３８Ｂにおいて中央の模様の面積
密度が高い理由は導光板の両側面に光源がそれぞれ位置
するためである。
密度は小さく光源から遠くなるほど（中心に行くほど）
模様の面積密度が高くなるようにすることは、光源側で
は光の散乱を減少させ光源から遠くなるほど光の散乱を
増加させることによって光の分布を均一にするためであ
り、図３７Ａないし図３８Ｂにおいて中央の模様の面積
密度が高い理由は導光板の両側面に光源がそれぞれ位置
するためである。
【００８６】ホログラム導光板７２の製造方法は実施の
形態１で説明した方式と類似している。即ち、ホログラ
ム導光板７２の下面に形成されているホログラム層７４
は図３７Ａないし図３８Ｂのうちのいずれか１つの形態
のマスクを使用して図１０（又は図１２）に基づいて説
明した方法でホログラム板を形成し、図１７（又は図１
９）に基づいて説明した方法でスタンパを製造すること
ができる。また、前述のように製造されたスタンパを使
用して図１４ないし図１６に示された方法でホログラム
導光板７２を製造する。
形態１で説明した方式と類似している。即ち、ホログラ
ム導光板７２の下面に形成されているホログラム層７４
は図３７Ａないし図３８Ｂのうちのいずれか１つの形態
のマスクを使用して図１０（又は図１２）に基づいて説
明した方法でホログラム板を形成し、図１７（又は図１
９）に基づいて説明した方法でスタンパを製造すること
ができる。また、前述のように製造されたスタンパを使
用して図１４ないし図１６に示された方法でホログラム
導光板７２を製造する。
【００８７】実施の形態８ 以下、図３９に基づいて本発明による実施の形態８を説
明する。実施の形態８も大型ＬＣＤに使用される平板照
明装置に関する。
明する。実施の形態８も大型ＬＣＤに使用される平板照
明装置に関する。
【００８８】図３９に示されているように、光源である
長い２つのランプ８１、８１’が平行に位置し、これら
の長手方向に両側面が平行に形成されたホログラム導光
板８２が配置される。ホログラム導光板８２の下面には
第１ホログラム層８４が形成されており、上面には第２
ホログラム層８５が形成されて導光板を通じて出る光の
強さの分布を均一にする。ホログラム導光板８２の下に
は光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板８３が位置
し、ホログラム導光板８３の上には拡散板８６が順に積
層されるように構成される。
長い２つのランプ８１、８１’が平行に位置し、これら
の長手方向に両側面が平行に形成されたホログラム導光
板８２が配置される。ホログラム導光板８２の下面には
第１ホログラム層８４が形成されており、上面には第２
ホログラム層８５が形成されて導光板を通じて出る光の
強さの分布を均一にする。ホログラム導光板８２の下に
は光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板８３が位置
し、ホログラム導光板８３の上には拡散板８６が順に積
層されるように構成される。
【００８９】ホログラム導光板８２の下面に形成されて
いる第１ホログラム層８４は図３７Ａないし図３８Ｂの
うちのいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマ
スクと同一の形態を有し、図１０ないし図１３又は図１
７ないし図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式
と同一の方法で第１ホログラム層８４用第１スタンパを
製造することができる。
いる第１ホログラム層８４は図３７Ａないし図３８Ｂの
うちのいずれか１つの形態のマスクで製造されてそのマ
スクと同一の形態を有し、図１０ないし図１３又は図１
７ないし図１９に基づいて実施の形態１で説明した方式
と同一の方法で第１ホログラム層８４用第１スタンパを
製造することができる。
【００９０】ホログラム導光板８２の上面に形成される
第２ホログラム層８５は図２１又は図２３Ａ及び２３Ｂ
に基づいて実施の形態２で説明した方式と類似した方法
でホログラム板を形成する。但し、２つの同一なホログ
ラム板を形成し、これらを中心線（Ｃ）を中心にして対
称になるように結合して第２ホログラム層８５用ホログ
ラム板として製造する。図４０は図２２又は図２４に示
されたホログラム板を２枚使用して中心線（Ｃ）で対称
になるように結合するホログラム板を示している。この
ようにする理由は中心線（Ｃ）部分がホログラムをなす
凹凸の密度が最も高く、中心線から両方向に遠くなるほ
ど低くなるようにするためである。このようなホログラ
ム板を使用して図１２のスタンパ製造過程を経て第２ホ
ログラム層用第２スタンパを製造することができる。
第２ホログラム層８５は図２１又は図２３Ａ及び２３Ｂ
に基づいて実施の形態２で説明した方式と類似した方法
でホログラム板を形成する。但し、２つの同一なホログ
ラム板を形成し、これらを中心線（Ｃ）を中心にして対
称になるように結合して第２ホログラム層８５用ホログ
ラム板として製造する。図４０は図２２又は図２４に示
されたホログラム板を２枚使用して中心線（Ｃ）で対称
になるように結合するホログラム板を示している。この
ようにする理由は中心線（Ｃ）部分がホログラムをなす
凹凸の密度が最も高く、中心線から両方向に遠くなるほ
ど低くなるようにするためである。このようなホログラ
ム板を使用して図１２のスタンパ製造過程を経て第２ホ
ログラム層用第２スタンパを製造することができる。
【００９１】このように製造された第１及び第２スタン
パを使用して図２５又は図２６に示された方法で下面及
び上面にそれぞれ第１及び第２ホログラム層が形成され
たホログラム導光板を製造する。
パを使用して図２５又は図２６に示された方法で下面及
び上面にそれぞれ第１及び第２ホログラム層が形成され
たホログラム導光板を製造する。
【００９２】実施の形態９ 以下、図４１Ａ及び４１Ｂに基づいて本発明による実施
の形態９を説明する。実施の形態９は大型ＬＣＤに使用
される平板照明装置に関する。
の形態９を説明する。実施の形態９は大型ＬＣＤに使用
される平板照明装置に関する。
【００９３】図４１Ａに示されているように、光源であ
る長い１つ以上のランプ９１の上には上面にホログラム
層９４を有するホログラム導光板９２が位置し、ランプ
９１の下には光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板
９３が位置する。ホログラム導光板９２の上には拡散板
９６が位置するように構成される。
る長い１つ以上のランプ９１の上には上面にホログラム
層９４を有するホログラム導光板９２が位置し、ランプ
９１の下には光の散乱及び反射を同時に遂行する反射板
９３が位置する。ホログラム導光板９２の上には拡散板
９６が位置するように構成される。
【００９４】前記ホログラム導光板９２の上面に形成さ
れたホログラム層９４はホログラムを形成する凹凸の密
度が前記ランプの位置している部分は高くランプから遠
くなるほど低くなるように形成されている。
れたホログラム層９４はホログラムを形成する凹凸の密
度が前記ランプの位置している部分は高くランプから遠
くなるほど低くなるように形成されている。
【００９５】ホログラム層９４についてより詳しく説明
すると、ホログラム層９４は、図４１Ｂのように、光源
が位置した部分のホログラム（Ｈ１）を形成する凹凸の
密度が最も高く、光源９１から遠くなるほどホログラム
（Ｈ２・・・Ｈｎ）を形成する凹凸の密度が次第に低く
なるようにして、各光源間の中間の凹凸の密度が最も低
くなるように形成される。また、本実施の形態ではホロ
グラム導光板の上面にホログラム層が形成されていると
したが、導光板の下面にホログラム層を形成することも
可能である。
すると、ホログラム層９４は、図４１Ｂのように、光源
が位置した部分のホログラム（Ｈ１）を形成する凹凸の
密度が最も高く、光源９１から遠くなるほどホログラム
（Ｈ２・・・Ｈｎ）を形成する凹凸の密度が次第に低く
なるようにして、各光源間の中間の凹凸の密度が最も低
くなるように形成される。また、本実施の形態ではホロ
グラム導光板の上面にホログラム層が形成されていると
したが、導光板の下面にホログラム層を形成することも
可能である。
【００９６】このように光源側の凹凸の密度が大きく光
源から遠くなるほど凹凸の密度が低くなるようにするの
は、光源側の光の拡散強度が高く光源から遠くなるほど
光の拡散強度が低くなるようにして光の分布を均一にす
るためである。
源から遠くなるほど凹凸の密度が低くなるようにするの
は、光源側の光の拡散強度が高く光源から遠くなるほど
光の拡散強度が低くなるようにして光の分布を均一にす
るためである。
【００９７】以下、図４２Ａ及び４２Ｂに基づいてホロ
グラム層９４の製造方法を説明する。まず、レーザー１
１００から出射されるレーザービームをレンズ１１０
１、１１０２を用いて拡大させ、このように拡大された
レーザービームを拡散板１１０３に入射させて拡散させ
る。その次に、拡散板から一定の距離Ｌｉだけ離れたと
ころに感光剤１１０５が塗布されたガラス板１１０６を
位置させ、ガラス板の中心の幅Ｈｉ以外の部分を遮断板
１１０４で覆う。幅Ｈｉ部分を拡散板１１０３を通して
拡散されたレーザービームに一定時間露出させた後、レ
ーザービーム遮断器１１０８でレーザービームを遮断す
る。レーザービームが遮断された後、拡散板１１０３と
ガラス板１１０６との間の距離Ｌｉを増加させて、前記
レーザービームに露出された幅Ｈｉ部分は遮断板１１０
４で覆い、レーザービームに露出されなかった他の一部
領域（ガラス板の中心から対称に）をレーザービームに
露出させた後でレーザービーム遮断器１１０８を動作さ
せる。このような過程を一定して多数回反復すると、ガ
ラス板１１０６は拡散板１１０３からＬｎだけ離れてい
るようになり、ガラス板１１０６に塗布された感光剤１
１０５の露出領域もＡからＢ、Ｂ’に向かいながらＨｎ
領域が露出されるようになる（図４２Ｂ参照）。露出領
域がＢ、Ｂ’に到達するまで前記過程を反復した後に感
光剤１１０５が塗布されたガラス板１１０６を現像する
と、感光剤がエッチングされて図４３の（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）のようにＡからＢ、Ｂ’までのホログラ
ムを形成する凹凸の密度が段階的に低くなるホログラム
１１０５’、１１０５’’からなるホログラム板１１０
７、１１０７’、１１０７’’が製造される。ホログラ
ムの凹凸は中心部の凹凸１１０５’が外郭側の凹凸１１
０５’’より密度が高い。
グラム層９４の製造方法を説明する。まず、レーザー１
１００から出射されるレーザービームをレンズ１１０
１、１１０２を用いて拡大させ、このように拡大された
レーザービームを拡散板１１０３に入射させて拡散させ
る。その次に、拡散板から一定の距離Ｌｉだけ離れたと
ころに感光剤１１０５が塗布されたガラス板１１０６を
位置させ、ガラス板の中心の幅Ｈｉ以外の部分を遮断板
１１０４で覆う。幅Ｈｉ部分を拡散板１１０３を通して
拡散されたレーザービームに一定時間露出させた後、レ
ーザービーム遮断器１１０８でレーザービームを遮断す
る。レーザービームが遮断された後、拡散板１１０３と
ガラス板１１０６との間の距離Ｌｉを増加させて、前記
レーザービームに露出された幅Ｈｉ部分は遮断板１１０
４で覆い、レーザービームに露出されなかった他の一部
領域（ガラス板の中心から対称に）をレーザービームに
露出させた後でレーザービーム遮断器１１０８を動作さ
せる。このような過程を一定して多数回反復すると、ガ
ラス板１１０６は拡散板１１０３からＬｎだけ離れてい
るようになり、ガラス板１１０６に塗布された感光剤１
１０５の露出領域もＡからＢ、Ｂ’に向かいながらＨｎ
領域が露出されるようになる（図４２Ｂ参照）。露出領
域がＢ、Ｂ’に到達するまで前記過程を反復した後に感
光剤１１０５が塗布されたガラス板１１０６を現像する
と、感光剤がエッチングされて図４３の（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）のようにＡからＢ、Ｂ’までのホログラ
ムを形成する凹凸の密度が段階的に低くなるホログラム
１１０５’、１１０５’’からなるホログラム板１１０
７、１１０７’、１１０７’’が製造される。ホログラ
ムの凹凸は中心部の凹凸１１０５’が外郭側の凹凸１１
０５’’より密度が高い。
【００９８】図４３は図４２Ａ及び４２Ｂの方法によっ
て製造されたホログラム板を示したものであって、
（ａ）はＡからＢ、Ｂ’までの露出領域Ｈｉを一定に
（Ｈｉ＝Ｈｎ） した場合のホログラム板１１０７を示
したものであり、（ｂ）はＡからＢ、Ｂ’までの露出領
域Ｈｉが次第に減少するように（ Ｈｉ＞Ｈｎ）した場
合のホログラム板１１０７’を示し、（ｃ）はＡから
Ｂ、Ｂ’までの露出領域Ｈｉが次第に増加するように
（Ｈｉ＜Ｈｎ）した場合に製造されたホログラム板１１
０７’’を示す。
て製造されたホログラム板を示したものであって、
（ａ）はＡからＢ、Ｂ’までの露出領域Ｈｉを一定に
（Ｈｉ＝Ｈｎ） した場合のホログラム板１１０７を示
したものであり、（ｂ）はＡからＢ、Ｂ’までの露出領
域Ｈｉが次第に減少するように（ Ｈｉ＞Ｈｎ）した場
合のホログラム板１１０７’を示し、（ｃ）はＡから
Ｂ、Ｂ’までの露出領域Ｈｉが次第に増加するように
（Ｈｉ＜Ｈｎ）した場合に製造されたホログラム板１１
０７’’を示す。
【００９９】図４２Ａ及び４２Ｂは１つの光源に対する
ホログラム板であるのでこれを光源の個数だけ付着する
と図４１Ａのホログラム導光板の製造に使用するホログ
ラム板を製造することができる。
ホログラム板であるのでこれを光源の個数だけ付着する
と図４１Ａのホログラム導光板の製造に使用するホログ
ラム板を製造することができる。
【０１００】前記のように形成したホログラム板を使用
して図１２に基づいて説明した方法でスタンパを製造す
ることができ、スタンパを使用して図１４ないし図１６
に示された方法でホログラム導光板９２を製造する。
して図１２に基づいて説明した方法でスタンパを製造す
ることができ、スタンパを使用して図１４ないし図１６
に示された方法でホログラム導光板９２を製造する。
【０１０１】実施の形態１０ 以下、図４４に基づいて本発明による実施の形態１０を
説明する。実施の形態１０は大型ＬＣＤに使用される平
板照明装置に関する。
説明する。実施の形態１０は大型ＬＣＤに使用される平
板照明装置に関する。
【０１０２】図４４に示されているように、光源である
長い１つ以上のランプ１００１の上にはホログラム導光
板１００２が位置し、ランプの下には光の散乱及び反射
を同時に遂行する反射板１００３が位置するように構成
する。ホログラム導光板１００２はその下面に第１ホロ
グラム層１００４を有し、上面には第２ホログラム層１
００５を有する。ホログラム導光板１００２の下面に形
成された第１ホログラム層１００４は、ホログラムを形
成する凹凸の密度がランプ１００１が位置している側は
高くランプから遠くなるほど密度が低くなるように形成
されており、ホログラム導光板１００２の上面に形成さ
れた第２ホログラム層１００５はホログラムを形成する
凹凸の密度が全般的に均一に形成されている。
長い１つ以上のランプ１００１の上にはホログラム導光
板１００２が位置し、ランプの下には光の散乱及び反射
を同時に遂行する反射板１００３が位置するように構成
する。ホログラム導光板１００２はその下面に第１ホロ
グラム層１００４を有し、上面には第２ホログラム層１
００５を有する。ホログラム導光板１００２の下面に形
成された第１ホログラム層１００４は、ホログラムを形
成する凹凸の密度がランプ１００１が位置している側は
高くランプから遠くなるほど密度が低くなるように形成
されており、ホログラム導光板１００２の上面に形成さ
れた第２ホログラム層１００５はホログラムを形成する
凹凸の密度が全般的に均一に形成されている。
【０１０３】ホログラム導光板１００２の下面に形成さ
れた第１ホログラム層１００４は実施の形態９で説明し
たホログラム層９４と同一であり、ホログラムを形成す
る凹凸の密度が前記ランプが位置している側は高くラン
プから遠くなるほど密度が低くなるように形成されてい
る。また、図４２Ａ及び４２Ｂに基づいて実施の形態９
で説明した方式と同一の方法で第１ホログラム層１００
４用第１スタンパを製造することができる。
れた第１ホログラム層１００４は実施の形態９で説明し
たホログラム層９４と同一であり、ホログラムを形成す
る凹凸の密度が前記ランプが位置している側は高くラン
プから遠くなるほど密度が低くなるように形成されてい
る。また、図４２Ａ及び４２Ｂに基づいて実施の形態９
で説明した方式と同一の方法で第１ホログラム層１００
４用第１スタンパを製造することができる。
【０１０４】以下、図４５に基づいてホログラム導光板
の上面に形成される第２ホログラム層１００５の製造方
法を説明する。まず、レーザー１５００から出射される
レーザービームをレンズ１５０１、１５０２を用いて拡
大させ、このように拡大されたレーザービームを拡散板
１５０３に入射させて拡散させる。その次に、拡散板１
５０３から一定の距離Ｌだけ離れたところに感光剤１５
０４が塗布されたガラス板１５０５を位置させて拡散板
１５０３から拡散されたレーザービームに一定時間露出
させた後、感光剤１５０４が塗布されたガラス板１５０
５を現像すると、感光剤がエッチングされて第２ホログ
ラム層１００５用ホログラム板が製造される。
の上面に形成される第２ホログラム層１００５の製造方
法を説明する。まず、レーザー１５００から出射される
レーザービームをレンズ１５０１、１５０２を用いて拡
大させ、このように拡大されたレーザービームを拡散板
１５０３に入射させて拡散させる。その次に、拡散板１
５０３から一定の距離Ｌだけ離れたところに感光剤１５
０４が塗布されたガラス板１５０５を位置させて拡散板
１５０３から拡散されたレーザービームに一定時間露出
させた後、感光剤１５０４が塗布されたガラス板１５０
５を現像すると、感光剤がエッチングされて第２ホログ
ラム層１００５用ホログラム板が製造される。
【０１０５】ホログラム板が製造されると図１２のスタ
ンパ製造過程を経て第２ホログラム層用第２スタンパを
製造することができる。
ンパ製造過程を経て第２ホログラム層用第２スタンパを
製造することができる。
【０１０６】このように製造された第１及び第２スタン
パを使用して図２５又は図２６に示された方法で下面及
び上面にそれぞれ第１及び第２ホログラム層が形成され
たホログラム導光板を製造する。
パを使用して図２５又は図２６に示された方法で下面及
び上面にそれぞれ第１及び第２ホログラム層が形成され
たホログラム導光板を製造する。
【０１０７】以下、本発明によって前記のように構成さ
れた平板照明装置の動作について説明する。まず、実施
の形態１において、図７のような構成によると、光源１
１から出射された光がホログラム導光板１２の内部で全
反射されながら（図４６の点線）ホログラム導光板１２
の内部を進み、ホログラムが存在する領域（Ａ）にぶつ
かると光が散乱しながら反射板１３に向かって進み、反
射板に向かった光線は反射板によって再び多数の光線に
散乱されると共に反射されながら（Ｂ）ホログラム導光
板に再入射される。ホログラム導光板に再入射される光
線がホログラムが存在しない領域を通過するとそのまま
導光板内に入るが、ホログラム１４’が存在する領域
（Ｃ）を通過するとホログラムによって再び多数の光線
に散乱されながら導光板の上面に向かって進み、導光板
の上面に向かって進む光線が導光板の上面とぶつかった
時、ぶつかる部分（Ｄ）の一部では透過し一部では反射
される。Ｄ部分で反射され全反射条件を満たす一部光線
は、ホログラムが存在しない領域に向かって進む場合に
は導光板を通過して再び反射板にぶつかり、ぶつかった
部分（Ｅ）で再び散乱されると同時に反射され、ホログ
ラムが存在する領域を通過する光線は再び散乱されなが
ら反射板に向かって進むようになる。前記のような過程
を多数回反復することで導光板の上面に出る光線の分布
がホログラム導光板全体にわたって均一になる。導光板
の上面を通じて出た光線のそれ以降の進行は従来の装置
と同一である。一方、図３６に示された実施の形態７例
の場合は、大型ＬＣＤ用としての光量を充分に確保する
ために導光板の両側に光源を位置させること以外は導光
板で光が進む原理は同一である。
れた平板照明装置の動作について説明する。まず、実施
の形態１において、図７のような構成によると、光源１
１から出射された光がホログラム導光板１２の内部で全
反射されながら（図４６の点線）ホログラム導光板１２
の内部を進み、ホログラムが存在する領域（Ａ）にぶつ
かると光が散乱しながら反射板１３に向かって進み、反
射板に向かった光線は反射板によって再び多数の光線に
散乱されると共に反射されながら（Ｂ）ホログラム導光
板に再入射される。ホログラム導光板に再入射される光
線がホログラムが存在しない領域を通過するとそのまま
導光板内に入るが、ホログラム１４’が存在する領域
（Ｃ）を通過するとホログラムによって再び多数の光線
に散乱されながら導光板の上面に向かって進み、導光板
の上面に向かって進む光線が導光板の上面とぶつかった
時、ぶつかる部分（Ｄ）の一部では透過し一部では反射
される。Ｄ部分で反射され全反射条件を満たす一部光線
は、ホログラムが存在しない領域に向かって進む場合に
は導光板を通過して再び反射板にぶつかり、ぶつかった
部分（Ｅ）で再び散乱されると同時に反射され、ホログ
ラムが存在する領域を通過する光線は再び散乱されなが
ら反射板に向かって進むようになる。前記のような過程
を多数回反復することで導光板の上面に出る光線の分布
がホログラム導光板全体にわたって均一になる。導光板
の上面を通じて出た光線のそれ以降の進行は従来の装置
と同一である。一方、図３６に示された実施の形態７例
の場合は、大型ＬＣＤ用としての光量を充分に確保する
ために導光板の両側に光源を位置させること以外は導光
板で光が進む原理は同一である。
【０１０８】図２０に示された実施の形態２において、
下面に第１ホログラム層２４が形成され上面に第２ホロ
グラム層２５が形成されたホログラム導光板２２を使用
する平面照明装置は、ホログラム導光板の下面に形成さ
れた第１ホログラム層の役割は図７の実施の形態１と同
一であり（図４７参照）、第２ホログラム層は既存の導
光板の上面に隣接した拡散板（図１Ｂの４）とほぼ類似
した役割を果す。しかし、前記のように第２ホログラム
層を導光板の上面に直接形成すると第２ホログラム層に
よる光透過率が９０％以上になるので、光透過率が５０
〜６０％程度である既存の拡散板と比べて光効率が顕著
に高くなる（このような光効率は第１ホログラム層も同
様である）。また、ホログラムをなす凹凸の大きさが１
０μｍ以下であるため、５０〜１００μｍの粒子で形成
された一般の拡散板より均一な光分布を達成することが
できる。
下面に第１ホログラム層２４が形成され上面に第２ホロ
グラム層２５が形成されたホログラム導光板２２を使用
する平面照明装置は、ホログラム導光板の下面に形成さ
れた第１ホログラム層の役割は図７の実施の形態１と同
一であり（図４７参照）、第２ホログラム層は既存の導
光板の上面に隣接した拡散板（図１Ｂの４）とほぼ類似
した役割を果す。しかし、前記のように第２ホログラム
層を導光板の上面に直接形成すると第２ホログラム層に
よる光透過率が９０％以上になるので、光透過率が５０
〜６０％程度である既存の拡散板と比べて光効率が顕著
に高くなる（このような光効率は第１ホログラム層も同
様である）。また、ホログラムをなす凹凸の大きさが１
０μｍ以下であるため、５０〜１００μｍの粒子で形成
された一般の拡散板より均一な光分布を達成することが
できる。
【０１０９】また、図３９に示された実施の形態８の場
合も、大型ＬＣＤ用としての光量を充分に確保するため
に導光板の両側に光源を位置させること以外はホログラ
ム導光板が動作する原理は実施の形態２と同一である。
合も、大型ＬＣＤ用としての光量を充分に確保するため
に導光板の両側に光源を位置させること以外はホログラ
ム導光板が動作する原理は実施の形態２と同一である。
【０１１０】実施の形態３において、図４８Ａを参照す
ると、図２７のような構成で光源であるランプ３１から
出射された光は、ホログラム導光板３２の内部で一部は
ビーム整形第２ホログラム層３５によってプリズム板３
６に向かって拡散され（Ｒ１）、他の一部は全反射（図
４８Ａの点線）されながらホログラム導光板３２の内部
を進んでホログラム３４’が存在する領域にぶつかると
散乱されながら反射板３３に向かって進み（Ｒ２）、反
射板に向かって進んだ光線は反射板によって再び多数の
光線に散乱されると同時に反射されながら導光板に再入
射される（Ｒ３）。導光板に再入射された光線はホログ
ラム３４’が存在しない領域を通過するとそのまま導光
板内に入るが、ホログラム３４’が存在する領域を通過
するとホログラムによって再び多数の光線に散乱されな
がらホログラム導光板の上面に向かって進み（Ｒ４）、
ホログラム導光板の上面に向かって進む光線は導光板の
上面に形成されたビーム整形第２ホログラム層３５にぶ
つかる時にぶつかった部分で一部は透過され（Ｒ５）他
の一部は反射される。この時、反射された光線のうちの
全反射条件を満たさない一部の光線（Ｒ６）は、ホログ
ラムが存在しない領域に向かって進む場合にはホログラ
ム導光板を通過して再び反射板にぶつかり、ぶつかった
部分で再び散乱されると共に反射され、ホログラムが存
在する領域を通過する光線は再び散乱されながら反射板
に向かって進む。前記のような過程を多数回反復するこ
とでホログラム導光板の上面を通して出る光線の分布が
導光板全体にわたって均一になる。この時、ビーム整形
第２ホログラム層３５によってプリズム板に拡散するビ
ームは図５２ＢのようにＸ軸に拡散する角度がＺ軸に拡
散する角度より大きくなり、ＹＺ平面上で拡散するビー
ムの拡散角度が小さくなる。図４８Ｂの（ａ）はビーム
整形ホログラム層が存在しない場合の光の拡散程度を示
し、（ｂ）はビーム整形第２ホログラム層３５が存在す
る場合に拡散角度が小さくなることを示している。即
ち、従来の技術で説明した第１プリズム板と同一の役割
を果す。前記のような原理でビーム整形ホログラム層３
５を通過した光線は、従来の装置と同様にプリズム板３
６によって光線の中心軸がＹ軸と平行になり、拡散板３
７によって再び拡散されて均一な光分布を有するように
なる。
ると、図２７のような構成で光源であるランプ３１から
出射された光は、ホログラム導光板３２の内部で一部は
ビーム整形第２ホログラム層３５によってプリズム板３
６に向かって拡散され（Ｒ１）、他の一部は全反射（図
４８Ａの点線）されながらホログラム導光板３２の内部
を進んでホログラム３４’が存在する領域にぶつかると
散乱されながら反射板３３に向かって進み（Ｒ２）、反
射板に向かって進んだ光線は反射板によって再び多数の
光線に散乱されると同時に反射されながら導光板に再入
射される（Ｒ３）。導光板に再入射された光線はホログ
ラム３４’が存在しない領域を通過するとそのまま導光
板内に入るが、ホログラム３４’が存在する領域を通過
するとホログラムによって再び多数の光線に散乱されな
がらホログラム導光板の上面に向かって進み（Ｒ４）、
ホログラム導光板の上面に向かって進む光線は導光板の
上面に形成されたビーム整形第２ホログラム層３５にぶ
つかる時にぶつかった部分で一部は透過され（Ｒ５）他
の一部は反射される。この時、反射された光線のうちの
全反射条件を満たさない一部の光線（Ｒ６）は、ホログ
ラムが存在しない領域に向かって進む場合にはホログラ
ム導光板を通過して再び反射板にぶつかり、ぶつかった
部分で再び散乱されると共に反射され、ホログラムが存
在する領域を通過する光線は再び散乱されながら反射板
に向かって進む。前記のような過程を多数回反復するこ
とでホログラム導光板の上面を通して出る光線の分布が
導光板全体にわたって均一になる。この時、ビーム整形
第２ホログラム層３５によってプリズム板に拡散するビ
ームは図５２ＢのようにＸ軸に拡散する角度がＺ軸に拡
散する角度より大きくなり、ＹＺ平面上で拡散するビー
ムの拡散角度が小さくなる。図４８Ｂの（ａ）はビーム
整形ホログラム層が存在しない場合の光の拡散程度を示
し、（ｂ）はビーム整形第２ホログラム層３５が存在す
る場合に拡散角度が小さくなることを示している。即
ち、従来の技術で説明した第１プリズム板と同一の役割
を果す。前記のような原理でビーム整形ホログラム層３
５を通過した光線は、従来の装置と同様にプリズム板３
６によって光線の中心軸がＹ軸と平行になり、拡散板３
７によって再び拡散されて均一な光分布を有するように
なる。
【０１１１】一方、図３０に図示された実施の形態４に
よる平板照明装置の場合は、実施の形態３のプリズム板
３６によって光線の中心軸がＹ軸と平行になるようにす
る拡散板３７の代りに、これと類似した機能を果しＺ軸
に拡散する角度がＸ軸に拡散する角度より大きくなるよ
うにするビーム整形ホログラム板４６を使用した実施の
形態であって、導光板が動作する原理は前述の内容と同
一である。
よる平板照明装置の場合は、実施の形態３のプリズム板
３６によって光線の中心軸がＹ軸と平行になるようにす
る拡散板３７の代りに、これと類似した機能を果しＺ軸
に拡散する角度がＸ軸に拡散する角度より大きくなるよ
うにするビーム整形ホログラム板４６を使用した実施の
形態であって、導光板が動作する原理は前述の内容と同
一である。
【０１１２】一方、図３３に図示された実施の形態５に
よる平板照明装置の場合は、実施の形態４の光線の中心
軸がＹ軸と平行になるようにする機能を果しＺ軸に拡散
する角度がＸ軸に拡散する角度より大きくなるようにす
るビーム整形ホログラム板４６の機能と、ＹＺ平面上で
光線の拡散角度が小さくなるようにする機能を果すビー
ム整形第２ホログラム層４５の機能とを同時に遂行する
ように、前記実施の形態５の構成で説明したような方法
で導光板の上面に複合ビーム整形第２ホログラム層５５
を形成することによって前記実施の形態で説明した機能
を果す。また、動作する原理は前述の内容と同一であ
る。
よる平板照明装置の場合は、実施の形態４の光線の中心
軸がＹ軸と平行になるようにする機能を果しＺ軸に拡散
する角度がＸ軸に拡散する角度より大きくなるようにす
るビーム整形ホログラム板４６の機能と、ＹＺ平面上で
光線の拡散角度が小さくなるようにする機能を果すビー
ム整形第２ホログラム層４５の機能とを同時に遂行する
ように、前記実施の形態５の構成で説明したような方法
で導光板の上面に複合ビーム整形第２ホログラム層５５
を形成することによって前記実施の形態で説明した機能
を果す。また、動作する原理は前述の内容と同一であ
る。
【０１１３】一方、図３４に図示された実施の形態６に
よる平板照明装置の場合には、実施の形態１のプリズム
板１６及び拡散板１７または実施の形態２のビーム整形
ホログラム拡散板２６及び拡散板２７の２つの機能を同
時に有するビーム拡散方向変更ホログラム拡散板６６を
使用することにより前記実施の形態で説明した機能を果
す。すなわち、図４９に示されたように、ビーム整形第
２ホログラム層６５を通過した光線Ｒ７がビーム拡散方
向変更ホログラム板６６によって光線の拡散中心軸がＹ
軸と平行になって拡散されることにより前記実施の形態
で説明した機能を果す。動作する原理は前述の内容と同
一である。
よる平板照明装置の場合には、実施の形態１のプリズム
板１６及び拡散板１７または実施の形態２のビーム整形
ホログラム拡散板２６及び拡散板２７の２つの機能を同
時に有するビーム拡散方向変更ホログラム拡散板６６を
使用することにより前記実施の形態で説明した機能を果
す。すなわち、図４９に示されたように、ビーム整形第
２ホログラム層６５を通過した光線Ｒ７がビーム拡散方
向変更ホログラム板６６によって光線の拡散中心軸がＹ
軸と平行になって拡散されることにより前記実施の形態
で説明した機能を果す。動作する原理は前述の内容と同
一である。
【０１１４】図５０に基づいて実施の形態９による平板
照明装置の場合について説明すると、光源９１から出る
光線はホログラム導光板９２の下面を通して入射された
り（Ｒ２）、光源の下に位置する反射板９３に入射され
る（Ｒ１）。反射板に入射される光線（Ｒ１）は反射板
によって再び散乱及び反射されて再びホログラム導光板
９２に入射される。ホログラム導光板に入射する光線
は、光源側では光の拡散強度が大きくなるようにし光源
から遠くなるほど光の拡散強度が小さくなるようにする
ホログラム導光板の上面に形成された第２ホログラム層
９４によって、ホログラム導光板９２を通過した光の強
さの分布が図５０の（Ｃ）のようにある程度平滑にな
る。このような光の強さの分布を有する光線が拡散板９
６を通過して拡散されながらＬＣＤパネル１８に入射さ
れる時には図１５の（ｂ）のように全般的に均一にな
る。
照明装置の場合について説明すると、光源９１から出る
光線はホログラム導光板９２の下面を通して入射された
り（Ｒ２）、光源の下に位置する反射板９３に入射され
る（Ｒ１）。反射板に入射される光線（Ｒ１）は反射板
によって再び散乱及び反射されて再びホログラム導光板
９２に入射される。ホログラム導光板に入射する光線
は、光源側では光の拡散強度が大きくなるようにし光源
から遠くなるほど光の拡散強度が小さくなるようにする
ホログラム導光板の上面に形成された第２ホログラム層
９４によって、ホログラム導光板９２を通過した光の強
さの分布が図５０の（Ｃ）のようにある程度平滑にな
る。このような光の強さの分布を有する光線が拡散板９
６を通過して拡散されながらＬＣＤパネル１８に入射さ
れる時には図１５の（ｂ）のように全般的に均一にな
る。
【０１１５】図５１に基づいて実施の形態１０に使用さ
れる平板照明装置の場合について説明すると、光源１０
０１から出る光線はホログラム導光板１００２の下面に
形成された第１ホログラム層を通過してホログラム導光
板に入射されたり（Ｒ２）、光源の下に位置する反射板
１００３に入射される（Ｒ１）。反射板に入射される光
線（Ｒ１）は反射板１００３によって再び散乱及び反射
されて再びホログラム導光板１００２に入射される。ホ
ログラム導光板に入射される光線は、光源側は光の拡散
強度を高くし光源から遠くなるほど光の拡散強度を低く
するホログラム導光板の下面に形成された第２ホログラ
ム層１００４によって、導光板の内部における光の強さ
の分布が図５１の（ｃ）のようにある程度平滑になる。
このような光の強さの分布を有する光線が第２ホログラ
ム層１００５を通過して拡散されながらＬＣＤパネル１
８に入射される時には図５０の（ｂ）のように全般的に
均一になる。
れる平板照明装置の場合について説明すると、光源１０
０１から出る光線はホログラム導光板１００２の下面に
形成された第１ホログラム層を通過してホログラム導光
板に入射されたり（Ｒ２）、光源の下に位置する反射板
１００３に入射される（Ｒ１）。反射板に入射される光
線（Ｒ１）は反射板１００３によって再び散乱及び反射
されて再びホログラム導光板１００２に入射される。ホ
ログラム導光板に入射される光線は、光源側は光の拡散
強度を高くし光源から遠くなるほど光の拡散強度を低く
するホログラム導光板の下面に形成された第２ホログラ
ム層１００４によって、導光板の内部における光の強さ
の分布が図５１の（ｃ）のようにある程度平滑になる。
このような光の強さの分布を有する光線が第２ホログラ
ム層１００５を通過して拡散されながらＬＣＤパネル１
８に入射される時には図５０の（ｂ）のように全般的に
均一になる。
【０１１６】尚、前記では本願発明の技術的な特徴が特
定の実施の形態を中心にして説明したが、本願発明が属
する技術分野における通常の知識を有する者であれば本
発明による技術的思想の範囲内で多様な変形及び修正を
加えることができることは明白である。
定の実施の形態を中心にして説明したが、本願発明が属
する技術分野における通常の知識を有する者であれば本
発明による技術的思想の範囲内で多様な変形及び修正を
加えることができることは明白である。
【０１１７】
【発明の効果】前記のようにホログラム導光板を製造す
ると、導光板の製造時間が短縮されると共に製造も容易
であるので、このような導光板を含む平板照明装置の製
作費用を節減することもできるようになる。
ると、導光板の製造時間が短縮されると共に製造も容易
であるので、このような導光板を含む平板照明装置の製
作費用を節減することもできるようになる。
【０１１８】また、本発明によって製造されたホログラ
ム導光板を利用する場合、光透過効率が９０％以上にな
って、６０〜７０％程度の透過率を有する既存の拡散板
を使用する装置よりＬＣＤの明るさが向上するので、電
力消耗が減少する長所もある。従って、例えばこのよう
な平板照明装置を採用するノートブックコンピュータは
既存のものより長時間使用することができる。
ム導光板を利用する場合、光透過効率が９０％以上にな
って、６０〜７０％程度の透過率を有する既存の拡散板
を使用する装置よりＬＣＤの明るさが向上するので、電
力消耗が減少する長所もある。従って、例えばこのよう
な平板照明装置を採用するノートブックコンピュータは
既存のものより長時間使用することができる。
【０１１９】さらに、導光板の上面にビーム整形ホログ
ラム拡散層、複合ビーム整形ホログラム拡散層が形成さ
れたホログラム導光板、ビーム整形ホログラム拡散板、
またはビーム拡散方向変更ホログラム拡散板を備える形
態の平面照明装置は、既存の光透過率が低い（６０〜７
０％）別途の拡散板及び非常に高価なプリズム板などが
不必要になるので、経済性及び前記光効率性面でも優れ
るようになる。
ラム拡散層、複合ビーム整形ホログラム拡散層が形成さ
れたホログラム導光板、ビーム整形ホログラム拡散板、
またはビーム拡散方向変更ホログラム拡散板を備える形
態の平面照明装置は、既存の光透過率が低い（６０〜７
０％）別途の拡散板及び非常に高価なプリズム板などが
不必要になるので、経済性及び前記光効率性面でも優れ
るようになる。
【図１Ａ】 従来の中小型ＬＣＤに使用された平板照明
装置の斜視図である。
装置の斜視図である。
【図１Ｂ】 従来の大型ＬＣＤに使用された平板照明装
置の斜視図である。
置の斜視図である。
【図１Ｃ】 従来の大型ＬＣＤに使用された他の平板照
明装置の斜視図である。
明装置の斜視図である。
【図２】 図１Ａに使用されたプリズム板の構成を詳細
に示した図面である。
に示した図面である。
【図３】 従来使用された導光板の構成を詳細に示した
図面である。
図面である。
【図４】 図１Ａに示された平板照明装置における光線
の進行過程を示す図面である。
の進行過程を示す図面である。
【図５】 図１Ｂに示された平板照明装置における光線
の進行過程を示す図面である。
の進行過程を示す図面である。
【図６】 図１Ｃに示された平板照明装置における光線
の進行過程を示す図面である。
の進行過程を示す図面である。
【図７】 本発明の実施の形態１による平板照明装置の
断面図である。
断面図である。
【図８Ａないし８Ｄ】 円形又は多角形模様を有するマ
スクパターンの４つの類型を示した図面である。
スクパターンの４つの類型を示した図面である。
【図９Ａないし９Ｂ】 縞模様を有するマスクパターン
の２つの類型を示した図面である。
の２つの類型を示した図面である。
【図１０】 マスクを使用して陰刻のホログラムを製造
する過程を示した図面である。
する過程を示した図面である。
【図１１】 図１０に示された過程によって製造された
ホログラム板を示した斜視図及び部分拡大断面図であ
る。
ホログラム板を示した斜視図及び部分拡大断面図であ
る。
【図１２】 ホログラム板からスタンパを製造する過程
を示す図面である。
を示す図面である。
【図１３】 図１２に示された過程によって製造された
スタンパを示した斜視図及び部分拡大図である。
スタンパを示した斜視図及び部分拡大図である。
【図１４】 前記スタンパを使用してホログラム導光板
を製造する方法を示した図面である。
を製造する方法を示した図面である。
【図１５】 前記スタンパを使用してホログラム導光板
を製造する他の方法を示した図面である。
を製造する他の方法を示した図面である。
【図１６】 前記スタンパを使用してホログラム導光板
を製造するまた他の方法を示した図面である。
を製造するまた他の方法を示した図面である。
【図１７】 マスクを使用して陽刻のホログラムを製造
する過程を示した図面である。
する過程を示した図面である。
【図１８】 図１７に示した過程によって製造された陽
刻のホログラム板を示した斜視図及び部分拡大断面図で
ある。
刻のホログラム板を示した斜視図及び部分拡大断面図で
ある。
【図１９】 陽刻のホログラムから陰刻のスタンパを製
造する過程を示した図面である。
造する過程を示した図面である。
【図２０】 本発明の実施の形態２による平板照明装置
の断面図である。
の断面図である。
【図２１】 凹凸の密度が次第に変化する第２ホログラ
ム層に対するホログラム板を製造する方法を示した図面
である。
ム層に対するホログラム板を製造する方法を示した図面
である。
【図２２】 図２１に示した方法によって製造された第
２ホログラム板を示した斜視図及び部分拡大断面図であ
る。
２ホログラム板を示した斜視図及び部分拡大断面図であ
る。
【図２３Ａ及び２３Ｂ】 凹凸の密度が次第に変化する
第２ホログラム層に対するホログラム板を製造する他の
方法を示した図面である。
第２ホログラム層に対するホログラム板を製造する他の
方法を示した図面である。
【図２４】 図２３Ａ及び２３Ｂの方法によって製造さ
れた第２ホログラム板を示した斜視図及び部分拡大断面
図である。
れた第２ホログラム板を示した斜視図及び部分拡大断面
図である。
【図２５】 ２つのスタンパを使用して両面にホログラ
ム層が形成されたホログラム導光板を製造する方法を示
した図面である。
ム層が形成されたホログラム導光板を製造する方法を示
した図面である。
【図２６】 ２つのスタンパを使用して両面にホログラ
ム層が形成されたホログラム導光板を製造する他の方法
を示した図面である。
ム層が形成されたホログラム導光板を製造する他の方法
を示した図面である。
【図２７】 本発明の実施の形態３による平板照明装置
の断面図である。
の断面図である。
【図２８Ａ及び２８Ｂ】 拡散するビームの拡散形態を
変化させるホログラム層に対するホログラム板を製造す
る過程を示した図面である。
変化させるホログラム層に対するホログラム板を製造す
る過程を示した図面である。
【図２９】 図２８Ａ及び２８Ｂの方法によって製造さ
れたホログラム板を示した斜視図及び部分拡大断面図で
ある。
れたホログラム板を示した斜視図及び部分拡大断面図で
ある。
【図３０】 本発明の実施の形態４による平板照明装置
の断面図である。
の断面図である。
【図３１Ａ及び３１Ｂ、図３２】 実施の形態４による
ビーム整形ホログラム拡散板を製造する過程を示した図
面である。
ビーム整形ホログラム拡散板を製造する過程を示した図
面である。
【図３３】 本発明の実施の形態５による平板照明装置
の断面図である。
の断面図である。
【図３４】 本発明の実施の形態６による平板照明装置
の断面図である。
の断面図である。
【図３５】 拡散するビームの進行方向を変化させるホ
ログラム層に対するホログラム板を製造する過程を示す
図面である。
ログラム層に対するホログラム板を製造する過程を示す
図面である。
【図３６】 本発明の実施の形態７による平板照明装置
の断面図である。
の断面図である。
【図３７Ａないし３７Ｄ】 円形又は多角形模様を有す
るマスクパターンの４つの類型を示した図面である。
るマスクパターンの４つの類型を示した図面である。
【図３８Ａ及び３８Ｂ】 縞模様を有するマスクパター
ンの２つの類型を示した図面である。
ンの２つの類型を示した図面である。
【図３９】 本発明の実施の形態８による平板照明装置
の断面図である。
の断面図である。
【図４０】 図２２又は図２４に示されたホログラム板
を中心線Ｃに対して対称になるように結合したホログラ
ム板を示した図面である。
を中心線Ｃに対して対称になるように結合したホログラ
ム板を示した図面である。
【図４１Ａ】 本発明の実施の形態９による平板照明装
置の斜視図である。
置の斜視図である。
【図４１Ｂ】 本発明の実施の形態９による平板照明装
置におけるホログラム層の凹凸密度とランプ位置との関
係を示した図面である。
置におけるホログラム層の凹凸密度とランプ位置との関
係を示した図面である。
【図４２Ａ及び４２Ｂ】 本発明の実施の形態９によっ
てホログラム板を製造する過程を示した図面である。
てホログラム板を製造する過程を示した図面である。
【図４３】 図４２Ａ及び４２Ｂに示された方法によっ
て製造されたホログラム板を示した図面である。
て製造されたホログラム板を示した図面である。
【図４４】 本発明の実施の形態１０による平板照明装
置の斜視図である。
置の斜視図である。
【図４５】 本発明の実施の形態１０による第２ホログ
ラム層に対するホログラム板を製造する過程を示した図
面である。
ラム層に対するホログラム板を製造する過程を示した図
面である。
【図４６】 本発明の実施の形態１によって具現された
平板照明装置における光線進行過程を示す図面である。
平板照明装置における光線進行過程を示す図面である。
【図４７】 本発明の実施の形態２によって具現された
平板照明装置における光線進行過程を示す図面である。
平板照明装置における光線進行過程を示す図面である。
【図４８Ａ】 本発明の実施の形態３によって具現され
た平板照明装置における光線進行過程を示す図面であ
る。
た平板照明装置における光線進行過程を示す図面であ
る。
【図４８Ｂ】 第２ホログラム層が存在しない場合と存
在する場合とを比較して示した図面である。
在する場合とを比較して示した図面である。
【図４９】 本発明の実施の形態８によって具現された
平板照明装置における光線進行過程を示す図面である。
平板照明装置における光線進行過程を示す図面である。
【図５０】 本発明の実施の形態９によって具現された
平板照明装置における光線進行過程を示す図面である。
平板照明装置における光線進行過程を示す図面である。
【図５１】 本発明の実施の形態１０によって具現され
た平板照明装置における光線進行過程を示す図面であ
る。
た平板照明装置における光線進行過程を示す図面であ
る。
【図５２Ａないし５２Ｄ】 一般的な拡散板の拡散特
性、ビーム整形ホログラムの拡散特性、複合ビーム整形
ホログラムの拡散特性、ビーム拡散方向変更ホログラム
の拡散特性をそれぞれ示した図面である。
性、ビーム整形ホログラムの拡散特性、複合ビーム整形
ホログラムの拡散特性、ビーム拡散方向変更ホログラム
の拡散特性をそれぞれ示した図面である。
【図５３】 陽刻のスタンパを使用して製造したホログ
ラム導光板及び陰刻のスタンパを使用して製造したホロ
グラム導光板を示した図面である。
ラム導光板及び陰刻のスタンパを使用して製造したホロ
グラム導光板を示した図面である。
１１ 光源、１２ ホログラム導光板、１３ 反射板、
１４ ホログラム層、１６ 第１拡散板、１７ 第１プ
リズム板、１８ 第２プリズム板、１９ 第２拡散板。
１４ ホログラム層、１６ 第１拡散板、１７ 第１プ
リズム板、１８ 第２プリズム板、１９ 第２拡散板。
Claims (32)
- 【請求項１】 平板表示装置に使用される平板照明装置
であって、 長手方向に延長された１つ以上の光源と、 前記光源の長手方向に光源と側面が連接するように位置
し、前記光源から出た光の進行方向を回転させ、下面に
は光の強さの分布を均一にする機能を果す第１ホログラ
ム層が形成されているホログラム導光板と、 前記ホログラム導光板の下に位置し、光の散乱及び反射
を同時に遂行する反射板とを備え、 前記ホログラム導光板の下面に形成された第１ホログラ
ム層は、ホログラムからなる模様の面積密度が、前記光
源が位置している部分は低く光源から遠くなるほど高く
なるように形成されていることを特徴とする平板照明装
置。 - 【請求項２】 前記ホログラム導光板の下面に形成され
る第１ホログラム層は円形又は多角形模様を有する複数
のホログラムからなり、 前記複数のホログラムの大きさは前記光源が位置する側
からはじめて光源から遠くなるほど次第に大きくなって
おり、 前記複数のホログラムの配列は、各ホログラムの中心間
の間隔が横及び縦方向に一定に維持される方式で配列さ
れたり、或いは各ホログラムの中心間の間隔が横及び縦
方向に一定に維持される方式で配列されるが各ホログラ
ムを光源の長手方向と垂直な方向に沿って一列おきに前
記ホログラムの中心間の間隔の半分だけ光源の長手方向
に移動させて配列されていることを特徴とする請求項１
に記載の平板照明装置。 - 【請求項３】 前記ホログラム導光板の下面に形成され
る第１ホログラム層は円形又は多角形模様を有する一定
の大きさの複数のホログラムからなり、 前記ホログラムの配列は、各ホログラムの中心間の間隔
が前記光源が位置する側からはじめて光源から遠くなる
ほど次第に減少する方式に配列されたり、或いはこのよ
うに配列された状態で各ホログラムを前記光源の長手方
向と垂直な方向に沿って一列おきに前記ホログラムの中
心間の間隔の半分だけ前記光源の長手方向に移動させて
配列されていることを特徴とする請求項１に記載の平板
照明装置。 - 【請求項４】 前記導光板の下面に形成される第１ホロ
グラム層は縞模様形状を有する複数のホログラムからな
り、 各ホログラムの中心が前記光源の長手方向と垂直な方向
に一定の間隔を維持し、縞模様のホログラムのそれぞれ
の幅が前記光源が位置する側からはじめて光源から遠く
なるほど次第に大きくなるように形成されたり、或いは
前記縞模様の幅は一定で、前記光源が位置する側からは
じめて光源から遠くなるほどホログラム間の間隔が次第
に狭くなるように形成されていることを特徴とする請求
項１に記載の平板照明装置。 - 【請求項５】 前記光源がホログラム導光板の一側面に
位置した１つの光源である場合、 前記ホログラム導光板の上に位置し、前記導光板の上面
を通して出る光を１次拡散させる第１拡散板と、 前記光源の長手方向と角が垂直をなすように形成されて
いる複数のプリズムからなり、入射した光の進行方向を
変化させる第１プリズム板と、 前記光源の長手方向と角が平行をなすように形成されて
いる複数のプリズムからなり、入射した光の進行方向を
変化させる第２プリズム板と、 前記第２プリズム板を通過した光を２次拡散させる第２
拡散板と、 を備えることを特徴とする請求項１に記載の平板照明装
置。 - 【請求項６】 前記光源がホログラム導光板の相対する
両側面に位置する２つの光源である場合、 前記ホログラム導光板の上に位置し、前記導光板の上面
を通して出る光を１次拡散させる第１拡散板と、 前記第１拡散板によって拡散された光を２次拡散させる
第２拡散板と、 を備えることを特徴とする請求項１に記載の平板照明装
置。 - 【請求項７】 前記ホログラム導光板の上に位置し、前
記導光板の上面を通して出る光を拡散させる拡散板を備
え、 前記ホログラム導光板の上面には光の強さの分布を均一
にする第２ホログラム層が形成されており、 前記第２ホログラム層は、ホログラムを形成する凹凸の
密度が前記光源が位置する側は低く光源から遠くなるほ
ど高くなるように形成されていることを特徴とする請求
項１に記載の平板照明装置。 - 【請求項８】 前記ホログラム導光板の上面には光の拡
散角度を調節する第２ホログラム層が形成されており、 前記第２ホログラム層は、通過した光が前記光源の長手
方向に拡散する角度より前記光源の長手方向と垂直な方
向に拡散する角度がより大きくなるように形成したこと
を特徴とする請求項１に記載の平板照明装置。 - 【請求項９】 前記ホログラム導光板の上に位置し、前
記ホログラム導光板を通して出る光の拡散角度を調節す
るビーム整形ホログラム拡散板と、前記ビーム整形ホロ
グラム拡散板の上に位置し、前記ビーム整形ホログラム
拡散板を通して出る光を拡散させる拡散板とを備え、 前記ビーム整形ホログラム拡散板は、通過した光が前記
光源の長手方向と垂直な方向に拡散する角度より前記光
源の長手方向に拡散する角度がより大きくなるように形
成したことを特徴とする請求項８に記載の平板照明装
置。 - 【請求項１０】 前記ビーム整形ホログラム拡散板は、 レーザーから出射されるレーザービームを拡大して円筒
レンズに入射させる段階と、 円筒レンズからのレーザービームを拡散板に集束させる
段階と、 前記拡散板から一定の距離だけ離れたところに感光剤が
塗布された基板を配置して前記拡散板を通して拡散され
たレーザービームに露出させる段階と、 前記基板を現像して感光剤をエッチングする段階と、 前記基板上に無電解メッキを行って、感光剤がエッチン
グされた形態の通りに金属スタンパを製造する段階と、 薄い光学用樹脂にＵＶ硬化剤を塗布し、塗布されたＵＶ
硬化剤に前記スタンパを圧着する段階と、 ＵＶを照射してＵＶ硬化剤を完全に硬化させる段階と、 を含む方法で製造されることを特徴とする請求項９に記
載の平板照明装置。 - 【請求項１１】 前記ホログラム導光板の上に位置し、
前記ホログラム導光板を通して出る光を拡散させる拡散
板を備え、 前記ホログラム導光板の上面には光の拡散角度を調節す
る第２ホログラム層が形成されており、 前記第２ホログラム層は、通過した光が前記光源の長手
方向に拡散する角度より前記光源の長手方向に垂直な方
向に拡散する角度がより大きくなるようにする特性と前
記光源の長手方向及び垂直な方向に拡散する角度より前
記光源の長手方向に拡散する角度がより大きくなるよう
にする特性とを有するように形成したことを特徴とする
請求項１に記載の平板照明装置。 - 【請求項１２】 前記ホログラム導光板の上に位置し、
前記ホログラム導光板を通して出る光の拡散方向を変化
させながら光を拡散させるビーム拡散方向変更ホログラ
ム拡散板を備えることを特徴とする請求項８に記載の平
板照明装置。 - 【請求項１３】前記ビーム拡散方向変更ホログラム拡散
板は、 レーザーから出射されるレーザービームをビーム分割器
で２つのレーザービームに分離する段階と、 前記ビーム分割器によって分離された２つのレーザービ
ームをそれぞれ拡大させる段階と、 前記拡大された２つのレーザービームをそれぞれ拡散板
に入射させる段階と、 前記拡散板によって拡散された２つのレーザービームを
一定の角度を維持させて感光剤が塗布された基板に入射
させる段階と、 前記基板を現像して感光剤をエッチングする段階と、 前記基板上に無電解メッキを行って、感光剤がエッチン
グされた形態の通りに金属スタンパを製造する段階と、 薄い光学用樹脂にＵＶ硬化剤を塗布し、塗布されたＵＶ
硬化剤に前記スタンパを圧着する段階と、 ＵＶを照射してＵＶ硬化剤を完全に硬化させる段階と、 を含む方法で製造されることを特徴とする請求項１２に
記載の平板照明装置。 - 【請求項１４】 前記ホログラム導光板の下面に形成さ
れた第１ホログラム層は、 レーザーから出射されるレーザービームを拡大して拡散
器に入射させる段階と、 感光剤が塗布されており、第１ホログラム層に形成され
る模様の形態を有しているマスクを付着した基板を前記
レーザービームに露出させる段階と、 前記基板を現像してマスクに形成された模様の通りに感
光剤をエッチングする段階と、 を含む方法で形成されることを特徴とする請求項１に記
載の平板照明装置。 - 【請求項１５】 前記第２ホログラム層は、レーザーか
ら出射されるレーザービームを拡大して拡散器に入射さ
せる段階と、 感光剤が塗布された基板を前記レーザービームの光軸に
対して一定の角度に傾けた状態で前記拡散器によって拡
散されたレーザービームに露出させることによって、前
記拡散器と近距離に位置する部分は小さなスペックル模
様になり前記拡散器から遠くなるほど次第に大きなスペ
ックル模様になるように前記基板上に塗布された感光剤
を感光させる段階と、 前記ガラス板を現像して感光剤をエッチングする段階
と、 を含む方法で形成されることを特徴とする請求項７に記
載の平板照明装置。 - 【請求項１６】 前記第２ホログラム層は、 ａ）レーザーから出射されるレーザービームを拡大させ
る段階と、 ｂ）前記拡大されたレーザービームを拡散板に入射させ
る段階と、 ｃ）感光剤が塗布された基板を前記拡散板から一定の距
離だけ離れたところに位置させ、遮断板を用いて基板の
一部領域のみを前記レーザービームに露出させた後、レ
ーザービームを遮断する段階と、 ｄ）前記基板と拡散板との距離を増加させ、前段階でレ
ーザービームに照射された領域は遮断板で覆い、前記
ｃ）段階でレーザービームに照射された領域に隣接して
照射されなかった領域を前記レーザービームに露出させ
た後、レーザービームを遮断する段階と、 ｅ）前記ｃ）段階及びｄ）段階を、前記感光剤が塗布さ
れた基板全体にレーザービームが照射されるまで反復す
る段階と、 ｆ）前記基板を現像して感光剤をエッチングする段階
と、を含む方法で形成されることを特徴とする請求項７
に記載の平板照明装置。 - 【請求項１７】 前記ホログラム導光板の上面に形成さ
れた第２ホログラム層は、 ａ）レーザーから出射されるレーザービームを拡大して
円筒レンズに入射させる段階と、 ｂ）円筒レンズからレーザービームを拡散板に集束させ
る段階と、 ｃ）感光剤が塗布された基板を前記拡散板から一定の距
離だけ離れたところに配置し、遮断板を用いて感光剤の
一部のみを前記レーザービームに露出させた後、レーザ
ービームを遮断する段階と、 ｄ）前記基板と拡散板との距離を増加させ、前段階でレ
ーザービームに照射された領域は遮断板で覆い、前記
ｃ）段階でレーザービームに照射された領域と隣接して
照射されなかった領域を前記レーザービームに露出させ
た後、レーザービームを遮断する段階と、 ｅ）前記ｃ）段階及びｄ）段階を、前記感光剤が塗布さ
れた基板全体にレーザービームが照射されるまで反復す
る段階と、 ｆ）前記基板を現像して感光剤をエッチングする段階
と、 を含む方法で形成されることを特徴とする請求項８に記
載の平板照明装置。 - 【請求項１８】 前記ホログラム導光板の上面に形成さ
れる第２ホログラム層は、 ａ）レーザーから出射されるレーザービームを拡大して
円筒レンズに入射させる段階と、 ｂ）円筒レンズからレーザービームを拡散板に集束させ
る段階と、 ｃ）感光剤が塗布された基板を前記拡散板から一定の距
離だけ離れたところに配置し、遮断板を用いて感光剤の
一部のみを前記レーザービームに露出させた後、レーザ
ービームを遮断する段階と、 ｄ）前記基板と拡散板との距離を増加させ、前段階でレ
ーザービームに照射された領域は遮断板で覆い、前記
ｃ）段階でレーザービームに照射された領域に隣接して
照射されなかった領域を前記レーザービームに露出させ
た後、レーザービームを遮断する段階と、 ｅ）前記ｃ）段階及びｄ）段階を、前記感光剤が塗布さ
れた基板全体にレーザービームが照射されるまで反復す
る段階と、 ｆ）前記円筒レンズを光学系の光軸を中心にして９０度
回転させ前記ａ）段階ないしｅ）段階を反復する段階
と、 ｇ）前記基板を現像して感光剤をエッチングする段階
と、を含む方法で形成されることを特徴とする請求項１
１に記載の平板照明装置。 - 【請求項１９】 平板表示装置に使用される平板照明装
置であって、 １つ以上の光源と、 前記光源の下に位置し、光の散乱及び反射を同時に遂行
する反射板と、 前記光源の上に位置し、上下面のうちの一面に第１ホロ
グラム層が形成されているホログラム導光板と、 前記ホログラム導光板の上に位置し、前記ホログラム導
光板を通過した光を拡散させる拡散板とを備え、 前記第１ホログラム層は、ホログラムをなす凹凸の密度
が、前記光源が位置している部分は高く光源から遠くな
るほど密度が低くなるように形成されていることを特徴
とする平板照明装置。 - 【請求項２０】 前記ホログラム導光板の上面に第２ホ
ログラム拡散層が形成されており、前記第２ホログラム
拡散層は、ホログラムをなす凹凸の密度が全般的に均一
となるよう形成されていることを特徴とする請求項１９
に記載の平板照明装置。 - 【請求項２１】前記第１ホログラム層は、 ａ）レーザーから出射されるレーザービームを拡大させ
る段階と、 ｂ）前記拡大されたレーザービームを拡散板に入射させ
る段階と、 ｃ）感光剤が塗布された基板を前記拡散板から一定の距
離だけ離れたところに位置させ、遮断板を用いて基板の
一部領域のみを前記レーザービームに露出させた後、レ
ーザービームを遮断する段階と、 ｄ）前記基板と拡散板との距離を増加させ、前段階でレ
ーザービームに照射された領域は遮断板で覆い、ｃ）段
階でレーザービームに照射された領域に隣接して照射さ
れなかった領域を前記レーザービームに露出させた後、
レーザービームを遮断する段階と、 ｅ）前記ｃ）段階及びｄ）段階を、前記感光剤が塗布さ
れた基板全体にレーザービームが照射されるまで反復す
る段階と、 ｆ）前記基板を現像して感光剤をエッチングする段階
と、 を含む方法で形成されることを特徴とする請求項１に記
載の平板照明装置。 - 【請求項２２】 前記第２ホログラム層は、 レーザーから出射されるレーザービームを拡大させる段
階と、 前記拡大されたレーザービームを拡散板に入射させる段
階と、 感光剤が塗布された基板を前記拡散板から一定の距離だ
け離れたところに位置させ、前記拡散板によって拡散さ
れたレーザービームに露出させた後、レーザービームを
遮断する段階と、 前記基板を現像して感光剤をエッチングする段階と、 を含む方法で形成されることを特徴とする請求項２０に
記載の平板照明装置。 - 【請求項２３】 前記ホログラム層に形成される模様の
形態を有しているマスクの構成は、ホログラムが形成さ
れる部分は透明でそれ以外の部分は光を遮断するように
不透明であるように構成されて結果的に陰のホログラム
を形成したり、或いは反対に構成されて結果的に陽のホ
ログラムを形成することを特徴とする請求項１に記載の
平板照明装置。 - 【請求項２４】 平板表示装置に使用される平板照明装
置において、下面にホログラムからなる模様の密度が光
源が位置している部分は低く光源から遠くなるほど高く
なるように形成されている第１ホログラム層を有し、上
面に光の拡散角度を調節する第２ホログラム層を有する
ホログラム導光板を製造する方法であって、 Ａ）レーザーから出射されるレーザービームを拡大して
拡散器に入射させる段階と， Ｂ）感光剤が塗布された第１基板にホログラム層に形成
される模様の形態を有しているマスクを付着して前記レ
ーザービームに露出させる段階と， Ｃ）前記第１基板を現像してマスクに形成された模様の
通りに感光剤をエッチングする段階と，を含む第１ホロ
グラム層形成段階と、 ａ）レーザーから出射されるレーザービームを拡大して
円筒レンズに入射させる段階と， ｂ）円筒レンズからレーザービームを拡散板に集束させ
る段階と， ｃ）感光剤が塗布された第２基板を前記拡散板から一定
の距離だけ離れたところに配置し、遮断板を用いて感光
剤の一部のみを前記レーザービームに露出させた後、レ
ーザービームを遮断する段階と， ｄ）前記第２基板と拡散板との距離を増加させ、前段階
でレーザービームに照射された領域は遮断板で覆い、前
記ｃ）段階でレーザービームに照射された領域と隣接し
て照射されなかった領域を前記レーザービームに露出さ
せた後、レーザービームを遮断する段階と， ｅ）前記ｃ）段階及びｄ）段階を、前記感光剤が塗布さ
れた第２基板全体にレーザービームが照射されるまで反
復する段階と， ｆ）前記第２基板を現像して感光剤をエッチングする段
階と，を含む第２ホログラム層形成段階と、 前記第１基板上に無電解メッキを行って、感光剤がエッ
チングされた形態の通りに第１金属スタンパを製造する
段階と、 前記第２基板上に無電解メッキを行って、感光剤がエッ
チングされた形態の通りに第２金属スタンパを製造する
段階と、 導光板材料の下面及び上面にＵＶ硬化剤を塗布した後、
ＵＶ硬化剤が完全に硬化されない程度に紫外線に照射さ
れたＵＶ硬化剤に前記第１金属スタンパは下側から第２
金属スタンパは上側から圧着する段階と、 紫外線を照射してＵＶ硬化剤を完全に硬化させる段階
と、 を含むことを特徴とするホログラム導光板製造方法。 - 【請求項２５】 前記第２ホログラム層形成段階は、前
記ｅ）の反復段階の後に、 ｆ）前記円筒レンズを光学系の光軸を中心にして９０度
回転させて前記ａ）段階ないしｅ）段階を反復する段
階、 を含むことを特徴とする請求項２４に記載のホログラム
導光板製造方法。 - 【請求項２６】 前記第２金属スタンパを製造する段階
の後の段階を、 前記第１金属スタンパ及び第２金属スタンパを金型構造
物の下面及び上面にそれぞれ設置して射出用材料を投入
する段階に置き換えることを特徴とする請求項２４に記
載のホログラム導光板製造方法。 - 【請求項２７】 前記ホログラム層に形成される模様の
形態を有しているマスクの構成は、ホログラムが形成さ
れる部分は透明でそれ以外の部分は光を遮断するように
不透明に構成されて結果的に陰のホログラムを形成した
り、或いは反対に構成されて結果的に陽のホログラムを
形成することを特徴とする請求項２４に記載のホログラ
ム導光板製造方法。 - 【請求項２８】 平板表示装置に使用される平板照明装
置において、上面又は下面のうちの一面にホログラム拡
散層が形成されているホログラム導光板を製造する方法
であって、 ａ）レーザーから出射されるレーザービームを拡大させ
る段階と、 ｂ）前記拡大されたレーザービームを拡散板に入射させ
る段階と、 ｃ）感光剤が塗布された基板を前記拡散板から一定の距
離だけ離れたところに位置させ、遮断板を用いて基板の
一部領域のみを前記レーザービームに露出させた後、レ
ーザービームを遮断する段階と、 ｄ）前記基板と拡散板との距離を増加させ、前段階でレ
ーザービームに照射された領域は遮断板で覆い、前記
ｃ）段階でレーザービームに照射された領域に隣接して
照射されなかった領域を前記レーザービームに露出させ
た後、レーザービームを遮断する段階と、 ｅ）前記ｃ）段階及びｄ）段階を、前記感光剤が塗布さ
れた基板全体にレーザービームが照射されるまで反復す
る段階と、 ｆ）前記基板を現像して感光剤をエッチングする段階
と、 ｇ）前記基板上に無電解メッキを行って、感光剤がエッ
チングされた形態の通りに金属スタンパを製造する段階
と、 ｈ）導光板材料にＵＶ硬化剤を塗布した後、ＵＶ硬化剤
が完全に硬化されない程度に紫外線に照射されたＵＶ硬
化剤に前記スタンパを圧着する段階と、 ｉ）紫外線を照射してＵＶ硬化剤を完全に硬化させる段
階と、を含むことを特徴とするホログラム導光板製造方
法。 - 【請求項２９】 前記ｉ）の硬化段階は、スタンパを圧
着した段階で紫外線を照射したりスタンパを分離した状
態で紫外線を照射してＵＶ硬化剤を完全に硬化させるこ
とを特徴とする請求項２８に記載のホログラム導光板製
造方法。 - 【請求項３０】 前記ｇ）段階以後のｈ）及びｉ）段階
を、 ｈ’）前記スタンパを金型構造物の上面に設置し射出用
材料を投入して前記スタンパの模様を複製する段階に置
き換えることを特徴とする請求項２８に記載のホログラ
ム導光板製造方法。 - 【請求項３１】 平板表示装置に使用される平板照明装
置において、下面にホログラムをなす凹凸の密度が光源
が位置している部分は高く光源から遠くなるほど低くな
るように形成されている第１ホログラム拡散層を有し、
上面にホログラムをなす凹凸の密度が全般的に均一に形
成されている第２ホログラム拡散層を有するホログラム
導光板を製造する方法であって、 ａ）レーザーから出射されるレーザービームを拡大させ
る段階と， ｂ）前記拡大されたレーザービームを拡散板に入射させ
る段階と， ｃ）感光剤が塗布された第１基板を前記拡散板から一定
の距離だけ離れたところに位置させ、遮断板を用いて基
板の一部領域のみを前記レーザービームに露出した後、
レーザービームを遮断する段階と， ｄ）前記第１基板と拡散板との距離を増加させ、前段階
でレーザービームに照射された領域は遮断板で覆い、前
記ｃ）段階でレーザービームに照射された領域に隣接し
て照射されなかった領域を前記レーザービームに露出さ
せた後、レーザービームを遮断する段階と， ｅ）前記ｃ）段階及びｄ）段階を、前記感光剤が塗布さ
れた第１基板全体にレーザービームが照射されるまで反
復する段階と， ｆ）前記第１基板を現像して感光剤をエッチングする段
階と，を含む第１ホログラム拡散層形成段階と、 Ａ）レーザーから出射されるレーザービームを拡大させ
る段階と， Ｂ）前記拡大されたレーザービームを拡散板に入射させ
る段階と， Ｃ）感光剤が塗布された第２基板を前記拡散板から一定
の距離だけ離れたところに位置させ、前記拡散板から拡
散されたレーザービームに露出させた後、レーザービー
ムを遮断する段階と， Ｄ）前記第２基板を現像して感光剤をエッチングする段
階と，を含む第２ホログラム拡散層形成段階と、 前記第１基板上に無電解メッキを行って、感光剤がエッ
チングされた形態の通りに第１金属スタンパを製造する
段階と、 前記第２基板上に無電解メッキを行って、感光剤がエッ
チングされた形態の通りに第２金属スタンパを製造する
段階と、 導光板材料の下面及び上面にＵＶ硬化剤を塗布した後、
ＵＶ硬化剤が完全に硬化されない程度に紫外線を照射し
たＵＶ硬化剤に前記第１金属スタンパを下側から第２金
属スタンパを上側から圧着する段階と、 紫外線を照射してＵＶ硬化剤を完全に硬化させる段階
と、 を含むことを特徴とするホログラム導光板製造方法。 - 【請求項３２】 前記第２金属スタンパを製造する段階
の後の段階を、 前記第１金属スタンパ及び第２金属スタンパを金型構造
物の下面及び上面にそれぞれ設置して射出用材料を投入
する段階に置き換えることを特徴とする請求項３１に記
載のホログラム導光板製造方法。
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