JP7553299B2 - 研磨パッド及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本実施形態に係る研磨パッド10の構成を示す部分断面図である。図1に示すように、研磨パッド10は、クッション層11と、接着層12と、研磨層13とがこの順に積層された構成を有している。
研磨パッド10の製造方法は、研磨層作製工程と、クッション層作製工程と、貼り合わせ工程と、貫通孔形成工程とを含む。
研磨層作製工程では、研磨層13を作製する。例えば、研磨層13は、湿式成膜されたポリウレタン樹脂シートとする場合、湿式成膜法により形成することができる。
クッション層作製工程では、クッション材に対して曲面形状であり、かつ凸部と凹部とが規則的なパターンで並ぶように加工可能な手法であればよい。従来知られているものであってもよく、例えば、プロファイル加工、二次元切削加工、CFカット加工、熱成型加工等によりクッション層11を得ることができる。これらの中でも、プロファイル加工が曲面形状であり、かつ凸部111と凹部112とが規則的なパターンとなるように加工しやすいため好ましい。
貼り合わせ工程では、複数の凸部及び複数の凹部からなる凹凸形状を有するクッション層11と、研磨層13とを、接着層12を介して、研磨層13がクッション層11の凹凸形状に沿うように重ね合わせる。そして、これにより得られた積層体を接着する。
貫通孔形成工程では、接着された積層体の研磨面側から穿孔することで、接着層12の貫通孔121、及び研磨層13の貫通孔133を形成させる。例えば、当該接着された積層体における、接着層12の厚さと、研磨層13の厚さとの合計と同一の長さまたはそれ以上の長さを有する針を差し込み、貫通孔を形成させる。針の直径は、貫通孔の径の大きさに合わせて適宜選択すればよい。これにより、接着層12及び研磨層13に、接着層12のクッション層11との接着面から研磨層13の研磨面まで貫通した貫通孔を形成させる。また、このような針が表面に複数設けられた部材を使用することにより、一度に、または比較的少ない回数で、研磨パッド10に貫通孔を形成させることができる。
研磨方法としては、まず、被研磨物Wをスペーサー40上に載せる。この状態で、研磨定盤20に設けられた研磨スラリー供給部21から研磨スラリーを供給する。研磨スラリー供給部21から供給された研磨スラリーは、研磨スラリー供給部21に通じている研磨定盤側接着層30の貫通孔31を通過して、クッション層11に到達する。クッション層11は、連通孔を有しており、供給された研磨スラリーを保持する。研磨パッド10を被研磨物Wの上から押圧することにより、クッション層11の連通孔に保持された研磨スラリーが、接着層12の貫通孔121を通過して研磨層13に到達する。研磨層13は、連通孔を有しており、研磨スラリーは、研磨層13の連通孔を通過して被研磨物Wに到達する。研磨パッド10と被研磨物Wとの間に供給された研磨スラリーを用いて、被研磨物Wを研磨することができる。
研磨パッド10を用いた被研磨物Wの研磨方法は、被研磨物Wを研磨パッド10に対して深く押し込むことができる。クッション層11に保持された研磨スラリーが押し込んだ体積分放出されることにより、被研磨物Wが研磨層13と密着しているにも関わらず、押圧力によって被研磨物Wと研磨層13との間に研磨スラリーが潤沢に供給される。また、押し込まれた部位のみに研磨スラリーを放出するため、研磨スラリーを効率的に供給することができる。そのため、高価な研磨スラリーを使用されることなく流出させてしまうことを低減することができる。また、供給された研磨スラリーは、保持定盤50に向かって流れるため、研磨スラリーの戻りがなく、常に新しい研磨スラリーが供給される。
本発明の態様1に係る研磨パッドは、クッション層と、接着層と、研磨層とがこの順で積層してなる研磨パッドであって、前記クッション層は、連通孔を有し、かつ前記研磨層側の面に、複数の凸部及び複数の凹部からなる凹凸形状を有しており、前記接着層は、前記クッション層との接触面から前記研磨層との接触面まで貫通している複数の貫通孔を有しており、前記研磨層は、連通孔を有し、かつ前記接着層を介して、前記凸部及び前記凹部に沿って前記クッション層に貼り合わされていることにより、複数の凸部及び複数の凹部からなる凹凸形状を表面に有し、前記研磨層の前記凹凸形状は、曲面形状であり、かつ前記凸部と前記凹部とが規則的なパターンで並ぶように形成されている、構成である。
研磨層として、100%モジュラス7.8MPaのポリエステル系ポリウレタン樹脂の(30質量部)及びN,N-ジメチルホルムアミド(DMF)(70質量部)を含む溶液100質量部に、別途DMF60質量部及び水5質量部を添加し、混合した。混合溶液を濾過することにより不溶成分を除去し、樹脂含有溶液を得た。
クッション層として、発泡ポリウレタン(エバーライトSF、ブリヂストン化成品株式会社製)にプロファイル加工を施さず、厚さ10mmの平坦なシート状物を使用した以外、実施例1と同様にして研磨パッドを作製した。クッション層にプロファイル加工が施されていないため、研磨層の表面も平坦となっている。
測定対象の研磨パッドを100mm×100mmの矩形に切り出し、シート状の試験片とした。当該試験片を微小強度評価試験機(島津製作所製、マイクロオートグラフ、MST-I)の台上の中央に両面テープで固定した。直径50mmの円形状の加圧板(平板)で5gの荷重をかけた点を原点として、1mm/minの速さで厚さ方向に荷重を加え、クッション層の厚さが圧力をかけていない自然状態の厚さに対して40%の厚さになるまで圧縮し、その際の応力を圧縮硬さとした。この時、加圧板と接触する試験片には凸部が少なくとも一つ含まれる領域を測定した。
研磨試験には、研磨装置として図1に示すような研磨定盤に研磨スラリー供給部を有する片面研磨機を用い、被研磨物としてはアクリル樹脂板(65mm×65mmの矩形状、厚さ2mmで端部に曲面加工によって湾曲部形成済み)を用いた。
研磨前の被研磨物に対し研磨加工面となる平面部、及び4つの湾曲した側面部(A~D)の合計5か所に油性ペンで印をつけ、研磨後に全ての印が消失していた場合を〇とし、印が残っていた場合を×として研磨性能の評価を行った。
研磨終了後の被研磨物の平面部、湾曲した側面部4面について表面粗さを測定し、表面粗さが40nm未満である場合を〇、40nm以上である場合を×として評価を行った。なお、被研磨物の湾曲した側面部の測定は、被研磨物を30°傾斜させた状態で保持し湾曲した側面部の直上より測定を行った。
10 研磨パッド
11 クッション層
12 接着層
13 研磨層
111 凸部
112 凹部
121 貫通孔
131、131’ 凸部
132、132’ 凹部
133 貫通孔
Claims (13)
- クッション層と、接着層と、研磨層とがこの順で積層してなる研磨パッドであって、
前記クッション層は、前記接着層との接触面とは反対側の面から前記接着層との接触面まで連通している連通孔を有し、かつ前記研磨層側の面に、複数の凸部及び複数の凹部からなる凹凸形状を有しており、
前記接着層は、前記クッション層との接触面から前記研磨層との接触面まで貫通している複数の貫通孔を有しており、
前記研磨層は、前記接着層との接触面から研磨面まで連通している連通孔を有し、かつ前記接着層を介して、前記凸部及び前記凹部に沿って前記クッション層に貼り合わされていることにより、複数の凸部及び複数の凹部からなる凹凸形状を表面に有し、
前記研磨層の前記凹凸形状は、曲面形状であり、かつ前記凸部と前記凹部とが規則的なパターンで並ぶように形成されている、研磨パッド。 - 前記研磨層は、前記接着層との接触面から研磨面まで貫通している複数の貫通孔を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記接着層の前記貫通孔と、前記研磨層の前記貫通孔とは、一直線上に並んでいる、請求項2に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層の前記貫通孔の密度は、0.5個/cm2以上、50個/cm2以下である、請求項2又は3に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層の前記貫通孔の径の大きさは、0.05mm以上、2.0mm以下である、請求項2~4の何れか1項に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層の前記凸部の形状は、前記研磨層の前記凹部を反転させた形状である、請求項1~5の何れか1項に記載の研磨パッド。
- 研磨面側から平面視したときに、前記研磨層の前記凹凸形状は、前記凸部と前記凹部とが、縦横方向に交互に並ぶように形成されている、請求項1~6の何れか1項に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層における、1つの前記凹部を挟んで隣り合う前記凸部の頂点間の距離は、5mm以上、50mm以下である、請求項7に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層の前記凹部の底点を基準とした前記凸部の頂点の高さは、0.5mm以上、30mm以下である、請求項1~8の何れか1項に記載の研磨パッド。
- 直径50mmの円形状の加圧板を用いた40%圧縮硬さが、20gf/cm2以上、180gf/cm2以下である、請求項1~9の何れか1項に記載の研磨パッド。
- クッション層と、接着層と、研磨層とがこの順で積層してなる研磨パッドの製造方法であって、
前記接着層との接触面とは反対側の面から前記接着層との接触面まで連通している連通孔を有し、かつ複数の凸部及び複数の凹部からなる凹凸形状を有する前記クッション層と、前記接着層との接触面から研磨面まで連通している連通孔を有する前記研磨層とを、前記接着層を介して、前記研磨層が前記凹凸形状に沿うように重ね合わせて得られた積層体を接着する、貼り合わせ工程と、
接着された積層体の前記研磨層の研磨面側から穿孔して、前記接着層の前記クッション層との接着面から前記研磨層の研磨面まで貫通した貫通孔を形成させる、貫通孔形成工程とを含み、
前記凹凸形状は、曲面形状であり、かつ前記凸部と前記凹部とが規則的なパターンで並ぶように形成されている、研磨パッドの製造方法。 - プロファイル加工により前記クッション層に前記凹凸形状を付与する、クッション層作製工程をさらに含む、請求項11に記載の研磨パッドの製造方法。
- 請求項1~10の何れか1項に記載の研磨パッドを被研磨物の上から押圧して当該被研磨物を研磨する研磨方法であって、
前記クッション層に研磨スラリーを供給する供給工程と、
前記クッション層の連通孔に保持された前記研磨スラリーを押圧力によって前記接着層の前記貫通孔を介して前記研磨層に送り出し、前記研磨層の連通孔を介して前記研磨スラリーを被研磨物に供給する押圧工程とを含む、研磨方法。
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Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000332069A (ja) | 1999-05-21 | 2000-11-30 | Micronics Japan Co Ltd | 接触子先端のクリーニング部材 |
| JP2006346805A (ja) | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 積層研磨パッド |
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| JP2013006256A (ja) | 2011-06-27 | 2013-01-10 | Three M Innovative Properties Co | 研磨用構造体及びその製造方法 |
| JP2014195839A (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-16 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法 |
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000332069A (ja) | 1999-05-21 | 2000-11-30 | Micronics Japan Co Ltd | 接触子先端のクリーニング部材 |
| JP2006346805A (ja) | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 積層研磨パッド |
| JP2010082707A (ja) | 2008-09-29 | 2010-04-15 | Fujibo Holdings Inc | 研磨パッド |
| JP2012130992A (ja) | 2010-12-22 | 2012-07-12 | Fujibo Holdings Inc | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 |
| JP2013006256A (ja) | 2011-06-27 | 2013-01-10 | Three M Innovative Properties Co | 研磨用構造体及びその製造方法 |
| JP2014195839A (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-16 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法 |
| JP2017513722A (ja) | 2014-04-03 | 2017-06-01 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 研磨パッド及びシステム、並びにその作製方法及び使用方法 |
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