CN113088930A - 气体供给构造和基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供能够调整气体的指向性的气体供给构造和基板处理装置。本公开的一形态的气体供给构造向基板处理装置的处理容器内供给气体，该气体供给构造具有：气体供给构件；以及气体喷出部，其形成于所述气体供给构件，该气体喷出部包括贯穿所述气体供给构件的多个贯通孔，所述多个贯通孔在所述气体供给构件的所述气体的出口侧汇合。

Description

气体供给构造和基板处理装置
技术领域
本公开涉及气体供给构造和基板处理装置。
背景技术
公知有如下热处理装置：通过将在上下方向上呈搁板状排列并保持有多个基板的基板保持件送入纵型的反应容器内，并从气体喷射器向反应容器内供给成膜气体，从而对多个基板进行热处理(例如，参照专利文献1)。气体喷射器具备：筒状的喷射器主体，其配置为在反应容器内沿上下方向延伸；和筒状的气体导入管，其沿着上下方向以与喷射器主体成为一体的方式设置。在喷射器主体沿着上下方向形成有多个气体供给孔。气体导入管具备接受成膜气体的下部侧的气体接受口和与喷射器主体的内部空间连通并向该内部空间导入成膜气体的气体导入口。
专利文献1：日本特开2018-81956号公报
发明内容
发明要解决的问题
本公开提供能够调整气体的指向性的技术。
用于解决问题的方案
本公开的一技术方案的气体供给构造向基板处理装置的处理容器内供给气体，该气体供给构造具有：气体供给构件；以及气体喷出部，其形成于所述气体供给构件，该气体喷出部包括贯穿所述气体供给构件的多个贯通孔，所述多个贯通孔在所述气体供给构件的所述气体的出口侧汇合。
发明的效果
根据本公开，能够调整气体的指向性。
附图说明
图1是表示第1实施方式的基板处理装置的结构例的图。
图2是表示气体供给管的一例的图。
图3是表示气体供给管的另一例的图。
图4是表示气体供给管的其他一例的图。
图5是表示气体供给管的其他一例的图。
图6是表示气体供给管的其他一例的图。
图7是表示气体供给管的其他一例的图。
图8是用于说明从气体供给管喷出的气体的指向性的图。
图9是表示第2实施方式的基板处理装置的结构例的图。
图10是表示喷淋头的一例的图。
图11是表示第3实施方式的基板处理装置的结构例的图。
图12是表示从气体供给管喷出的气体的指向性的模拟结果的图。
具体实施方式
以下，一边参照附图，一边对本公开的非限定性的例示的实施方式进行说明。在全部附图中，对相同或相对应的构件或部件标注相同或相对应的附图标记，并省略重复的说明。
[第1实施方式]
(基板处理装置)
参照图1，对第1实施方式的基板处理装置的结构例进行说明。图1是表示第1实施方式的基板处理装置的结构例的图。
基板处理装置1是对多个基板W一并执行成膜处理、蚀刻处理等各种处理的装置。基板可以是例如硅晶圆等半导体晶圆。基板处理装置1具有用于收纳基板W的处理容器10。
处理容器10具有下端开放的有顶的大致圆筒形状的内管12和下端开放并覆盖内管12的外侧的有顶的大致圆筒形状的外管14。内管12和外管14由石英等耐热性材料形成，呈同轴状配置而成为双重管构造。相对于处理容器10内送入送出在上下方向上具有间隔地大致水平地保持多个基板W的基板保持件16。
内管12的顶部例如成为平坦。在内管12的一侧沿着其长度方向(上下方向)形成有用于收纳气体喷嘴的喷嘴收纳部18。对于喷嘴收纳部18，使内管12的侧壁的局部朝向外侧突出而形成凸部20，将凸部20内形成为喷嘴收纳部18。此外，在内管12的与喷嘴收纳部18相对的相反侧的侧壁沿着其长度方向(上下方向)形成有开口22。
开口22是形成为能够对内管12内的气体进行排气的气体排气口。开口22的长度形成为与基板保持件16的长度相同或长于基板保持件16的长度且分别向上下方向延伸。
处理容器10的下端被例如由不锈钢形成的大致圆筒形状的歧管30支承。在歧管30的上端形成有凸缘部32，在凸缘部32上设置并支承外管14的下端。使O形密封圈等密封构件34介于凸缘部32和外管14的下端之间而使外管14内成为气密状态。
在歧管30的内壁设有圆环状的支承部36。支承部36支承内管12的下端。在歧管30的下端的开口隔着O形密封圈等密封构件40气密地安装有盖部38，该盖部38气密地堵塞处理容器10的下端的开口侧即歧管30的开口。盖部38例如由不锈钢形成。
在盖部38的中央部隔着磁性流体密封部42贯穿地设有旋转轴44。旋转轴44的下部旋转自如地支承于由舟皿升降机形成的升降机构46的臂48，并利用电动机旋转。
在旋转轴44的上端设有旋转板50。在旋转板50上隔着石英制的保温台52载置用于保持基板W的基板保持件16。因而，通过使升降机构46升降而使盖部38和基板保持件16作为一体地上下移动，能够相对于处理容器10内送入送出基板保持件16。
气体供给部60设于歧管30，向内管12内导入成膜气体、蚀刻气体、吹扫气体等各种气体。气体供给部60具有多个(例如3根)长度不同的石英制的气体喷嘴62、64、66。各气体喷嘴62、64、66在内管12内沿着其长度方向设置，并且其基端部弯折成字母L状并以贯穿歧管30的方式被支承。气体喷嘴62、64、66设置为在内管12的喷嘴收纳部18内沿着周向成为一列。
在内管12内的上部，在气体喷嘴62沿着其长度方向以规定的间隔形成有多个气体喷出部62A。各气体喷出部62A设于内管12的中心侧，向内管12内喷出气体。但是，各气体喷出部62A也可以设于内管12的壁面侧。另外，后述气体喷出部62A的详细内容。
在内管12内的中央部，在气体喷嘴64沿着其长度方向以规定的间隔形成有多个气体喷出部64A。各气体喷出部64A设于内管12的中心侧，向内管12内喷出气体。但是，各气体喷出部64A也可以设于内管12的壁面侧。另外，后述气体喷出部64A的详细内容。
在内管12内的下部，在气体喷嘴66沿着其长度方向以规定的间隔形成有多个气体喷出部66A。各气体喷出部66A设于内管12的中心侧，向内管12内喷出气体。但是，各气体喷出部66A也可以设于内管12的壁面侧。另外，后述气体喷出部66A的详细内容。
如此，由于气体供给部60具有向高度方向上的不同的位置供给气体的气体喷嘴62、64、66，因此，能够向内管12内的上部、中央部、下部分别独立地喷出气体。
在歧管30的上部的侧壁且是支承部36的上方形成有气体出口70，成为能够经由内管12和外管14之间的空间部72对自开口22排出的内管12内的气体进行排气。在气体出口70设有排气机构74。排气机构74包括排气通路76、压力调整阀78和真空泵80。排气通路76与气体出口70连接。压力调整阀78和真空泵80设于排气通路76中，用于一边控制处理容器10内的压力一边对处理容器10内进行排气。
在外管14的外周侧以覆盖外管14的方式设有大致圆筒形状的加热部90。加热部90用于加热基板W。
此外，在基板处理装置1设有控制部95。控制部95例如是计算机，具备CPU(CentralProcessing Unit：中央处理单元)、RAM(Random Access Memory：随机存取存储器)、ROM(Read Only Memory：只读存储器)以及辅助存储装置等。CPU基于存储在ROM或辅助存储装置的程序而动作，来控制基板处理装置1的动作。控制部95既可以设于基板处理装置1的内部，也可以设于外部。
(气体供给管)
参照图2～图7，对能够用作图1的基板处理装置1的气体喷嘴62、64、66的气体供给管的结构例进行说明。
图2是表示气体供给管的一例的图。图2的(a)是从正面观察贯通孔而得到的图，图2的(b)是表示气体供给管的纵截面的图，图2的(c)是表示气体供给管的横截面的图。
气体供给管110具有管状构件111和气体喷出部112。
管状构件111在处理容器内沿着该处理容器的长度方向设置。管状构件111在内部形成气体流路F。在本例中，管状构件111的截面形状为圆形。但是，管状构件111的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。管状构件111例如由石英形成。
气体喷出部112沿着管状构件111的轴向(以下，也简称为“轴向”)具有间隔地形成有多个。各气体喷出部112包括贯穿管状构件111的管壁的两个贯通孔112a、112b。
贯通孔112a、112b是使在形成于管状构件111内的气体流路F中流动的气体向管状构件111外喷出的气体孔。贯通孔112a和贯通孔112b在气体的入口侧(管状构件111的内壁侧)在管状构件111的轴向(铅垂方向)上分开，并在气体的出口侧(管状构件111的外壁侧)汇合。换言之，贯通孔112a和贯通孔112b从管状构件111的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件111的轴向上向不同的方向延伸，并在管状构件111的外壁侧汇合。在图2所示的例子中，贯通孔112a从管状构件111的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件111的轴向上从上方向下方延伸。此外，贯通孔112b从管状构件111的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件111的轴向上从下方向上方延伸。而且，贯通孔112a和贯通孔112b在管状构件111的外壁侧汇合。
在本例中，贯通孔112a、112b的截面形状为圆形。但是，贯通孔112a、112b的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。
图3是表示气体供给管的另一例的图。图3的(a)是从正面观察贯通孔而得到的图，图3的(b)是表示气体供给管的纵截面的图，图3的(c)是表示气体供给管的横截面的图。
气体供给管120具有管状构件121和气体喷出部122。
管状构件121在处理容器内沿着该处理容器的长度方向设置。管状构件121在内部形成气体流路F。在本例中，管状构件121的截面形状为圆形。但是，管状构件121的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。管状构件121例如由石英形成。
气体喷出部122沿着管状构件121的轴向(以下，也简称为“轴向”)具有间隔地形成有多个。各气体喷出部122包括贯穿管状构件121的管壁的两个贯通孔122a、122b。
贯通孔122a、122b是使在形成于管状构件121内的气体流路F中流动的气体向管状构件121外喷出的气体孔。贯通孔122a和贯通孔122b在气体的入口侧(管状构件121的内壁侧)在与管状构件121的轴向垂直的方向(水平方向)上分开，并在气体的出口侧(管状构件121的外壁侧)汇合。换言之，贯通孔122a和贯通孔122b从管状构件121的内壁侧朝向外壁侧而在与管状构件121的轴向垂直的方向上向不同的方向延伸，并在管状构件121的外壁侧汇合。在图3所示的例子中，贯通孔122a从管状构件121的内壁侧朝向外壁侧而在与管状构件121的轴向垂直的方向上向贯通孔122b的方向延伸。此外，贯通孔122b从管状构件121的内壁侧朝向外壁侧而在与管状构件121的轴向垂直的方向上向贯通孔122a的方向延伸。而且，贯通孔122a和贯通孔122b在管状构件121的外壁侧汇合。
在本例中，贯通孔122a、122b的截面形状为圆形。但是，贯通孔122a、122b的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。
图4是表示气体供给管的其他一例的图。图4的(a)是从正面观察贯通孔而得到的图，图4的(b)是表示气体供给管的纵截面的图，图4的(c)是表示气体供给管的横截面的图。
气体供给管130具有管状构件131和气体喷出部132。
管状构件131在处理容器内沿着该处理容器的长度方向设置。管状构件131在内部形成气体流路F。在本例中，管状构件131的截面形状为圆形。但是，管状构件131的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。管状构件131例如由石英形成。
气体喷出部132沿着管状构件131的轴向(以下，也简称为“轴向”)具有间隔地形成有多个。各气体喷出部132包括贯穿管状构件131的管壁的三个贯通孔132a、132b、132c。
贯通孔132a、132b、132c是使在形成于管状构件131内的气体流路F中流动的气体向管状构件131外喷出的气体孔。贯通孔132a、贯通孔132b以及贯通孔132c在气体的入口侧(管状构件131的内壁侧)互相分开，并在气体的出口侧(管状构件131的外壁侧)汇合。换言之，贯通孔132a和贯通孔132b从管状构件131的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件131的轴向和与该轴向垂直的方向上向不同的方向延伸，并在管状构件131的外壁侧汇合。此外，对于贯通孔132b和贯通孔132c的关系以及贯通孔132c和贯通孔132a的关系，也与贯通孔132a和贯通孔132b的关系是同样的。在图4所示的例子中，贯通孔132a从管状构件131的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件131的轴向上从上方向下方延伸。此外，贯通孔132b从管状构件131的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件131的轴向上从下方向上方延伸，并在与管状构件131的轴向垂直的方向上向贯通孔132c的方向延伸。此外，贯通孔132c从管状构件131的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件131的轴向上从下方向上方延伸，并在与管状构件131的轴向垂直的方向上向贯通孔132b的方向延伸。而且，贯通孔132a、贯通孔132b以及贯通孔132c在管状构件131的外壁侧汇合。
在本例中，贯通孔132a、132b、132c的截面形状为圆形。但是，贯通孔132a、132b、132c的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。
图5是表示气体供给管的其他一例的图。图5的(a)是从正面观察贯通孔而得到的图，图5的(b)是表示气体供给管的纵截面的图，图5的(c)是表示气体供给管的横截面的图。
气体供给管140具有管状构件141和气体喷出部142。
管状构件141在处理容器内沿着该处理容器的长度方向设置。管状构件141在内部形成气体流路F。在本例中，管状构件141的截面形状为圆形。但是，管状构件141的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。管状构件141例如由石英形成。
气体喷出部142沿着管状构件141的轴向(以下，也简称为“轴向”)具有间隔地形成有多个。各气体喷出部142包括贯穿管状构件141的管壁的四个贯通孔142a、142b、142c、142d。
贯通孔142a、142b、142c、142d是使在形成于管状构件141内的气体流路F中流动的气体向管状构件141外喷出的气体孔。贯通孔142a、贯通孔142b、贯通孔142c以及贯通孔142d在气体的入口侧(管状构件141的内壁侧)互相分开，并在气体的出口侧(管状构件141的外壁侧)汇合。贯通孔142a、贯通孔142b、贯通孔142c以及贯通孔142d从管状构件141的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件141的轴向和/或与该轴向垂直的方向上向不同的方向延伸，并在管状构件141的外壁侧汇合。
在本例中，贯通孔142a、142b、142c、142d的截面形状为圆形。但是，贯通孔142a、142b、142c、142d的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。
图6是表示气体供给管的其他一例的图。图6的(a)是从正面观察贯通孔而得到的图，图6的(b)是表示气体供给管的纵截面的图，图6的(c)是表示气体供给管的横截面的图。
气体供给管150具有管状构件151和气体喷出部152。
管状构件151在处理容器内沿着该处理容器的长度方向设置。管状构件151在内部形成气体流路F。在本例中，管状构件151的截面形状为圆形。但是，管状构件151的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。管状构件151例如由石英形成。
气体喷出部152沿着管状构件151的轴向(以下，也简称为“轴向”)具有间隔地形成有多个。各气体喷出部152包括贯穿管状构件151的管壁的四个贯通孔152a、152b、152c、152d。
贯通孔152a、152b、152c、152d是使在形成于管状构件151内的气体流路F中流动的气体向管状构件151外喷出的气体孔。贯通孔152a、贯通孔152b、贯通孔152c以及贯通孔152d在气体的入口侧(管状构件151的内壁侧)在管状构件151的轴向(铅垂方向)上分开，并在气体的出口侧(管状构件151的外壁侧)汇合。换言之，贯通孔152a、贯通孔152b、贯通孔152c以及贯通孔152d从管状构件151的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件151的轴向上向不同的方向延伸，并在管状构件151的外壁侧汇合。在图6所示的例子中，贯通孔152a和贯通孔152b从管状构件151的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件151的轴向上从上方向下方延伸。此外，贯通孔152c和贯通孔152d从管状构件151的内壁侧朝向外壁侧而在管状构件151的轴向从下方向上方延伸。而且，贯通孔152a、贯通孔152b、贯通孔152c以及贯通孔152d在管状构件151的外壁侧汇合。
在本例中，贯通孔152a、152b、152c、152d的截面形状为圆形。但是，贯通孔152a、152b、152c、152d的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。
图7是表示气体供给管的其他一例的图。图7的(a)是从正面观察贯通孔而得到的图，图7的(b)是表示气体供给管的纵截面的图，图7的(c)是表示气体供给管的横截面的图。
气体供给管160具有管状构件161和气体喷出部162。
管状构件161在处理容器内沿着该处理容器的长度方向设置。管状构件161在内部形成气体流路F。在本例中，管状构件161的截面形状为圆形。但是，管状构件161的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。管状构件161例如由石英形成。
气体喷出部162沿着管状构件161的轴向(以下，也简称为“轴向”)具有间隔地形成有多个。各气体喷出部162包括贯穿管状构件161的管壁的四个贯通孔162a、162b、162c、162d。
贯通孔162a、162b、162c、162d是使在形成于管状构件161内的气体流路F中流动的气体向管状构件161外喷出的气体孔。贯通孔162a、贯通孔162b、贯通孔162c以及贯通孔162d在气体的入口侧(管状构件161的内壁侧)在与管状构件161的轴向垂直的方向(水平方向)上分开，并在气体的出口侧(管状构件161的外壁侧)汇合。换言之，贯通孔162a、贯通孔162b、贯通孔162c以及贯通孔162d从管状构件161的内壁侧朝向外壁侧而在与管状构件161的轴向垂直的方向上向不同的方向延伸，并在管状构件161的外壁侧汇合。在图7所示的例子中，贯通孔162a和贯通孔162b从管状构件161的内壁侧朝向外壁侧而在与管状构件161的轴向垂直的方向上向贯通孔162c和贯通孔162d的方向延伸。此外，贯通孔162c和贯通孔162d从管状构件161的内壁侧朝向外壁侧而在与管状构件161的轴向垂直的方向上向贯通孔162a和贯通孔162b的方向延伸。而且，贯通孔162a、贯通孔162b、贯通孔162c以及贯通孔162d在管状构件161的外壁侧汇合。
在本例中，贯通孔162a、162b、162c、162d的截面形状为圆形。但是，贯通孔162a、162b、162c、162d的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。
以上，参照图2～图7，说明了能够用作图1的基板处理装置1的气体喷嘴62、64、66的气体供给管的结构例，但本公开不限定于此。在图2～图7中，说明了各气体喷出部包括两个贯通孔～四个贯通孔的情况，但也可以例如各气体喷出部包括五个以上的贯通孔。
(气体的指向性)
参照图8，对从气体供给管喷出的气体的指向性进行说明。图8是用于说明从气体供给管喷出的气体的指向性的图。在图8中，作为一例，示出了在内管12内设置上述的气体供给管120(参照图3)的情况。
如图8所示，气体供给管120具有管状构件121和多个气体喷出部122。
管状构件121在内管12内沿着该内管12的长度方向设置。
多个气体喷出部122沿着管状构件121的轴向具有间隔地形成。此外，多个气体喷出部122设于管状构件121的靠内管12的中心侧的位置。各气体喷出部122包括贯穿管状构件121的管壁的两个贯通孔122a、122b。贯通孔122a和贯通孔122b在气体的入口侧(管状构件121的内壁侧)在与管状构件121的轴向垂直的方向(水平方向)上分开，并在气体的出口侧(管状构件121的外壁侧)汇合。
对于该气体供给管120，若将气体向形成于管状构件121的内部的气体流路F供给，则在气体流路F中流动的气体经由多个气体喷出部122朝向基板W喷出。此时，由于各气体喷出部122具有贯穿管状构件121的管壁且在管壁的气体的出口侧汇合的两个贯通孔122a、122b，因此，喷出的气体在两个贯通孔122a、122b的汇合部碰撞。由此，如图8的箭头A所示，提高从各气体喷出部122喷出的气体的向上下方向的扩散性。其结果，使气体在基板面间充分扩散，提高基板处理的面间均匀性。如此，根据第1实施方式，能够调整气体的指向性。
[第2实施方式]
(基板处理装置)
参照图9，对第2实施方式的基板处理装置进行说明。图9是表示第2实施方式的基板处理装置的结构例的图。
基板处理装置2是对基板W逐张进行处理的装置。基板可以是例如硅晶圆等半导体晶。基板处理装置2包括处理容器210、支承部220、气体供给部230以及排气部240。
处理容器210构成为能够对内部进行减压。在一实施方式中，处理容器210包括主体部211、顶部212、保持部213、喷淋头214、底部215以及气体出口216。主体部211呈大致圆筒形状。顶部212固定于主体部211的上端。保持部213安装于顶部212，用于保持喷淋头214。喷淋头214将自气体供给部230导入的处理气体经由多个气体喷出部214b向处理容器210内呈喷淋状供给。后述喷淋头214的详细内容。底部215以覆盖主体部211的下端的开口的方式固定于主体部211的下端。气体出口216设于底部215。
支承部220是构成为在处理容器210内支承基板W的载置台。在一实施方式中，支承部220包括基座部221和载置部222。基座部221固定于处理容器210的底部。载置部222固定于基座部221的上端，在上表面载置基板W。
气体供给部230将处理气体导入喷淋头214。在一实施方式中，气体供给部230包括气体供给源、气体配管、阀以及流量控制器。
排气部240与气体出口216连接。在一实施方式中，排气部240包括压力控制器和真空泵。
(喷淋头)
参照图10，对图9的基板处理装置2的喷淋头214的结构例进行说明。图10是表示喷淋头214的一例的图，示出放大了喷淋头214的局部的截面。
喷淋头214在内部形成气体流路F。喷淋头214具有喷淋板214a和气体喷出部214b。
在本例中，喷淋板214a是圆板形状。喷淋板214a例如由金属形成。
气体喷出部214b在喷淋板214a的面内具有间隔地形成有多个。各气体喷出部214b包括贯穿喷淋板214a的两个贯通孔214b1、214b2。
贯通孔214b1、214b2是使在气体流路F中流动的气体向处理容器210内喷出的气体孔。贯通孔214b1和贯通孔214b2在气体的入口侧(喷淋板214a的上表面侧)分开，并在气体的出口侧(喷淋板214a的下表面侧)汇合。换言之，贯通孔214b1和贯通孔214b2从喷淋板214a的上表面侧朝向下表面侧而向不同的方向延伸，并在喷淋板214a的下表面侧汇合。
在本例中，贯通孔214b1、214b2的截面形状为圆形。但是，贯通孔214b1、214b2的截面形状也可以是长圆、椭圆、矩形等。
对于该喷淋头214，若将气体向形成于内部的气体流路F供给，则在气体流路F中流动的气体经由多个气体喷出部214b朝向基板W喷出。此时，各气体喷出部214b具有贯穿喷淋板214a且在喷淋板214a的气体的出口侧汇合的两个贯通孔214b1、214b2。因此，喷出的气体在两个贯通孔214b1、214b2的汇合部碰撞。由此，提高从各气体喷出部214b喷出的气体的向水平方向的扩散性。其结果，使气体在基板面内充分扩散，提高基板处理的面内均匀性。如此，根据第2实施方式，能够调整气体的指向性。
另外，在第2实施方式中，说明了气体喷出部214b包括两个贯通孔214b1、214b2的情况，但本公开不限定于此。例如，也可以是，与第1实施方式的基板处理装置1的气体喷出部同样地，气体喷出部214b包括三个以上的贯通孔。
[第3实施方式]
参照图11，对第3实施方式的基板处理装置进行说明。图11是表示第3实施方式的基板处理装置的结构例的图。
基板处理装置3是如下装置：将多个基板W载置在设于处理容器310内的旋转台321的旋转方向上，在使旋转台321旋转的状态下自沿着该旋转方向分开地设置的多个气体供给部供给处理气体，并对基板W进行处理。基板可以是例如硅晶圆等半导体晶圆。基板处理装置3包括处理容器310、支承部320、气体供给部330以及排气部340。
处理容器310构成为能够对内部进行减压。在一实施方式中，处理容器310包括容器主体311、顶板312、气体喷嘴313、喷淋头314以及气体出口315。
容器主体311呈有底的大致圆筒形状。
顶板312隔着例如O形密封圈等密封构件(未图示)气密地且能够装卸地配置在容器主体311的上表面。
气体喷嘴313设于旋转台321的上方且是旋转台321的旋转方向上的局部的区域。气体喷嘴313从处理容器310的外周壁向处理容器310内导入，以沿着容器主体311的半径方向相对于旋转台321水平地延伸的方式安装。气体喷嘴313例如由石英形成。气体喷嘴313具有沿着轴向形成的多个气体喷出部(未图示)，经由多个气体喷出部314b将从气体供给部330导入的处理气体向处理容器310内供给。作为气体喷嘴313，能够使用在第1实施方式中说明的气体供给管110、120、130、140、150、160。
喷淋头314设于旋转台321的上方且是旋转台321的旋转方向上的局部的区域。喷淋头314在旋转台321的周向上与气体喷嘴313分开地设置。喷淋头314将自气体供给部330导入的处理气体经由多个气体喷出部314b向处理容器310内呈喷淋状供给。作为喷淋头314，能够使用在第2实施方式中说明的喷淋头214。
气体出口315设于容器主体311的底部。
支承部320构成为在处理容器310内支承基板W。在一实施方式中，支承部320包括旋转台321、连接部322以及旋转轴323。
旋转台321设于处理容器310内，在处理容器310的中心具有旋转中心。在旋转台321的上表面沿着旋转方向(周向)载置有多个(例如，6张)基板W。
连接部322呈大致圆筒形状，该连接部322在旋转台321的中心部与旋转台321以及旋转轴323连接。
旋转轴323与连接部322的下端连接。旋转轴323贯穿容器主体311的底部，其下端安装于使旋转轴323绕铅垂轴线旋转的驱动部(未图示)。
气体供给部330向气体喷嘴313和喷淋头314导入处理气体。在一实施方式中，气体供给部330包括气体供给源、气体配管、阀以及流量控制器。
排气部340与气体出口315连接。在一实施方式中，排气部340包括压力控制器和真空泵。
根据该基板处理装置3，具有气体喷嘴313和喷淋头314。气体喷嘴313具有气体喷出部，气体喷出部包括贯穿管壁且在管壁的气体的出口侧汇合的多个贯通孔。由此，从气体喷出部喷出的气体在多个贯通孔的汇合部碰撞。因此，提高从气体喷出部喷出的气体的向水平方向的扩散性。其结果，使气体在基板面内充分扩散，提高基板处理的面内均匀性。
此外，喷淋头314具有气体喷出部314b，气体喷出部314b包括贯穿喷淋板且在喷淋板的气体的出口侧汇合的多个贯通孔。由此，从气体喷出部314b喷出的气体在多个贯通孔的汇合部碰撞。因此，提高从气体喷出部314b喷出的气体的向水平方向的扩散性。其结果，使气体在基板面内充分扩散，提高基板处理的面内均匀性。
如此，根据第3实施方式，能够调整气体的指向性。
[评价结果]
接着，通过模拟评价在变更形成于气体供给管的气体喷出部的形状时从气体喷出部喷出的气体的指向性的变化。图12是表示从气体供给管喷出的气体的指向性的模拟结果的图。
图12的左侧的图是使用了图2所示的气体供给管110的情况的气体的指向性的模拟结果，上部示出纵截面，下部示出横截面。
如图12的左侧的图所示，气体供给管110包括管状构件111和气体喷出部112。气体喷出部112包括在管状构件111的内壁侧在管状构件111的轴向上分开并在管状构件111的外壁侧汇合的两个贯通孔112a、112b。在该情况下，从气体喷出部112喷出的气体向与管状构件111的轴向垂直的方向扩散。从该结果可知，当使用包括两个贯通孔112a、112b的气体喷出部112时，提高水平方向的气体的扩散性，该两个贯通孔112a、112b在管状构件111的内壁侧在管状构件111的轴向上分开并在管状构件111的外壁侧汇合。由此，使气体在基板面内充分扩散，提高基板处理的面内均匀性。
图12的右侧的图是使用了图3所示的气体供给管120的情况的气体的指向性的模拟结果，上部示出纵截面，下部示出横截面。
如图12的右侧的图所示，气体供给管120包括管状构件121和气体喷出部122。气体喷出部122包括在管状构件121的内壁侧在与管状构件121的轴向垂直的方向上分开并在管状构件121的外壁侧汇合的两个贯通孔122a、122b。在该情况下，从气体喷出部122喷出的气体向管状构件121的轴向扩散。从该结果可知，当使用包括两个贯通孔122a、122b的气体喷出部122时，提高铅垂方向的气体的扩散性，该两个贯通孔122a、122b在管状构件121的内壁侧在与管状构件121的轴向垂直的方向上分开并在管状构件121的外壁侧汇合。由此，使气体在基板面间充分扩散，提高基板处理的面间均匀性。
另外，在上述的实施方式中，气体供给管和喷淋头是气体供给构造的一例，管状构件和喷淋板是气体供给构件的一例。
应该认为此次所公开的实施方式在全部的点均是例示，并非限制性的。上述的实施方式也可以在不脱离所附的权利要求书及其主旨的情况下以各种形态省略、置换、变更。

Claims (11)

1.一种气体供给构造，其向基板处理装置的处理容器内供给气体，其中，
该气体供给构造具有：
气体供给构件；以及
气体喷出部，其形成于所述气体供给构件，该气体喷出部包括贯穿所述气体供给构件的多个贯通孔，
所述多个贯通孔在所述气体供给构件的所述气体的出口侧汇合。
2.根据权利要求1所述的气体供给构造，其中，
所述气体供给构件包括在内部形成气体流路的管状构件，
所述气体喷出部沿着所述管状构件的轴向具有间隔地形成有多个。
3.根据权利要求2所述的气体供给构造，其中，
所述多个贯通孔包括在所述管状构件的内壁侧在所述轴向上分开并在所述管状构件的外壁侧汇合的两个以上的贯通孔。
4.根据权利要求2或3所述的气体供给构造，其中，
所述多个贯通孔包括在所述管状构件的内壁侧在与所述轴向垂直的方向上分开并在所述管状构件的外壁侧汇合的两个以上的贯通孔。
5.根据权利要求2～4中任一项所述的气体供给构造，其中，
所述管状构件在所述处理容器内沿着所述处理容器的长度方向设置，
所述多个气体喷出部设于所述管状构件的靠所述处理容器的中心侧的位置。
6.根据权利要求2～4中任一项所述的气体供给构造，其中，
所述管状构件在所述处理容器内沿着所述处理容器的长度方向设置，
所述多个气体喷出部设于所述管状构件的靠所述处理容器的壁面侧的位置。
7.根据权利要求1所述的气体供给构造，其中，
所述气体供给构件包括具有喷淋板的喷淋头，
所述气体喷出部在所述喷淋板的面内具有间隔地形成有多个。
8.一种基板处理装置，其中，
该基板处理装置具备：
处理容器，其在上下方向上具有间隔地大致水平地收纳多个基板；以及
气体供给管，其在所述处理容器内沿着所述处理容器的长度方向设置，
所述气体供给管具有：
管状构件，其在内部形成气体流路；以及
多个气体喷出部，其沿着所述管状构件的轴向具有间隔地形成，该气体喷出部包括贯穿所述管状构件的管壁的多个贯通孔，
所述多个气体喷出部中的至少一个气体喷出部所包括的所述多个贯通孔在所述管壁的气体的出口侧汇合。
9.一种基板处理装置，其中，
该基板处理装置具备：
处理容器；
载置台，其设于所述处理容器内，并载置基板；以及
喷淋头，其与所述载置台相对地设置，
所述喷淋头具有：
喷淋板；以及
多个气体喷出部，其在所述喷淋板的面内具有间隔地形成，该气体喷出部包括贯穿所述喷淋板的多个贯通孔，
所述多个气体喷出部的至少一个气体喷出部所包括的所述多个贯通孔在所述喷淋板的气体的出口侧汇合。
10.一种基板处理装置，其中，
该基板处理装置具备：
处理容器；
旋转台，其设于所述处理容器内，并沿着旋转方向载置多个基板；以及
气体供给管，其与所述旋转台相对地设于所述旋转台的旋转方向上的局部的区域，
所述气体供给管具有：
管状构件，其在内部形成气体流路；以及
多个气体喷出部，其沿着所述管状构件的轴向具有间隔地形成，该气体喷出部包括贯穿所述管状构件的管壁的多个贯通孔，
所述多个气体喷出部中的至少一个气体喷出部所包括的所述多个贯通孔在所述管壁的气体的出口侧汇合。
11.一种基板处理装置，其中，
该基板处理装置具备：
处理容器；
旋转台，其设于所述处理容器内，并沿着旋转方向载置多个基板；以及
喷淋头，其与所述旋转台相对地设于所述旋转台的旋转方向上的局部的区域，
所述喷淋头具有：
喷淋板；以及
多个气体喷出部，其在所述喷淋板的面内具有间隔地形成，该气体喷出部包括贯穿所述喷淋板的多个贯通孔，
所述多个气体喷出部的至少一个气体喷出部所包括的所述多个贯通孔在所述喷淋板的气体的出口侧汇合。
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