JP2000332069A - 接触子先端のクリーニング部材 - Google Patents

接触子先端のクリーニング部材

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直満 奈良
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亨 山▲崎▼
Naotoshi Hosoya
直利 細谷
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 寿命を短くすることなく、先端面及び先
端部外周に付着している異物を確実に除去すること 【解決手段】 クリーニング部材は、弾性体の表面に多
数の凹凸を形成し、この凹凸面全体に研磨材層を形成し
ている。クリーニング時に、プローブは、その先端部を
凹所に受け入れられて研磨材層に包み込まれる。これに
より、プローブの先端面及びそれより後方の先端部外周
に付着している異物は、研磨材層により除去される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路のような
平板状被検査体の検査に用いる接触子の先端部に付着し
た異物を除去するクリーニング部材に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエーハに形成された集積回路
(ICチップ部)、パッケージ前の集積回路(ICチッ
プ)、パッケージされた集積回路等の集積回路(IC)
の通電試験に用いるニードルタイプのプローブのような
接触子においては、先端(針先)が集積回路の電極部
(パッド又はリード)に押圧されることにより、先端が
電極部に対して滑り、電極部に擦り作用を与える。この
とき、電極部はその素材の一部を接触子先端により削り
取られる。
【0003】このため、この種の接触子においては、電
極部の素材の削り屑であるアルミニウム粉のような異物
が接触子の先端部(針先部)、特に接触子の先端部外周
に付着することを避けることができない。この種の異物
は、一般に、接触子の先端をクリーニング部材に押圧す
ることにより除去している。
【0004】この種のクリーニング部材の1つとして、
ゴム、スポンジ等の弾性体の表面に研磨材層を形成し又
はそのような弾性体に砥粒のような研磨材を混入して研
磨材層を形成し、接触子の先端を研磨材層に押圧するこ
とにより異物を除去するものがある(例えば、特開平1
0−300777号公報)。
【0005】しかし、上記従来のクリーニング部材で
は、研磨材層の表面が研磨材による粗さを有する平面で
あるにすぎないから、接触子の先端を研磨材層に押圧す
るだけでは、針先が弾性体を押して弾性体内に沈み込む
ことにより先端面(針先端面)の異物を除去することは
できるが、それより後方(先端部外周)に付着している
異物を除去することができない。
【0006】また上記従来のクリーニング部材におい
て、接触子の先端部を弾性体内に刺し込むことにより異
物を除去すると、弾性体の一部がクリーニング部材によ
り切断されるから、クリーニング部材が数回のクリーニ
ングで使用不能になってしまう。
【0007】
【解決しようとする課題】それゆえに、接触子先端用の
クリーニング部材においては、寿命を短くすることな
く、先端面及び先端部外周に付着している異物を確実に
除去することが重要である。
【0008】
【解決手段、作用及び効果】本発明のクリーニング部材
は、表面に多数の凹凸を有する弾性体と、該弾性体の前
記凹凸の面全体に配置された研磨材層とを含む。
【0009】クリーニング時、接触子は、先ず先端面を
クリーニング部材の研磨材層に押圧され、次いでクリー
ニング部材から離される。これにより、接触子の先端部
は、クリーニング部材の凹所に受け入れられて弾性体を
弾性変形させ、次いでクリーニング部材から離される。
【0010】クリーニング部材は研磨材層を凹所内部に
まで配置しているから、クリーニング時、接触子は、先
端面のみならず、先端部外周面をも研磨材層に包み込ま
れ、その状態でクリーニング部材から離される。その結
果、先端面及びそれより後方の先端部外周に付着してい
る異物が確実に除去される。また、クリーニング時、接
触子の先端部を弾性体に刺し込む必要がないから、クリ
ーニング部材の寿命を短くするおそれがない。
【0011】クリーニング部材は、さらに、前記弾性体
が一方の面に配置されたシート状の第1の基材を含んで
いてもよいし、また前記第1の基材が配置された剛性を
有する第2の基材を含んでいてもよい。
【0012】クリーニング部材は、さらに、前記表面の
一部に形成された平坦な領域を有することができる。こ
のようにすれば、クリーニング部材をプローバに配置し
て使用する際に、平坦な領域をアライメント用領域とし
て用いることができるから、クリーニング時に、クリー
ニング部材の厚さの測定(又は、針先とクリーニング部
材との間隔の測定)を正確に行うことができ、その結果
クリーニング時に接触子に理想的なオーバードライブを
作用させることができる。
【0013】前記凹凸の凹所は、0.01mmから0.
5mmのピッチと、0.05mmから0.5mmの深さ
寸法とを有することができる。また、前記研磨材層は前
記凹凸の凹所より小さい多数の研磨材を含むことができ
る。
【0014】クリーニング部材は、オリフラ又はノッチ
を備える円形又は四角形の形を有することができる。こ
のようにすれば、クリーニング部材をプローバに配置し
て使用する際に、オリフラ又はノッチを位置合わせ用マ
ークとして使用することができるから、クリーニング時
にクリーニング部材と接触子の先端との相対的位置関係
を正確に調整することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】図1及び図2を参照するに、クリ
ーニング部材10は、合成ゴムや発泡ウレタン樹脂のよ
うな弾性材料から形成された弾性体12と、弾性体12
の上面に配置された研磨材層14とを含む。
【0016】弾性体12は、多数の凹凸を上面に有して
おり、また下面において接着剤16によりフィルム状の
基材18の上面に接着されている。基材18は、下面に
おいて接着剤20により板状の基材22の上面に接着さ
れている。
【0017】研磨材層14は弾性体12の凹凸よりさら
に小さい粒状又は紛状の研磨材を弾性体12の凹凸面全
体に塗布することにより形成されており、したがって研
磨材層14は弾性体12の凹所24の内面全体に形成さ
れている。
【0018】研磨材層14は、例えば、アルミナ、炭化
珪素、ダイヤモンド、酸化セリウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化クロム、酸化鉄、酸化珪素等の粒子と水溶性ポ
リエステル系ウレタン樹脂との混合物を弾性体12の凹
凸面に塗布することにより、形成することができる。基
材18はポリエチレン・テレフタレート・フィルムのよ
うに可撓性を有するプラスチック・フィルムとすること
ができ、また、基材22はシリコン・ウエーハのように
ある程度の剛性を有する板状部材とすることができる。
【0019】それゆえに、接着剤16として水溶性ポリ
エステル系ウレタン接着剤を用い、接着剤20としてシ
リコン系接着剤を用いることができる。しかし、研磨材
層14、基材18,22及び接着剤16,20として他
の材料を用いてもよい。
【0020】図2に示すように、凹所24は、図2に示
すように、ピッチPが0.05mmから0.3mm、深
さ寸法Dが0.05mmから0.5mmの大きさ、好ま
しくはピッチPが0.1mmから0.2mm、深さ寸法
Dが0.1mmから0.2mmの大きさとすることがで
きる。弾性体12の厚さ寸法Tは、0.4mm程度とす
ることができる。
【0021】クリーニング部材10は、図1に示すよう
に、オリフラ26を備える円形の形を有しており、また
平坦な領域28を上面の一部に有する。平坦な領域28
は、プラスチックシートを研磨材層14の一部に接着す
ることにより形成することができる。クリーニング部材
10は、オリフラ26の代わりにノッチを備えていても
よい。
【0022】図3に示すように、クリーニング部材10
は、集積回路検査用のチャックトップ30上に、研磨材
層14を上方とした状態に及び移動しないように配置さ
れる。チャックトップ30は、集積回路の検査装置のよ
うな適宜なプローバに設けられた測定ステージ32に配
置されており、また複数の接触子34を配線基板36に
配置したプローブカード38に対し測定ステージ32に
より、前後方向、左右方向及び上下方向へ三次元的に移
動されるとともに、上下方向へ伸びる軸線の周りに角度
的に回転される。各接触子34は、図示の例では、金属
細線から形成されたニードルタイプのプローブである。
【0023】クリーニング時、先ずクリーニング部材1
0が全ての接触子34に対し所定の位置になるように、
チャックトップ30が測定ステージ32により前後及び
左右に移動されるとともに、上下方向に伸びる軸線の周
りに角度的に回転される。
【0024】上記の作業は、クリーニング部材10のオ
リフラ26を利用してクリーニング部材10とプローブ
カード38との相対的な位置決めをし、レーザ光線を用
いる適宜な検出器によりクリーニング部材10の平坦面
28を検出してクリーニング部材10と接触子34の先
端との間隔を適宜な値に調整することにより、行うこと
ができる。
【0025】次いで、チャックトップ30が測定ステー
ジ32により、接触子34の先端で弾性体12を弾性変
形させるが、接触子34の先端が基板22に接触しない
程度の高さ位置まで上昇され、その後クリーニング部材
10が接触子34の先端から離れる高さ位置まで下降さ
れる。
【0026】上記の結果、クリーニング部材10がチャ
ックトップ30と共に上昇された後、下降されるから、
全ての接触子34の先端面とクリーニング部材10の研
磨材層12とは、先ず相対的に押圧され、次いで互いに
離される。これにより、接触子34の先端部は、クリー
ニング部材10の凹所24に受け入れられて弾性体12
を弾性変形させ、次いでクリーニング部材10から離さ
れる。
【0027】クリーニング部材10は研磨材層14を凹
所24の内部にまで配置しているから、接触子34は、
図4に示すように、その先端部を凹所24に受け入れら
れて、先端面のみならず、先端部外周面をも研磨材層1
4に包み込まれ、その状態でクリーニング部材10から
離される。
【0028】上記の結果、先端面及びそれより後方の先
端部外周に付着している異物は、接触子34の先端部が
凹所24に挿入されるとき研磨材層14により接触子3
4から剥がされると共に、接触子34の先端部が凹所2
4から抜き去られるとき研磨材層14により剥がされ、
その結果接触子34から確実に除去される。
【0029】クリーニング時には、クリーニング部材1
0を接触子34に対し上昇させ、次いで下降させる工程
が一回以上行われる。クリーニング部材10の昇降を複
数回繰り返すときは、クリーニング部材10を昇降させ
るたびに、クリーニング部材10をチャックトップ30
と共に、測定ステージ32により前後方向又は左右方向
へ移動させて、クリーニング部材10の新たな箇所を接
触子34の先端に対向させることが好ましい。
【0030】接触子34の先端部とクリーニング部材1
0とが相対的に押圧されるとき、接触子34の先端部は
弾性体12に刺し込まれない。このため、接触子34の
先端部が弾性体12を損傷するおそれがなく、したがっ
てクリーニングを繰り返し行っても、クリーニング部材
10の損傷が少なく、クリーニング部材10は長命であ
る。
【0031】クリーニング部材10は、集積回路の検査
装置に直接装着して使用してもよいし、クリーニング専
用又は接触子先端の研磨専用の装置に装着して使用して
もよい。また、多数の接触子を同時にクリーニングする
場合のみならず、単一又は数個の接触子をクリーニング
するように使用してもよいし、ICソケットに配置され
た接触子用のクリーニング部材に用いてもよい。
【0032】本発明は、集積回路の検査に用いる接触子
用のクリーニング部材のみならず、液晶表示パネル用の
基板のような他の平板状被検査体の検査に用いる接触子
用のクリーニング部材にも適用することができる。本発
明を液晶パネル検査のような四角形の被検査体用の接触
子用クリーニング部材に適用する場合、クリーニング部
材は四角形とすることができる。
【0033】本発明は、また、ニードルタイプのプロー
ブのみならず、板状をしたブレードタイプのプローブ、
半球状の接触子を有するいわゆるバンプタイプのプロー
ブ、スプリングピンを用いたいわゆるスプリングピンタ
イプのプローブ等、他の接触子の先端のクリーニングを
する部材に適用することができる。
【0034】本発明は、上記実施例に限定されず、本発
明の趣旨を逸脱しない限り種々変更することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るクリーニング部材の一実施例を示
す斜視図
【図2】クリーニング部材の一部を断面して示す拡大断
面図。
【図3】図1に示すクリーニング部材の使用例を説明す
るための断面図
【図4】接触子先端の異物を除去する状態を説明するた
めの図
【符号の説明】
10 クリーニング部材 12 弾性体 14 研磨材層 16,20 接着剤 18,22 基材 24 凹所 26 オリフラ 28 平坦面 30 チャックトップ 32 測定ステージ 34 接触子 36 配線基板 38 プローブカード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奈良 直満 東京都武蔵野市吉祥寺本町2丁目6番8号 株式会社日本マイクロニクス内 (72)発明者 山▲崎▼ 亨 東京都昭島市武蔵野3丁目4番1号 日本 ミクロコーティング株式会社内 (72)発明者 細谷 直利 東京都昭島市武蔵野3丁目4番1号 日本 ミクロコーティング株式会社内 Fターム(参考) 2G011 AA17 AC13 AC14 AE03 2G032 AA00 AF02 AL03 3C063 AA10 AB07 BA24 BC03 BG01 BG05 BG08 BG22 BH07 EE32 EE40 4M106 AA02 BA14 DD18

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 接触子の先端に付着した異物を除去する
    クリーニング部材において、表面に多数の凹凸を有する
    弾性体と、該弾性体の前記凹凸の面全体に配置された研
    磨材層とを含む、接触子先端のクリーニング部材。
  2. 【請求項2】 さらに、前記弾性体が一方の面に配置さ
    れたシート状の第1の基材を含む、請求項1に記載のク
    リーニング部材。
  3. 【請求項3】 さらに、前記第1の基材が配置された剛
    性を有する第2の基材を含む、請求項2に記載のクリー
    ニング部材。
  4. 【請求項4】 さらに、前記表面の一部に形成された平
    坦な領域を有する、請求項1,2又は3に記載のクリー
    ニング部材。
  5. 【請求項5】 前記凹凸の凹所は、0.01mmから
    0.5mmのピッチと、0.05mmから0.5mmの
    深さ寸法を有する、請求項1から4のいずれか1項に記
    載のクリーニング部材。
  6. 【請求項6】 前記研磨材層は前記凹凸の凹所より小さ
    い多数の研磨材を含む、請求項1から5のいずれか1項
    に記載のクリーニング部材。
  7. 【請求項7】 当該クリーニング部材は、オリフラ又は
    ノッチを備える円形又は四角形の形を有する、請求項1
    から6のいずれか1項に記載のクリーニング部材。
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Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002307316A (ja) * 2001-04-09 2002-10-23 Nihon Micro Coating Co Ltd 接触子先端及び側面クリーニング用具
WO2002090054A2 (fr) * 2001-05-02 2002-11-14 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Feuille de nettoyage de contacteur, procede de fabrication associe et procede de nettoyage de contacteur
WO2002094508A1 (fr) * 2001-05-21 2002-11-28 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Serviette de nettoyage de contacteur et procede de nettoyage de contacteur
GB2389303A (en) * 2002-06-06 2003-12-10 Samsung Electronics Co Ltd Process/apparatus for removing debris from the probe needlde contacts of an IC test card
US7254861B2 (en) 2001-04-09 2007-08-14 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Device for cleaning tip and side surfaces of a probe
JP2009130202A (ja) * 2007-11-26 2009-06-11 Fujitsu Microelectronics Ltd 洗浄装置及び方法
JP2010127943A (ja) * 2008-12-01 2010-06-10 Jtron Technology Corp 搭載盤上のピン素子、または電気インタフェース・レセプタクル(electricalinterfacereceptacle)のTCC清掃装置(testcellconditioner(TCC)surrogatecleaningdevice)と清掃方法
JP2013048255A (ja) * 2009-12-03 2013-03-07 Internatl Test Solutions Inc 試験器インタフェース接触要素及び支持ハードウエアを清浄化するための器具、装置、及び方法
US9825000B1 (en) 2017-04-24 2017-11-21 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
US9833818B2 (en) 2004-09-28 2017-12-05 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
US10717618B2 (en) 2018-02-23 2020-07-21 International Test Solutions, Inc. Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US10792713B1 (en) 2019-07-02 2020-10-06 International Test Solutions, Inc. Pick and place machine cleaning system and method
US11035898B1 (en) 2020-05-11 2021-06-15 International Test Solutions, Inc. Device and method for thermal stabilization of probe elements using a heat conducting wafer
US11211242B2 (en) 2019-11-14 2021-12-28 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning contact elements and support hardware using functionalized surface microfeatures
US11318550B2 (en) 2019-11-14 2022-05-03 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning wire bonding machines using functionalized surface microfeatures
US11756811B2 (en) 2019-07-02 2023-09-12 International Test Solutions, Llc Pick and place machine cleaning system and method
JP7550583B2 (ja) 2020-09-23 2024-09-13 富士紡ホールディングス株式会社 研磨パッド及びその製造方法
JP7553299B2 (ja) 2020-09-23 2024-09-18 富士紡ホールディングス株式会社 研磨パッド及びその製造方法

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002083364A1 (fr) * 2001-04-09 2002-10-24 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Outil pour nettoyer la pointe et la surface laterale d'un contacteur
JP2002307316A (ja) * 2001-04-09 2002-10-23 Nihon Micro Coating Co Ltd 接触子先端及び側面クリーニング用具
KR100857642B1 (ko) * 2001-04-09 2008-09-08 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤 접촉자 선단 및 측면 클리닝 용구
US7254861B2 (en) 2001-04-09 2007-08-14 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Device for cleaning tip and side surfaces of a probe
WO2002090054A2 (fr) * 2001-05-02 2002-11-14 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Feuille de nettoyage de contacteur, procede de fabrication associe et procede de nettoyage de contacteur
WO2002090054A3 (fr) * 2001-05-02 2005-05-19 Nippon Micro Coating Kk Feuille de nettoyage de contacteur, procede de fabrication associe et procede de nettoyage de contacteur
US6884300B2 (en) 2001-05-21 2005-04-26 Nihon Microcoating Co., Ltd. Method of cleaning a probe
WO2002094508A1 (fr) * 2001-05-21 2002-11-28 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Serviette de nettoyage de contacteur et procede de nettoyage de contacteur
GB2389303B (en) * 2002-06-06 2004-04-21 Samsung Electronics Co Ltd Apparatus and method for cleaning probe card contacts
US6813804B2 (en) 2002-06-06 2004-11-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for cleaning probe card contacts
KR100435529B1 (ko) * 2002-06-06 2004-06-11 삼성전자주식회사 프로브 카드의 접촉 부위를 세정하기 위한 장치 및 방법
CN100356541C (zh) * 2002-06-06 2007-12-19 三星电子株式会社 用于清洁探针板接点的设备与方法
GB2389303A (en) * 2002-06-06 2003-12-10 Samsung Electronics Co Ltd Process/apparatus for removing debris from the probe needlde contacts of an IC test card
US10406568B2 (en) 2004-09-28 2019-09-10 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
US9833818B2 (en) 2004-09-28 2017-12-05 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
US10239099B2 (en) 2004-09-28 2019-03-26 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
JP2009130202A (ja) * 2007-11-26 2009-06-11 Fujitsu Microelectronics Ltd 洗浄装置及び方法
JP2010127943A (ja) * 2008-12-01 2010-06-10 Jtron Technology Corp 搭載盤上のピン素子、または電気インタフェース・レセプタクル(electricalinterfacereceptacle)のTCC清掃装置(testcellconditioner(TCC)surrogatecleaningdevice)と清掃方法
JP2013048255A (ja) * 2009-12-03 2013-03-07 Internatl Test Solutions Inc 試験器インタフェース接触要素及び支持ハードウエアを清浄化するための器具、装置、及び方法
US10195648B2 (en) 2009-12-03 2019-02-05 International Test Solutions, Inc. Apparatuses, device, and methods for cleaning tester interface contact elements and support hardware
US9825000B1 (en) 2017-04-24 2017-11-21 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
US10361169B2 (en) 2017-04-24 2019-07-23 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
US10717618B2 (en) 2018-02-23 2020-07-21 International Test Solutions, Inc. Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US10843885B2 (en) 2018-02-23 2020-11-24 International Test Solutions, Inc. Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US11155428B2 (en) 2018-02-23 2021-10-26 International Test Solutions, Llc Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US11434095B2 (en) 2018-02-23 2022-09-06 International Test Solutions, Llc Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US10792713B1 (en) 2019-07-02 2020-10-06 International Test Solutions, Inc. Pick and place machine cleaning system and method
US11756811B2 (en) 2019-07-02 2023-09-12 International Test Solutions, Llc Pick and place machine cleaning system and method
US11211242B2 (en) 2019-11-14 2021-12-28 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning contact elements and support hardware using functionalized surface microfeatures
US11318550B2 (en) 2019-11-14 2022-05-03 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning wire bonding machines using functionalized surface microfeatures
US11035898B1 (en) 2020-05-11 2021-06-15 International Test Solutions, Inc. Device and method for thermal stabilization of probe elements using a heat conducting wafer
JP7550583B2 (ja) 2020-09-23 2024-09-13 富士紡ホールディングス株式会社 研磨パッド及びその製造方法
JP7553299B2 (ja) 2020-09-23 2024-09-18 富士紡ホールディングス株式会社 研磨パッド及びその製造方法

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