JP2000353723A - はんだボールキャリアとその製造方法 - Google Patents

はんだボールキャリアとその製造方法

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JP2000353723A
JP2000353723A JP11165193A JP16519399A JP2000353723A JP 2000353723 A JP2000353723 A JP 2000353723A JP 11165193 A JP11165193 A JP 11165193A JP 16519399 A JP16519399 A JP 16519399A JP 2000353723 A JP2000353723 A JP 2000353723A
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hole
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solder
film
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体パッケージ等のはんだボール搭載部に
対しはんだボールを安定かつ高精度に供給できるはんだ
ボールキャリアと製造方法を提供すること。 【解決手段】 半導体パッケージ等のはんだボール搭載
部に対応した部位に開口断面円形若しくは略円形状のス
ルーホール20を有する耐熱フィルム2と、この耐熱フィ
ルムに対し粘着材3を介して積層された基材フィルム4
とを備え、かつ各スルーホールと基材フィルムとで形成
される各凹部5内にはそれぞれ1つのはんだボール6が
凹部底面に露出する粘着材にその一部を付着させて収容
されていると共に、適用時にはんだボールを上記はんだ
ボール搭載部側へ転移させてはんだボールを供給するは
んだボールキャリア1であって、上記スルーホールの各
内径がその開口側から基材フィルム側に向かって連続的
に小さくなるように設定されていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、BGA、CSP等
の半導体パッケージやこの半導体パッケージと電気的接
続がなされる実装基板等被はんだボール搭載物へはんだ
ボールを供給するためのはんだボールキャリアとその製
造方法に係り、特に、上記被はんだボール搭載物のはん
だボール搭載部にはんだボールを高精度に供給できるは
んだボールキャリアとその製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体パッケージの実装形態は、
図3に示すようにパッケージaの周囲にリード端子bを
配列させたいわゆるQFP(クワッドフラットパッケー
ジ)が主流であった。しかし、近年における電子機器の
小型軽量化に伴い半導体パッケージの高密度実装の要求
が高まってきた。
【0003】このため、最近では高密度実装が可能な外
部端子として図4に示すようにはんだバンプcを格子状
に配列させたBGA(ボールグリッドアレイ)や、より
高密度実装が可能なCSP(チップサイズパッケージ)
等が使用され、更に、半導体チップの電極パッドに突起
電極を形成しパッケージ内基板と直接電気的接続を行う
フリップチップ実装等も使用されてきている。尚、図
3、図4中のdは半導体チップを示し、また、図4中の
eはセラミックキャリア(パッケージ内基板)、fは半
導体チップdの電極パッド、gはセラミックキャリアe
に設けられ電極パッドfとはんだバンプcとを接続する
配線パターンをそれぞれ示している。
【0004】そして、はんだボールは、上記BGA等半
導体パッケージの外部端子用材料として利用されてお
り、CSPやフリップチップ実装の突起電極用としては
小径のはんだボールが要求されている。
【0005】ところで、上記BGAやCSP等半導体パ
ッケージの外部端子用に使用されるはんだボールの搭載
方法として、従来、はんだボールを吸着するツールを用
いて半導体パッケージにおける外部端子形成部のアウタ
ーパッドにはんだボールを供給する方法が利用されてい
る。すなわち、この搭載方法は、はんだボールが搭載さ
れる半導体パッケージにおけるアウターパッドの配列と
同じ配列に並べられたはんだボール吸着用ピンを有する
ツールを用いて各吸着用ピンにはんだボールをそれぞれ
吸着させ、かつ、各はんだボールの先端にフラックスを
付着させた後、上記ツールからはんだボールを半導体パ
ッケージ側へ転移させて各はんだボールを上記半導体パ
ッケージのアウターパッドにそれぞれ載置する。次に、
加熱処理を施してはんだリフローを行うことにより、上
記フラックスの作用で半導体パッケージのアウターパッ
ドに仮固定された各はんだボールはアウターパッドに固
着されて上記はんだバンプが形成される方法であった。
【0006】しかし、このはんだボールの搭載方法にお
いてはBGA用等はんだボールのサイズが比較的大きい
場合には特に問題なかったが、はんだボールのサイズが
小さくなるにつれて以下のような問題があった。すなわ
ち、上記ツールに吸着させた各はんだボールの先端にフ
ラックスを付着させる際、はんだボールのサイズが小さ
くなるにつれてボール吸着用ピンにフラックスが付着し
易くなり、フラックスの付着に起因して以後のはんだボ
ールがボール吸着用ピンに吸着され難くなるため、上記
半導体パッケージにおけるアウターパッドに対し安定し
たはんだボールの供給が困難となる問題を有していた。
このため、例えば0.3mmφ以下の小径はんだボール
を使用するCSPの場合や、より小径のはんだボールを
必要とするフリップチップ実装用突起電極等の形成には
対応困難な問題を有していた。
【0007】この様な技術的背景の下、図5に示すよう
なはんだボールキャリアを用いたはんだボール搭載方法
が提案されている。
【0008】すなわち、このはんだボールキャリアh
は、図5に示すように半導体パッケージや実装基板等は
んだボールが搭載される被はんだボール搭載物における
はんだボール搭載部に対応した部位にスルーホールiを
有する耐熱フィルムjと、この耐熱フィルムjに対し粘
着材kを介して積層された基材フィルムmとでその主要
部が構成され、かつ、各スルーホールiと基材フィルム
mとで形成される各凹部n内に1つのはんだボールpが
凹部n底面から露出する粘着材kにその一部を付着させ
てそれぞれ収容されて成るものであった。
【0009】以下、図6に示すようにアウターパッドq
が形成された半導体パッケージrに対し、図5のはんだ
ボールキャリアhを用いて半導体パッケージrの各アウ
ターパッドqにはんだボールを供給するはんだボール搭
載方法について図面を用いて詳細に説明する。
【0010】まず、図7に示すようにはんだボールキャ
リアhのはんだボールpに対し印刷法等によりフラック
スsを塗布する。尚、フラックスsの塗布ははんだボー
ルpのみに対し行ってもよいし、図7に示すようにはん
だボールpが露出するはんだボールキャリアhの面全体
に対し行ってもよく、あるいは、アウターパッドqが形
成された半導体パッケージr側に対してのみ行ってもよ
く任意である。
【0011】次に、図8に示すように加熱ステージt上
にフラックスsが塗布された上記はんだボールキャリア
hを固定し、かつ、加熱ツールuにより吸着された半導
体パッケージrを上記はんだボールキャリアhに対し対
向させると共に、半導体パッケージrのアウターパッド
qとはんだボールキャリアhのはんだボールpの位置合
わせを行う。
【0012】次に、図9に示すように上記加熱ツールu
を下降させて半導体パッケージrのアウターパッドqを
はんだボールキャリアhのはんだボールpに押し付け、
かつ、加熱ステージtと加熱ツールuの温度をはんだボ
ールの融点以上に昇温して上記はんだボールキャリアh
のはんだボールpを熔融させた後、冷却固化させて半導
体パッケージrのアウターパッドqにはんだボールpを
接着させる。
【0013】最後に上記はんだボールキャリアhを半導
体パッケージrから剥離して図10に示すようにはんだ
ボールpを半導体パッケージr側へ転移させた後、はん
だリフローによりはんだボールの整形を行い、更に、必
要に応じフラックスの洗浄を行って図11に示すような
はんだバンプcを半導体パッケージrに形成する方法で
あった。
【0014】そして、このはんだボール搭載方法によれ
ば、上記半導体パッケージrにおけるアウターパッドq
をはんだボールキャリアhにおけるはんだボールpに押
し付ける工程(図9参照)の際、はんだボールpと加熱
ステージtとの間に上記はんだボールキャリアhが介在
するため、フラックスsによる加熱ステージtの汚染が
起こり難く上述のツールを用いた方法と較べはんだボー
ル径の大小に拘らず良好なはんだボールの搭載を可能に
させる利点を有する方法であった。
【0015】ところで、このはんだボール搭載方法に使
用される上記はんだボールキャリアは、従来、以下のよ
うな工程に従い製造されていた。
【0016】まず、金型等を用いて図12に示すように
耐熱フィルムjにスルーホールiを形成し、かつ、図1
3に示すようにこの耐熱フィルムjに対し粘着材kを介
し基材フィルムmを積層させて各スルーホールiと基材
フィルムmとではんだボールpが収容される凹部nを形
成した後、図14に示すように上記凹部nの開口側から
複数のはんだボールpを供給する。そして、各凹部n内
に1つのはんだボールpを凹部底面から露出する粘着材
kにその一部を付着させた状態でそれぞれ配置した後、
耐熱フィルムj上に残留する余分のはんだボールpを除
去して図15に示すようなはんだボールキャリアhを製
造していた。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のはん
だボールキャリアhにおいては図15に示すようにスル
ーホールiと基材フィルムmとで構成される各凹部nの
内径がその開口側から基材フィルムm側に向かって略同
一になっているため、各凹部nの内径をはんだボールp
の直径と同一若しくは略同一寸法に設定した場合、凹部
nの開口側から供給されたはんだボールpが各凹部n内
に入り難くなって一部の凹部nにはんだボールpが存在
しないはんだボールキャリアhが製造されてしまうこと
があり、はんだボールの安定供給を若干困難にさせる問
題点を有していた。
【0018】このため、従来のはんだボールキャリアh
においては各凹部nの内径をはんだボールpの直径より
大きくかつ上記直径の2倍より若干小さめに設定し、凹
部nの開口側から供給されたはんだボールpが各凹部n
内に確実に入るようにすると共に2個以上のはんだボー
ルpが凹部n内に入らないように調整して上述した問題
を回避する方法が採られていた。
【0019】しかし、上記凹部nの内径をはんだボール
pの直径より大きく設定した場合、各凹部n内における
はんだボールpの収容位置は図16に示すように任意と
なるため、半導体パッケージ等被はんだボール搭載物の
はんだボール搭載部に対するはんだボールの供給位置精
度が若干低下してしまう問題点を有していた。
【0020】本発明はこのような問題点に着目してなさ
れたもので、その課題とするところは、被はんだボール
搭載物のはんだボール搭載部に対しはんだボールを安定
してかつ高精度に供給できるはんだボールキャリアとそ
の製造方法を提供することにある。
【0021】
【課題を解決するための手段】すなわち、請求項1に係
る発明は、被はんだボール搭載物におけるはんだボール
搭載部に対応した部位に開口断面円形若しくは略円形状
のスルーホールを有する耐熱フィルムと、この耐熱フィ
ルムに対し粘着材を介して積層された基材フィルムとを
備え、かつ、各スルーホールと基材フィルムとで形成さ
れる各凹部内にはそれぞれ1つのはんだボールが凹部底
面に露出する粘着材にその一部を付着させて収容されて
いると共に、適用時にはんだボールを上記被はんだボー
ル搭載物側へ転移させてそのはんだボール搭載部にはん
だボールを供給するはんだボールキャリアを前提とし、
上記スルーホールの各内径がその開口側から基材フィル
ム側に向かって連続的に小さくなるように設定されてい
ることを特徴とするものである。
【0022】そして、請求項1記載の発明に係るはんだ
ボールキャリアによれば、スルーホールの各内径がその
開口側から基材フィルム側に向かって連続的に小さくな
るように設定されているため、はんだボールの入り易さ
を考慮してスルーホールと基材フィルムとで形成される
各凹部の開口側内径を上記はんだボールの直径より大き
くしても、各凹部内に入ったはんだボールは凹部の開口
側から底面方向中央へ向かって連続的に傾斜するスルー
ホール内壁面に案内されてその収容位置が凹部内略中央
に設定されることから被はんだボール搭載物のはんだボ
ール搭載部に対するはんだボールの供給位置精度が低下
することがなく、かつ、各凹部内にはんだボールが確実
に収容されることから上記被はんだボール搭載物に対す
るはんだボールの安定供給も可能となる。
【0023】次に、請求項2に係る発明は、請求項1記
載のはんだボールキャリアの製造方法を前提とし、可視
領域から赤外領域のレーザ光源を用いて耐熱フィルムに
対しレーザ光を照射して各内径がそのレーザ照射面側か
ら通過側へ向かって連続的に小さくなる開口断面円形若
しくは略円形状のスルーホールを形成する第一工程と、
上記耐熱フィルムにおけるスルーホールの小径側に粘着
材を介し基材フィルムを積層させて各スルーホールと基
材フィルムとで構成される凹部を形成する第二工程と、
上記凹部底面に露出する粘着材にその一部を付着させた
状態で1つのはんだボールを各凹部内にそれぞれ配置す
る第三工程、を具備することを特徴とするものである。
【0024】この請求項2記載の発明に係るはんだボー
ルキャリアの製造方法によれば、第一工程において可視
領域から赤外領域のレーザ光源を用い耐熱フィルムに対
しレーザ光を照射してスルーホールを形成しているた
め、形成されたこのスルーホールは蓄熱され易い耐熱フ
ィルムのレーザ照射側直径が大きくレーザ通過側の直径
が小さい略すり鉢形状のスルーホールとなり、この結
果、第一工程に続く第二工程、第三工程を経て請求項1
記載のはんだボールキャリアを簡便かつ確実に製造する
ことが可能となる。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
【0026】図1は本発明に係るはんだボールキャリア
1の断面図である。
【0027】すなわち、このはんだボールキャリア1
は、内径が開口側からその反対側に向かって連続的に小
さくなるように形成された開口断面円形状のスルーホー
ル20を有する耐熱フィルム2と、この耐熱フィルム2
に対しそのスルーホール20の小径側に粘着材3を介し
て積層された基材フィルム4とでその主要部が構成さ
れ、各スルーホール20と基材フィルム4とで略すり鉢
形状の凹部(すなわち、開口側から底面方向中央に向か
ってその内壁面が連続的に傾斜する凹部)5が形成され
ていると共に、各凹部5内には1つのはんだボール6が
その一部を凹部5底面から露出する粘着材3に付着させ
てそれぞれ収容されており、かつ、上記スルーホール2
0の形成部位は、BGAやCSP等の半導体パッケー
ジ、あるいは、実装基板やパッケージ内基板等被はんだ
ボール搭載物におけるはんだボール搭載部の配列に対応
して設定されている。
【0028】尚、上記スルーホール20における開口側
とその反対側の内径寸法の大小関係についてはその開口
側から反対側に向かって連続的に小さくなるように設定
されていれば原則任意である。そして、はんだボールの
サイズ、配列ピッチにもよるが、上記凹部5内に収容さ
れるはんだボール5の一部が凹部底面から露出する粘着
材3に接する範囲内でスルーホール20の基材フィルム
4側内径をできるだけ小さくし、かつ、反対にスルーホ
ール20の開口側の内径を大きく設定することにより上
記凹部5内にはんだボールがより入り込み易くかつ位置
精度の高いはんだボールキャリアとすることができる。
【0029】そして、図1に示されたはんだボールキャ
リア1は、以下のような工程を経て製造されている。
【0030】まず、図2(A)に示すようにレーザ装置
(図示せず)を用いて耐熱フィルム2に対しスルーホール
20を穿設する。この場合、その波長が500〜106
0nmの可視領域から赤外領域のレーザを使用するとよ
い。このようなレーザを使用することで、蓄熱され易い
耐熱フィルム2のレーザ照射側内径がレーザ通過側内径
より大きくなり、レーザ照射側からその反対側に向かっ
て内径が連続的に小さくなる(すなわち、レーザ照射側
からレーザ通過側中央に向かってその内壁面が連続的に
傾斜する)スルーホール20を穿設することができるか
らである。
【0031】また、このスルーホールの穿設工程におい
てレーザ照射により耐熱フィルム2に残さ物が発生した
場合には、残さ物をプラズマ処理や溶液による処理等で
適宜除去する。また、上記耐熱フィルムは、はんだの熔
融温度より高い耐熱性を備えかつレーザー加工が可能な
ものであれば任意のフィルムが適用でき、ポリイミドフ
ィルム等が例示される。また、耐熱フィルムの厚みにつ
いては、薄すぎるとはんだボールキャリアの強度を維持
することが困難となり、厚すぎるとコスト上昇をもたら
すため、通常50μm〜125μmの範囲に設定され
る。
【0032】次に、図2(B)に示すように上記耐熱フィ
ルム2におけるスルーホール20の小径側に粘着材3を
介して基材フィルム4を積層し、各スルーホール20と
基材フィルム4とで構成される凹部5を形成する。尚、
はんだボールキャリアの適用時に上記耐熱フィルム2、
粘着材3、基材フィルム4は、はんだボールの融点以上
に加熱されるため高い耐熱性を具備することが必要とな
る。例えば、その融点が185℃近傍にある63Sn/
37Pbの共晶はんだをはんだボールに適用した場合、
上記耐熱フィルム2、粘着材3、基材フィルム4の耐熱
温度は190℃以上であることを必要とする。
【0033】次に、図2(C)に示すように各スルーホー
ル20と基材フィルム4とで構成される凹部5の開口側
からはんだボール6を供給して耐熱フィルム2面全体に
はんだボール6を乗せ、かつ、各凹部5内に1つのはん
だボール6をそれぞれ配置する。このとき、各凹部5内
に入ったはんだボール6は略すり鉢形状のスルーホール
20内壁面に案内されてその収容位置が凹部内略中央に
設定されると共に、各はんだボール6の一部が凹部5底
面から露出する粘着材3に付着して凹部5内に固定され
る。
【0034】最後に、図2(C)に示すように耐熱フィル
ム2面上に残留する余分のはんだボール6を除去する。
余分なはんだボールの除去は、フィルムを振動させては
んだボールを落とす方法、導電ブラシによる方法、エア
ブロー等が利用できる。
【0035】以上の工程により各凹部5内に1つのはん
だボール6がそれぞれ配置された図2(D)に示すような
はんだボールキャリア1を得ることができる。また、本
発明に係るはんだボールキャリアは、1パッケージまた
は複数のパッケージ単位の短冊状に作製してもよいし、
長尺のテープ状に作製することも可能である。
【0036】
【実施例】以下、本発明の実施例について具体的に説明
する。
【0037】[実施例1]この実施例で使用した材料
は、耐熱フィルム2として厚さ75μmのポリイミドフ
ィルム(宇部興産社製 ユーピレックスTypeS)、粘着材
3付きの基材フィルム4としてカプトン粘着テープ(住
友3M社製)、はんだボール6として100μmφの6
3Sn/37Pbの共晶はんだを用いた。
【0038】まず、図2(A)に示すように波長51
4.5nmのアルゴンレーザ(図示せず)を用いて上記耐
熱フィルム2に対しレーザ照射側直径が140μm、レ
ーザ通過側直径が95μmのスルーホール20を穿設し
た後、図2(B)に示すように上記耐熱フィルム2に対
しそのスルーホール20の小径側に上記カプトン粘着テ
ープを貼り付けた。尚、上記スルーホール20は、レー
ザ照射側直径が140μmのスルーホールを200μm
ピッチで220個格子状の配列となるようにした。
【0039】次に、図2(C)に示すように各スルーホー
ル20と基材フィルム4とで構成される凹部5の開口側
から上記はんだボール6を振り掛けるように供給して耐
熱フィルム2面全体にはんだボール6を乗せ、かつ、各
凹部5内に1つのはんだボール6をそれぞれ配置した。
このとき、全てのスルーホール20内にはんだボール6
を確実に配置させるため、フィルムを振動させながら行
った。
【0040】最後に、各スルーホール20内に1つのは
んだボール6がそれぞれ配置されたフィルムを更に振動
させ、余分なはんだボールの除去を行って図2(D)に示
すようなはんだボールキャリア1を製造した。
【0041】得られたはんだボールキャリア1について
顕微鏡による外観検査を行ったところ、スルーホール内
の略中央部にはんだボールが配置されていないもの、ス
ルーホール内にはんだボールがないもの、1つのスルー
ホール内に複数のはんだボールが配置されているもの等
の不良は確認されなかった。尚、これら結果を以下の表
1に示す。
【0042】[実施例2]上記耐熱フィルム2に対しア
ルゴンレーザのレーザ条件を変えることによりレーザ照
射側直径が145μm、レーザ通過側直径が90μmの
スルーホール20を穿設している点を除き実施例1と同
様な工程によりはんだボールキャリア1を製造した。
【0043】そして、得られたはんだボールキャリア1
について実施例1と同様な顕微鏡による外観検査を行っ
た。この結果を表1に示す。
【0044】[実施例3]上記耐熱フィルム2に対しア
ルゴンレーザのレーザ条件を変えることによりレーザ照
射側直径が150μm、レーザ通過側直径が100μm
のスルーホール20を穿設している点を除き実施例1と
同様な工程によりはんだボールキャリア1を製造した。
【0045】そして、得られたはんだボールキャリア1
について実施例1と同様な顕微鏡による外観検査を行っ
た。この結果を表1に示す。
【0046】[実施例4]上記耐熱フィルム2に対しア
ルゴンレーザのレーザ条件を変えることによりレーザ照
射側直径が160μm、レーザ通過側直径が115μm
のスルーホール20を穿設している点を除き実施例1と
同様な工程によりはんだボールキャリア1を製造した。
【0047】そして、得られたはんだボールキャリア1
について実施例1と同様な顕微鏡による外観検査を行っ
た。この結果を表1に示す。
【0048】
【表1】 また、Auメッキが施されたアウターパッドを有する半
導体パッケージ(被はんだボール搭載物)に対して、実施
例1〜実施例4に係るはんだボールキャリアを用いかつ
図7〜図11に示した従来法によりはんだバンプの形成
を行ったところ、はんだボールがアウターパッドに転移
されないボール転移ミス、近隣のボールと接触するブリ
ッジ等の不良は確認されなかった。
【0049】
【発明の効果】請求項1記載の発明に係るはんだボール
キャリアによれば、スルーホールの各内径がその開口側
から基材フィルム側に向かって連続的に小さくなるよう
に設定されているため、はんだボールの入り易さを考慮
してスルーホールと基材フィルムとで形成される各凹部
の開口側内径を上記はんだボールの直径より大きくして
も、各凹部内に入ったはんだボールは凹部の開口側から
底面方向中央へ向かって連続的に傾斜するスルーホール
内壁面に案内されてその収容位置が凹部内略中央に設定
されることから被はんだボール搭載物のはんだボール搭
載部に対するはんだボールの供給位置精度が低下するこ
とがなく、かつ、各凹部内にはんだボールが確実に収容
されることから上記被はんだボール搭載物に対するはん
だボールの安定供給も可能となる効果を有する。
【0050】また、請求項2記載の発明に係るはんだボ
ールキャリアの製造方法によれば、第一工程において可
視領域から赤外領域のレーザ光源を用い耐熱フィルムに
対しレーザ光を照射してスルーホールを形成しているた
め、形成されたこのスルーホールは蓄熱され易い耐熱フ
ィルムのレーザ照射側直径が大きくレーザ通過側の直径
が小さい略すり鉢形状のスルーホールとなり、この結
果、第一工程に続く第二工程、第三工程を経て請求項1
記載のはんだボールキャリアを簡便かつ確実に製造する
ことが可能となる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るはんだボールキャリアの構成を示
す断面図。
【図2】図2(A)〜(D)は本発明に係るはんだボー
ルキャリアの製造工程を示す説明図。
【図3】従来のQFP(クワッドフラットパッケージ)
の一部切り欠き概略斜視図。
【図4】従来のBGA(ボールグリッドアレイ)の一部
切り欠き概略斜視図。
【図5】従来のはんだボールキャリアの構成を示す断面
図。
【図6】アウターパッドが形成された半導体パッケージ
(被はんだボール搭載物)の構成を示す断面図。
【図7】従来のはんだボールキャリアを用いたはんだボ
ール搭載方法の工程説明図。
【図8】従来のはんだボールキャリアを用いたはんだボ
ール搭載方法の工程説明図。
【図9】従来のはんだボールキャリアを用いたはんだボ
ール搭載方法の工程説明図。
【図10】従来のはんだボールキャリアを用いたはんだ
ボール搭載方法の工程説明図。
【図11】従来のはんだボールキャリアを用いたはんだ
ボール搭載方法の工程説明図。
【図12】従来のはんだボールキャリアの製造工程を示
す工程説明図。
【図13】従来のはんだボールキャリアの製造工程を示
す工程説明図。
【図14】従来のはんだボールキャリアの製造工程を示
す工程説明図。
【図15】従来のはんだボールキャリアの製造工程を示
す工程説明図。
【図16】従来のはんだボールキャリアの製造方法の弊
害を示す説明図。
【符号の説明】
1 はんだボールキャリア 2 耐熱フィルム 3 粘着材 4 基材フィルム 5 凹部 6 はんだボール 20 スルーホール

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被はんだボール搭載物におけるはんだボー
    ル搭載部に対応した部位に開口断面円形若しくは略円形
    状のスルーホールを有する耐熱フィルムと、この耐熱フ
    ィルムに対し粘着材を介して積層された基材フィルムと
    を備え、かつ、各スルーホールと基材フィルムとで形成
    される各凹部内にはそれぞれ1つのはんだボールが凹部
    底面に露出する粘着材にその一部を付着させて収容され
    ていると共に、適用時にはんだボールを上記被はんだボ
    ール搭載物側へ転移させてそのはんだボール搭載部には
    んだボールを供給するはんだボールキャリアにおいて、 上記スルーホールの各内径がその開口側から基材フィル
    ム側に向かって連続的に小さくなるように設定されてい
    ることを特徴とするはんだボールキャリア。
  2. 【請求項2】請求項1記載のはんだボールキャリアの製
    造方法において、 可視領域から赤外領域のレーザ光源を用いて耐熱フィル
    ムに対しレーザ光を照射して各内径がそのレーザ照射面
    側から通過側へ向かって連続的に小さくなる開口断面円
    形若しくは略円形状のスルーホールを形成する第一工程
    と、 上記耐熱フィルムにおけるスルーホールの小径側に粘着
    材を介し基材フィルムを積層させて各スルーホールと基
    材フィルムとで構成される凹部を形成する第二工程と、 上記凹部底面に露出する粘着材にその一部を付着させた
    状態で1つのはんだボールを各凹部内にそれぞれ配置す
    る第三工程、を具備することを特徴とするはんだボール
    キャリアの製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101062451B1 (ko) * 2008-10-21 2011-09-05 엘아이지에이디피 주식회사 솔더 범프 형성용 템플릿 및 그 제조 방법
CN114980558A (zh) * 2022-05-13 2022-08-30 中国电子科技集团公司第二十四研究所 一种bga植球方法及植球装置

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CN114980558B (zh) * 2022-05-13 2023-11-14 中国电子科技集团公司第二十四研究所 一种bga植球方法及植球装置

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