JP2001021060A - 弁装置 - Google Patents
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- JP2001021060A JP2001021060A JP11191463A JP19146399A JP2001021060A JP 2001021060 A JP2001021060 A JP 2001021060A JP 11191463 A JP11191463 A JP 11191463A JP 19146399 A JP19146399 A JP 19146399A JP 2001021060 A JP2001021060 A JP 2001021060A
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- piston
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- pressure
- spring
- chamber
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 弁室に流入した流体がシリンダ室に漏れるこ
とがない弁装置を提供する。 【解決手段】 本体１０の弁室１０ａとシリンダ室１０
ｂとを、隔壁１１ａによって隔てる。弁室１０ａに弁体
２０を摺動可能に収容し、この弁体２０の上端部に永久
磁石２１を設ける。シリンダ室１０ｂに、ピストン３０
を摺動可能に収容し、このピストン３０の下端部に永久
磁石３１を設ける。永久磁石２１，３１どうしは、互い
に反発し合う。ピストン３０がスプリング３２の付勢に
よってキャップ１２に突き当てられている時は、弁体２
０は、スプリング２２の付勢によって弁座１３ｃから離
れ、隔壁１１ａに突き当たっている。背圧源３５（圧力
付与手段）からシリンダ室１０ｂの上室部分１０ｃに背
圧（圧力）が供給されると、この背圧によってピストン
３０が隔壁１１ａに突き当てられ、弁体２０が磁石２
１，３１の反発力によって弁座１３ｃに着座させられ
る。
とがない弁装置を提供する。 【解決手段】 本体１０の弁室１０ａとシリンダ室１０
ｂとを、隔壁１１ａによって隔てる。弁室１０ａに弁体
２０を摺動可能に収容し、この弁体２０の上端部に永久
磁石２１を設ける。シリンダ室１０ｂに、ピストン３０
を摺動可能に収容し、このピストン３０の下端部に永久
磁石３１を設ける。永久磁石２１，３１どうしは、互い
に反発し合う。ピストン３０がスプリング３２の付勢に
よってキャップ１２に突き当てられている時は、弁体２
０は、スプリング２２の付勢によって弁座１３ｃから離
れ、隔壁１１ａに突き当たっている。背圧源３５（圧力
付与手段）からシリンダ室１０ｂの上室部分１０ｃに背
圧（圧力）が供給されると、この背圧によってピストン
３０が隔壁１１ａに突き当てられ、弁体２０が磁石２
１，３１の反発力によって弁座１３ｃに着座させられ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、空気などの流体の
流通路を開閉するための弁装置に関するものである。
流通路を開閉するための弁装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図３は、従来のこの種の弁装置の一例を
示したものである。この弁装置は、本体１の軸線に沿っ
て弁室１ａとシリンダ室１ｂとが形成されている。これ
ら弁室１ａおよびシリンダ室１ｂは、連通孔１ｃによっ
て連ねられている。弁室１ａには弁体２が収容され、シ
リンダ室１ｂにはピストン３が収容されている。ピスト
ン３の下端から作動ピン４が延び、連通孔１ｃを通って
弁体２の上面に当たっている。連通孔１ｃには、Ｏリン
グ５が設けられており、このＯリング５が作動ピン４に
接することにより、弁室１ａとシリンダ室１ｂとが気密
に仕切られている。
示したものである。この弁装置は、本体１の軸線に沿っ
て弁室１ａとシリンダ室１ｂとが形成されている。これ
ら弁室１ａおよびシリンダ室１ｂは、連通孔１ｃによっ
て連ねられている。弁室１ａには弁体２が収容され、シ
リンダ室１ｂにはピストン３が収容されている。ピスト
ン３の下端から作動ピン４が延び、連通孔１ｃを通って
弁体２の上面に当たっている。連通孔１ｃには、Ｏリン
グ５が設けられており、このＯリング５が作動ピン４に
接することにより、弁室１ａとシリンダ室１ｂとが気密
に仕切られている。
【０００３】弁体２およびピストン３は、スプリング
６，７によってそれぞれ上方に付勢されている。これに
よって、弁体２が弁座１ｄから離され、空気などの流体
が入口通路１ｅから弁室１ａに入り、出口通路１ｆから
出ていく。シリンダ室１ｂにおいてピストン３より上の
背圧室１ｇには、背圧源８が接続されている。この背圧
源８から背圧室１ｇに圧縮空気（背圧）が供給される
と、ピストン３がスプリング７に抗して押し下げられ、
ひいては、弁体２がスプリング６に抗して押し下げられ
る。これによって、弁体２が弁座１ｄに着座し、上記流
体の流通が遮断される。
６，７によってそれぞれ上方に付勢されている。これに
よって、弁体２が弁座１ｄから離され、空気などの流体
が入口通路１ｅから弁室１ａに入り、出口通路１ｆから
出ていく。シリンダ室１ｂにおいてピストン３より上の
背圧室１ｇには、背圧源８が接続されている。この背圧
源８から背圧室１ｇに圧縮空気（背圧）が供給される
と、ピストン３がスプリング７に抗して押し下げられ、
ひいては、弁体２がスプリング６に抗して押し下げられ
る。これによって、弁体２が弁座１ｄに着座し、上記流
体の流通が遮断される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来構成では、
作動ピン４の上下方向への動きに伴い、Ｏリング５が変
形させられる。このため、Ｏリング５が損耗してシール
性が悪くなり、弁室１ａに流入した流体がシリンダ室１
ｂに漏れるおそれがあった。
作動ピン４の上下方向への動きに伴い、Ｏリング５が変
形させられる。このため、Ｏリング５が損耗してシール
性が悪くなり、弁室１ａに流入した流体がシリンダ室１
ｂに漏れるおそれがあった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、第１の発明は、（イ）弁室と、この弁室と非磁性の
隔壁で隔てられたシリンダ室とを有し、上記弁室におい
て上記隔壁に対向する面に弁座が形成された本体と、
（ロ）上記弁室に収容され、上記弁座に着座する閉位置
と、上記弁座から離れ上記隔壁に寄る開位置との間を摺
動可能な弁体と、（ハ）上記弁室に収容され、上記弁体
を付勢する弁スプリングと、（ニ）上記シリンダ室に収
容され、駆動機構によって、上記隔壁に寄せられた接近
位置と、隔壁から離された離間位置との間を摺動可能な
ピストンとを備え、上記弁体に第１磁石を設けるととも
に、上記ピストンに第２磁石を設け、上記ピストンが上
記離間位置に位置された時は、上記弁スプリングの付勢
力によって、上記弁体が、上記閉位置または開位置の一
方に位置され、上記ピストンが上記接近位置に位置され
た時は、上記第１、第２磁石間の磁力によって、上記弁
体が、上記弁スプリングに抗して上記閉位置または開位
置の他方に位置されることを特徴とする。
め、第１の発明は、（イ）弁室と、この弁室と非磁性の
隔壁で隔てられたシリンダ室とを有し、上記弁室におい
て上記隔壁に対向する面に弁座が形成された本体と、
（ロ）上記弁室に収容され、上記弁座に着座する閉位置
と、上記弁座から離れ上記隔壁に寄る開位置との間を摺
動可能な弁体と、（ハ）上記弁室に収容され、上記弁体
を付勢する弁スプリングと、（ニ）上記シリンダ室に収
容され、駆動機構によって、上記隔壁に寄せられた接近
位置と、隔壁から離された離間位置との間を摺動可能な
ピストンとを備え、上記弁体に第１磁石を設けるととも
に、上記ピストンに第２磁石を設け、上記ピストンが上
記離間位置に位置された時は、上記弁スプリングの付勢
力によって、上記弁体が、上記閉位置または開位置の一
方に位置され、上記ピストンが上記接近位置に位置され
た時は、上記第１、第２磁石間の磁力によって、上記弁
体が、上記弁スプリングに抗して上記閉位置または開位
置の他方に位置されることを特徴とする。
【０００６】第２の発明は、第１の発明において、上記
駆動機構が、上記シリンダ室に収容されて上記ピストン
を上記離間位置または接近位置の一方に付勢するピスト
ンスプリングと、このピストンスプリングに抗して上記
ピストンに上記離間位置または接近位置の他方に向かう
圧力を付与する圧力付与手段とを有していることを特徴
とする。
駆動機構が、上記シリンダ室に収容されて上記ピストン
を上記離間位置または接近位置の一方に付勢するピスト
ンスプリングと、このピストンスプリングに抗して上記
ピストンに上記離間位置または接近位置の他方に向かう
圧力を付与する圧力付与手段とを有していることを特徴
とする。
【０００７】第３の発明は、第１の発明において、上記
駆動機構が、上記シリンダ室に収容されて上記ピストン
を上記離間位置に付勢するピストンスプリングと、上記
ピストンに上記接近位置に向かう圧力を付与する圧力付
与手段とを有し、この圧力付与手段による圧力付与の停
止時には、上記ピストンが、上記ピストンスプリングの
付勢によって上記離間位置に位置され、上記弁体が、上
記弁スプリングの付勢によって上記開位置に位置され、
上記圧力付与手段による圧力付与時には、上記ピストン
が、上記圧力によって上記ピストンスプリングに抗して
上記接近位置に位置され、上記弁体が、上記第１、第２
磁石の反発力によって上記閉位置に位置されることを特
徴とする。
駆動機構が、上記シリンダ室に収容されて上記ピストン
を上記離間位置に付勢するピストンスプリングと、上記
ピストンに上記接近位置に向かう圧力を付与する圧力付
与手段とを有し、この圧力付与手段による圧力付与の停
止時には、上記ピストンが、上記ピストンスプリングの
付勢によって上記離間位置に位置され、上記弁体が、上
記弁スプリングの付勢によって上記開位置に位置され、
上記圧力付与手段による圧力付与時には、上記ピストン
が、上記圧力によって上記ピストンスプリングに抗して
上記接近位置に位置され、上記弁体が、上記第１、第２
磁石の反発力によって上記閉位置に位置されることを特
徴とする。
【０００８】第４の発明は、第１の発明において、上記
駆動機構が、上記シリンダ室に収容されて上記ピストン
を上記接近位置に付勢するピストンスプリングと、上記
ピストンに上記離間位置に向かう圧力を付与する圧力付
与手段とを有し、この圧力付与手段による圧力付与の停
止時には、上記ピストンが、上記ピストンスプリングの
付勢によって上記接近位置に位置され、上記弁体が、上
記第１、第２磁石の反発力によって上記閉位置に位置さ
れ、上記圧力付与手段による圧力付与時には、上記ピス
トンが、上記圧力によって上記ピストンスプリングに抗
して上記離間位置に位置され、上記弁体が、上記弁スプ
リングの付勢によって上記開位置に位置されることを特
徴とする。
駆動機構が、上記シリンダ室に収容されて上記ピストン
を上記接近位置に付勢するピストンスプリングと、上記
ピストンに上記離間位置に向かう圧力を付与する圧力付
与手段とを有し、この圧力付与手段による圧力付与の停
止時には、上記ピストンが、上記ピストンスプリングの
付勢によって上記接近位置に位置され、上記弁体が、上
記第１、第２磁石の反発力によって上記閉位置に位置さ
れ、上記圧力付与手段による圧力付与時には、上記ピス
トンが、上記圧力によって上記ピストンスプリングに抗
して上記離間位置に位置され、上記弁体が、上記弁スプ
リングの付勢によって上記開位置に位置されることを特
徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を、図面
を参照して説明する。図１は、本発明の第１実施形態に
係る常開の弁装置Ｍを示したものである。装置Ｍは、本
体１０と、この本体１０に収容された弁体２０およびピ
ストン３０を備えている。
を参照して説明する。図１は、本発明の第１実施形態に
係る常開の弁装置Ｍを示したものである。装置Ｍは、本
体１０と、この本体１０に収容された弁体２０およびピ
ストン３０を備えている。
【００１０】本体１０は、筒形状をなすボディ１１と、
このボディ１１の上端部にねじ込まれたキャップ１２
と、ボディ１１の下端部に嵌め込まれた弁座部材１３と
を有している。ボディ１１の長さ方向の中間には、隔壁
１１ａが設けられている。この隔壁１１ａによって本体
１０の内部空間が、下側の弁室１０ａと上側のシリンダ
室１０ｂとに隔てられている。隔壁１１ａを含むボディ
１１は、真鍮（非磁性材料）から形成されている。
このボディ１１の上端部にねじ込まれたキャップ１２
と、ボディ１１の下端部に嵌め込まれた弁座部材１３と
を有している。ボディ１１の長さ方向の中間には、隔壁
１１ａが設けられている。この隔壁１１ａによって本体
１０の内部空間が、下側の弁室１０ａと上側のシリンダ
室１０ｂとに隔てられている。隔壁１１ａを含むボディ
１１は、真鍮（非磁性材料）から形成されている。
【００１１】弁座部材１３には、弁室１０ａに連なる流
入通路１３ａおよび流出通路１３ｂが形成されている。
流入通路１３ａには、空気回路の上流側通路４０が接続
され、流出通路１３ｂには、下流側通路４１が接続され
ている。弁座部材１３の上面（弁室１０ａにおいて隔壁
１１ａと軸線方向に対向する面）の中央部には、弁座１
３ｃが突出して形成されており、この弁座１３ｃに流入
通路１３ａの弁室１０ａ側の端部が開口している。
入通路１３ａおよび流出通路１３ｂが形成されている。
流入通路１３ａには、空気回路の上流側通路４０が接続
され、流出通路１３ｂには、下流側通路４１が接続され
ている。弁座部材１３の上面（弁室１０ａにおいて隔壁
１１ａと軸線方向に対向する面）の中央部には、弁座１
３ｃが突出して形成されており、この弁座１３ｃに流入
通路１３ａの弁室１０ａ側の端部が開口している。
【００１２】弁室１０ａに、上記弁体２０が収容されて
いる。弁体２０は、弁室１０ａの軸線に沿って、弁座１
３ｃから離れて隔壁１１ａに突き当たる開位置と、弁座
１３ｃに着座する閉位置との間を摺動可能になってい
る。弁室１０ａの下側部には、コイルスプリング２２
（弁スプリング）が収容されており、このコイルスプリ
ング２２が、弁体２０を上方に付勢している。弁体２０
の上端部には、永久磁石２１（第１磁石）が設けられて
いる。永久磁石２１は、隔壁１１ａに対向する上面が、
例えばＮ極になっている。
いる。弁体２０は、弁室１０ａの軸線に沿って、弁座１
３ｃから離れて隔壁１１ａに突き当たる開位置と、弁座
１３ｃに着座する閉位置との間を摺動可能になってい
る。弁室１０ａの下側部には、コイルスプリング２２
（弁スプリング）が収容されており、このコイルスプリ
ング２２が、弁体２０を上方に付勢している。弁体２０
の上端部には、永久磁石２１（第１磁石）が設けられて
いる。永久磁石２１は、隔壁１１ａに対向する上面が、
例えばＮ極になっている。
【００１３】シリンダ室１０ｂに、上記ピストン３０が
収容されている。ピストン３０は、シリンダ室１０ｂの
軸線に沿って、キャップ１２に突き当たる離間位置と、
隔壁１１ａに突き当たる接近位置との間を摺動可能にな
っている。ピストン３０の下端部には、永久磁石３１
（第２磁石）が設けられている。永久磁石３１は、隔壁
１１ａに対向する下面が、上記弁体２０の永久磁石２１
の上面と同じ磁極（Ｎ極）になっている。したがって、
これら磁石３１，２１は、互いに反発し合うようになっ
ている。
収容されている。ピストン３０は、シリンダ室１０ｂの
軸線に沿って、キャップ１２に突き当たる離間位置と、
隔壁１１ａに突き当たる接近位置との間を摺動可能にな
っている。ピストン３０の下端部には、永久磁石３１
（第２磁石）が設けられている。永久磁石３１は、隔壁
１１ａに対向する下面が、上記弁体２０の永久磁石２１
の上面と同じ磁極（Ｎ極）になっている。したがって、
これら磁石３１，２１は、互いに反発し合うようになっ
ている。
【００１４】シリンダ室１０ｂは、ピストン３０によっ
て上室部分１０ｃと下室部分１０ｄとに仕切られてい
る。上室部分１０ｃは、キャップ１２に設けた継手管３
３、およびこの継手管３３に連なる背圧通路３４を介し
て背圧源３５（圧力付与手段）に接続されている。下室
部分１０ｄには、コイルスプリング３２（ピストンスプ
リング）が収容されている。このコイルスプリング３２
が、ピストン３０を上方に付勢している。このコイルス
プリング３２と上記背圧源３５とは、特許請求の範囲の
「駆動機構」を構成している。下室部分１０ｄは、ボデ
ィ１１に設けたねじ穴１１ｂを介して大気に開放されて
いる。
て上室部分１０ｃと下室部分１０ｄとに仕切られてい
る。上室部分１０ｃは、キャップ１２に設けた継手管３
３、およびこの継手管３３に連なる背圧通路３４を介し
て背圧源３５（圧力付与手段）に接続されている。下室
部分１０ｄには、コイルスプリング３２（ピストンスプ
リング）が収容されている。このコイルスプリング３２
が、ピストン３０を上方に付勢している。このコイルス
プリング３２と上記背圧源３５とは、特許請求の範囲の
「駆動機構」を構成している。下室部分１０ｄは、ボデ
ィ１１に設けたねじ穴１１ｂを介して大気に開放されて
いる。
【００１５】上記のように構成された装置Ｍの作用につ
いて説明する。背圧源３５から上室部分１０ｃへの圧縮
空気による背圧（圧力）の供給が停止されているとき
は、ピストン３０がコイルスプリング３２の付勢によっ
てキャップ１３に突き当てられ、離間位置に位置されて
いる。したがって、弁体２０は、上記磁石２１，３１の
磁力に影響されず、コイルスプリング２１の付勢によっ
て隔壁１１ａに突き当てられ、開位置に位置されてい
る。これによって、上記空気回路の上流側通路４０と下
流側通路４１が、流入通路１３ａ、弁室１０ａ、および
流出通路１０ｂを介して連通される。弁室１０ａとシリ
ンダ室１０ｂとは、隔壁１１ａで隔てられているので、
弁室１０ａに流入した空気がシリンダ室１０ｂに漏れる
ことはない。
いて説明する。背圧源３５から上室部分１０ｃへの圧縮
空気による背圧（圧力）の供給が停止されているとき
は、ピストン３０がコイルスプリング３２の付勢によっ
てキャップ１３に突き当てられ、離間位置に位置されて
いる。したがって、弁体２０は、上記磁石２１，３１の
磁力に影響されず、コイルスプリング２１の付勢によっ
て隔壁１１ａに突き当てられ、開位置に位置されてい
る。これによって、上記空気回路の上流側通路４０と下
流側通路４１が、流入通路１３ａ、弁室１０ａ、および
流出通路１０ｂを介して連通される。弁室１０ａとシリ
ンダ室１０ｂとは、隔壁１１ａで隔てられているので、
弁室１０ａに流入した空気がシリンダ室１０ｂに漏れる
ことはない。
【００１６】背圧源３５から上室部分１０ｃに背圧が供
給されると、この背圧によってピストン３０がコイルス
プリング３２に抗して押し下げられ、隔壁１１ａに突き
当たって接近位置に達する。この時、弁体２０が、磁石
２１，３１の反発力によってコイルスプリング２２に抗
して押し下げられ、弁座１３ｃに着座し、閉位置に位置
される。これによって、空気回路の上流側通路４０と下
流側通路４１が遮断される。
給されると、この背圧によってピストン３０がコイルス
プリング３２に抗して押し下げられ、隔壁１１ａに突き
当たって接近位置に達する。この時、弁体２０が、磁石
２１，３１の反発力によってコイルスプリング２２に抗
して押し下げられ、弁座１３ｃに着座し、閉位置に位置
される。これによって、空気回路の上流側通路４０と下
流側通路４１が遮断される。
【００１７】次に、本発明の第２実施形態に係る常閉の
弁装置Ｍ’について、図２を参照して説明する。装置
Ｍ’において、上記第１実施形態の装置Ｍと重複する構
成に関しては、図面に同一符号を付して説明を簡略化す
る。装置Ｍ’では、シリンダ室１０ｂの上室部分１０ｃ
にコイルスプリング３２が収容されている。このコイル
スプリング３２によってピストン３０が下方に付勢され
ている。継手管３３は、ねじ穴１１ｂに螺合されてい
る。これによって、背圧源３５が下室部分１０ｄに接続
されている。
弁装置Ｍ’について、図２を参照して説明する。装置
Ｍ’において、上記第１実施形態の装置Ｍと重複する構
成に関しては、図面に同一符号を付して説明を簡略化す
る。装置Ｍ’では、シリンダ室１０ｂの上室部分１０ｃ
にコイルスプリング３２が収容されている。このコイル
スプリング３２によってピストン３０が下方に付勢され
ている。継手管３３は、ねじ穴１１ｂに螺合されてい
る。これによって、背圧源３５が下室部分１０ｄに接続
されている。
【００１８】背圧源３５から下室部分１０ｄへの背圧供
給が停止されているときは、ピストン３０がコイルスプ
リング３２の付勢によって隔壁１１ａに突き当てられ、
接近位置に位置されている。これによって、弁体２０
が、磁石２１，３１の反発力によってコイルスプリング
２２に抗して押し下げられ、弁座１３ｃに着座して、閉
位置に位置されている。
給が停止されているときは、ピストン３０がコイルスプ
リング３２の付勢によって隔壁１１ａに突き当てられ、
接近位置に位置されている。これによって、弁体２０
が、磁石２１，３１の反発力によってコイルスプリング
２２に抗して押し下げられ、弁座１３ｃに着座して、閉
位置に位置されている。
【００１９】背圧源３５から下室部分１０ｄに背圧が供
給されると、ピストン３０がコイルスプリング３２に抗
して押し上げられ、キャップ１２に突き当たって離間位
置に達する。これによって、弁体２０が、コイルスプリ
ング２２の付勢によって押し上げられ、隔壁１１ａに突
き当たって、開位置に達する。
給されると、ピストン３０がコイルスプリング３２に抗
して押し上げられ、キャップ１２に突き当たって離間位
置に達する。これによって、弁体２０が、コイルスプリ
ング２２の付勢によって押し上げられ、隔壁１１ａに突
き当たって、開位置に達する。
【００２０】本発明は、上記の実施形態に限定されず種
々の形態を採用することができる。例えば、永久磁石２
１，３１どうしは、互いに吸引し合うようにしてもよ
い。この場合、弁室１０ａのコイルスプリング２２が、
弁体２０を閉位置に付勢するようにする。駆動機構は、
コイルスプリング３２を用いるのに代えて、上室部分１
０ｃと下室部分１０ｄとの一方に圧縮空気（圧力）を選
択的に供給するとともに、他方の室部分１０ｃ，１０ｄ
を大気開放するようにしてもよい。圧力付与手段は、圧
縮空気などの気体の他、油などの液体でもよい。本発明
は、リークテスタの閉鎖系の容積変更にも適用できる。
その場合、弁座部材１３に１つの通路１３ａだけを形成
しておき、この通路１３ａに、閉鎖系の通路を接続す
る。
々の形態を採用することができる。例えば、永久磁石２
１，３１どうしは、互いに吸引し合うようにしてもよ
い。この場合、弁室１０ａのコイルスプリング２２が、
弁体２０を閉位置に付勢するようにする。駆動機構は、
コイルスプリング３２を用いるのに代えて、上室部分１
０ｃと下室部分１０ｄとの一方に圧縮空気（圧力）を選
択的に供給するとともに、他方の室部分１０ｃ，１０ｄ
を大気開放するようにしてもよい。圧力付与手段は、圧
縮空気などの気体の他、油などの液体でもよい。本発明
は、リークテスタの閉鎖系の容積変更にも適用できる。
その場合、弁座部材１３に１つの通路１３ａだけを形成
しておき、この通路１３ａに、閉鎖系の通路を接続す
る。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、第１の発明は、弁
体とピストンとを接続する必要がなく、弁室とシリンダ
室とを隔壁で隔てているので、弁室に流入した空気など
の流体がシリンダ室に漏れることはない。第２の発明
は、ピストンスプリングと圧力付与手段とによってピス
トンを駆動させることができる。第３の発明は、常開の
弁装置を構成することができる。第４の発明は、常閉の
弁装置を構成することができる。
体とピストンとを接続する必要がなく、弁室とシリンダ
室とを隔壁で隔てているので、弁室に流入した空気など
の流体がシリンダ室に漏れることはない。第２の発明
は、ピストンスプリングと圧力付与手段とによってピス
トンを駆動させることができる。第３の発明は、常開の
弁装置を構成することができる。第４の発明は、常閉の
弁装置を構成することができる。
【図１】本発明の第１実施形態に係る弁装置の断面図で
ある。
ある。
【図２】本発明の第２実施形態に係る弁装置の断面図で
ある。
ある。
【図３】従来の弁装置の一例を示す断面図である。
Ｍ，Ｍ’ 弁装置 １０ 本体 １０ａ 弁室 １０ｂ シリンダ室 １１ａ 隔壁 １３ｃ 弁座 ２０ 弁体 ２１ 永久磁石（第１磁石） ２２ コイルスプリング（弁スプリング） ３０ ピストン ３１ 永久磁石（第２磁石） ３２ コイルスプリング（ピストンスプリング） ３５ 背圧源（圧力付与手段）
Claims (4)
- 【請求項１】（イ）弁室と、この弁室と非磁性の隔壁で
隔てられたシリンダ室とを有し、上記弁室において上記
隔壁に対向する面に弁座が形成された本体と、（ロ）上
記弁室に収容され、上記弁座に着座する閉位置と、上記
弁座から離れ上記隔壁に寄る開位置との間を摺動可能な
弁体と、（ハ）上記弁室に収容され、上記弁体を付勢す
る弁スプリングと、（ニ）上記シリンダ室に収容され、
駆動機構によって、上記隔壁に寄せられた接近位置と、
隔壁から離された離間位置との間を摺動可能なピストン
とを備え、上記弁体に第１磁石を設けるとともに、上記
ピストンに第２磁石を設け、 上記ピストンが上記離間位置に位置された時は、上記弁
スプリングの付勢力によって、上記弁体が、上記閉位置
または開位置の一方に位置され、 上記ピストンが上記接近位置に位置された時は、上記第
１、第２磁石間の磁力によって、上記弁体が、上記弁ス
プリングに抗して上記閉位置または開位置の他方に位置
されることを特徴とする弁装置。 - 【請求項２】 上記駆動機構が、上記シリンダ室に収容
されて上記ピストンを上記離間位置または接近位置の一
方に付勢するピストンスプリングと、このピストンスプ
リングに抗して上記ピストンに上記離間位置または接近
位置の他方に向かう圧力を付与する圧力付与手段とを有
していることを特徴とする請求項１に記載の弁装置。 - 【請求項３】 上記駆動機構が、上記シリンダ室に収容
されて上記ピストンを上記離間位置に付勢するピストン
スプリングと、上記ピストンに上記接近位置に向かう圧
力を付与する圧力付与手段とを有し、 この圧力付与手段による圧力付与の停止時には、上記ピ
ストンが、上記ピストンスプリングの付勢によって上記
離間位置に位置され、上記弁体が、上記弁スプリングの
付勢によって上記開位置に位置され、上記圧力付与手段
による圧力付与時には、上記ピストンが、上記圧力によ
って上記ピストンスプリングに抗して上記接近位置に位
置され、上記弁体が、上記第１、第２磁石の反発力によ
って上記閉位置に位置されることを特徴とする請求項１
に記載の弁装置。 - 【請求項４】 上記駆動機構が、上記シリンダ室に収容
されて上記ピストンを上記接近位置に付勢するピストン
スプリングと、上記ピストンに上記離間位置に向かう圧
力を付与する圧力付与手段とを有し、 この圧力付与手段による圧力付与の停止時には、上記ピ
ストンが、上記ピストンスプリングの付勢によって上記
接近位置に位置され、上記弁体が、上記第１、第２磁石
の反発力によって上記閉位置に位置され、 上記圧力付与手段による圧力付与時には、上記ピストン
が、上記圧力によって上記ピストンスプリングに抗して
上記離間位置に位置され、上記弁体が、上記弁スプリン
グの付勢によって上記開位置に位置されることを特徴と
する請求項１に記載の弁装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11191463A JP2001021060A (ja) | 1999-07-06 | 1999-07-06 | 弁装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11191463A JP2001021060A (ja) | 1999-07-06 | 1999-07-06 | 弁装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001021060A true JP2001021060A (ja) | 2001-01-26 |
Family
ID=16275076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11191463A Pending JP2001021060A (ja) | 1999-07-06 | 1999-07-06 | 弁装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001021060A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010516447A (ja) * | 2007-01-23 | 2010-05-20 | スプレイング システムズ カンパニー | 磁気的に作動される遮断弁を有する空気噴霧スプレーノズル |
| JP2017002939A (ja) * | 2015-06-05 | 2017-01-05 | Ckd株式会社 | 流体制御弁 |
-
1999
- 1999-07-06 JP JP11191463A patent/JP2001021060A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010516447A (ja) * | 2007-01-23 | 2010-05-20 | スプレイング システムズ カンパニー | 磁気的に作動される遮断弁を有する空気噴霧スプレーノズル |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060519 |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071206 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071211 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080422 |