JP2000340554A5 - - Google Patents
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Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000013531A JP4232307B2 (ja) | 1999-03-23 | 2000-01-21 | バッチ式熱処理装置の運用方法 |
| US09/532,901 US6306764B1 (en) | 1999-03-23 | 2000-03-22 | Batch type heat-treating method |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-77169 | 1999-03-23 | ||
| JP7716999 | 1999-03-23 | ||
| JP2000013531A JP4232307B2 (ja) | 1999-03-23 | 2000-01-21 | バッチ式熱処理装置の運用方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000340554A JP2000340554A (ja) | 2000-12-08 |
| JP2000340554A5 true JP2000340554A5 (en:Method) | 2006-09-28 |
| JP4232307B2 JP4232307B2 (ja) | 2009-03-04 |
Family
ID=26418276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000013531A Expired - Lifetime JP4232307B2 (ja) | 1999-03-23 | 2000-01-21 | バッチ式熱処理装置の運用方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6306764B1 (en:Method) |
| JP (1) | JP4232307B2 (en:Method) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20030049372A1 (en) * | 1997-08-11 | 2003-03-13 | Cook Robert C. | High rate deposition at low pressures in a small batch reactor |
| JP3497450B2 (ja) | 2000-07-06 | 2004-02-16 | 東京エレクトロン株式会社 | バッチ式熱処理装置及びその制御方法 |
| JP4686887B2 (ja) * | 2001-04-09 | 2011-05-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法 |
| JP2002329717A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の熱処理方法及びバッチ式熱処理装置 |
| JP4731755B2 (ja) * | 2001-07-26 | 2011-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 移載装置の制御方法および熱処理方法並びに熱処理装置 |
| US6975917B2 (en) | 2001-08-08 | 2005-12-13 | Tokyo Electron Limited | Heat treatment method and heat treatment device |
| JP2003051497A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-21 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理方法および熱処理装置 |
| JP3853302B2 (ja) * | 2002-08-09 | 2006-12-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理方法及び熱処理装置 |
| JP4030858B2 (ja) * | 2002-10-30 | 2008-01-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置及び熱処理方法 |
| DE10340511B3 (de) * | 2003-09-03 | 2004-11-11 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Kontrolle von Batch-Anlagen |
| JP4586544B2 (ja) * | 2004-02-17 | 2010-11-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の酸化方法、酸化装置及び記憶媒体 |
| US9150953B2 (en) | 2004-08-13 | 2015-10-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device including organic semiconductor |
| JP5264013B2 (ja) * | 2004-08-13 | 2013-08-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 有機半導体層の成膜装置 |
| JP4455225B2 (ja) * | 2004-08-25 | 2010-04-21 | Necエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| US7972703B2 (en) * | 2005-03-03 | 2011-07-05 | Ferrotec (Usa) Corporation | Baffle wafers and randomly oriented polycrystalline silicon used therefor |
| JP2014045168A (ja) | 2012-07-30 | 2014-03-13 | Tokyo Electron Ltd | 不純物拡散方法 |
| FR3036200B1 (fr) * | 2015-05-13 | 2017-05-05 | Soitec Silicon On Insulator | Methode de calibration pour equipements de traitement thermique |
| WO2018087794A1 (ja) * | 2016-11-14 | 2018-05-17 | 信越化学工業株式会社 | 高光電変換効率太陽電池の製造方法及び高光電変換効率太陽電池 |
| US10741426B2 (en) * | 2017-09-27 | 2020-08-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for controlling temperature of furnace in semiconductor fabrication process |
| KR102384558B1 (ko) * | 2017-09-27 | 2022-04-08 | 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 프로그램 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07105357B2 (ja) * | 1989-01-28 | 1995-11-13 | 国際電気株式会社 | 縦型cvd拡散装置に於けるウェーハ移載方法及び装置 |
| JP3073627B2 (ja) * | 1993-06-14 | 2000-08-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
-
2000
- 2000-01-21 JP JP2000013531A patent/JP4232307B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-22 US US09/532,901 patent/US6306764B1/en not_active Expired - Lifetime