JP2000338000A - 電子ディスプレイ装置の画素欠陥検査方法、および、電子ディスプレイ装置の製造方法 - Google Patents

電子ディスプレイ装置の画素欠陥検査方法、および、電子ディスプレイ装置の製造方法

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JP2000338000A
JP2000338000A JP2000072450A JP2000072450A JP2000338000A JP 2000338000 A JP2000338000 A JP 2000338000A JP 2000072450 A JP2000072450 A JP 2000072450A JP 2000072450 A JP2000072450 A JP 2000072450A JP 2000338000 A JP2000338000 A JP 2000338000A
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Tatsuo Horiuchi
立夫 堀内
Kaoru Sakai
薫 酒井
Toshiro Asano
敏郎 浅野
Hirobumi Nakatoyotome
博文 中豊留
Atsuo Osawa
敦夫 大沢
Tadashi Furukawa
正 古川
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Abstract

(57)【要約】 【課題】電子ディスプレイを撮像検査にあたり、発生す
るモアレを低減して、画素欠陥の発見を容易にして検査
精度を向上させ、かつ、その画素欠陥を定量的に評価す
る。 【解決手段】電子ディスプレイと、撮像素子との相対位
置を画素ピッチの1/nづつ微小量変化させ、n枚の画
像を画素毎に並べて、撮像時に生じる撮像モアレを低減
させる様に、画像データの値の移動平均をとることによ
り合成し、その合成画像により、その電子ディスプレイ
の画素欠陥を検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ディスプレイ
装置の画素欠陥検査方法、および、電子ディスプレイ装
置の製造方法に係り、特に、プラズマディスプレイやブ
ラウン管などを撮像して検査する際に、欠陥の検出を容
易にして検査の精度向上を図り、その欠陥を定量的に評
価しうる画素欠陥検査方法、および、欠陥の修正を容易
におこなえる電子ディスプレイ装置の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】自発光型電子ディスプレイの代表的なも
のとしては、ブラウン管とプラズマディスプレイパネル
があり、これらは、テレビジョン受像機、コンピュータ
ディスプレイなどに広く使用されている。
【0003】ところで、これらのディスプレイは、パネ
ル上の蛍光体が発色する方法を取っているため、製造時
には、パネルに蛍光体を均一に塗布する必要がある。製
造工程で、塗布した蛍光体が欠落していると、発光しな
い画素欠陥が発生する。このような欠陥は、画面表示を
したときには、黒点として見え、ディスプレイの画像品
質をおおきく損なうこととなる。
【0004】このため、従来は、蛍光体を塗布したあ
と、目視で、欠落した画素がないかどうか検査し、か
つ、完成したディスプレイに対しても黒点がないかどう
かを目視で検査してから、出荷していた。そして、欠陥
が発見されたときには、全ての蛍光体を剥離して再び蛍
光体を塗布しなおすという作業をおこなっていた。
【0005】従来、電子ディスプレイの画素数がそれほ
ど多くないときには、目視検査でもさほどの作業上の困
難はなかった。しかしながら、現在の高解像度のディス
プレイでは、画素の数が何百万画素のオーダーになって
いるため、目視検査では、熟練検査員の不足、検査員の
高齢化などから欠陥の見逃しが発生する。
【0006】また、目視で検査していたため、正確な欠
陥位置がわからず、このため、欠落した部分に蛍光体を
塗布する修正作業もできず、全ての蛍光体を塗布しなお
すという無駄な作業が必要であった。また、目視検査で
は、画素欠陥の状況を定量的に評価したり、その状況を
詳しくレポートすることはできず、欠陥の状況により、
製造されたディスプレイを等級分けして出荷することも
できなかった。
【0007】一方、製品自体の要請としては、無欠陥で
高画質化、かつ品質の良い製品が求められているため、
製造工程における画素欠陥の自動検出と修正が重要な課
題となってきた。このような要請により、電子ディスプ
レイの製造工程における検査方法としては、固体撮像素
子を用いたテレビカメラで、ディスプレイの画面を撮像
して、それを画像処理し画素欠陥を自動検出する方法が
おこなわれている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】この方法では、固体撮
像素子の数がディスプレイの画素数よりも十分大きい場
合には問題ないが、ディスプレイの画素数が多くなり、
撮像素子の画素数とディスプレイの画素数が同じ程度に
なると、撮像した画面上にモアレ(撮像モアレ)が発生
する。
【0009】このモアレは、撮像画像を標本化して画像
処理する際に、ディスプレイの表示解像度に対して撮像
素子の解像度が不足して、ナイキスト周波数以上の信号
成分による折り返しひずみが発生することによるもので
ある。
【0010】このため、従来は、撮像レンズをデフォー
カスすることにより、ナイキスト周波数以上の信号成分
を抑制し、モアレの発生を低減していた。ところが、レ
ンズをデフォーカスすると、黒点のコントラストも低下
するため、小さな黒点が検出できないなど、検出精度に
悪くなるという問題点があった。
【0011】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたもので、その目的は、電子ディスプレイを撮像し
て、その欠陥を検査するにあたり、発生するモアレを低
減して、欠陥の発見を容易にして検査精度を向上させ、
かつ、その画素欠陥を定量的に評価しうる画素欠陥検査
方法を提供することにある。また、その目的は、ディス
プレイの欠陥を容易に修正することができ、製造品を客
観的に評価しうる電子ディスプレイ製造方法を提供する
ことにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の電子ディスプレイ製造における画素欠陥検
査方法に係る発明の第一の構成は、電子ディスプレイを
撮像して、その撮像画像により、その電子ディスプレイ
の画素に生じる欠陥を検査する電子ディスプレイ製造に
おける画素欠陥検査方法において、被写体たる電子ディ
スプレイと、撮像素子との相対位置を微小量変化させ、
複数の撮像した画像データを得て、撮像時に生じる撮像
モアレを低減させる様に、前記画像データを合成し、そ
の電子ディスプレイの画素欠陥を検出するようにしたも
のである。
【0013】この検査方法により、被写体と撮像素子の
相対位置を画素ピッチの何分の一かにずらして撮像する
画素ずらし撮像により、撮像モアレがキャンセルされ、
画素欠陥を自動検出することが容易になる。例えば、1
/2画素ずらすことにより、撮像モアレの位相は、18
0度変化するので、ずらしてないときと、ずらしたとき
との画像を加算することにより、モアレ成分をキャンセ
ルすることができる。
【0014】撮像素子を1/2画素ずらすには、たとえ
ば、ピエゾ圧電素子を用いた2軸テーブルに撮像素子を
固定しておくことにより、微少に撮像素子を移動させ、
画素ずらしをおこなうことができる。また、1/2画素
ずらしを水平・垂直方向に行うと、撮像画素数として
は、4倍になり、解像度としては、ずらしのないときに
比べ、2倍になり、モアレ低減とともに、高解像度化も
同時に図ることができる。
【0015】上記目的を達成するために、本発明の電子
ディスプレイ製造における画素欠陥検査方法に係る発明
の第二の構成は、電子ディスプレイを撮像して、その撮
像画像により、その電子ディスプレイの画素に生じる欠
陥を検査する電子ディスプレイ製造における画素欠陥検
査方法において、撮像により得られた画像データに対し
て空間微分処理をおこなうことにより画素欠陥位置を求
めて、その画素欠陥の輝度値と、その画素欠陥の周りと
の輝度値との比に定義される欠陥コントラストを求め
て、その画素欠陥の定量的評価を行うようにした。
【0016】この検査方法では、上記で得られたモアレ
のない画像を、空間微分処理することにより、画素欠陥
(黒点)を強調して検出し、欠陥コントラストを求め
る。また、その他に、欠陥位置、大きさ、欠陥密度など
も自動計算することができる。
【0017】上記目的を達成するために、本発明の電子
ディスプレイの製造方法に係る発明の構成は、パネルに
蛍光体を含む電子ディスプレイの製造方法において、画
素単位で蛍光体の欠落を検査し、その欠落が発見された
部分に対して蛍光体を補填するようにした。
【0018】電子ディスプレイが、プラズマディスプレ
イ、ブラウン管である場合に、蛍光体塗布の後でこの検
査をすると、蛍光体の塗布されていない画素の位置がわ
かるので、蛍光体のはいったマイクロシリンジを位置決
めして、欠落した蛍光体を修正塗布することにより、画
素欠陥をなくすことができる。
【0019】また、パネルに通電して点灯しておこなう
検査工程で、この検査をおこなうことにより、画素欠陥
の位置、個数、欠陥コントラスト、密度などから、客観
的にディスプレイの等級を決めることができ、それらを
記載したシールを添付して出荷すれば、顧客ニーズにあ
った高品質のディスプレイを提供することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る第1の実施形
態を、図1ないし図14を用いて説明する。
【0021】〔電子ディスプレイの製造工程と、画素欠
陥検出装置〕先ず、図1を用いて本発明に係る電子ディ
スプレイの製造工程を説明する。
【0022】図1は、本発明に係る電子ディスプレイ製
造工程の全体図である。
【0023】ここでは、プラズマディスプレイパネルの
場合を例にとるが、他のデバイス、例えば、ブラウン管
にも適用可能である。また、液晶ディスプレイ(LC
D)にも、適用可能であるが、このデバイスの場合は、
画素欠陥を修正する工程はない。
【0024】蛍光体を塗布するパネルは、背面パネルと
呼ばれ、リブ製作工程P1で、画素を空間的に分離する
ためのリブ(障壁)を製作する。蛍光体塗布工程P2で
は、そのリブとリブの間(すなわち、画素)に蛍光体を
塗布する。
【0025】次に、蛍光体が欠陥無く塗布されているか
どうかを、画素欠陥検査工程P3で検査する。そして、
この検査により得られた画素欠陥情報I10を用いて、
欠陥修正工程P4で、欠落している蛍光体の部分にマイ
クロシリンジ等を使って、不足している蛍光体を追加塗
布する。画素欠陥情報I10とは、欠陥の位置、大き
さ、コントラスト、密度などである。従来の製造方法で
は、欠陥が見つかった場合には、全ての蛍光体を剥離し
て、塗り直しをおこなっていたが、この方法によれば欠
陥のあった位置だけに着目して、修正するため、歩留ま
り向上に寄与することができる。
【0026】欠陥修正が終わると、組立工程P5で、プ
ラズマディスプレイパネルの場合は、前面板と組合せ、
シールをおこない、真空引きする。この組立工程5の後
に、画素欠陥検査工程P3′で、そのパネルを点灯させ
た状態で、画素の欠陥を自動検査する。そして、等級判
定工程P7で、得られた画素欠陥情報に基づき、無欠陥
のものは、グレード1、1〜2個のものは、グレード2
という具合に等級判定する。最後に、シート添付工程P
8で、画素欠陥検査結果シート8を添付して出荷する。
ブラウン管の場合は、リブ製作工程P1がBM(ブラッ
クマトリクス)製作工程となり、組み立て工程P5で
は、ファンネル、電子銃と組み合わせることになる。
【0027】次に、図2を用いて画素欠陥検査装置の構
成を説明する。
【0028】図2は、本発明に係る画素欠陥検査装置の
構成図である。
【0029】この画素欠陥検査装置は、上記の画素欠陥
検査工程P3で使われるものである。
【0030】電子ディスプレイ11は、1回目の画素検
査工程P3では、紫外線照明28により照明されて蛍光
体が発光しており、2回目の画素検査工程P3′では、
パネルを点灯させた状態で検査するため、信号発生器2
7により、単色(赤、緑、青)もしくは、白で点灯して
いる。
【0031】画素ずらしカメラ13には、撮像素子15
が、Xステージ16、Yステージ17の上に固定されて
いる。ピエゾ圧電素子18は、Xステージ16、Yステ
ージ17の個々に取りつけられている。そして、Xステ
ージ16、Yステージ17は、このピエゾ圧電素子18
により、微少距離を正確に移動することができる。
【0032】電子ディスプレイ11の発光状態は、レン
ズ12を通して撮像素子15に投影される。撮像素子1
5の出力は、映像信号処理回路20を通して画像処理装
置14に入力される。入力された映像信号は、A/D変
換回路21でデジタル化され、画像メモリ22に記憶さ
れる。画像メモリ22の内容は、コンピュータ25によ
り解析・計算される。
【0033】また、コンピュータ25の指示により、制
御回路23が動作し、直流電源24を制御することによ
り、Xステージ16、Yステージ17を所定距離駆動す
ることができる。さらに、制御回路23は、映像信号処
理回路20、A/D変換回路21、画像メモリ22のタ
イミングを役割も担っている。コンピュータ25は、画
素欠陥の位置、コントラスト、大きさ、密度などを計算
し、画素欠陥情報I10として、外部に出力する。
【0034】なお、この図の例では、電子ディスプレイ
11と撮像素子15の相対距離を変化させるのに、撮像
素子を動かしたが、その他にも、電子ディスプレイ11
を動かす方法、また、画素ずらしカメラ13を動かす方
法などが可能である。
【0035】〔画素欠陥検査方法〕次に、図3ないし図
11を用いて本発明に係る電子ディスプレイの画素欠陥
検査方法について説明する。
【0036】先ず、図3を用いて本発明に係る電子ディ
スプレイの画素欠陥検査方法の手順の概略について説明
する。
【0037】図3は、本発明に係る電子ディスプレイの
画素欠陥検査方法の手順を示すフローチャートである。
【0038】本発明の電子ディスプレイの画素欠陥検査
方法では、図2に示した検査装置の方法などによって、
検出時に撮像によるモアレをキャンセルするために、デ
ィスプレイと撮像素子の相対位置を、微小量変化して撮
像する(S51)。例えば、縦横1/2画素ずらしたと
きには、画素ずらし撮像51で、4枚の画像が得られ
る。次に、撮像した数枚の画像を合成する(S52)。
このようにそれぞれの画像を合成することにより、モア
レをキャンセルした画像が得られる。このモアレをキャ
ンセルする原理については、後に詳しく説明する。
【0039】次に、得られた画素データに対して、検出
性能を上げるため、空間微分処理をおこなう(S5
3)。空間微分処理S53とは、画像処理では一般的な
技術であり、上下左右の画素値との差分をとることによ
り、画素値の変化を強調する処理である。この空間微分
処理S53をおこなうことにより、画素欠陥を強調する
ことができる。そして、空間微分処理をおこなった画像
を2値化して(S54)、欠陥位置を求める。そして、
S52で合成された画像に対して、欠陥コントラスト、
大きさなどの欠陥情報を算出する。この欠陥情報を算出
する過程についても後に説明する。
【0040】(I)モアレ発生とモアレを除去する原理 次に、図4ないし図5を用いてモアレ発生とモアレを除
去する原理について説明する。
【0041】図4は、検査時のディスプレイの撮像によ
り生じるモアレの様子を示す模式図である。
【0042】図5は、モアレを除去する原理を説明する
ための図である。
【0043】上述の様に、画素ピッチに比べて撮像素子
の画素ピッチが大きいなどのときには、折り返しひずみ
などの要因によりモアレが生じる。この撮像モアレの様
子は、撮像倍率や、電子ディスプレイ1の種類、画素ピ
ッチなどにより、各種のものが発生する。撮像モアレ
は、図4に示されるように、画像上に波模様で発生す
る。ここで、図3(a)は、画像上の撮像モアレ31の
強い部分を黒くして強調したものであり、図3(b)
は、(a)をA−A′断面の画面の明るさ(モアレ波
形)の様子を示している。
【0044】そして、このパネル上に画素欠陥32があ
ったとすると、撮像モアレ31とともに存在するため、
空間微分等の画像処理をしても、撮像モアレ31の微分
出力がでてきて、画素欠陥による微分出力との区別が困
難な場合が多い。
【0045】そこで、モアレをキャンセルするために、
被写体たる電子ディスプレイと撮像素子を微小量ずらし
て撮像する。図5(a)に示される様に、画素ずらしを
おこなっていないときのモアレ波形41に対して、画素
ピッチの1/2をずらしたときには、位相は、180度
変化して、モアレ波形42が出力される。そこで、画像
を合成すると、モアレ波形に関しては、元のモアレ波形
41と1/2画素ずらしをおこなったときの波形は合成
されることになるため、波形43は平坦になり、モアレ
がキャンセルされたことになる。なお、図5は、簡単の
ために一次元で説明しているが、二次元でも原理は同様
である。
【0046】また、図5(b)に示される様に、画素ピ
ッチの1/3ずらしたときには、位相は、元の波形41
に対して、120度ずれ、モアレ波形44になり、画素
ピッチの2/3ずらしたときには、位相は、元の波形4
1に対して、240度ずれることになる。したがって、
画像を合成することにより、これらの3つの波形を合成
すれば、平坦な波形46が得られて、モアレがキャンセ
ルされることになる。
【0047】同様に、画素ピッチの1/nずらしたとき
には、位相は、2π/nずれ、それらのn個の画像を合
成すればモアレがキャンセルされ、合成した画像から撮
像モアレが除去できることになる。
【0048】(II)モアレ除去と、欠陥検出のための
具体的な処理 次に、図6ないし図9を用いて上で説明した原理に基づ
くモアレを除去して、欠陥を発見する処理をより具体的
に説明する。
【0049】図6は、画像を合成する処理を説明するた
めの模式図である。
【0050】図7は、モアレ波形と、その合成を具体的
に示した図である。
【0051】図8は、モアレ波形と、その合成波形で、
画素欠陥が現れたときの様子を示した図である。
【0052】図9は、図8の波形を別々に示した図であ
る。
【0053】ここでは、縦横に1/2画素づつずらし
て、その合成画像を作ることを想定する。
【0054】I1は、画素をずらしていないときの画像
(l×m画素)、I2は、I1に対して水平方向に1/
2画素ずらしたときの画像、I3は、水平・垂直方向に
それぞれ1/2画素ずらしたときの画像、I4は、垂直
方向にのみ1/2画素ずらしたときの画像である。これ
ら4枚の画像をずらした方向を考えて組み合わせること
により、2l×2mの画素数の高解像度な画像Icを得
ることができる。
【0055】この画像は、位相が反転したモアレを含ん
だ画像データが並んでいるため、人間が画像を見る限り
では、モアレはなくなったように見える。これは、人間
の目の解像度がディスプレイより低いため、隣同士の画
素値が平均化されるためである。
【0056】画像処理をおこなうときは、これでは都合
が悪いので、図6に示すように、A11,B11,C1
1,D11の画素値の平均をとり、E11とする。次
に、隣のB11,A12,D12,C11の画素値の平
均をとり、E12とする。以下、順次平均を取る場所を
移動させていき、移動平均画像Imを作成する。これに
よって、モアレが除去でき、従来よりも4倍の画素数を
持つ高解像度の画像が作成されたことになる。
【0057】同様に、1/n画素ずらして、合成画像を
作成すれば、モアレが出ない、分解能nの二乗の分解能
を持つ高解像度の画像を作成することができる。
【0058】この画像処理を理解するために、モアレ波
形と欠陥があるときの様子について説明しよう。ここで
は、説明を分かり易くするため一次元に簡易化して説明
する。いま、画像データが撮像モアレを含んでおり、そ
れぞれ、I1,I2の波形で示されるする。ここで、各
波形の画素にあたるAiと、Bi+1の平均をとると、Ei+
1の点になり、合成波形I5が得られる。このように移
動平均処理をした合成波形I5は、モアレが、元の波形
よりも格段に小さくすることができる。
【0059】このときには、画素欠陥があると、図8に
示すように、その部分だけ暗くなり、出力が小さくな
る。これを各波形別に示すと、図9に示すようになる。
このように、I1やI2の波形では、欠陥部の検出は困
難であるが、移動平均処理を行ったI5では、2値化の
ような簡単な処理でも、欠陥部が検出することができ、
検査の精度向上を図ることができる。また、解像度も、
上述のように2倍に向上しているので、欠陥が見つけや
すくなりその点でも検査の精度向上を図ることができ
る。
【0060】(III)欠陥情報計算処理での欠陥コント
ラスト 次に、図10および図11を用いて欠陥情報計算処理で
の欠陥コントラストについて説明する。
【0061】図10は、パネル上に生じた欠陥を示す模
式図である。
【0062】図11は、欠陥とその周囲の輝度値の様子
を示した図である。
【0063】空間微分処理S53をして、2値化処理S
54により、図10に示す様にパネル上に欠陥位置が発
見されたとする。例えば、欠陥D1の欠陥位置が特定さ
れたときには、図11に示す様に、その周りの輝度値を
測定して、欠陥コントラストをする。ここで、欠陥コン
トラストとは、例えば、図11の(式1)で定義でき
る。ここで、V1は、欠陥のない部分の輝度値で、V2
は、欠陥部分の輝度値(その最小値)である。この定義
によれば、欠陥がないときには、0%になり、欠陥の度
合いが大きいときには、欠陥コントラストの値も大きく
なり、これにより、欠陥の定量的な評価が可能になる。
【0064】〔欠陥修正工程での欠陥の修復〕次に、図
12および図13を用いて欠陥修正工程P4で欠陥を修
復処理について説明する。
【0065】図12は、プラズマディスプレイパネルの
蛍光体塗布工程P2で蛍光体欠落71が発生したときの
様子を示す図である。図12(a)は、上面図であり、
(b)は、(a)のB−B′断面図である。
【0066】図13は、蛍光体修正工程で欠陥を修復す
るときの様子を示す図である。ここで、図13(a)
は、プラズマディスプレイパネルのようなストライプ型
に対して、修復するときの斜視図、(b)は、CRTの
ようなドット型のときの様子の斜視図である。すなわ
ち、蛍光体欠落71の部分に蛍光体73のはいったマイ
クロシリンジ72で、不足している蛍光体70を修正塗
布する。
【0067】〔画素欠陥検査結果シート〕最後に、図1
4を用いて製品出荷の際に添付される画素欠陥検査結果
シートについて説明する。
【0068】図14は、画素欠陥検査結果シートの一例
を示す図である。
【0069】製品出荷の際には、各々のディスプレイ
に、これまでの検査によって、得られた情報を画素欠陥
検査結果シートに表示して出荷する。この例では、グレ
ード(等級)、画素欠陥位置と欠陥の程度を表す欠陥コ
ントラストなどを記述している。
【0070】これにより、各々のグレードに応じて、出
荷値段を変えるなどの柔軟な扱いが可能になる。特に、
ディスプレイの高精細化が進んでいるため、現実の使用
に差し支えない程度の欠陥を許容して出荷しなければな
らないこともあるため、現実的に有効な手段である。
【0071】以下、本発明に係る第2の実施形態を、図
15ないし図22を用いて説明する。図15は均一な発
光強度のディスプレイ画素とその撮像画像の画素値との
関係を、模式的に1次元で表現した図である。ディスプ
レイ画素のピッチをHp=1、発光幅をaHpとする。aは
ディスプレイ画素の開口率に相当するもので、ここでは
a=0.6とする。撮像画素のピッチp=0.6とす
る。撮像画素値A1〜A9に対して、0.5Hp、すな
わち、ディスプレイ画素ピッチの1/2ずらした撮像画
素値をB1〜B9に示す。
【0072】合成した撮像画素値C1〜C10は、各
々、C1=(A1+B1)/2、C2=(A2+B2)
/2、...、C10=(A10+B10)/2のよう
に、元の撮像画像と1/2ピッチずらした撮像画像を対
応する画素ごとに平均したものである。前記実施例にお
いて、「画素ずらしをおこなっていないときのモアレ波
形41に対して、画素ピッチの1/2をずらしたときに
は、位相は、180度変化して、モアレ波形42が出力
される。そこで、画像を合成すると、モアレ波形に関し
ては、元のモアレ波形41と1/2画素ずらしをおこな
ったときの波形は合成されることになるため、波形43
は平坦になり、モアレがキャンセルされたことにな
る。」と記載したように、合成した画像のモアレは抑制
されているものの、この例では完全にキャンセルされる
までには至っていない。以下、その原因について明らか
にし、完全にモアレをキャンセルする方法について開示
する。
【0073】図16は図15の撮像条件を、フーリエ変
換したものである。空間周波数uは図15の横軸「位
置」の逆数である。図16の縦軸はスペクトルS(u)
であり、対応する空間周波数成分の程度を示すものであ
り、一般に複素数値を取るが、この例では虚数部分が零
であるため実数になる。
【0074】以下、モアレの発生メカニズムを明らかに
する。空間周波数u=0〜1/(2p)の部分100
に、幅1/(2p)で部分100とN/p、N=整数だ
け離れた部分101を重ねたときに、部分101の中に
零ではないスペクトルが存在する場合、部分100の空
間周波数の範囲0〜1/(2p)におけるその非零スペ
クトルの空間周波数値に対応する空間周波数をもつモア
レが発生する。
【0075】図16では、モアレの原因となるスペクト
ルを楕円で囲み、空間周波数の範囲0〜1/(2p)に
おけるモアレ空間周波数値を矢印とし、両者の対応関係
を示している。
【0076】一方、発生するモアレの強さは、部分10
1での非零スペクトルの空間周波数値をu'とすれば、
図15の撮像条件ではsinc(pu')=sin(pp
u')/(ppu')を前記非零スペクトルの値に乗じた
ものになる。sinc(x)は図18のように、|x|
が大きくなるにつれて、減衰振動する関数であるため、
部分101での非零スペクトルの|u'|が大きくなる
にしたがい、それによるモアレは弱くなる。
【0077】図17は前記aを限りなく零に近づけた場
合のディスプレイ画素の発光強度とそれに対するスペク
トルである。スペクトルの値は図16と異なり|u'|
がいくら大きくなっても一定値のままで減衰することは
ない。ディスプレイ画素開口率の影響は、図17のスペ
クトルにsinc(au)を乗じることであり、その結
果が図16のスペクトルと等しいことは自明である。
【0078】Hp=1として0、1/n、……、(n−
1)/nずらして撮像したディスプレイ画素を平均した
ときのスペクトルは、図17のスペクトルに(数1)を
乗じたものになる。
【0079】
【数1】
【0080】図19は0、1/2ずらして平均したとき
のスペクトルであり、2k、k=整数のスペクトル以外
は零になる。図20は0、1/3、2/3ずらして平均
したときのスペクトルあり、3k、k=整数のスペクト
ル以外は零になる。一般化すると、0、1/n、……、
n−1/nの場合は、nk、k=整数のスペクトル以外
は零になる。上記のずらし平均により残る非零スペクト
ルの空間周波数nkにおいて、sinc(ank)=0
になれば、モアレが完全にキャンセルされることにな
る。このことは、an=正の整数となるnにより実現で
きる。実現上のコストを考えれば、anが最小になるn
を選択することが妥当である。図15、図16の例で
は、a=0.6であるからn=5、すなわち0、1/
5、2/5、3/5、4/5ずらして平均すれば、モア
レを完全にキャンセルすることができる。
【0081】2次元の場合についても、図21、図22
のようにディスプレイ画素の形状が矩形であれば、水平
方向、垂直方向を独立に扱うことができる。これは、1
次元のディスプレイ画素開口率の影響sinc(au)
が、2次元ではsinc(aHpu)×sinc(bVp
v)になることから自明である。ここで、aは水平方向
のディスプレイ画素開口率、bは垂直方向のディスプレ
イ画素開口率、Hpは水平方向ピッチ、Vpは垂直方向ピ
ッチであり、図のように定義する。また、uは水平方向
の空間周波数、vは垂直方向の空間周波数である。
【0082】図21はプラズマディスプレイや液晶ディ
スプレイの画素配列(矩形配列)の例であり、図22は
ブラウン管の画素配列(三角形配列)の例である。いず
れの場合も画素配列には関係なく、水平、垂直個別にモ
アレを完全にキャンセルするnを前記手段により決定す
ることができる。
【0083】一方、ディスプレイ画素の形状が矩形では
ない場合は、ディスプレイ画素開口率の影響をsinc
関数では表せないため、モアレを完全にキャンセルする
nを求めることはできない。図23は楕円(1次Bes
sel関数で表せる)であり、通常のブラウン管の画素
はこれに近い形状をもつ。図24は液晶ディスプレイの
鍵穴形状の画素であり、ディスプレイ画素開口率の影響
を解析的に関数表現することはできない。
【0084】ディスプレイ画素開口率の影響がsinc
関数ではない画素形状について、本発明に係る異なる一
実施形態を、図25ないし図27を用いて説明する。
【0085】図25はディスプレイ画素配列が矩形配列
の場合のモアレ発生メカニズムを示す図であり、図26
はディスプレイ画素配列が三角形配列の場合のモアレ発
生メカニズムを示す図である。水平方向、垂直方向の撮
像画素のピッチをpとする。ディスプレイ画素の水平方
向ピッチHp、垂直方向ピッチVpは、図21、図22の
定義とする。図25、図26の黒丸は、ディスプレイ画
素配列によるスペクトルが非零である空間周波数(u,
v)の座標点に対応する。
【0086】図16の1次元の場合と同様に、図25、
図26においてモアレの発生メカニズムを明らかにす
る。空間周波数u=0〜1/(2p)、v=0〜1/
(2p)の部分102に、水平幅、垂直幅とも1/(2
p)で部分102とuがN/p、N=整数、vがM/
p、M=整数だけ離れた部分103を重ねたときに、部
分103の中に零ではないスペクトルが存在する場合、
部分102の空間周波数の範囲u=0〜1/(2p)、
v=0〜1/(2p)におけるその非零スペクトルの空
間周波数値に対応する空間周波数をもつモアレが発生す
る。例えば、図21、図22の非零スペクトル105
は、折り返し104により非零スペクトル106の空間
周波数値をもつモアレのスペクトルになる。
【0087】一方、発生するモアレの強さは、部分10
3での非零スペクトルの空間周波数値(u',v')にお
けるディスプレイ画素開口率の影響とsinc(p
u')×sinc(pv')との積に比例した値になる。
|u'|あるいは|v'|が大きくなるにしたがい、モア
レの強さは減衰していく。
【0088】予めディスプレイ画素開口率の影響を定量
化しておけば、モアレスペクトル106の中で最大強度
のスペクトルを計算により求めることができる。さら
に、最大のモアレスペクトル106に対応する部分10
3内の非零スペクトル105の空間周波数値(u'1,
v'1)も計算で求めることができる。同様にして、2番
目に強いモアレスペクトルに対する部分103内の非零
スペクトル105の空間周波数値(u'2,v'2)を求め
ることができる。
【0089】モアレスペクトルの位相を180度反転さ
せる画素ずらしはexp{j2pp(hu’+xv’)}=-1であること
から、(u'1,v'1)、(u'2,v'2)に対するモアレ
スペクトルをキャンセルするh、xは、(数2)の1次連立
方程式により一意的に求めることができる。ここで、
(数2)の画素ずらし比率h、xは、撮像画素ピッチpに対
する比率である。
【0090】
【数2】
【0091】前記ディスプレイ画素開口率の影響を定量
化する方法を説明する。図24の液晶ディスプレイの鍵
穴形状画素を例に取る。図27のように適当な大きさの
鍵穴形状画素を1つ含む画像データを作成する。画像デ
ータは鍵穴形状画素以外の値をすべ零とし、鍵穴形状画
素を画像データの概ね中心付近に設置する。この画像デ
ータに対してフーリエ変換を施し空間周波数に対するス
ペクトルデータ(複素数値)を算出する。図25、図2
6のディスプレイ画素配列によるスペクトルに、対応す
る空間周波数値の前記スペクトルデータを乗じることに
より、ディスプレイ画素開口率の影響を定量化すること
ができる。
【0092】本実施例では、キャンセルするモアレの選
択基準をモアレの強度としているが、それに拘束される
ものではなく、選択基準を自由に決定してもかまわな
い。例えば、特定の空間周波数成分をもつモアレをキャ
ンセルすることも可能である。
【0093】
【発明の効果】本発明によれば、電子ディスプレイを撮
像して、その欠陥を検査するにあたり、発生するモアレ
を低減して、欠陥の発見を容易にして検査精度を向上さ
せ、かつ、その画素欠陥を定量的に評価しうる画素欠陥
検査方法を提供することができる。また、本発明によれ
ば、ディスプレイの欠陥を容易に修正することができ、
製造品を客観的に評価しうる電子ディスプレイ製造方法
を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電子ディスプレイ製造工程の全体
図である。
【図2】本発明に係る画素欠陥検査装置の構成図であ
る。
【図3】本発明に係る電子ディスプレイの画素欠陥検査
方法の手順を示すフローチャートである。
【図4】検査時のディスプレイの撮像により生じるモア
レの様子を示す模式図である。
【図5】モアレを除去する原理を説明するための図であ
る。
【図6】画像を合成する処理を説明するための模式図で
ある。
【図7】モアレ波形と、その合成を具体的に示した図で
ある。
【図8】モアレ波形と、その合成波形で、画素欠陥が現
れたときの様子を示した図である。
【図9】図8の波形を別々に示した図である。
【図10】パネル上に生じた欠陥を示す模式図である。
【図11】欠陥とその周囲の輝度値の様子を示した図で
ある。
【図12】プラズマディスプレイパネルの蛍光体塗布工
程P2で蛍光体欠落71が発生したときの様子を示す図
である。
【図13】蛍光体修正工程で欠陥を修復するときの様子
を示す図である。
【図14】画素欠陥検査結果シートの一例を示す図であ
る。
【図15】均一な発光強度のディスプレイ画素をとその
撮像画像の画素値との関係を1次元で表現した図であ
る。
【図16】図15の撮像条件に対する空間周波数対スペ
クトルを示す図である。
【図17】ディスプレイ画素開口率を限りなく零に近づ
けた場合のディスプレイ画素の発光強度とそれに対する
空間周波数対スペクトルを示す図である。
【図18】sinc(x)関数波形を示す図である。
【図19】0、1/2ピッチずらして平均したときの空
間周波数対スペクトルを示す図である。
【図20】0、1/3、2/3ピッチずらして平均した
ときの空間周波数対スペクトルを示す図である。
【図21】矩形の画素が矩形に配列している様子を示す
図である。
【図22】矩形の画素が三角形に配列している様子を示
す図である。
【図23】楕円の画素が三角形に配列している様子を示
す図である。
【図24】鍵穴形状の画素が矩形に配列している様子を
示す図である。
【図25】ディスプレイ画素配列が矩形配列の場合のモ
アレ発生メカニズムを示す図である。
【図26】ディスプレイ画素配列が三角形配列の場合の
モアレ発生メカニズムを示す図である。
【図27】ディスプレイ画素開口率の影響を定量化する
ために用いる画像データの一例を示す図である。
【符号の説明】
P1・・・リブ製作工程 P2・・・蛍光体塗布工程 P
3・・・画素欠陥検査工程 P4・・・欠陥修正工程 P5・・・組立工程 P7・・・
等級判定工程 P8・・・シート添付工程 I
10・・・画素欠陥情報 11・・・電子デイスプレイ 12・・・レンズ 13・・
・画素ずらしカメラ 14・・・画像処理装置 15・・・撮像素子 16・・・
Xステージ 17・・・Yステージ 18・・・ピエゾ圧
電素子 20・・・映像信号回路 21・・・A/D変換
回路 22・・・画像メモリ 23・・・制御回路 2
4・・・直流回路 25・・・コンピュータ 27・・・信号発生器 28・・
・紫外線照明 31・・・撮像モアレ 32・・・画素欠
陥 71・・・蛍光体欠落 72・・・マイクロシリンジ
73・・・蛍光体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 17/04 H04N 17/04 Z (72)発明者 酒井 薫 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 浅野 敏郎 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 中豊留 博文 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 (72)発明者 大沢 敦夫 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所デジタルメディアグルー プ内 (72)発明者 古川 正 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所デジタルメディアグルー プ内

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子ディスプレイ装置の画素欠陥検査方法
    であって、以下の工程を含むことを特徴とする、 電子ディスプレイ装置の表示画面と撮像手段の撮像素子
    との相対位置を微小量変化させながら前記撮像手段で前
    記電子ディスプレイ装置の表示画面を撮像して該表示画
    面の複数の画像データを得る工程、 該複数の画像データを合成して該複数の画像データのそ
    れぞれに含まれる撮像モアレを低減させた合成画像デー
    タを作成する工程、及び、 該合成画像データを用いて前記電子ディスプレイ装置の
    表示面の画素欠陥を検出する工程。
  2. 【請求項2】前記相対位置を微小量変化させることが、
    前記電子ディスプレイ装置の表示画面の画素のピッチの
    i/n(nは、2以上の整数,i=0,…,n−1)づ
    つ変化させることであることを特徴とする請求項1記載
    の電子ディスプレイ装置の画素欠陥検査方法。
  3. 【請求項3】前記検査の対象となる合成画像が、前記画
    素のピッチのi/nづつずらした画像を用いて元の画像
    データに対して、一辺についてn倍の解像度の画像を構
    成してその再構成した画像の画素の値について順次移動
    平均を取り、元の画像データに対して、一辺についてn
    倍の解像度の画像になるようにした画像であることを特
    徴とする請求項1記載の電子ディスプレイ装置の画素欠
    陥検査方法。
  4. 【請求項4】前記相対位置を微小量変化させることは、
    水平及び/または垂直方向へ変化させることであること
    を特徴とする請求項1記載の電子ディスプレイ装置の画
    素欠陥検査方法。
  5. 【請求項5】前記相対位置を微小量変化させることを、
    撮像素子を移動させることにより行うことを特徴とする
    請求項1記載の電子ディスプレイ装置の画素欠陥検査方
    法。
  6. 【請求項6】前記相対位置を微小量変化させることを、
    被写体たる電子ディスプレイを移動させることにより行
    うことを特徴とする請求項1記載の電子ディスプレイ装
    置の画素欠陥検査方法。
  7. 【請求項7】前記相対位置を微小量変化を、撮像素子を
    含むカメラ機構全体を移動させることにより行うことを
    特徴とする請求項1記載の電子ディスプレイ装置の画素
    欠陥検査方法。
  8. 【請求項8】前記相対位置を微小量変化させるステップ
    において、1回の微小量変化で元の画像で生じる撮像モ
    アレがもつ空間周波数のうち、1個、あるいは相異なる
    2個の撮像モアレ空間周波数成分の位相を180度反転
    させ、前記合成画像データを得るステップにおいて、前
    記微小量変化させるステップにおいて得た画像を元の画
    像データと合成することを特徴とする請求項1記載の電
    子ディスプレイ装置の画素欠陥検査方法。
  9. 【請求項9】電子ディスプレイ装置の画素欠陥検査方法
    であって、以下の工程を含むことを特徴とする、 電子ディスプレイ装置の表示面を撮像する工程、 該撮像により得られた画像のデータを用いて前記表示面
    の画素欠陥を検出する工程、 該検出した画素欠陥の輝度値と該画素欠陥の周りの画素
    との輝度値の比から欠陥コントラストを求める工程、及
    び、 該画素欠陥を定量的に評価する工程。
  10. 【請求項10】前記撮像する工程において前記表示面の
    第1の画像を得、次に該第1の画像と1画素分以下ずれ
    た複数の画像を得、これら第1の画像と複数の画像とを
    合成して合成画像を得、前記表示面の画素欠陥を検出す
    る工程において、前記合成画像の画素データに対して空
    間微分処理を行い、この空間微分処理を行った結果を用
    いて画素欠陥を検出することを特徴とする請求項9記載
    の電子ディスプレイ装置の画素欠陥検査方法。
  11. 【請求項11】電子ディスプレイ装置の画素欠陥検査方
    法であって、以下の工程を含むことを特徴とする、 電子ディスプレイ装置の表示画面を撮像手段で撮像する
    工程、 該撮像して得た前記表示画面の複数の画像を合成して撮
    像モアレを低減させた合成画像データを作成する工程、
    及び、 該合成画像データを用いて前記電子ディスプレイ装置の
    表示面の画素欠陥を検出する工程。
  12. 【請求項12】前記撮像するステップにおいて、前記表
    示画面を1画素分以下ずらして撮像した複数の画像を
    得、前記合成画像データを作成するステップにおいて、
    前記1画素分以下ずらして撮像した複数の画像を合成す
    ることにより撮像モアレを低減させた合成画像データを
    作成することを特徴とする請求項11記載の電子ディス
    プレイ装置の画素欠陥検査方法。
  13. 【請求項13】電子ディスプレイ装置の製造方法であっ
    て、以下の工程を含むことを特徴とする、 電子デイスプレイ装置の表示面の蛍光体の欠落を前記表
    示面の画素単位で検出する工程、および、 前記蛍光体の欠落が発見された部分に対して蛍光体を補
    填して前記表示面を補修する工程。
  14. 【請求項14】電子ディスプレイ装置の製造方法であっ
    て、以下の工程を含むことを特徴とする、 電子デイスプレイ装置の表示面の欠陥を検出する工程、 該検出した欠陥の情報に基づいて前記電子デイスプレイ
    装置の等級付けを行う工程、及び、 前記検出した欠陥の情報及び/または前記等級付けの情
    報を記録する工程。
  15. 【請求項15】前記検出した欠陥の情報及び/または前
    記等級付けの情報を記録することを、前記電子ディスプ
    レイ装置に添付することにより行うことを特徴とする請
    求項14記載の電子ディスプレイ装置の製造方法。
  16. 【請求項16】請求項14記載の電子ディスプレイ装置
    の製造方法であって、電子デイスプレイ装置の表示面の
    欠陥を検出する工程において、画素欠陥の個数、密度、
    位置、および、欠陥コントラストのうち少なくとも一つ
    を含む情報を欠陥情報として得ることを特徴とする請求
    項14記載の電子ディスプレイ装置の製造方法。
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