JP2000346817A5 - 測定装置、照射装置、露光装置および露光方法 - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 光学素子に電磁波又は電子線を照射して、前記光学素子の汚れ具合を測定する測定装置において、
前記光学素子から放出される電子を検出し、前記検出された電子のうち、所定のエネルギー範囲の電子を選択して、前記選択されたエネルギー範囲内の前記電子を測定する測定手段を備えたことを特徴とする測定装置。
【請求項2】 前記測定手段では、前記光学素子から放出された電子を検出して検出信号を出力する検出手段を備え、
飛行時間法により前記電子のエネルギーを測定することで、前記検出手段で得られた信号を基に前記所定のエネルギー範囲の電子の情報を選択することを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
【請求項3】前記所定のエネルギー範囲は、前記光学素子を構成する物質と前記電磁波又は前記電子線のエネルギーに応じて定めたエネルギー範囲であり、
かつ前記測定手段では、前記選択されたエネルギー範囲での電子数に関する信号を取得し、前記信号を基に前記光学素子の汚れ具合を検出することを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
【請求項4】 前記所定のエネルギー範囲は、前記光学素子に付着すると予想される汚染物質と前記電磁波又は前記電子線のエネルギーに応じて定められたエネルギー範囲であり、
かつ前記測定手段では、前記選択されたエネルギー範囲での電子数に関する信号を取得し、前記信号を基に前記光学素子の汚れ具合を測定することを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
【請求項5】 前記測定手段では前記光学素子を構成する物質と前記電磁波又は前記電子線のエネルギーに応じて定められたエネルギー範囲内の電子についてそのスペクトルを得て、前記スペクトルのピーク値から、前記光学素子に付着した汚染物質を特定する物質特定部を備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
【請求項6】 前記エネルギー範囲は、前記光学素子を構成する物質と前記電磁波又は前記電子線のエネルギーとに応じて定められた第1の電子のエネルギー範囲と、前記光学素子に付着すると予想される汚染物質と前記電磁波又は前記電子線のエネルギーに応じて定められた第2の電子のエネルギー範囲とからなり、
かつ前記測定手段では、前記第1及び第2のエネルギー範囲のそれぞれで前記光学素子から放出された電子を検出して、前記第1のエネルギー範囲における電子数に関する第1の信号及び前記第2のエネルギー範囲での電子数に関する第2の信号を取得し、前記第1の信号と前記第2の信号を基に、前記第1のエネルギー範囲の電子数と前記第2のエネルギー範囲での電子数を比較して、前記光学素子の汚れ具合を検出することを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
【請求項7】 前記測定手段では、前記光学素子から所定の角度範囲で放出される電子を検出する検出手段が備えられ、前記検出手段の前記光学素子に対する検出角度が可変であることを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
【請求項8】 前記光学素子には、前記光学素子への前記電磁波又は前記電子線の照射により所定のエネルギーの電子を放出する物質が形成されていることを特徴とする請求項1乃至7のうちいづれか一項記載の測定装置。
【請求項9】 光学素子に電磁波又は電子線を照射して、前記光学素子の汚れ具合を測定する測定装置において、
前記光学素子に付着した汚染物質から放出される電子を検出して、前記光学素子の汚れ具合を測定することを特徴とする測定装置。
【請求項10】 被照射物体上に、X線を照射する照射装置において、
感光材料が感光可能な露光波長を有する前記X線を生成する光源と、
前記光源からの電磁波を前記基板に到達させる少なくとも一つの光学素子と、
前記光学素子及び前記光学素子に付着した汚染物質から放出される電子を検出し、前記検出された電子のうち、所定のエネルギー範囲の電子を選択して、前記選択されたエネルギー範囲内における前記電子を測定する測定手段を備えたことを特徴とするX線照射装置。
【請求項11】 前記測定手段は、前記被照射物体又は前記光源に最も近い位置に配置された前記光学素子又は前記光源を含んでいる容器内に置かれている前記光学素子に設けられたことを特徴とする請求項10に記載のX線照射装置。
【請求項12】 前記光学素子は真空容器内に設けられ、
前記真空容器には、前記真空容器内に存在する気体を前記真空容器外に放出する吸引手段が備えられ、
前記測定手段は、前記吸引手段に最も近い位置に配置された前記光学素子に設けられたことを特徴とする請求項10に記載のX線照射装置。
【請求項13】 X線源から放射された光を光学素子を介して、パターンが形成されたマスクに照射しかつ感光剤が設けられた基板上にマスクの像を投影する露光方法において、
前記光学素子から放出される電子を検出して、前記検出された電子のうち、所定のエネルギー範囲の電子を選択して、前記選択されたエネルギー範囲内の前記電子を測定することで、前記光学素子の汚染状況を得て、露光することを特徴とする露光方法。
【請求項14】 請求項1乃至9のうちいずれか一項記載の測定装置を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項15】 請求項10乃至12のうちいずれか一項記載の照射装置を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項1】 光学素子に電磁波又は電子線を照射して、前記光学素子の汚れ具合を測定する測定装置において、
前記光学素子から放出される電子を検出し、前記検出された電子のうち、所定のエネルギー範囲の電子を選択して、前記選択されたエネルギー範囲内の前記電子を測定する測定手段を備えたことを特徴とする測定装置。
【請求項2】 前記測定手段では、前記光学素子から放出された電子を検出して検出信号を出力する検出手段を備え、
飛行時間法により前記電子のエネルギーを測定することで、前記検出手段で得られた信号を基に前記所定のエネルギー範囲の電子の情報を選択することを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
【請求項3】前記所定のエネルギー範囲は、前記光学素子を構成する物質と前記電磁波又は前記電子線のエネルギーに応じて定めたエネルギー範囲であり、
かつ前記測定手段では、前記選択されたエネルギー範囲での電子数に関する信号を取得し、前記信号を基に前記光学素子の汚れ具合を検出することを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
【請求項4】 前記所定のエネルギー範囲は、前記光学素子に付着すると予想される汚染物質と前記電磁波又は前記電子線のエネルギーに応じて定められたエネルギー範囲であり、
かつ前記測定手段では、前記選択されたエネルギー範囲での電子数に関する信号を取得し、前記信号を基に前記光学素子の汚れ具合を測定することを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
【請求項5】 前記測定手段では前記光学素子を構成する物質と前記電磁波又は前記電子線のエネルギーに応じて定められたエネルギー範囲内の電子についてそのスペクトルを得て、前記スペクトルのピーク値から、前記光学素子に付着した汚染物質を特定する物質特定部を備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
【請求項6】 前記エネルギー範囲は、前記光学素子を構成する物質と前記電磁波又は前記電子線のエネルギーとに応じて定められた第1の電子のエネルギー範囲と、前記光学素子に付着すると予想される汚染物質と前記電磁波又は前記電子線のエネルギーに応じて定められた第2の電子のエネルギー範囲とからなり、
かつ前記測定手段では、前記第1及び第2のエネルギー範囲のそれぞれで前記光学素子から放出された電子を検出して、前記第1のエネルギー範囲における電子数に関する第1の信号及び前記第2のエネルギー範囲での電子数に関する第2の信号を取得し、前記第1の信号と前記第2の信号を基に、前記第1のエネルギー範囲の電子数と前記第2のエネルギー範囲での電子数を比較して、前記光学素子の汚れ具合を検出することを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
【請求項7】 前記測定手段では、前記光学素子から所定の角度範囲で放出される電子を検出する検出手段が備えられ、前記検出手段の前記光学素子に対する検出角度が可変であることを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
【請求項8】 前記光学素子には、前記光学素子への前記電磁波又は前記電子線の照射により所定のエネルギーの電子を放出する物質が形成されていることを特徴とする請求項1乃至7のうちいづれか一項記載の測定装置。
【請求項9】 光学素子に電磁波又は電子線を照射して、前記光学素子の汚れ具合を測定する測定装置において、
前記光学素子に付着した汚染物質から放出される電子を検出して、前記光学素子の汚れ具合を測定することを特徴とする測定装置。
【請求項10】 被照射物体上に、X線を照射する照射装置において、
感光材料が感光可能な露光波長を有する前記X線を生成する光源と、
前記光源からの電磁波を前記基板に到達させる少なくとも一つの光学素子と、
前記光学素子及び前記光学素子に付着した汚染物質から放出される電子を検出し、前記検出された電子のうち、所定のエネルギー範囲の電子を選択して、前記選択されたエネルギー範囲内における前記電子を測定する測定手段を備えたことを特徴とするX線照射装置。
【請求項11】 前記測定手段は、前記被照射物体又は前記光源に最も近い位置に配置された前記光学素子又は前記光源を含んでいる容器内に置かれている前記光学素子に設けられたことを特徴とする請求項10に記載のX線照射装置。
【請求項12】 前記光学素子は真空容器内に設けられ、
前記真空容器には、前記真空容器内に存在する気体を前記真空容器外に放出する吸引手段が備えられ、
前記測定手段は、前記吸引手段に最も近い位置に配置された前記光学素子に設けられたことを特徴とする請求項10に記載のX線照射装置。
【請求項13】 X線源から放射された光を光学素子を介して、パターンが形成されたマスクに照射しかつ感光剤が設けられた基板上にマスクの像を投影する露光方法において、
前記光学素子から放出される電子を検出して、前記検出された電子のうち、所定のエネルギー範囲の電子を選択して、前記選択されたエネルギー範囲内の前記電子を測定することで、前記光学素子の汚染状況を得て、露光することを特徴とする露光方法。
【請求項14】 請求項1乃至9のうちいずれか一項記載の測定装置を備えることを特徴とする露光装置。
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