JP2000355663A - 白色粉体およびその製造方法 - Google Patents

白色粉体およびその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基体粒子の特性を維持しながらも、白色度の
高いもの、詳細には、基体粒子の特性を生かすための、
比較的少ない膜数、膜厚であっても、高い白色度が得ら
れる膜を有する白色粉体およびその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 基体粒子１の表面に被覆膜を有する白色
粉体およびその製造方法において、該被覆膜２の少なく
とも１層を、光の散乱反射により白色を付与することが
できる結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有
する結晶化微粒子の集合体として構成することを特徴と
し、好ましくは、該結晶化微粒子を粒径の不揃いなもの
とし、基体粒子の表面に形成する被覆膜を多層膜とし、
結晶化微粒子の集合体として構成する前記被覆膜の表面
に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で緻密な
膜を構成することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、白色粉体およびそ
の製造方法に関し、詳細には従来のものよりも明度（白
色度）が高く、カラーインキ、プラスチック・紙用カラ
ーフィラー、カラートナー、インクジェットプリンター
用カラーインク、偽造防止用インキ、トナー、一般塗
料、自動車用粉体顔料・塗料、静電塗装用塗料、化粧品
用顔料、工芸品・陶芸品など美術品用顔料、繊維用（担
持用）顔料、化粧紙・化粧板用顔料（特に磁気シールド
用）及びフィラー、触媒塗料、耐熱用塗料等多種の目的
に用いられる白色粉体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】粉体を種々の用途に使用するために、そ
の粉体を別の物質で被覆して新たな機能を付加する技術
が知られている。例えば、従来の１成分系カラー磁性ト
ナーやカラー磁性インクは、鉄粉等の磁性を有する基体
粒子上に、着色層を設けて作成するものである。この１
成分系カラー磁性トナーやカラー磁性インクにより鮮明
なカラー画像を得るには、磁性トナー、インク自身を鮮
やかな色に着色する必要があるが、その基体となる磁性
体粒子は一般に黒色であるため、その表面に直接着色層
を設けても全体として暗色となってしまう。
【０００３】これに対して、本発明者らは、先に基体粒
子上に金属膜を形成し、その膜の反射作用により、粉体
を白色化する方法（特開平３−２７１３７６号公報、特
開平３−２７４２７８号公報）、金属アルコキシド溶液
中に基体粒子を分散し、金属アルコキシドを加水分解す
ることにより、基体粒子の表面に均一な０．０１〜２０
μｍの厚みの金属酸化物膜を生成させる方法（特開平６
−２２８６０４号公報）、表面に金属酸化物からなる薄
膜と、金属からなる薄膜とを交互に複数層設けてなる機
能性粉体（特開平７−９０３１０号公報）、金属酸化物
膜で多層被覆してなる粉体を熱処理して、より緻密で安
定した金属酸化物多層膜を有する粉体を製造すること
（国際公開ＷＯ９６／２８２６９号公報）を提案してい
る。
【０００４】特に、上記に挙げた金属酸化物膜や金属膜
を複数層設けた粉体は、各層の膜厚を調整することによ
り特別の機能を付与することができるものであって、例
えば基体粒子の表面に、屈折率の異なる被覆膜を入射光
の４分の１波長に相当する厚さずつ設けるようにする
と、入射光を全て反射して白色の粉体を製造することが
できる。これらの様にして得られた白色粉体を白色磁性
トナーやインクとしたり、更にこの白色粉体の表面に着
色層を設け、鮮やかな色に着色されたカラー磁性トナー
やインクを製造することができる可能性を示唆してい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
３−２７１３７６号公報、特開平３−２７４２７８号公
報に記載の金属膜を設ける方法では膜数や膜厚を多くす
ると金属固有の反射率まで、反射率を上げることがで
き、白色化することができたが、ある程度の膜数や膜厚
に達すると、それ以上の白色化が期待できず、また得ら
れた白色化も不十分であった。また、上記特開平６−２
２８６０４号公報、特開平７−９０３１０号公報、国際
公開ＷＯ９６／２８２６９号公報に記載の方法では、膜
数や膜厚を多くするほど反射率が上がることにより白色
度が高くなり、膜の特性は顕著になる。しかし膜数や膜
厚が多くなるほど、基体粒子の特性は減少する。例え
ば、基体粒子として、磁性粉を用いた場合は、膜数や膜
厚が多くなるほど、磁性が劣ってくる。換言すれば、上
記の方法で得られる白色粉体は、基体粒子が有する特性
を生かすためには膜数、膜厚を少なくする必要がある
が、膜数、膜厚を少なくすると所望の白色度が得られな
くなる恐れもあった。
【０００６】従って、本発明の目的は、上記従来の技術
の欠点を克服し、基体粒子の特性を維持しながらも、白
色度の高いもの、詳細には、基体粒子の特性を生かすた
めの、比較的少ない膜数、膜厚であっても、高い白色度
が得られる膜を有する白色粉体およびその製造方法を提
供しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を進めた結果、膜被覆粉体を形成する際に、結晶化微粒
子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子
の集合体からなる被覆層を、少なくとも１層形成するこ
とにより、散乱反射による白色化された粉体を得ること
が可能となることを見出し、上記課題の解決に成功した
ものである。
【０００８】すなわち、本発明は下記の通りである。 （１）基体粒子の表面に被覆膜を有し、該被覆膜の少な
くとも１層が光の散乱反射により白色を付与することが
できる結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有
する結晶化微粒子の集合体として構成されたものである
ことを特徴とする白色粉体。 （２）基体粒子の表面に被覆膜を有し、該被覆膜の少な
くとも１層が結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空
隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成され、該結
晶化微粒子表面と空隙との間で生じる光の散乱反射によ
り白色が付与されたことを特徴とする白色粉体。
【０００９】（３）前記結晶化微粒子が粒径の不揃いな
ものであることを特徴とする前記（１）または（２）記
載の白色粉体。 （４）基体粒子の表面に有する被覆膜が多層膜であるこ
とを特徴とする前記（１）または（２）記載の白色粉
体。 （５）結晶化微粒子の集合体として構成された前記被覆
膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子
で構成された緻密な被覆膜を有することを特徴とする前
記（１）または（２）記載の白色粉体。 （６）結晶化微粒子の集合体として構成された前記被覆
膜が高屈折率膜であることを特徴とする前記（１）また
は（２）記載の白色粉体。 （７）前記緻密膜がシリカ膜またはチタニア膜であるこ
とを特徴とする前記（１）記載の白色粉体。
【００１０】（８）結晶化微粒子の集合体として構成さ
れた前記被覆膜が、該被覆膜を製膜するための反応溶液
中で固相微粒子を形成させ該固相微粒子を被覆膜中に取
込ませた後に焼成することによって形成されたものであ
ることを特徴とする前記（１）または（２）記載の白色
粉体。 （９）前記焼成を行う前に、前記固相微粒子を取込ませ
た被覆膜上を該被覆膜の表面の空隙を塞ぐ緻密な膜を構
成することができる超微粒子で被覆したことを特徴とす
る前記（８）記載の白色粉体。 （１０）結晶化微粒子の集合体として構成された前記被
覆膜が、該結晶化微粒子と基体粉体とを分散させた液中
で、該結晶化微粒子を該基体粉体表面へ付着させること
によって形成されたものであることを特徴とする前記
（１）または（２）記載の白色粉体。
【００１１】（１１）基体粒子の表面に被覆膜を形成し
て白色粉体を製造する方法において、該被覆膜の少なく
とも１層を、光の散乱反射により白色を付与することが
できる結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有
する結晶化微粒子の集合体として構成することを特徴と
する白色粉体の製造方法。 （１２）基体粒子の表面に被覆膜を形成して白色粉体を
製造する方法において、該被覆膜の少なくとも１層を、
結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結
晶化微粒子の集合体として構成し、該結晶化微粒子表面
と空隙との間で生じる光の散乱反射により白色を付与す
ることを特徴とする白色粉体の製造方法。
【００１２】（１３）前記結晶化微粒子を粒径の不揃い
なものとすることを特徴とする前記（１１）または（１
２）記載の白色粉体の製造方法。 （１４）基体粒子の表面に形成する被覆膜を多層膜とす
ることを特徴とする前記（１１）または（１２）記載の
白色粉体の製造方法。 （１５）結晶化微粒子の集合体として構成する前記被覆
膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子
で緻密な膜を構成することを特徴とする前記（１１）ま
たは（１２）記載の白色粉体の製造方法。 （１６）結晶化微粒子の集合体として構成する前記被覆
膜が高屈折率膜であることを特徴とする前記（１１）ま
たは（１２）記載の白色粉体の製造方法。
【００１３】（１７）前記緻密膜がシリカ膜またはチタ
ニア膜であることを特徴とする前記（１５）記載の白色
粉体の製造方法。 （１８）結晶化微粒子の集合体として構成する前記被覆
膜を、該被覆膜を製膜するための反応溶液中で固相微粒
子を形成させ該固相微粒子を膜中に取込ませた後に焼成
することによって形成することを特徴とする前記（１
１）または（１２）記載の白色粉体の製造方法。 （１９）前記焼成を行う前に、前記固相微粒子を取込ま
せた被覆膜上を該被覆膜の表面の空隙を塞ぐ緻密な膜を
構成することができる超微粒子で被覆することを特徴と
する前記（１８）記載の白色粉体の製造方法。 （２０）結晶化微粒子の集合体として構成された前記被
覆膜を、該結晶化微粒子と基体粉体とを分散させた液中
で、該結晶化微粒子を該基体粉体表面へ付着させること
によって形成することを特徴とする前記（１１）または
（１２）記載の白色粉体。
【００１４】本発明の白色粉体は、基体粒子の表面に有
する被覆膜の少なくとも１層を、結晶化微粒子と該結晶
化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体か
らなる膜（以下、単に結晶化微粒子構成膜ともいう）と
することにより、結晶化微粒子表面と空隙との屈折率差
を大きくして、光の散乱反射を起こし、反射効果を高
め、優れた明度（白色度）を有する機能性粉体を提供す
ることが可能となった。
【００１５】図１は、基体粒子１の表面に結晶化微粒子
構成膜２を有する本発明の白色粉体の一例の断面図であ
り、図２は、図１の白色粉体が有する結晶化微粒子構成
膜２の断面拡大図である。図１および図２に示す様に、
上記結晶化微粒子構成膜２は結晶化微粒子３の間に空隙
を有することにより、前記結晶化微粒子３の表面と空隙
との屈折率差を大きくし、光の散乱反射を起こさせ、こ
れにより明度（白色度）の高い粉体とすることができ
る。上記の散乱反射が強いほど、粉体の明度（白色度）
が増す。膜２の中に含まれる結晶化微粒子３は、屈折率
が高い方が好ましく、また、粒径が揃っていない方が好
ましい。
【００１６】明度の調整は、上記膜内の結晶化微粒子の
量および粒子径により調整することができる。但し、粒
子径によっては、散乱と干渉が同時に起こり、その干渉
によって白色以外の色相を呈することがあるので、その
設計には注意を要する。特に、得られた膜被覆粉体がオ
パールの様に単色スペクトル色の強い場合には、膜中の
結晶化粒子径がある大きさ（光の波長の４分の１から１
波長程度）で均一になって該結晶化微粒子による干渉が
発生している考えられる。
【００１７】この場合、膜内の結晶化微粒子の粒子径
は、１〜５００ｎｍが好ましく、より好ましくは１〜２
００ｎｍであり、さらに好ましくは１〜１００ｎｍの範
囲である。粒子径が１ｎｍ未満では、膜になっても、光
を透過するため下地の基体粒子の色がそのまま出ること
がある。逆に５００ｎｍより大きい場合には複数の粒子
の反射光により前記干渉着色が起こったり、膜が脆くな
って、剥離しやすく好ましくない。また膜内の結晶化微
粒子は、他の微粒子や膜と接触していても、粒界など形
状で区別できるものである。
【００１８】一方、上記結晶化微粒子構成膜の１層の、
好ましい厚さ範囲は、基体となる粒子の大きさによって
異なる。基体粒子が０．１μｍ〜１μｍでは０．０５μ
ｍ〜０．５μｍ、基体粒子が１μｍ〜１０μｍでは０．
０５μｍ〜２μｍ、基体粒子が１０μｍ以上では０．０
５μｍ〜３μｍであることが好ましい。また、上記結晶
化微粒子構成膜の総膜厚の好ましい厚さ範囲も、基体と
なる粒子の大きさによって異なる。基体粒子が０．１μ
ｍ〜１μｍでは０．１μｍ〜３μｍ、基体粒子が１μｍ
〜１０μｍでは０．１μｍ〜５μｍ、基体粒子が１０μ
ｍ以上では０．１μｍ〜１０μｍであることが好まし
い。
【００１９】更に本発明の白色粉体は、図２に示される
ように、空隙を有する結晶化微粒子３で構成された膜２
の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子４
で構成された緻密な被覆膜（以下単に、緻密膜ともい
う）を有することが好ましい。例えば、前述のような結
晶化微粒子構成膜を最外層として有する白色粉体をトナ
ーあるいは塗料等の顔料粉体として用いた場合、トナー
の樹脂または塗料のビヒクルがその空隙に入り込み、結
晶化微粒子３の表面と空隙との間の屈折率差を小さくし
て光の散乱反射を弱くし、その結果、明度（白色度）も
低下させる。前述の緻密膜は上記のような明度の低下を
防止するために好適である。
【００２０】なお、特開平４−２６９８０４号公報に
は、表面に無機顔料粒子の被覆層を有する着色粉体が記
載されているが、この着色粉体は顔料粒子間の空隙が、
表面処理剤と樹脂の混合物によって充填されたものであ
り、本発明の白色粉体のように、散乱反射が発生するも
のではなく、顔料粒子そのものの色によって所望の色に
着色されるものである。またこの特開平４−２６９８０
４号公報に記載の着色粉体は、基体粒子表面に顔料粒子
が十分に固定されていないことがある。その場合には、
基体に付着していた顔料粒子が溶媒と樹脂の混合液中で
分離するため、塗料等に適用できないこともある。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の白色粉体および
その製造方法についてを詳細に説明する。本発明の白色
粉体が有する、結晶化微粒子構成膜は、光を散乱反射
し、白色を発することができるものであれば、どのよう
な物質からなるものでも構わないが、高屈折率を有する
物質からなるものが好ましい。高屈折率を有する物質と
しては、特に限定されないが、酸化チタン（チタニ
ア）、酸化ジルコニウム、酸化ビスマス、酸化セリウ
ム、酸化アンチモン、酸化インジウム等の酸化物を用い
ることができ、屈折率が高く、汎用である酸化チタン
（チタニア）が最も好ましい。
【００２２】上記のような結晶化微粒子構成膜を製膜す
る方法としては、製膜反応液相中での固相析出による方
法等が用いられる。具体的には、本発明者らが先に提案
した特開平６−２２８６０４号公報、特開平７−９０３
１０号公報、国際公開ＷＯ９６／２８２６９号公報に記
載されている有機溶媒中での金属アルコキシドの加水分
解による固相析出法（金属アルコキシド法）や、特開平
１１−１３１１０２号公報に記載の水溶液中での金属塩
からの反応による固相析出法（水系法）等が挙げられ
る。この場合、製膜反応液中で、基体粒子の表面に析出
物の膜が成長する速度（線成長速度）よりも、反応液中
で固相微粒子が析出する速度が速くなるように、反応溶
液濃度、添加触媒量、基体粒子分散量を調整する。上記
のようにして、製膜反応液中に析出した固相微粒子を、
基体粒子表面に付着させ、固相微粒子で構成された被覆
膜を形成する。
【００２３】なお、この時点で膜にとりこまれた固相微
粒子は非晶質であり、該固相微粒子間の空隙も未形成で
あり、光の散乱反射が生じず、また膜の機械的強度も非
常に低いものである。そのため、この固相微粒子で構成
された被覆膜を焼成する。この焼成により前記非晶質の
固相微粒子は結晶化し、該結晶化微粒子間には空隙も形
成され、前述の光を散乱反射する結晶化微粒子構成膜と
なる。
【００２４】該結晶化微粒子構成膜を形成するために
は、前述の金属アルコキシド法よりも、水系法の方が線
成長速度と固相析出速度の関係を好適なものとするのに
簡易であるため好ましい。また金属アルコキシド法は原
料として高価な金属アルコキシドや、反応溶媒として比
較的高価で危険性のある有機溶媒を必要とする。このた
め、製造装置または設備等も防爆仕様にしなければなら
ず、更に、コストパーフォマンスが悪くなる。この点か
らも金属アルコキシド法に比べ水系法が好ましい。
【００２５】なお、前記焼成は前記固相微粒子で構成さ
れた被覆膜を形成した後に行ってもよいが、更に該被覆
膜の上に、その被覆膜が結晶化微粒子構成膜となった場
合その表面の空隙を塞ぐための緻密膜を形成することが
できる超微粒子で被覆した後に行うことが、得られる白
色粉体の膜強度の点から望ましい。焼成は３００〜１２
００℃で行うことが好ましい。
【００２６】また、固相析出速度を調整して液中で可視
光散乱反射する超微粒子を形成する方法に加え、既存の
粒子を利用することもできる。即ち緩衝溶液中に、基体
粒子とシリカあるいはチタニア等の結晶化超微粒子を該
緩衝溶液中で十分に均一分散化後、表面にシリカあるい
はチタニア等の膜を被覆する原料を溶解した液を滴下
し、ちょうど膜のみが形成されるように固相析出速度を
最適化することにより、攪拌中に基体粒子と結晶化超微
粒子の両者表面に析出した固相膜同士が固着し、基体粒
子が、前記結晶化超微粒子で覆われる。
【００２７】この様にして製膜された粉体を３００〜１
２００℃で焼成することにより、該結晶化超微粒子の粒
子間が膜で覆われた粒子（微粒子膜を有する粒子）とな
り、散乱超微粒子の屈折率が高く、可視光散乱超微粒子
の粒径としては散乱力が最大に成る程度の粒径であるこ
とが好ましい。特にチタニアでは、０．２〜０．３μｍ
の粒径であることが好ましい。該基体粒子はその屈折率
が結晶化超微粒子より小さいときには高屈折率の膜を直
接基体粒子に形成するか、あるいは最外層が高屈折率膜
になるように製膜した後、前記微粒子膜を形成しても良
い。また、逆に基体粒子の屈折率が結晶化超微粒子より
大きい場合には、低屈折率の膜で微粒子膜を形成する
が、その場合も先に基体粒子の最外層が低屈折率膜とし
ておくことが散乱を最大限利用するのに好ましい。
【００２８】本発明の白色粉体は、基体粒子上に前述の
結晶化微粒子構成膜を一層のみでなるものでもよいが、
光を透過し得る他の構成からなる膜をさらに有する多層
膜被覆粉体であってもよい。また、前述の結晶化微粒子
構成膜は２層以上であってもよい。その場合、２層の結
晶化微粒子構成膜の間には、低屈折率の光透過性の被覆
膜が存在することが好ましい。該低屈折率の光透過性の
被覆膜としては特に限定されないが、金属化合物、有機
物等からなるものが挙げられる。さらに、結晶化粒子膜
を形成する場合には、結晶化微粒子の散乱効果を向上さ
せるために、第１層目に結晶化粒子より屈折率の低い膜
を基体粒子側に形成する。その膜の厚さは、結晶化粒子
が光を散乱することのできる範囲である散乱体積が利用
できる厚さを有することが好ましい。これにより結晶化
粒子の散乱を最大限活かすことができる。
【００２９】前記金属化合物としては、金属酸化物や金
属硫化物、金属セレン化物、金属テルル化物、金属フッ
化物を挙げることができる。より具体的には、酸化亜
鉛、酸化アルミニウム、酸化カドミウム、酸化チタン、
酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化珪素、酸化アン
チモン、酸化ネオジウム、酸化ランタン、酸化ビスマ
ス、酸化セリウム、酸化錫、酸化マグネシウム、酸化リ
チウム、酸化鉛、硫化カドミウム、硫化亜鉛、硫化アン
チモン、セレン化カドミウム、テルル化カドミウム、フ
ッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化アルミニウ
ム３ナトリウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム
等を好適に使用できる。
【００３０】以下に、前記金属化合物膜の製膜方法につ
いて説明する。製膜方法としては、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法
あるいはスプレードライ法等の気相蒸着法により、基体
粒子の表面に直接、蒸着する方法が可能である。しかし
ながら、本発明者らが先に提案した前記特開平６−２２
８６０４号公報、特開平７−９０３１０号公報あるいは
国際公開ＷＯ９６／２８２６９号公報に記載されている
金属アルコキシド法や、特開平１１−１３１１０２号公
報に記載の水系法が好ましい。この場合、前述の結晶化
微粒子構成膜の製膜と異なり、線成長速度は固相析出速
度よりも高くして、非晶質の均一膜が形成されるように
反応条件を調整する。
【００３１】前記有機物としては、特に限定されるもの
ではないが、好ましくは樹脂である。樹脂の具体例とし
ては、セルロース、酢酸セルロース、ポリアミド、エポ
キシ樹脂、ポリエステル、メラミン樹脂、ポリウレタ
ン、酢酸ビニル樹脂、ケイ素樹脂、アクリル酸エステ
ル、メタアクリル酸エステル、スチレン、エチレン、プ
ロピレン及びこれらの誘導体の重合体または共重合体な
どが挙げられる。 （１）有機物膜（樹脂膜）を形成する場合、 ａ．液相中、基体粒子を分散させて乳化重合させること
により、その粒子の上に樹脂膜を形成させる方法（液相
中での重合法）や、ｂ．気相中での製膜法（ＣＶＤ）
（ＰＶＤ）等が採られる。
【００３２】本発明を白色粉体として、基体粒子上に多
層膜を有するものを製造する場合の例を以下に示す。例
えば、後に詳述する基体粒子が高屈折率の物質からなる
ものであれば、その上に低屈折率の光透過性膜を設け、
さらにその上に高屈折率の粒子構成膜、またさらに、そ
の上に低屈折率の光透過性膜と、順次交互に設ける。ま
た、基体粒子が低屈折率のものならば、その上に高屈折
率の粒子構成膜、さらにその上に低屈折率の光透過性
膜、またさらにその上に、高屈折率の粒子構成膜と、順
次設ける。図３に、本発明の白色粉体の一例である、基
体粒子として高屈折率物質を用い４層被覆膜としたもの
の透過型電子顕微鏡写真を示す。また図４には、図３で
示した膜構造を拡大して示したものである。
【００３３】白色粉体に用いられる基体粒子は、特に限
定されず、金属を含む無機物でも、有機物でもよく磁性
体、誘電体、導電体および絶縁体等でもよい。基体が金
属の場合、鉄、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウ
ム等、どのような金属でもよいが、その磁性を利用する
ものにおいては、鉄等磁性を帯びるものが好ましい。こ
れらの金属は合金でも良く、前記の磁性を有するもので
あるときには、強磁性合金を使用することが好ましい。
また、その粉体の基体が金属化合物の場合には、その代
表的なものとして前記した金属の酸化物が挙げられる
が、例えば、鉄、ニッケル、クロム、チタン、アルミニ
ウム、ケイ素等の外、カルシウム、マグネシウム、バリ
ウム等の酸化物、あるいはこれらの複合酸化物でも良
い。さらに、金属酸化物以外の金属化合物としては、金
属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、金属フッ化物、金
属炭酸塩、金属燐酸塩などを挙げることができる。
【００３４】さらに、基体粒子として、金属以外では、
半金属、非金属の化合物、特に酸化物、炭化物、窒化物
であり、シリカ、ガラスビーズ等を使用することができ
る。その他の無機物としてはシラスバルーン（中空ケイ
酸粒子）などの無機中空粒子、微小炭素中空球（クレカ
スフェアー）、電融アルミナバブル、アエロジル、ホワ
イトカーボン、シリカ微小中空球、炭酸カルシウム微小
中空球、炭酸カルシウム、パーライト、タルク、ベント
ナイト、合成雲母、白雲母、など雲母類、カオリン等を
用いることができる。
【００３５】有機物としては、樹脂粒子が好ましい。樹
脂粒子の具体例としては、セルロースパウダー、酢酸セ
ルロースパウダー、ポリアミド、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル、メラミン樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル樹
脂、ケイ素樹脂、アクリル酸エステル、メタアクリル酸
エステル、スチレン、エチレン、プロピレン及びこれら
の誘導体の重合または共重合により得られる球状または
破砕の粒子などが挙げられる。特に好ましい樹脂粒子は
アクリル酸またはメタアクリル酸エステルの重合により
得られる球状のアクリル樹脂粒子である。但し、樹脂粒
子を基体とする場合、乾燥における加熱温度は樹脂の融
点以下でなければならない。
【００３６】基体の形状としては、球体、亜球状態、正
多面体等の等方体、直方体、回転楕円体、菱面体、板状
体、針状体（円柱、角柱）などの多面体、さらに粉砕物
のような全く不定形な粉体も使用可能である。これらの
基体は、粒径については特に限定するものでないが、
０．０１μｍ〜数ｍｍの範囲のものが好ましい。
【００３７】また、基体粒子の比重としては、０．１〜
１０．５の範囲のものが用いられるが、得られた粉体を
液体等に分散させて使用する場合には、流動性、浮遊性
の面から０．１〜５．５が好ましく、より好ましくは
０．１〜２．８、更に、好ましくは０．５〜１．８の範
囲である。得られた粉体を液体等に分散させて使用する
場合、基体の比重が０．１未満では液体中の浮力が大き
すぎ、膜を多層あるいは非常に厚くする必要があり、不
経済である。一方、１０．５を超えると、浮遊させるた
めの膜が厚くなり、同様に不経済である。
【００３８】
【実施例】以下に本発明を実施例によって更に具体的に
説明するが、勿論本発明の範囲は、これらによって限定
されるものではない。 〔実施例１〕（マグネタイト粉末粒子の白色化、水系２
層被覆） （第１層シリカ膜の製膜） （１）緩衡液の調整 １リットルの水に対し、０．４Ｍの塩化カリウム試薬と
０．４Ｍのホウ酸を溶解し、緩衡溶液１とした。１リッ
トルの水に対し、０．４Ｍの水酸化ナトリウムを溶解
し、緩衡溶液２とした。２５０ｍｌの上記緩衡溶液１と
１１５ｍｌの上記緩衡溶液２とを混合均一化し、緩衡溶
液３とした。 （２）ケイ酸ナトリウム水溶液（水ガラス溶液） ケイ酸ナトリウム試薬を純水で希釈し、ＳｉＯ2含有量
が１０ｗｔ％になるように濃度調整した。
【００３９】（３）シリカ製膜 基体粒子として１５ｇのマグネタイト粉末（平均粒径
２．３μｍ）を、あらかじめ準備しておいた３６５ｍｌ
の緩衡溶液３（ｐＨ：約９．０）に入れ分散液とした。
この分散液を入れた容器を、水を張った超音波洗浄機
（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、２
８ｋＨｚ、２００Ｗの超音波浴槽中で超音波をかけなが
ら、さらに、マグネタイト粉を緩衡溶液３中で撹拌しな
がら分散させた。これに、同じくあらかじめ用意してお
いた２０ｍｌのケイ酸ナトリウム水溶液を４０ｍｌ／分
で添加し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出
させた。ケイ酸ナトリウム水溶液添加終了後、さらに、
２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。製膜
反応終了後、シリカ製膜粉を含むスラリーを十分な水で
デカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄後、シリ
カ製膜粉をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた
後、乾燥機で空気中で１５０℃、８時間乾燥し、シリカ
被覆マグネタイト粉Ａ1を得た。
【００４０】（第２層チタニア膜の製膜） （１）緩衡液の調整 １リットルの脱イオン水に対し、０．３Ｍの酢酸、０．
９Ｍの酢酸ナトリウムを溶解し、緩衡溶液４とした。 （２）硫酸チタン水溶液 濃度が０．６Ｍ／リットルとなるように硫酸チタンを水
に添加し、希釈調整し、硫酸チタン水溶液とした。
【００４１】（３）チタニア製膜 ５．５ｇの上記粉体Ａ1に対し、２５０ｍｌの緩衡溶液
４（ｐＨ：約４．１）を用意し、その緩衡溶液４中に粉
体Ａ1を、上記シリカ製膜時と同様に、超音波分散しな
がら、超音波浴槽中で十分に分散した。その後、液の温
度を５０〜５５℃に保ちながら、あらかじめ用意してお
いた硫酸チタン水溶液を１．９ｍｌ／分で滴下し、液中
で固相微粒子を析出させ液を薄く白濁させた。その後、
粉体Ａ1表面に該固相微粒子を固定させるため、滴下速
度を１．５ｍｌ／分に下げ、未反応分を徐々に析出させ
た。すると、液中に析出していた固相微粒子が基体粒子
表面に固定され、またさらに、基体粒子表面に固定され
た固相微粒子よりも粒径が小さい超微粒子により、その
表面が覆われた。
【００４２】（４）洗浄乾燥 製膜反応終了後、純水でデカンテーションを繰り返し、
未反応分と過剩硫酸および反応により形成された硫酸を
除き、固液分離を行い、真空乾燥機で乾燥後、乾燥粉を
得た。得られた乾燥粉を、回転式チューブ炉で、５００
℃で３０分加熱処理（焼成）を行い、表面が平滑なシリ
カ／チタニア被覆マグネタイト粉Ａ2を得た。この２層
膜被覆粉体Ａ2は黄帯白色であり、その１０ｋＯｅでの
磁化は４０ｅｍｕ／ｇであった。この２層膜被覆粉体Ａ
2の最大反射ピークは６３０ｎｍであった。この２層膜
被覆粉体Ａ2のＬ*、ａ*、ｂ*標準表色系での値を表１に
示す。
【００４３】〔実施例２〕（マグネタイト粉末粒子の白
色化、水系３層被覆） （第１層シリカ膜の製膜） （１）シリカ製膜 基体粒子として、１５ｇの球状マグネタイト粉末（平均
粒径２．３μｍ）を、あらかじめ準備しておいた３６５
ｍｌの前記緩衡溶液３（ｐＨ：約９．０）に入れ分散液
とした。この分散液を入れた容器を、水を張った超音波
洗浄機（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入
れ、２６ｋＨｚ、６００Ｗの超音波浴槽中で超音波をか
けながら、さらに、マグネタイト粉を含む緩衡溶液３中
で撹拌しながら分散させた。これに、同じくあらかじめ
用意しておいた２３ｍｌのケイ酸ナトリウム水溶液を４
０ｍｌ／分で添加し、徐々に反応分解させ、表面にシリ
カ膜を析出させた。
【００４４】ケイ酸ナトリウム水溶液添加終了後、さら
に２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。製
膜反応終了後、シリカ製膜粉を含むスラリーを十分な水
でデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄後、シ
リカ製膜粉をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた
後、乾燥機で空気中で１５０℃、８時間乾燥した後、窒
素雰囲気中で３００℃で３０分熱処理（焼成）して、シ
リカ被覆マグネタイト粉Ｂ1を得た。
【００４５】（第２層チタニア膜の製膜）実施例１と同
様に、緩衡溶液４および硫酸チタン水溶液を調製、準備
した。５．５ｇの上記粉体Ｂ1に対し、２５０ｍｌの前
記緩衡溶液４（ｐＨ：約４．１）を用意し、その緩衡溶
液４中に粉体Ｂ1を、上記シリカ製膜時と同様に、超音
波分散しながら、超音波浴槽中で十分に分散した。その
後、液の温度を５０〜５５℃に保ちながら、あらかじめ
用意しておいた硫酸チタン水溶液を１．８ｍｌ／分の一
定速度で徐々に滴下した。滴下初期時には、液中に固相
微粒子が析出したが、基体粒子表面に固定され、またさ
らに、基体粒子表面に固定された固相微粒子よりも粒径
の小さい超微粒子によりその表面が覆われた、シリカ／
チタニア被覆マグネタイト粉Ｂ2を得た。この２層膜被
覆粉体Ｂ2は黄帯白色であり、最大反射ピークは６３０
ｎｍであり、実施例１で得られた粉体Ａ2と同様であっ
た。この粉体Ｂ2の表面は僅かに凹凸があり、部分的に
チタニア粒子の凸部もみられた。
【００４６】（第３層シリカ膜の製膜、シリカ薄膜によ
り前記チタニア膜表面を閉じ込めた場合）実施例１と同
様に、緩衡溶液１、２およびケイ酸ナトリウム水溶液
（水ガラス溶液）の調製を行った。上記粉体シリカ／チ
タニア被覆マグネタイト粉Ｂ2にシリカ膜の製膜を行っ
た。緩衝溶液量は上記第１層被覆と同様であったが、ケ
イ酸ナトリウム水溶液の滴下速度は同じにして滴下量を
８ｍｌとして製膜を行い、未反応物がなくなるまで、２
時間反応させ、前記と同様に洗浄し、洗浄後、回転式チ
ューブ炉で、窒素雰囲気中で６００℃で３０分加熱処理
（焼成）を行い、シリカ／チタニア被覆マグネタイト粉
Ｂ3を得た。
【００４７】得られた粉体Ｂ3は、表面が平滑なシリカ
膜２層の間に、チタニア微粒子が結晶化し、光散乱が大
きい白色の粉体となった。Ｂ3の表面は、凹凸がなくな
り、ほぼ平滑で、また穴や割れ、くぼみ等はなかった。
Ｌ*、ａ*、ｂ*標準表色系での値を表１に示す。透過電
子顕微鏡での観察において、シリカ層２層の間に、チタ
ニア微粒子の結晶化が認められ、粒子間に空隙が存在し
ていたため、粒子と空隙の間で散乱反射が大きくなった
ものと考えられる。
【００４８】〔実施例３〕（散乱粒子を表面に付着した
場合、水系４層被覆） （第１層シリカ膜の製膜）基体粒子として、２０ｇのマ
グネタイト粉（平均粒径０．７μｍ）を、実施例１と同
様に、あらかじめ準備しておいた５８０ｇの緩衡溶液３
（ｐＨ：約９．０）に入れ分散液とし、２８ｋＨｚ、６
００Ｗの超音波浴槽中で超音波をかけながら、さらに、
マグネタイト粉を含む緩衡溶液３中で撹拌しながら分散
させた。これに、同じくあらかじめ用意しておいた１６
０ｍｌのケイ酸ナトリウム水溶液を２．６７ｍｌ／分で
徐々に添加し、表面にシリカ膜を析出させた。
【００４９】ケイ酸ナトリウム水溶液添加終了後、さら
に２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。製
膜反応終了後、シリカ製膜粉を含むスラリーを十分な水
でデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄後、シ
リカ製膜粉をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた
後、乾燥機で空気中で１５０℃、８時間乾燥し、シリカ
被覆マグネタイト粉Ｃ1を得た。
【００５０】（第２層チタニア膜の製膜）１５ｇの上記
粉体Ｃ1に対し、４００ｍｌの純水を用意し、その純水
中にＣ1を、上記シリカ製膜時と同様に、超音波分散し
ながら、超音波浴槽中で十分に分散した。その後、液の
温度を５０〜５５℃に保ちながら、あらかじめ用意して
おいた、４０５ｍｌの硫酸チタニル水溶液（ＴｉＯ2、
１５ｗ％）を１．２５ｍｌ／分の一定速度で徐々に滴下
し、液を僅かに白濁させながら滴下を終了させた。滴下
終了後、さらに３時間反応を行い、未反応分を徐々に析
出させ、その粒子を膜の中に取り込んだ。製膜反応終了
後、十分な純水でデカンテーションを繰り返し、未反応
分と過剰硫酸および反応により形成された硫酸を除き、
固液分離を行い、真空乾燥機で乾燥後、乾燥粉を得た。
得られた乾燥粉を、回転式チューブ炉で、５００℃で３
０分加熱処理（焼成）を行い、シリカ／チタニア被覆マ
グネタイト粉Ｃ2を得た。この２層膜被覆粉体Ｃ2は帯黄
緑白色であり、最大反射ピークは５８０ｎｍで３２％で
あった。この２層膜被覆粉体Ｃ2のＬ*、ａ*、ｂ*標準表
色系での値を表１に示す。
【００５１】（第３層シリカ膜の製膜）１５ｇのシリカ
／チタニア被覆マグネタイト粉Ｃ2に対し、１層目と同
様に、あらかじめ準備しておいた５８０ｇの緩衡溶液３
（ｐＨ：約９．０）に入れ、２８ｋＨｚ、６００Ｗの超
音波浴槽中で超音波をかけながら、さらに、マグネタイ
ト粉を含む緩衡溶液３中で撹拌しながら分散させた。こ
れに、同じくあらかじめ用意しておいた２２０ｍｌのケ
イ酸ナトリウム水溶液を２．６７ｍｌ／分で徐々に添加
し、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水
溶液添加終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料を
すべて反応させた。製膜反応終了後、シリカ製膜粉を含
むスラリーを十分な水でデカンテーションを繰り返し、
洗浄した。洗浄後、シリカ製膜粉をバットに入れ、沈降
分離し、上液を捨てた後、乾燥機で空気中で１５０℃、
８時間乾燥し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｃ3を得た。
【００５２】（第４層チタニア膜の製膜）１２ｇの上記
粉体Ｃ3に対し、４００ｍｌの純水を用意し、その純水
中に粉体Ｃ3を、上記シリカ製膜時と同様に、超音波分
散しながら、超音波浴槽中で十分に分散した。その後、
液の温度を５０〜５５℃に保ちながら、あらかじめ用意
しておいた、４０５ｍｌの硫酸チタニル水溶液（ＴｉＯ
2、１５ｗ％）を１．２５ｍｌ／分の一定速度で徐々に
滴下し、固相微粒子を析出させ液を僅かに白濁させなが
ら滴下を終了させた。 滴下終了後、さらに３時間反応
を行い、未反応分を徐々に固相微粒子として析出させ、
その微粒子を膜の中に取り込んだ。製膜反応終了後、十
分な純水でデカンテーションを繰り返し、未反応分と過
剰硫酸および反応により形成された硫酸を除き、固液分
離を行い、真空乾燥機で乾燥後、乾燥粉を得た。
【００５３】得られた乾燥粉を、回転式チューブ炉で、
５００℃で３０分加熱処理（焼成）を行い、シリカ／チ
タニア被覆マグネタイト粉Ｃ4を得た。この４層膜被覆
粉体Ｃ4は黄帯白色であり、最大反射ピークは６２０ｎ
ｍで５３％であった。この４層膜被覆粉体Ｃ4のＬ*、ａ
*、ｂ*標準表色系での値を表１に示す。また、この４層
膜被覆粉体Ｃ4とその膜構成の透過型顕微鏡写真を図３
および図４に示す。
【００５４】〔実施例４〕（金属鉄粉の白色化、金属ア
ルコキシドの加水分解による３層被覆） （第１層シリカ膜の製膜）２０ｇのＢＡＳＦ製カーボニ
ル鉄粉（平均粒径１．８μｍ，１０kOeでの磁化は２０
３emu/g）を、あらかじめ１５８．６ｇのエタノールに
３．５ｇのシリコンエトキシドを溶解した溶液中で分散
した後、攪拌しながら、あらかじめ用意しておいた８．
０ｇのアンモニア水（２９％）および８．０ｇの脱イオ
ン水の混合溶液を添加した。添加後、５時間、常温で反
応させた。反応後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾
過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間乾燥した。乾燥
後、回転式チューブ炉を用いて、窒素雰囲気中で８００
℃で３０分熱処理（焼成）を施し、冷却し、シリカコー
ト鉄粉Ｄ1を得た。
【００５５】（第２層チタニア膜の製膜）セパラブルフ
ラスコ中で、２０ｇの上記シリカコート粉体Ｄ1を、あ
らかじめ１９８．３ｇのエタノールに４．６ｇのチタン
イソプロポキシドを加えた液中に分散した後、攪拌しな
がら、あらかじめ用意しておいた６．０ｇの純水を４
７．９ｇのエタノールに混合した溶液を１時間かけて、
滴下した。滴下後、５時間、常温で反応させた。反応
後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥
機で１１０℃、３時間乾燥し，シリカ／チタニアコート
鉄粉Ｄ2を得た。乾燥後のチタニア層を透過電子顕微鏡
を用いて層内の粒子状態を観察したところ、１〜１０ｎ
ｍの酸化チタン固相微粒子がみられたが、膜の内部には
粒子間の空隙はなく均一に充填されていた。この酸化チ
タン膜の平均膜厚は１５５ｎｍであり、６００ｎｍに分
光反射曲線のピーク波長を有し、帯黄緑白色であり、ピ
ーク波長での反射率は４５％であった。
【００５６】（第３層シリカ膜の製膜）２０ｇのシリカ
／チタニアコート鉄粉Ｄ2を、あらかじめ１５８．６ｇ
のエタノールに０．５ｇのシリコンエトキシドを溶解し
た溶液中で分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意
しておいた３．０ｇのアンモニア水（２９％）および脱
３．０ｇのイオン水の混合溶液を添加した。添加後、１
時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノールで
希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間乾
燥した。乾燥後、更に窒素雰囲気中で６５０℃で３０分
熱処理（焼成）を施し、冷却し、シリカ／チタニアコー
ト鉄粉Ｄ3を得た。熱処理後のチタニア層を透過電子顕
微鏡を用いて層内の粒子状態を観察したところ、１０〜
１５０ｎｍの酸化チタン結晶化微粒子がみられ、それぞ
れの粒子間には１０〜５０ｎｍ程度の空隙が認められ
た。しかし、シリカ層は緻密であり、粒子はなく、また
平滑であった。さらに、チタニアとの界面には、空隙が
存在していた。
【００５７】この粉体Ｄ3の最大反射ピーク波長は５５
０ｎｍで、反射率５５％の緑味を帯びた白色となった。
この実施例４から、熱処理（焼成）の有無によりチタニ
ア粒子の結晶粒子化と、粒子化に伴う粒子間およびシリ
カ膜との間の空隙が見られ、これらの粒子化にともなう
散乱反射効果により、白色化が達成されたと考えられ
る。また、この実施例４の白色粉体は最終被覆層に緻密
な膜を形成することが特徴の一つである。これまでの最
終層のように高屈折率膜という限定でなく、干渉、散乱
に影響のない緻密な膜で空隙を被覆する。従来技術で
は、得られた粉体をトナーや塗料等の顔料として用いる
際に、空隙に樹脂やビヒクルが入り込み、干渉あるいは
散乱粒子との屈折率の差が小さくなり、フレネル反射率
が低下することがあった。しかし、最終層を干渉、散乱
に影響のない緻密な膜として、粒子構成膜の空隙を被覆
することにより、上記散乱反射の低下を防ぐことができ
る。
【００５８】〔実施例５〕（金属鉄粉の白色化、金属ア
ルコキシドの加水分解による５層被覆） （第１層シリカ膜の製膜）２０ｇのＢＡＳＦ製カーボニ
ル鉄粉（平均粒径１．８μｍ，１０kOeでの磁化は２０
３emu/g）を、あらかじめ１５８．６ｇのエタノールに
４．４ｇのシリコンエトキシドを溶解した溶液中で分散
した後、攪拌しながら、あらかじめ用意しておいた８．
０ｇのアンモニア水（２９％）および８．０ｇの脱イオ
ン水の混合溶液を添加した。添加後、５時間、常温で反
応させた。反応後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾
過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間乾燥した。乾燥
後、さらに回転式チューブ炉を用いて、窒素雰囲気中で
６００℃で３０分熱処理（焼成）を施し、冷却し、シリ
カコート鉄粉Ｅ1を得た。
【００５９】（第２層チタニア膜の製膜）セパラブルフ
ラスコ中で、２０ｇの上記シリカコート粉体Ｅ1を、あ
らかじめ１９８．３ｇのエタノールに８．１ｇのチタン
イソプロポキシドを加えた液中に分散した後、攪拌しな
がら、あらかじめ用意しておいた６．３ｇの純水を４
７．９ｇのエタノールに混合した溶液を１時間かけて、
滴下した。滴下後、３時間、常温で反応させた。反応
後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥
機で１００℃、８時間乾燥し，シリカ／チタニアコート
鉄粉Ｅ2を得た。この酸化チタン膜の平均膜厚は１７０
ｎｍであり、６６７ｎｍに分光反射曲線のピーク波長を
有し、黄緑味を帯びた白色であり、ピーク波長での反射
率は４８％であった。
【００６０】（第３層シリカ膜の製膜）２０ｇのシリカ
／チタニアコート鉄粉Ｅ2を、あらかじめ１５８．６ｇ
のエタノールに３．７ｇのシリコンエトキシドを溶解し
た溶液中で分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意
しておいた８．０ｇのアンモニア水（２９％）および
８．０ｇの脱イオン水の混合溶液を添加した。添加後、
５時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノール
で希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間
乾燥した。乾燥後、さらに回転式チューブ炉を用いて、
窒素雰囲気中で６００℃で３０分熱処理（焼成）を施
し、冷却し、シリカ／チタニアコート鉄粉Ｅ3を得た。
【００６１】（第４層チタニア膜の製膜）セパラブルフ
ラスコ中で、２０ｇの上記シリカコート粉体Ｅ3を、あ
らかじめ１９８．３ｇのエタノールに８．８ｇのチタン
イソプロポキシドを加えた液中に分散した後、攪拌しな
がら、あらかじめ用意しておいた６．０ｇの純水を４
７．９ｇのエタノールに混合した溶液を１時間かけて、
滴下した。滴下後、４時間、常温で反応させた。反応
後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥
機で１００℃、８時間乾燥し，シリカ／チタニアコート
鉄粉Ｅ4を得た。
【００６２】（第５層シリカ膜の製膜）２０ｇのシリカ
／チタニアコート鉄粉Ｅ4を、あらかじめ１５８．６ｇ
のエタノールに２．５ｇのシリコンエトキシドを溶解し
た溶液中で分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意
しておいた３．０ｇのアンモニア水（２９％）および
３．０ｇの脱イオン水の混合溶液を添加した。添加後、
５時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノール
で希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間
乾燥した。乾燥後、さらに回転式チューブ炉を用いて、
窒素雰囲気中で６００℃で３０分熱処理（熱処理）を施
し、冷却し、シリカ／チタニアコート鉄粉Ｅ 5を得た。
この酸化チタン膜の平均膜厚は１５２ｎｍであった。ま
た、この鉄粉Ｅ5は５８０ｎｍに分光反射曲線のピーク
波長を有し、帯黄緑白色であり、ピーク波長での最大反
射率は８８％であった。上記の結果より、チタニア粒子
の結晶粒子化による空隙を有するチタニア被覆層は１層
（第２層）よりも２層（第２層および第４層）に有する
ことにより、高度の白色化が達成された。
【００６３】〔実施例６〕（マグネタイト粉末粒子の白
色化、水系２層被覆、既存チタニア粒子の使用） （第１層シリカ膜の製膜） （１）シリカ製膜 基体粒子として１０ｇのマグネタイト粉末（平均粒径
０．７μｍ）を、あらかじめ用意しておいた前記緩衡溶
液３の５４０ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液
を入れた容器を、６００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽
（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、５
５０ｒｐｍにて撹拌する。撹拌開始と同時に超音波を照
射する。次に、１０重量％ケイ酸ナトリウム水溶液の所
定量９０ｇを、１．３４ｍｌ／分の滴下速度で、先の撹
拌している懸濁液中に滴下する。滴下終了後、さらに１
時間攪拌を続け、原料マグネタイト表面にシリカ製膜を
行う。所定時間経過後、シリカ製膜粉体を含むスラリー
を十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返
し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体を含むスラ
リーを１１０℃にて８時間乾燥し、シリカ被覆マグネタ
イト粉Ｆ1を得た。
【００６４】（第２層チタニア膜の製膜） （１）硫酸チタン水溶液の調製 ＴｉＯ2濃度が２．０４Ｍの硫酸チタニル原液を、Ｔｉ
Ｏ2濃度が０．１４Ｍとなるようにイオン交換水にて希
釈し、硫酸チタン水溶液を調製した。
【００６５】（２）チタニア製膜 上記粉体Ｆ1とチタニア粒子（石原産業（株）製ＣＲ−
５０、平均粒径２５０ｎｍ）を、重量比で１：１の割合
で良く混合させた原料粉４ｇを、イオン交換水４００ｍ
ｌ中に懸濁させる。この懸濁液の入った容器を、５０℃
に保温した恒温水槽に浸け、６００ｒｐｍにて攪拌す
る。懸濁液の液温が５０℃になったところで、上記硫酸
チタン水溶液の所定量１４９ｇ（１４４ｍｌ）を０．５
ｍｌ／分の滴下速度で滴下する。滴下終了後、さらに９
０分攪拌を続け、粉体Ｆ1上にチタニア製膜を行う。所
定時間経過後、チタニア製膜粉を含むスラリーを十分な
イオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄し
た。洗浄操作終了後、チタニア製膜粉を含むスラリーを
１１０℃にて８時間乾燥させ、チタニア被膜マグネタイ
ト粉Ｆ2を得た。
【００６６】得られた粉体Ｆ2は粉体Ｆ1上にチタニア製
膜されると同時に、原料粉に添加したチタニア粒子がそ
の表面上に緻密に付着しており、光の散乱作用が十分に
発生するために白灰色を呈している。またその最大反射
率は４２０ｎｍで３３％を示し、Ｌ*、ａ*、ｂ*標準表
色系では、表１に示すように、Ｌ*＝８８．２、ａ*＝−
０．４、ｂ*＝−４．５であった。また得られたチタニ
ア被膜マグネタイト粉Ｆ2の表面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、基体粒子の表面上にチタニア粒子が緻
密に付着しており、さらにチタニア粒子間隙には、硫酸
チタン水溶液から析出したより細かいチタニア粒子が付
着していた。
【００６７】〔実施例７〕（マグネタイト粉末粒子の白
色化、水系２層被覆、既存チタニア粒子を含有するシリ
カ層被膜） （第１層シリカ膜の製膜） （１）シリカ製膜 基体粒子として粒状マグネタイト粉末（平均粒径１．０
μｍ）１５ｇを、あらかじめ用意しておいた前記緩衡溶
液３の８００ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液
を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽
（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹
拌する。撹拌開始と同時に超音波を照射する。次に、１
０重量％ケイ酸ナトリウム水溶液５０ｍｌを、４０ｍｌ
／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面に
シリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下
終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反
応させた。製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラ
リーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り
返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバット
に入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０
℃、８時間乾燥後、空気中で５００℃で、３０分熱処理
し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｇ1を得た。
【００６８】（第２層結晶化微粒子構成膜（散乱性膜）
の製膜）上記シリカコートマグネタイト粉体Ｇ1１４ｇ
と酸化チタン結晶超微粒子（石原産業（株）製ＣＲ−５
０）１３ｇを、前記緩衡溶液３の８００ｍｌに投入し、
よく分散した。この懸濁液を入れた容器を、２００Ｗ、
２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ
−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌開始と同時に超
音波を照射する。次に、１０重量％ケイ酸ナトリウム水
溶液６０ｍｌを、４０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐
々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ
酸ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応さ
せ、未反応原料をすべて反応させた。
【００６９】製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むス
ラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰
り返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバッ
トに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３
０℃、８時間乾燥後、空気中で５００℃で、３０分熱処
理し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｇ2を得た。得られた
粉体の磁性は、１ｋＯｅで２０ｅｍｕ／ｇであり、
Ｌ*、ａ*、ｂ*標準表色系では、Ｌ*＝６６であった。
【００７０】〔実施例８〕（マグネタイト粉末粒子の白
色化、水系３層被覆、既存チタニア粒子を含有するシリ
カ２層被膜） （第１層シリカ膜の製膜） （１）シリカ製膜 基体粒子として粒状マグネタイト粉末（平均粒径１．０
μｍ）１５ｇを、あらかじめ用意しておいた前記緩衡溶
液３の８００ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液
を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽
（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹
拌する。撹拌開始と同時に超音波を照射する。次に、１
０重量％ケイ酸ナトリウム水溶液５０ｍｌを、４０ｍｌ
／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面に
シリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下
終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反
応させた。製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラ
リーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り
返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバット
に入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０
℃、８時間乾燥後、空気中で５００℃で、３０分熱処理
し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｈ1を得た。
【００７１】（第２層結晶化微粒子構成膜（散乱性膜）
の製膜）上記シリカコートマグネタイト粉体Ｈ1１４ｇ
と酸化チタン結晶超微粒子（石原産業（株）製ＣＲ−５
０）７ｇを、前記緩衡溶液３の８００ｍｌに投入し、よ
く分散した。この懸濁液を入れた容器を、２００Ｗ、２
８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−
６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌開始と同時に超音
波を照射する。次に、１０重量％ケイ酸ナトリウム水溶
液３０ｍｌを、４０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々
に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸
ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応さ
せ、未反応原料をすべて反応させた。
【００７２】製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むス
ラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰
り返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバッ
トに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３
０℃、８時間乾燥後、空気中で５００℃で、３０分熱処
理し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｈ2を得た。得られた
粉体の磁性は、１ｋＯｅで３０ｅｍｕ／ｇであり、
Ｌ*、ａ*、ｂ*標準表色系では、Ｌ*＝５６であった。
【００７３】（第３層結晶化微粒子構成膜（散乱性膜）
の製膜）上記粉体Ｈ2と酸化チタン結晶超微粒子（ＣＲ
−５０）７ｇを、前記緩衡溶液３の８００ｍｌに投入
し、よく分散した。この懸濁液を入れた容器を、２００
Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、
ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌開始と同時
に超音波を照射する。次に、１０重量％ケイ酸のケイ酸
ナトリウム水溶液３０ｍｌを、４０ｍｌ／分の滴下速度
で滴下し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出
させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに
２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
【００７４】製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むス
ラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰
り返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバッ
トに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３
０℃、８時間乾燥後、空気中で５００℃で、３０分熱処
理し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｈ3を得た。得られた
粉体の磁性は、１ｋＯｅで２０ｅｍｕ／ｇであり、
Ｌ*、ａ*、ｂ*標準表色系では、Ｌ*＝７７であった。
【００７５】〔比較例１〕（結晶化微粒子構成膜によら
ない、マグネタイト粉末粒子の水系２層被覆） （第１層シリカ膜の製膜） （１）シリカ製膜 基体粒子として１０ｇのマグネタイト粉末（平均粒径
０．７μｍ）を、予め用意しておいた前記緩衡溶液３の
５４０ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液を入れ
た容器を、６００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽
（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、５
５０ｒｐｍにて撹拌する。撹拌開始と同時に超音波を照
射する。次に、１０重量％ケイ酸ナトリウム水溶液の所
定量９０ｇを、１．３４ｍｌ／分の滴下速度で、先の撹
拌している懸濁液中に滴下する。滴下終了後、さらに１
時間攪拌を続け、原料マグネタイト表面にシリカ製膜を
行う。所定時間経過後、シリカ製膜粉体を含むスラリー
を十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返
し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体を含むスラ
リーを１１０℃にて８時間乾燥し、シリカ被覆マグネタ
イトＩ1を得た。
【００７６】（１）チタニア製膜 上記粉体Ｉ1４ｇを、イオン交換水４００ｍｌ中に懸濁
させる。この懸濁液の入った容器を、５０℃に保温した
恒温水槽に浸け、６００ｒｐｍにて攪拌する。攪拌開始
と同時に超音波を照射する。懸濁液の液温が５０℃にな
ったところで、前記実施例６の硫酸チタン水溶液の所定
量１４９ｇ（１４４ｍｌ）を０．５ｍｌ／分の滴下速度
で滴下する。滴下終了後、さらに９０分攪拌を続け、粉
体Ｉ1上にチタニア製膜を行う。所定時間経過後、チタ
ニア製膜粉を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデ
カンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄操作終了
後、チタニア製膜粉を含むスラリーを１１０℃にて８時
間乾燥させ、チタニア被膜マグネタイト粉Ｉ2を得た。
【００７７】得られた粉体Ｉ2は、その表面にチタニア
粒子が付着していないため暗い青色を呈しており、その
最大反射率は４００ｎｍで１５％であった。また、
Ｌ*、ａ*、ｂ*標準表色系では、表１に示すように、Ｌ*
＝４０．８、ａ*＝−１．２、ｂ*＝−６．１であった。
【００７８】
【表１】
【００７９】上記実施例１〜８で得られた粉体はいずれ
も標準表色系によるＬ*値が高く、白色度が大きいもの
であった。特に実施例６の粉体は、結晶化微粒子構成膜
の微粒子として既存微粒子を用いたため、該微粒子の粒
径は比較的大きく、散乱反射が大きいものとなる。よっ
て実施例６の粉体は、２層被膜であるにもかかわらず標
準表色系によるＬ*値は８８．２と大きいものであっ
た。
【００８０】〔実施例９〕（板状磁性体を用いた白色粉
体） （第１層シリカ膜の製膜）平均粒径２．８μｍの板状Ｂ
ａ系フェライト粉３０ｇを、あらかじめ用意しておい
た、前記緩衝溶液３の８００ｍｌに投入し良く分散し
た。この緩衝液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚ
の超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の
水槽に入れ、撹拌する。撹拌と同時に超音波を照射す
る。次に、５ｗｔ％ケイ酸ナトリウム水溶液４３０ｍｌ
を８０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解さ
せ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水
溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料
をすべて反応させた。製膜反応終了後、シリカ製膜粉体
を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーシ
ョンを繰り返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉
体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥
機で１３０℃、８時間乾燥後、窒素ガス中で、３０分間
熱処理し、シリカ被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｊ1を得
た。
【００８１】（第２層結晶化微粒子構成膜（散乱微粒子
膜）の製膜）上記シリカ被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｊ
1を２０ｇと、酸化チタン微粒子（ＣＲ−５０）１４ｇ
を、前記緩衝溶液３の８００ｍｌに投入し良く分散し
た。この緩衝液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚ
の超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の
水槽に入れ、撹拌する。撹拌と同時に超音波を照射す
る。次に、５ｗｔ％ケイ酸ナトリウム水溶液４９０ｍｌ
を８０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解さ
せ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水
溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料
をすべて反応させた。製膜反応終了後、シリカ製膜粉体
を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーシ
ョンを繰り返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉
体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥
機で１３０℃、８時間乾燥後、窒素ガス中で、３０分間
熱処理し、シリカ／チタニア被覆板状Ｂａ系フェライト
粉Ｊ2を得た。得られた粉体Ｊ2の磁性は１ｋＯｅで磁化
２０ｅｍｕ／ｇであり、Ｌ*、ａ*、ｂ*標準表色系で
は、表２に示すように、Ｌ*＝６７であった。
【００８２】〔実施例１０〕（板状磁性体を用いた白色
粉体） （第１層シリカ膜の製膜）平均粒径２．８μｍの板状Ｂ
ａ系フェライト粉３０ｇを、あらかじめ用意しておい
た、前記緩衝溶液３の８００ｍｌに投入し良く分散し
た。この緩衝液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚ
の超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の
水槽に入れ、撹拌する。撹拌と同時に超音波を照射す
る。次に、５ｗｔ％ケイ酸ナトリウム水溶液を８０ｍｌ
／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面に
シリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下
終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反
応させた。製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラ
リーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り
返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバット
に入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０
℃、８時間乾燥後、窒素ガス中で、３０分間熱処理し、
シリカ被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｋ1を得た。
【００８３】（第２層結晶化微粒子構成膜（散乱微粒子
膜）の製膜）上記シリカ被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｋ
1を２０ｇと、酸化チタン微粒子（ＣＲ−５０）１４ｇ
を、前記緩衝溶液４の１４４４ｍｌと純水１９００ｍｌ
の混合溶液に投入し良く分散した。この緩衝液を入れた
容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）
井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。
撹拌と同時に超音波を照射する。次に、５ｗｔ％硫酸チ
タニル水溶液４６０ｍｌを４ｍｌ／分の滴下速度で滴下
し、徐々に反応分解させ、表面にチタニア膜を析出させ
た。硫酸チタニル水溶液を滴下終了後、さらに２時間反
応させ、未反応原料をすべて反応させた。製膜反応終了
後、チタニア製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交
換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄
操作後、チタニア製膜粉体をバットに入れ、沈降分離
し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０℃、８時間乾燥
後、窒素ガス中で、３０分間熱処理し、シリカ／チタニ
ア被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｋ2を得た。得られた粉
体Ｋ2の磁性は１ｋＯｅで磁化１８ｅｍｕ／ｇであり、
Ｌ*、ａ*、ｂ*標準表色系では、表２に示すように、Ｌ*
＝７７であった。
【００８４】〔実施例１１〕（乾式被膜磁性体を用いた
水系３層被覆） 平均粒径１．８μｍの鉄粉１ｋｇと平均粒径０．２ミク
ロンの酸化チタン粒子１．５kｇをホソカワミクロン製
メカノフュージョン装置を用いて５分間、３回乾式混合
粉砕し、膜が形成されたのを確認し、明度が向上した酸
化チタン被覆鉄粉をＬ1を得た。予め用意した緩衝溶液
３の２１２ｍｌに対し、同じく予め用意した純水２１２
ｍｌを混合し、Ｌ1１５ｇを添加し十分に混合した後、
ＳｉＯ2の混合率１０wt％の水ガラス溶液１３４ｍｌを
撹拌しながら徐々に３時間かけて滴下撹拌した後、１時
間反応を継続させた。反応後デカンテーションにより固
液分離し、粉体を真空乾燥機で８時間乾燥後、回転式チ
ューブ炉を用い、窒素雰囲気で５００℃で３０分熱処理
し、シリカ／チタニア膜被覆鉄粉Ｌ2を得た。さらにシ
リカ／チタニア膜被覆鉄粉Ｌ2４ｇを、４４６mｌの緩衝
液４に十分分散させた後、硫酸チタニルのＴｉＯ2１５w
t％水溶液３５ｍｌを４時間かけて滴下し、滴下後、１
時間反応させ、未反応原料を無くした。反応後デカンテ
ーションにより固液分離し、粉体を真空乾燥機で８時間
乾燥後、回転式チューブ炉を用い、窒素雰囲気で５００
℃で３０分熱処理し、シリカ／チタニア膜被覆鉄粉Ｌ3
を得た。この粉体Ｌ3のＬ*、ａ*、ｂ*標準表色系では、
表２に示すように、Ｌ*＝８１であった。またこの粉体
の磁場１ｋＯｅの磁化は３２．１ｅｍｕ／ｇで、１０ｋ
Ｏｅの磁化は９５ｅｍｕ／ｇであった。
【００８５】〔実施例１２〕（板状導電体を用いた白色
粉体、金属アルコキシド加水分解による３層被覆） （第１層被覆着色）平均粒径１２ミクロン被覆板状アル
ミニウム粉（Ｌ*＝８０）１５ｇをエタノール１６０ｇ
に十分分散した後チタンイソプロポキシド７．０ｇを添
加し、十分に混合した後、さらに予め用意しておいた水
１２．０ｇ、エタノール１６０ｇの混合溶液を滴下し５
時間反応させた。反応後デカンテーションにより固液分
離し、粉体を真空乾燥後で８時間乾燥後、回転式チュー
ブ炉を用い、窒素雰囲気で５００℃で３０分熱処理し、
チタニア膜被覆板状アルミニウム粉Ｍ1を得た。この粉
体のＬ*、ａ*、ｂ*標準表色系では、表２に示すよう
に、Ｌ*＝は９０であった。
【００８６】（第２層被覆）チタニア被覆板状アルミニ
ウム粉Ｍ1１５ｇをエタノール１６０ｇに十分に分散し
た後、シリコンエトキシド１１．７ｇを添加し混合し、
さらに、水１１．７ｇ、アンモニア水１５．５ｇを添加
して、常温で撹拌しながら、３時間反応させた。反応後
デカンテーションにより固液分離し、粉体を真空乾燥機
で８時間乾燥後、回転式チューブ炉を用い、窒素雰囲気
で５００℃で３０分熱処理し、シリカ／チタニア被覆板
状アルミニウム粉Ｍ2を得た。
【００８７】（第３層着色膜被覆）シリカ／チタニア被
覆板状アルミニウム粉Ｍ2１５ｇをエタノール１６０ｇ
に十分分散した後チタンイソプロポキシド９．２ｇを添
加し、十分に混合した後、さらに予め用意しておいた水
１５．６ｇ、エタノール６０ｇの混合溶液を滴下し５時
間反応させた。反応後デカンテーションにより固液分離
し、粉体を真空乾燥後で８時間乾燥後、回転式チューブ
炉を用い、窒素雰囲気で５００℃で３０分熱処理し、シ
リカ／チタニア被覆板状アルミニウム粉Ｍ3を得た。こ
の粉体Ｍ3のＬ*、ａ*、ｂ*標準表色系では、表２に示す
ように、Ｌ*＝１０１であった。
【００８８】
【表２】
【００８９】上記実施例９〜１２で得られた粉体はいず
れも標準表色系によるＬ*値が高く、白色度が大きいも
のであった。
【００９０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の白色粉体
およびその製造方法は、基体粒子の表面に被覆膜を有
し、該被覆膜の少なくとも１層を結晶化微粒子と該結晶
化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体と
からなる層を形成することにより、結晶化粒子表面と空
隙との屈折率差を大きくして、光の散乱反射を起こし、
反射効果を高め、優れた明度（白色度）を有する機能性
粉体を提供することが可能となった。また結晶化超微粒
子構成膜を製膜する際に、固相析出速度を調整して液中
で可視光散乱反射する超微粒子を形成する方法に加え、
既存の粒子を該膜に取り込ませて製膜することにより、
該膜に含まれる結晶化超微粒子は比較的大きな粒径のも
のとなりやすいため、散乱反射の度合いも大きくなり、
より明度の高い白色粉体とすることができる。
【００９１】これらの優れた機能を有すると共に、基体
として磁性体、導電体または誘電体を活用すると、電
場、磁場などの外部要因により反応することにより移動
力、回転、運動、発熱などの付加的な作用を発する機能
をもち、例えば、基体として磁性体を適用すると、カラ
ー磁性トナーやカラー磁性インキの顔料としても適用可
能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の白色粉体の一例の断面図である。
【図２】図１の白色粉体が有する結晶化微粒子構成膜２
の断面拡大図である。
【図３】本発明の白色粉体の一例の透過型電子顕微鏡写
真である。
【図４】図３の白色粉体が有する結晶化微粒子構成膜２
の透過型電子顕微鏡写真である。
【符号の説明】
１ 基体粒子 ２ 結晶化微粒子構成膜 ３ 結晶化微粒子 ４ 超微粒子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 星野 希宜 東京都西多摩郡日の出町平井８番地１ 日 鉄鉱業株式会社内 (72)発明者 中塚 勝人 宮城県仙台市太白区茂庭台四丁目３番５の 1403号

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基体粒子の表面に被覆膜を有し、該被覆
    膜の少なくとも１層が光の散乱反射により白色を付与す
    ることができる結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に
    空隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成されたも
    のであることを特徴とする白色粉体。
  2. 【請求項２】 基体粒子の表面に被覆膜を有し、該被覆
    膜の少なくとも１層が結晶化微粒子と該結晶化微粒子相
    互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成さ
    れ、該結晶化微粒子表面と空隙との間で生じる光の散乱
    反射により白色が付与されたことを特徴とする白色粉
    体。
  3. 【請求項３】 前記結晶化微粒子が粒径の不揃いなもの
    であることを特徴とする請求項１または２記載の白色粉
    体。
  4. 【請求項４】 基体粒子の表面に有する被覆膜が多層膜
    であることを特徴とする請求項１または２記載の白色粉
    体。
  5. 【請求項５】 結晶化微粒子の集合体として構成された
    前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる
    超微粒子で構成された緻密な被覆膜を有することを特徴
    とする請求項１または２記載の白色粉体。
  6. 【請求項６】 結晶化微粒子の集合体として構成された
    前記被覆膜が高屈折率膜であることを特徴とする請求項
    １または２記載の白色粉体。
  7. 【請求項７】 前記緻密膜がシリカ膜またはチタニア膜
    であることを特徴とする請求項５記載の白色粉体。
  8. 【請求項８】 結晶化微粒子の集合体として構成された
    前記被覆膜が、該被覆膜を製膜するための反応溶液中で
    固相微粒子を形成させ該固相微粒子を被覆膜中に取込ま
    せた後に焼成することによって形成されたものであるこ
    とを特徴とする請求項１または２記載の白色粉体。
  9. 【請求項９】 前記焼成を行う前に、前記固相微粒子を
    取込ませた被覆膜上を該被覆膜の表面の空隙を塞ぐ緻密
    な膜を構成することができる超微粒子で被覆したことを
    特徴とする請求項８記載の白色粉体。
  10. 【請求項１０】 結晶化微粒子の集合体として構成され
    た前記被覆膜が、該結晶化微粒子と基体粉体とを分散さ
    せた液中で、該結晶化微粒子を該基体粉体表面へ付着さ
    せることによって形成されたものであることを特徴とす
    る請求項１または２記載の白色粉体。
  11. 【請求項１１】 基体粒子の表面に被覆膜を形成して白
    色粉体を製造する方法において、該被覆膜の少なくとも
    １層を、光の散乱反射により白色を付与することができ
    る結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する
    結晶化微粒子の集合体として構成することを特徴とする
    白色粉体の製造方法。
  12. 【請求項１２】 基体粒子の表面に被覆膜を形成して白
    色粉体を製造する方法において、該被覆膜の少なくとも
    １層を、結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を
    有する結晶化微粒子の集合体として構成し、該結晶化微
    粒子表面と空隙との間で生じる光の散乱反射により白色
    を付与することを特徴とする白色粉体の製造方法。
  13. 【請求項１３】 前記結晶化微粒子を粒径の不揃いなも
    のとすることを特徴とする請求項１１または１２記載の
    白色粉体の製造方法。
  14. 【請求項１４】 基体粒子の表面に形成する被覆膜を多
    層膜とすることを特徴とする請求項１１または１２記載
    の白色粉体の製造方法。
  15. 【請求項１５】 結晶化微粒子の集合体として構成する
    前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる
    超微粒子で緻密な膜を構成することを特徴とする請求項
    １１または１２記載の白色粉体の製造方法。
  16. 【請求項１６】 結晶化微粒子の集合体として構成する
    前記被覆膜を高屈折率膜とすることを特徴とする請求項
    １１または１２記載の白色粉体の製造方法。
  17. 【請求項１７】 前記緻密膜をシリカ膜またはチタニア
    膜とすることを特徴とする請求項１５記載の白色粉体の
    製造方法。
  18. 【請求項１８】 結晶化微粒子の集合体として構成する
    前記被覆膜を、該被覆膜を製膜するための反応溶液中で
    固相微粒子を形成させ該固相微粒子を膜中に取込ませた
    後に焼成することによって形成することを特徴とする請
    求項１１または１２記載の白色粉体の製造方法。
  19. 【請求項１９】 前記焼成を行う前に、前記固相微粒子
    を取込ませた被覆膜上を該被覆膜の表面の空隙を塞ぐ緻
    密な膜を構成することができる超微粒子で被覆すること
    を特徴とする請求項１８記載の白色粉体の製造方法。
  20. 【請求項２０】 結晶化微粒子の集合体として構成され
    た前記被覆膜を、該結晶化微粒子と基体粉体とを分散さ
    せた液中で、該結晶化微粒子を該基体粉体表面へ付着さ
    せることによって形成することを特徴とする請求項１１
    または１２記載の白色粉体。
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