JP2001015481A - エッチング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】基板周縁部におけるエッチングレートが低下す
ることなく、基板Ｗに対して均一なエッチング処理を行
うことのできるエッチング装置を提供する。 【解決手段】下部空間１６内のＨＦ蒸気を流路４０に案
内する流体案内部材を拡散板１４の周縁部下面に固設す
る。下部空間１６内において基板Ｗに対するエッチング
処理の終了したＨＦ蒸気が、拡散板１４の傾斜面に沿っ
て基板載置台１３側方の流路４０を通って流体排気口３
６に向かってスムーズに流れ、排気管３７から排出され
る。このため、処理後のＨＦ蒸気が基板周縁部上方に滞
留する事を防止でき、基板周縁部でのエッチングレート
が低下することなく基板Ｗに対して均一なエッチング処
理を施すことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用
マスク基板等の基板に対してふっ酸（ＨＦ）蒸気等のエ
ッチング用処理流体を供給して基板の処理面に形成され
た被膜を除去するエッチング装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図８は従来のエッチング装置の概略構成
を示す概略構成図である。図８において、エッチング装
置１００はＯリング１１９ａを介してフード１１１とフ
ード受け部１１２とにより形成されたチャンバー１２０
内に基板載置台１１３を備えている。そしてフード１１
１には、フード１１１の天板と基板載置台１１３とによ
り形成された処理空間を上部空間１１５と下部空間１１
６とに仕切る複数の流体通過口１２１が形成された拡散
板１１４が固設されている。

【０００３】また、フード１１１には上部空間１１５に
対してエッチング用処理流体としてふっ酸（以下、ＨＦ
と称す）蒸気を導入するための流体導入口１３１が形成
されており、流体導入口１３１と流体供給源１３８とが
流体導入管１３２により連通接続されている。そして、
流体導入管１３２には開閉弁１３３が取付けられてい
る。一方、フード受け部１１２には、チャンバー１２０
内のＨＦ蒸気をチャンバー１２０の外部に排出するため
の複数の、例えば２つの流体排気口１３６が形成されて
おり、流体排気口１３６と図示しない排気源とが排気管
１３７により連通接続されている。

【０００４】基板載置台１１３の上面には基板Ｗを保持
し、基板Ｗの周縁部に対応して、基板Ｗの位置決め及び
昇降を行う複数のピン１１７が配置されている。よって
複数のピン１１７は、基板Ｗ搬入時および搬出時には図
示しないピン昇降機構の駆動により昇降動作し、基板Ｗ
を昇降させる構成となっている。

【０００５】基板載置台１１３は、モータＭの回転軸１
１８の先端に水平に固定され、鉛直方向の軸周りで回転
駆動される。回転軸１１８は、フード受け部１１２を貫
通して回転動作を行うように設けられており、回転軸１
１８とフード受け部１１２との隙間はＯリング１１９ｂ
によってシールされている。

【０００６】また、基板載置台１１３の側方には、フー
ド１１１の内側壁と基板載置台１１３の側周部とにより
下部空間１１６内のＨＦ蒸気を流体排気口１３６に導く
ための流路１４０が形成されている。

【０００７】上述のようなエッチング装置１００におい
て、チャンバー１２０内への基板Ｗの搬入時およびチャ
ンバー１２０内からの基板Ｗの搬出時には、図示しない
フード昇降機構によりフード１１１が昇降してチャンバ
ー１２０が開閉される。そして図示しないピン昇降機構
の駆動によりピン１１７が昇降して図示しない基板Ｗ搬
送手段との間で基板Ｗの受渡しを行い、基板Ｗの搬入お
よび搬出が行われる。

【０００８】エッチング処理時には、まず基板Ｗがチャ
ンバー１２０内に搬入されて基板載置台１１３上に保持
され、フード１１１とフード受け部１１２により略密閉
状態の処理空間が形成される。そして、モータＭにより
基板載置台１１３が回転駆動され基板Ｗを所定の速度で
回転し、開閉弁１３３が開かれ流体供給源１３８より供
給されたＨＦ蒸気が流体導入管１３２を通って流体導入
口１３１から上部空間１１５に導入される。

【０００９】そして上部空間１１５に充満したＨＦ蒸気
は、拡散板１１４の流体通過口１２１を通過して下部空
間１１６に流入し、基板Ｗ表面に形成された被膜のエッ
チング処理が行われる。基板Ｗに対するエッチング処理
の終了したＨＦ蒸気は、流路１４０を通ってフード受け
部１１２に形成された流体排気口１３６に接続された排
気管１３７から図示しない排気源へと排気される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のエ
ッチング装置１００においては、エッチング処理継続中
に基板Ｗに対するエッチング処理を終了したＨＦ蒸気
が、流路１４０に向かうことなく下部空間１１６内でフ
ード１１１の内側壁面に沿って拡散板１１４下面近傍の
空間に滞留することがあった。特に、基板載置台１１３
を回転させながら基板Ｗのエッチング処理を行う場合に
は、下部空間１１６内において基板載置台１１３の回転
によって形成される回転中心から外方へ向かう気流によ
りＨＦ蒸気の滞留を助長する要因となっていた。

【００１１】このように、エッチング処理継続中にエッ
チング処理を終了したＨＦ蒸気が下部空間１１６内のフ
ード１１１の内側壁面に沿って、即ち基板Ｗの周縁部上
方に滞留すると、新たに供給される処理前の新鮮なＨＦ
蒸気がエッチング処理を終了して滞留するＨＦ蒸気と混
合されて処理前の新鮮なＨＦ蒸気の濃度が下がり、基板
Ｗ周縁部においてエッチング処理の進行している割合
（以下、エッチングレートと称す）が基板Ｗ中央部にお
けるエッチングレートと比較して低下するという弊害が
生じる。そのため、基板Ｗへのエッチング処理にむらが
発生し、基板Ｗの処理面全域にわたって均一なエッチン
グ処理を行うことができないという問題があった。

【００１２】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板Ｗ周縁部におけるエッチングレー
トが低下することなく、基板Ｗに対して均一なエッチン
グ処理を行うことのできるエッチング装置を提供するこ
とを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載のエッチング装置は、基板に形成さ
れた被膜に対してエッチング用処理流体を供給すること
により、被膜を除去するエッチング装置であって、水平
姿勢で基板を載置する基板載置台と、基板載置台上の上
方および周囲を覆うように配設され、基板を載置する基
板載置台の載置部との間に処理空間を形成するフード
と、処理空間にエッチング用処理流体を供給する処理流
体供給手段と、基板載置台の側周部と当該基板載置台の
側周部と対向するフードの内側壁面により形成され、処
理空間と排気管とを連通する流路とを備え、処理空間内
に、処理流体供給手段により処理空間に供給されたエッ
チング用処理流体を流路に案内する流体案内部材を備え
たことを特徴とするものである。

【００１４】また、請求項２に記載のエッチング装置
は、請求項１に記載のエッチング装置の構成において、
流体案内部材は、基板の中央寄りの位置からフードの内
側壁面にかけて流路に向かって傾斜する傾斜板よりなる
ことを特徴とするものである。

【００１５】また、請求項３に記載のエッチング装置
は、請求項２に記載のエッチング装置の構成において、
処理空間をエッチング用処理流体が導入される上部空間
と前記基板載置台を有する下部空間とに仕切り、エッチ
ング用処理流体を上部空間から下部空間に導く複数の流
体通過口を有する拡散板を備え、流体案内部材が拡散板
の下面に配置されたことを特徴とするものである。

【００１６】また、請求項４に記載のエッチング装置
は、請求項１に記載のエッチング装置の構成において、
処理空間をエッチング用処理流体が導入される上部空間
と基板載置台を有する下部空間とに仕切り、エッチング
用処理流体を上部空間から下部空間に導く複数の流体通
過口を有した拡散板を備え、流体案内部材は拡散板と兼
用され、基板中心部に対向する位置からフードの内側壁
面にかけて流路へ向かって傾斜する円錐体であることを
特徴とするものである。

【００１７】また、請求項５に記載のエッチング装置
は、基板に形成された被膜に対してエッチング用処理流
体を供給することにより、被膜を除去するエッチング装
置であって、水平姿勢で基板を載置する基板載置台と、
基板載置台上の上方および周囲を覆うように配設され、
基板を載置する基板載置台の載置部との間に処理空間を
形成するフードと、処理空間にエッチング用処理流体を
供給する処理流体供給手段と、基板載置台の側周部と当
該基板載置台の側周部と対向するフードの内側壁面によ
り形成され、処理空間と排気管とを連通する流路とを備
え、処理空間に供給されたエッチング用処理流体が処理
空間に滞留するのを制限する空間制限部材を処理空間に
配置したことを特徴とするものである。

【００１８】また、請求項６に記載のエッチング装置
は、請求項５に記載のエッチング装置の構成において、
処理空間をエッチング用処理流体が導入される上部空間
と基板載置台を有する下部空間とに仕切り、エッチング
用処理流体を上部空間から下部空間に導く複数の流体通
過口を有した拡散板があり、空間制限部材は、拡散板と
兼用され、空間制限部材の下部空間側の壁面が段差を有
し、基板端部近傍からフードの内側壁面にかけての壁面
が、基板中心部における壁面よりも載置台へ向かって突
出することを特徴とするものである。

【００１９】

【発明の実施形態】以下、図面を参照して本発明に係る
エッチング装置の第１の発明に係る第１の実施形態を説
明する。図１は本発明の第１の実施形態に係るエッチン
グ装置１を示す概略構成図である。

【００２０】エッチング装置１は、円筒状のフード１１
および円盤状のフード受け部１２からなるチャンバー２
０と、チャンバー２０内に配置され基板Ｗが載置される
基板載置台１３と、この基板載置台１３に連結された回
転軸１８およびモータＭからなる駆動手段５０と、前記
チャンバー２０内にエッチング用処理流体としてのＨＦ
蒸気および窒素ガスを供給する処理流体供給手段３０
と、そのＨＦ蒸気をチャンバー２０より排出する流体排
出機構６０とにより構成される。

【００２１】チャンバー２０は、円筒状のフード１１お
よび円盤状のフード受け部１２により平面視環状のＯリ
ング１９ａを介して装着し形成されている。フード１１
は、天板１１ａと天板１１ａの下面に延設される側壁１
１ｂとにより構成され、フード受け部１２と天板１１ａ
との間に処理空間を形成する。また、フード受け部１２
は、エッチング装置１の基台を構成し、その周縁が立壁
を有し、上面にＯリング１９ａが配置され、その上面に
フード１１の側壁１１ｂの下面が当接する。そして、フ
ード１１は図示しない開閉機構により昇降動作し、チャ
ンバー２０が開閉される。尚、フード１１およびフード
受け部１２の材質は、好ましくは酸化腐食を防止するた
めにフッ素樹脂、例えばテフロン（登録商標）がよい。

【００２２】基板載置台１３はその上面に基板Ｗを載置
する載置部１３ａを備え、水平姿勢で基板を載置する薄
板状の円柱形である。載置部１３ａには、基板Ｗの下面
を載置部１３ａに近接した状態で保持する図示しない複
数の球状スペーサが固設されている。また、載置部１３
ａの周縁部には、基板Ｗ搬入時および搬出時には図示し
ない基板昇降機構の駆動により基板Ｗの端部および裏面
周縁部を保持して基板Ｗを昇降させ、且つ、基板Ｗ処理
時には載置部１３ａ上に載置された基板Ｗの端部に当接
して位置決めを行う複数の、例えば３本のピン１７が配
置されている。

【００２３】駆動手段５０は、上端部に基板載置台１３
を水平に固定される回転軸１８と、回転軸１８を介して
基板載置台１３を鉛直方向の軸周りで回転駆動するモー
タＭとよりなる。回転軸１８は、フード受け部１２を貫
通して回転動作を行うように設けられており、回転軸１
８とフード受け部１２との隙間は平面視環状のＯリング
１９ｂによってシールされている。

【００２４】処理流体供給手段３０は、フード１１の側
壁１１ｂの上部に開孔された流体導入口３１と、流体導
入口３１に連通される流体導入管３２と、ＨＦ蒸気供給
源３８と、窒素ガス供給源３９とを有する。

【００２５】流体導入口３１は、図１のＡ―Ａ矢視断面
図である図２に示すようにフード１１の側壁１１ｂの上
部に単一の流体通過口で形成されている。そして、流体
導入口３１とＨＦ蒸気供給源３８、及び窒素ガス供給源
３９とはそれぞれ流体導入管３２の上流側である分岐管
３２ａおよび分岐管３２ｂによって連通接続されてお
り、ＨＦ蒸気供給源３８、窒素ガス供給源３９により供
給された各種流体がチャンバー２０の処理空間に導入さ
れる。そして分岐管３２ａと分岐管３２ｂとの分岐部分
よりも上流側に開閉弁３３と開閉弁３４が介装されてい
る。

【００２６】開閉弁３３、開閉弁３４をともに閉にする
と上部空間１５内へＨＦ蒸気および窒素ガスの導入が行
われず、開閉弁３４を開にし、開閉弁３３を閉にすれば
上部空間１５内へ窒素ガスが導入され、開閉弁３４を閉
にし、開閉弁３３を開にすれば上部空間１５内へＨＦ蒸
気が導入される。

【００２７】流体排出機構６０は、チャンバー２０の処
理空間の雰囲気を排気する流体排気口３６と、この流体
排気口３６に配設された流体排気管３７、および流体排
気管３７に図示しない排気手段が介装され構成される。

【００２８】流体排気口３６は、図２に点線で示すよう
にフード受け部１２の周縁部に離間して２つ形成されて
いる。そして、各流体排気口３６は排気管３７を介して
図示しない排気手段により吸引されている。よって下部
空間１６供給されたＨＦ蒸気を微少な排気圧で下方へ排
気すべく排気手段は排気管３７を介して各流体排気口３
６に作用する。

【００２９】次にチャンバー２０内の構成について説明
する。チャンバー２０内においては、基板載置台１３の
側周部と、この側周部と対向するフード１１の側壁１１
ｂの内側壁面とにより、処理空間と流体排気管３７とを
連通する流路４０が形成されている。そして処理空間に
供給されたエッチング用処理流体は、図２に示すように
この基板載置台１３の全周にわたって形成される流路４
０を通過して図示しない排気手段により流体排気管３７
から排気される。

【００３０】更にフード１１の側壁１１ｂの内側壁面に
は、平面視で円盤状の拡散板１４が付設されている。拡
散板１４は、図３にその全体を示すようにチャンバー２
０内の処理空間をエッチング用処理流体が導入される上
部空間１５と、基板載置台１３を備えた下部空間１６と
に仕切る板体から構成される。そして、エッチング用処
理流体を上部空間１５から下部空間１６に導く複数の通
過口２１を有し、エッチング用処理流体を基板Ｗ全面に
向かって拡散し、均一に供給するよう構成されている。

【００３１】拡散板１４の下面には、傾斜板Ｓ１が取り
付けられている。傾斜板Ｓ１は図３に全体図を示すよう
に基板Ｗの端部よりも基板Ｗの中央寄りにわずかに対向
する位置からフード１１の側壁１１ｂの内側壁面にかけ
て、流路４０に向かって傾斜する断面形状を有し、かつ
平面視で環状の上端が開放した円すい体で構成される。
この傾斜板Ｓ１は、例えば、基板Ｗ端部から２０ｍｍか
ら３０ｍｍ基板Ｗの中央寄りの位置からフード１１の側
壁１１ｂの内側壁面にかけて配置するのがよい。上記実
施形態においては、この傾斜板Ｓ１が本願発明の流体案
内部材に相当する。

【００３２】次に、上記構成を有する第１の実施形態の
エッチング装置１におけるエッチング処理時の動作につ
いて説明する。チャンバー２０内に基板Ｗが搬入される
と、モータＭにより回転軸１８を介して基板載置台１３
が所定の速度で図２に示す矢印Ｙ方向に鉛直軸周りで回
転駆動され、基板Ｗが所定の速度で回転を開始する。

【００３３】次に開閉弁３４を開にし、窒素ガス供給源
３９からプリパージ用ガスとしての窒素ガスを分岐管３
２ｂを介して流体導入口３１からチャンバー２０の上部
空間１５内に導入してチャンバー２０内を窒素ガス雰囲
気とする。チャンバー２０内が窒素ガス雰囲気になる
と、開閉弁３４を閉にして窒素ガスの供給を停止する。

【００３４】続いて開閉弁３３を開にしてＨＦ蒸気供給
源３８からＨＦ蒸気が上部空間１５内に導入される。こ
の時、ＨＦ蒸気は図２に示すように基板載置台１３の回
転方向を示す矢印Ｙとは逆方向の矢印Ｘに沿った周方向
の流れを形成するように上部空間１５内に導入される。
やがて上部空間１５内に充満したＨＦ蒸気が、拡散板１
４に形成された複数の流体通過口２１を通過して下部空
間１６内に流入し、下部空間１６内に充満する。そして
下部空間１６内に充満したＨＦ蒸気が基板Ｗ表面に形成
された被膜のエッチング処理を行う。

【００３５】下部空間１６内において基板Ｗ表面に形成
された被膜のエッチング処理の終了したＨＦ蒸気は、流
体排出機構６０により流路４０へ吸引されることとなる
が、下部空間１６内において、そのＨＦ蒸気の流れは拡
散板１４の下壁面から傾斜板Ｓ１の傾斜面に沿って基板
Ｗ周縁部上方の領域に滞留せずスムーズに流路４０に流
入し、流体排気口３６に向かって流れ、流体排気管３７
へ排出される。

【００３６】その後、所定時間が経過すると、開閉弁３
３を閉にして上部空間１５へのＨＦ蒸気の供給が停止さ
れる。上部空間１５内へのＨＦ蒸気の供給が停止される
と、次に再び開閉弁３４を開にして上部空間１５内にリ
ンス用ガスとしての窒素ガスを導入して上部空間１５お
よび下部空間１６を含むチャンバー２０内を窒素ガス雰
囲気に置換する。

【００３７】チャンバー２０内の窒素ガス雰囲気への置
換が終了すると、開閉弁３４を閉にして上部空間１５へ
の窒素ガスの供給が停止される。そしてモータＭが停止
して基板載置台１３の回転が停止される。

【００３８】そして、図示しない開閉機構によりフード
１１が上昇し、また、図示しない基板昇降機構の上昇駆
動によりピン１７が上昇して、ピン１７に支持された基
板Ｗが図示しない基板搬送手段に受け渡され、チャンバ
ー２０外に搬出されて処理が終了する。上記動作を繰り
返して基板Ｗへのエッチング処理が次々に行われてい
く。

【００３９】このように拡散板１４に、基板Ｗ周縁部に
対向する位置よりもわずかに基板Ｗ中央部側の位置から
フード１１の側壁１１ｂの内側壁面にかけて下方に向け
て傾斜する断面形状を有する傾斜板Ｓ１を固設すること
により、下部空間１６内において、基板Ｗ表面に形成さ
れた被膜のエッチング処理の終了したＨＦ蒸気が、傾斜
板Ｓ１に沿って基板載置台１３側方の流路４０に向かっ
てスムーズに流れる。即ち、下部空間１６内のＨＦ蒸気
は図示しない排気手段による吸引と、基板載置台１３の
回転による基板中心から外方へ向かう気流により流路４
０へ案内される。この時傾斜板Ｓ１がない場合、ＨＦ蒸
気はフード１１の側壁１１ｂの内側壁面に当接し、基板
Ｗ周縁部の上方に、言い換えると拡散板１４下壁面に沿
って渦を巻いて滞留する。しかしながら、傾斜板Ｓ１を
備えると、ＨＦ蒸気は滞留することなく速やかに流路４
０へ案内される。従って、エッチング処理後のＨＦ蒸気
が基板Ｗ周縁部の上方に滞留することを効果的に防止で
きる。

【００４０】次に、本発明に係るエッチング装置の第２
の実施形態を図４および図５を参照して説明する。図４
は第１の発明に係る第２の実施形態のエッチング装置２
を示す概略構成図である。なお、この第２の実施形態に
おいて第１の実施形態と異なるのは流体案内部材の構成
のみであり、それ以外の構成、および処理動作は上述し
た第１の実施形態と同様であるので、共通する部分は図
１と同一の符号を付してその説明は省略する。

【００４１】この第２の実施形態においては、図４およ
び図５に示すように流体案内部材Ｐ１は、基板Ｗ中心部
に対向する位置からフード１１の側壁１１ｂの内側壁面
にかけて流路４０へ向かって傾斜する円錐体形状とす
る。また、流体案内部材Ｐ１には、複数の流体通過口２
１が穿設され、処理流体の拡散機能をも有する。即ち、
流体案内部材Ｐ１は第１の実施形態における拡散板１４
と兼用して構成されている。このように流体案内部材Ｐ
１を図５に全体を示すような形状としたことにより、下
部空間１６内において基板Ｗ表面に形成された被膜のエ
ッチング処理の終了したＨＦ蒸気が、流体案内部材Ｐ１
下壁面の傾斜面に沿って基板載置台１３側方の流路４０
に向かってスムーズに流れ、流路４０を通って流体排気
口３６から排気管３７へ排出される。従って、エッチン
グ処理後のＨＦ蒸気が基板Ｗ周縁部の上方に滞留するこ
とを防止できる。また、拡散板を別途設ける必要がない
ので、構成が簡略化される。

【００４２】次に、第２の発明に係るエッチング装置３
の実施形態について図６および図７を参照して説明す
る。図６はエッチング装置３を示す概略構成図である。
なお、この第２の発明の実施形態において第１の発明の
実施形態と共通する部分は図１と同一の符号を付してそ
の説明は省略する。尚、主に異なるのは空間制限部材Ｐ
２の構成のみであり、それ以外の構成、および処理動作
は上述した第１の実施形態と同様である。

【００４３】図６に示すように空間制限部材Ｐ２は、下
部空間１６側の壁面が段差を有し、基板Ｗ端部近傍から
フード１１の側壁１１ｂの内側壁面にかけての壁面Ｐ２
１が、基板Ｗ中心部における壁面Ｐ２２よりも載置台１
３へ向かって突出する構成となっている。また、図７に
全体を示すように空間制限部材Ｐ２には、複数の流体通
過口２１が穿設され、処理流体の拡散機能をも有する。
即ち、空間制限部材Ｐ２は、第１の実施形態における拡
散板１４と兼用して構成されている。このように、空間
制限部材Ｐ２を図６および図７のような形状としたこと
により、下部空間１６におけるフード１１の側壁１１ｂ
の内側壁面近傍の空間が縮小され、下部空間１６内にお
いて基板Ｗ表面に形成された被膜のエッチング処理の終
了したＨＦ蒸気が、基板Ｗ端部近傍の上方に滞留するこ
とが制限され防止できる。即ち、この第２の発明におい
ては、ＨＦ蒸気が滞留する領域を制限することで、ＨＦ
蒸気のスムーズな流れを形成するものである。

【００４４】なお、上記第１および第２の実施形態にお
いては各流体案内部材は下部空間１６に対向する面を断
面で直線状としたが、本発明の実施形態としてはこれに
限らず、例えば流体案内部材が放物線等の曲線形状を有
する板部材であるとしてもよく、その他チャンバー２０
の処理空間に供給されたエッチング用処理流体を流路４
０にスムーズに案内できる面形状であればよい。また、
流体案内部材は板部材に限定される必要はなく、例えば
ブロック状としてもよい。

【００４５】また、上記第２の実施形態においては、拡
散板の機能を兼用する流体案内部材Ｐ１が基板Ｗ中心部
に対向する位置からフード１１の側壁１１ｂの内側壁面
にかけて流路４０に向かって傾斜する構成としたが、流
体案内部材Ｐ１は基板Ｗ中心部に対向する部位に水平部
を有し、基板Ｗ中心部よりも基板端部寄りに対向する位
置からフード１１の側壁１１ｂの内側壁面にかけて流路
４０に向かって傾斜する構成としてもよい。

【００４６】また、上記第３の実施形態においては空間
制限部材は図６のような構成としたが、本発明の実施形
態としてはこれに限定されるものではなく、複数の段差
を有する形状としてもよい。この場合、基板Ｗ端部近傍
からフード１１の側壁１１ｂの内側壁面にかけて鉛直方
向の設置高さが、基板Ｗ中心部における設置高さよりも
低くなるように複数の段差を形成するのがよい。

【００４７】また、上記第３の実施形態においては空間
制限部材に拡散板の機能をもたせて同一部材としたが、
拡散板下面に空間制限部材を設置するようにそれぞれ別
部材により構成してもよい。

【００４８】さらに、上記各実施形態においては、それ
ぞれチャンバー２０内の処理空間を上部空間１５と下部
空間１６に区画するエッチング装置について説明した
が、本発明の実施形態としてはこれに限定されるもので
はなく、上部空間１５を備えずに、流体案内部材または
空間制限部材のみを備えた構成としてもよい。その場合
好ましくは、例えばチャンバー２０内において基板Ｗに
対向する位置に複数の流体導入管を配置してエッチング
用処理流体を供給する等、エッチング用処理流体を基板
Ｗ全面に均一に供給できる構成とするのがよい。

【００４９】また、上記各実施形態によると、エッチン
グ処理時において基板載置台１３を回転させながら回転
中の基板Ｗに対してエッチング処理を行う構成とした
が、静止状態の基板Ｗに対してエッチング処理を行なう
構成としてもよい。

【００５０】また、上記各実施形態では、エッチング処
理時の基板Ｗに対して特に温度調整を行っていないが、
例えば基板載置台１３内にヒータ等の加熱手段、または
冷却手段を埋設して基板Ｗに対して温調処理を行いなが
らエッチング処理を行なう構成としてもよい。

【００５１】

【発明の効果】請求項１に係る発明のエッチング装置に
よると、処理空間内に、処理流体供給手段により処理空
間に供給されたエッチング用処理流体を流路に案内する
流体案内部材を備えたことにより、エッチング処理の継
続中に下部空間において基板に対するエッチング処理を
終了したエッチング用処理流体が基板端部近傍の上方に
滞留することを防止できる。そのため、基板端部近傍の
上方にある処理前の新鮮なＨＦ蒸気がエッチング処理の
終了したＨＦ蒸気と混合されて処理前の新鮮なＨＦ蒸気
の濃度が下がることを防止できる。その結果、基板Ｗ周
縁部におけるエッチングレートが基板中央部におけるエ
ッチングレートと比較して低下することなく基板の処理
面全域にわたって均一なエッチング処理を行うことがで
きる。

【００５２】請求項２に係る発明のエッチング装置によ
ると、流体案内部材は、基板の中央寄りの位置からフー
ドの内側壁面にかけて流路に向かって傾斜する傾斜板よ
りなる流体案内部材を傾斜板により構成することによ
り、簡易な構成で請求項１の効果を奏することができ
る。

【００５３】請求項３に記載のエッチング装置は、請求
項２に記載のエッチング装置の構成において、処理空間
をエッチング用処理流体が導入される上部空間と前記基
板載置台を有する下部空間とに仕切り、エッチング用処
理流体を上部空間から下部空間に導く複数の流体通過口
を有する拡散板を備え、流体案内部材が拡散板の下面に
配置された構成とすることにより、上述の請求項１およ
び請求項２の効果に加えて、基板全面に対してエッチン
グ用処理流体を均一に供給することができる。

【００５４】請求項４に記載のエッチング装置は、請求
項１に記載のエッチング装置の構成において、処理空間
をエッチング用処理流体が導入される上部空間と基板載
置台を有する下部空間とに仕切り、エッチング用処理流
体を上部空間から下部空間に導く複数の流体通過口を有
した拡散板を備え、流体案内部材は拡散板と兼用され、
基板中心部に対向する位置からフードの内側壁面にかけ
て流路へ向かって傾斜する円錐体である構成としたこと
により、より簡易な構成で基板Ｗ周縁部におけるエッチ
ングレートが基板中央部におけるエッチングレートと比
較して低下することなく基板の処理面全域にわたって均
一なエッチング処理を行うことができる。

【００５５】請求項５に係る発明のエッチング装置によ
ると、処理空間に供給されたエッチング用処理流体が処
理空間に滞留するのを制限する空間制限部材を処理空間
に配置したことにより、フード内側壁面近傍の空間が縮
小されるため、エッチング処理の継続中に下部空間にお
いて基板に対するエッチング処理を終了したエッチング
用処理流体がフード内側壁面近傍に滞留することを防止
し、処理後のエッチング用処理流体を流路へ排気するこ
とができる。そのため、基板端部近傍の上方にある処理
前の新鮮なエッチング用処理流体がエッチング処理の終
了したエッチング用処理流体と混合されて処理前の新鮮
なエッチング用処理流体の濃度が下がることを防止でき
る。その結果、基板周縁部におけるエッチングレートが
基板中央部におけるエッチングレートと比較して低下す
ることなく基板の処理面全域にわたって均一なエッチン
グ処理を行うことができる。

【００５６】請求項６に係る発明のエッチング装置によ
ると、請求項５に記載のエッチング装置であって、処理
空間をエッチング用処理流体が導入される上部空間と基
板載置台を有する下部空間とに仕切り、エッチング用処
理流体を上部空間から下部空間に導く複数の流体通過口
を有した拡散板があり、空間制限部材は、拡散板と兼用
され、下部空間側の壁面が段差を有し、空間制限部材の
基板端部近傍からフードの内側壁面にかけての壁面が、
基板中心部における壁面よりも載置台へ向かって突出す
る構成としたことにより、より簡易な構成で請求項５の
効果を奏することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施形態におけるエッチング装置の構成
を示す概略構成図である。

【図２】第１の実施形態における上部空間内での処理流
体の流れを示す図１におけるＡ―Ａ矢視断面図である。

【図３】第１の実施形態における拡散板と傾斜板の形状
を示す分解斜視図である。

【図４】第２の実施形態におけるエッチング装置の構成
を示す概略構成図である。

【図５】第２の実施形態における流体案内部材の形状を
示す斜視図である。

【図６】第３の実施形態におけるエッチング装置の構成
を示す概略構成図である。

【図７】第３の実施形態における空間制限部材の形状を
示す斜視図である。

【図８】従来のエッチング装置の構成を示す概略構成図
である。

【符号の説明】

１、２、３、１００ エッチング装置 １１、１１１ フード １２、１１２ フード受け部 １３、１１３ 基板載置台 １４、１１４ 拡散板 １５、１１５ 上部空間 １６、１１６ 下部空間 ２０、１２０ チャンバー ３０ 処理流体供給手段 ３１、１３１ 流体導入口 ３２ａ、１３２ａ 流体導入管 ３２ｂ、１３２ｂ 分岐管 ３３、３４、１３３、１３４ 開閉弁 ３６、１３６ 流体排気口 ３７、１３７ 排気管 ３８ ＨＦ蒸気供給源 ４０、１４０ 流路 Ｗ 基板 Ｓ１ 傾斜板 Ｐ１ 流体案内部材 Ｐ２ 空間制限部材

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項1】基板に形成された被膜に対してエッチング
   用処理流体を供給することにより、前記被膜を除去する
   エッチング装置であって、 水平姿勢で基板を載置する基板載置台と、 前記基板載置台上の上方および周囲を覆うように配設さ
   れ、基板を載置する前記基板載置台の載置部との間に処
   理空間を形成するフードと、 前記処理空間に前記エッチング用処理流体を供給する処
   理流体供給手段と、 前記基板載置台の側周部と当該基板載置台の側周部と対
   向する前記フードの内側壁面により形成され、前記処理
   空間と排気管とを連通する流路と、を備え、 前記処理空間内に、前記処理流体供給手段により当該処
   理空間に供給されたエッチング用処理流体を前記流路に
   案内する流体案内部材を備えたことを特徴とするエッチ
   ング装置。
2. 【請求項２】請求項１に記載のエッチング装置におい
   て、 前記流体案内部材は、基板の中央寄りの位置から前記フ
   ードの内側壁面にかけて前記流路に向かって傾斜する傾
   斜板よりなることを特徴とするエッチング装置。
3. 【請求項３】請求項２に記載のエッチング装置におい
   て、 前記処理空間を前記エッチング用処理流体が導入される
   上部空間と前記基板載置台を有する下部空間とに仕切
   り、前記エッチング用処理流体を上部空間から下部空間
   に導く複数の流体通過口を有する拡散板を備え、前記流
   体案内部材が前記拡散板の下面に配置されたことを特徴
   とするエッチング装置。
4. 【請求項４】請求項１に記載のエッチング装置におい
   て、 前記処理空間を前記エッチング用処理流体が導入される
   上部空間と前記基板載置台を有する下部空間とに仕切
   り、前記エッチング用処理流体を上部空間から下部空間
   に導く複数の流体通過口を有した拡散板を備え、前記流
   体案内部材は前記拡散板と兼用され、基板中心部に対向
   する位置から前記フードの内側壁面にかけて前記流路へ
   向かって傾斜する円錐体であることを特徴とするエッチ
   ング装置。
5. 【請求項５】基板に形成された被膜に対してエッチング
   用処理流体を供給することにより、前記被膜を除去する
   エッチング装置であって、 水平姿勢で基板を載置する基板載置台と、 前記基板載置台上の上方および周囲を覆うように配設さ
   れ、基板を載置する前記基板載置台の載置部との間に処
   理空間を形成するフードと、 前記処理空間に前記エッチング用処理流体を供給する処
   理流体供給手段と、 前記基板載置台の側周部と当該基板載置台の側周部と対
   向する前記フードの内側壁面により形成され、前記処理
   空間と排気管とを連通する流路と、を備え、 前記処理空間内に供給されたエッチング用処理流体が前
   記処理空間に滞留するのを制限する空間制限部材を前記
   処理空間に配置したことを特徴とするエッチング装置。
6. 【請求項６】請求項５に記載のエッチング装置におい
   て、 前記処理空間を前記エッチング用処理流体が導入される
   上部空間と前記基板載置台を有する下部空間とに仕切
   り、前記エッチング用処理流体を上部空間から下部空間
   に導く複数の流体通過口を有した拡散板があり、前記空
   間制限部材は、前記拡散板と兼用され、前記空間制限部
   材の下部空間側の壁面が段差を有し、基板端部近傍から
   前記フードの内側壁面にかけての壁面が、基板中心部に
   おける壁面よりも載置台へ向かって突出することを特徴
   とするエッチング装置。