JP2000330278A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JP2000330278A
JP2000330278A JP11144305A JP14430599A JP2000330278A JP 2000330278 A JP2000330278 A JP 2000330278A JP 11144305 A JP11144305 A JP 11144305A JP 14430599 A JP14430599 A JP 14430599A JP 2000330278 A JP2000330278 A JP 2000330278A
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JP
Japan
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carbon atoms
alkyl
alkyl group
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JP11144305A
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English (en)
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Seiya Onodera
誠也 小野寺
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Taiyo Holdings Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 プリント配線板の製造、金属の精密加工等に
用いられるエッチングレジスト又はめっきレジストとし
て、特に優れた密着性、解像性及び膜強度を有する感光
性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 感光性樹脂組成物は、（Ａ）１分子内に
２個以上の不飽和二重結合と１個以上のカルボキシル基
を有する感光性プレポリマー、（Ｂ）光重合開始剤とし
てα−アミノアセトフェノン系化合物、（Ｃ）反応性希
釈剤、さらに必要に応じて（Ｂ−１）上記化合物（Ｂ）
以外の他の光重合開始剤を含有する。このような感光性
樹脂組成物を、液状フォトエッチングレジストとして用
いることにより、パターン形成性、エッチング耐性、剥
離性等の諸特性のみでなく、塗膜としての柔軟性も改善
される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性樹脂組成物、
更に詳しくは、プリント配線板の製造、金属の精密加工
等に用いられるエッチングレジスト又はめっきレジスト
として、特に優れた密着性、解像性及び膜強度を有する
感光性樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、プリント配線板の製造、金属の精
密加工等の分野において、エッチング、めっき等に用い
られるレジスト材料としては、感光性樹脂組成物が広く
用いられている。プリント配線板は、感光性フィルムを
銅張基板上にラミネートしてパターン露光した後、未露
光部を現像液で除去してレジスト層を形成し、銅層のエ
ッチング又はめっき処理を施して回路パターンを形成さ
せた後、レジスト層を基板上から剥離除去する方法によ
って製造されている。この未露光部の除去を行う現像
は、現像液として炭酸水素ナトリウム溶液を使用するア
ルカリ現像型が主流になっている。
【０００３】近年、プリント配線板の高密度化に伴い、
現像の際に感光性樹脂組成物と基板との密着不足による
欠陥及び解像不足による欠陥が多く発生している。この
欠陥の発生を防ぐためには、感光性樹脂組成物の基板に
対する密着性及び解像度を向上させることが必要であ
る。この種の感光性樹脂組成物は、特公平１−５６９１
号公報、特公昭５２−９４３８８号公報、特公昭５４−
２５９５７号公報、特公昭５４−３４３７２号公報に記
載されているが、最近の技術の高度化、ファイン化を考
慮すると、ファインパターンに対する追従性の点でまだ
まだ満足のいくものではなく、更なる改善が求められて
いる。即ち液状フォトエッチングレジストとしてのパタ
ーン形成性、エッチング耐性、剥離性等の諸特性のみで
なく、塗膜としての柔軟性も改善され、現像後のレジス
トパターンの欠けや欠損が非常に減少し、そのため歩留
まりが向上するという優れた性能を示す感光性樹脂組成
物の開発が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した従
来技術の問題点を解決するものであり、プリント配線板
の製造、金属の精密加工等に用いられるエッチングレジ
スト又はめっきレジストとして特に優れたパターン形成
性、エッチング耐性、剥離性、密着性及び膜強度を有す
る感光性樹脂組成物を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明によれば希アルカリ水溶液により現像可能な
感光性樹脂組成物が提供され、その基本的な形態は、
（Ａ）１分子内に２個以上の不飽和二重結合と１個以上
のカルボキシル基を有する感光性プレポリマー、（Ｂ）
光重合開始剤として下記一般式（Ｉ）で表わされる化合
物及び（Ｃ）反応性希釈剤を含有することを特徴として
いる。
【化７】 （式中、Ａｒは、次式
【化８】 で示される基、又はこれらの基がハロゲン原子、炭素原
子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜１２のアル
ケニル基、炭素原子数５〜６のシクロアルキル基、フェ
ニルアルキル基(但し、アルキル基は炭素原子数１〜３
のアルキル基)、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ(但し、Ｒは炭
素原子数１〜４のアルキル基)、−ＯＲ5、−ＳＨ、−Ｓ
Ｒ6、−ＳＯＲ6、−ＳＯ2Ｒ6、−ＣＮ、−ＳＯ2ＮＨ2、
−ＳＯ2ＮＨＲ(但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル
基)、−ＳＯ2ＮＲ2(但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアル
キル基)、−ＮＲ7Ｒ8及び−ＮＨＣＯＲ7のうちの１〜５
個によって、もしくは下記式（Ｉａ）
【化９】 で示される基によって置換された基を表わし；Ｘは、直
接結合、−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（Ｒ9）−を表わし；
Ｙは、水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、又
はこれらのアルキル基が−ＯＨ、−ＯＲ9、−ＣＯＯ
Ｒ9、−ＳＨ、−Ｎ（Ｒ9）2もしくはハロゲン原子のう
ちの１〜５個によって置換されているか、もしくは前記
式（Ｉａ）で示される基によって１〜５回置換された基
を表わすか、又は１〜９個の−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ9）−、
−Ｓ−、−ＳＳ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｘ−Ｃ（＝
Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ
−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｘ−、もしくは次式
【化１０】 で示される基によって中断された炭素原子数２〜２０の
アルキル基、もしくは該中断された炭素原子数２〜２０
のアルキル基がさらに１〜５個の−ＳＨによって置換さ
れたアルキル基を表わすか、又は、ベンジル基もしくは
−ＣＨ2ＳＨによって１回又は２回置換されたベンジル
基又はこれらのベンジル基がさらに炭素原子数１〜４の
アルキル基によって置換された基を表わし；Ｒ1及びＲ2
は、互いに独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、又
は−ＯＨ、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、−ＳＨ、
−ＣＮ、−ＣＯＯＲ’（但し、Ｒ’は１〜８のアルキル
基）、ＲＣＯＯ−（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアル
キル基）、もしくは−ＮＲ3Ｒ4によって置換された炭素
原子数１〜８のアルキル基を表わすか、又は互いに独立
して炭素原子数３〜６のアルケニル基、フェニル基、ク
ロロフェニル基、Ｒ5−Ｏ−フェニル基、Ｒ6−Ｓ−フェ
ニル基もしくはフェニルアルキル基（但し、アルキル基
は炭素原子数１〜３のアルキル基）、又はこれらの炭素
原子数３〜６のアルケニル基、フェニル基、クロロフェ
ニル基、Ｒ5−Ｏ−フェニル基、Ｒ6−Ｓ−フェニル基も
しくはフェニルアルキル基（アルキル基は炭素原子数１
〜３のアルキル基）がさらに１〜５個の−ＳＨによって
置換された基を表わすか、又は、Ｒ1及びＲ2は一緒にな
って直鎖もしくは枝分れ鎖の炭素原子数２〜９のアルキ
レン基、炭素原子数３〜９のオキサアルキレン基もしく
は炭素原子数３〜９のアザアルキレン基、又はこれらの
炭素原子数２〜９のアルキレン基、炭素原子数３〜９の
オキサアルキレン基もしくは炭素原子数３〜９のアザア
ルキレン基がさらに１〜５個の−ＳＨによって置換され
た基を表わし；Ｒ3は、水素原子、炭素原子数１〜１２
のアルキル基、炭素原子数２〜４のアルキル基であって
−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、−
ＣＮもしくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４
のアルキル基）によって置換された基、炭素原子数３〜
５のアルケニル基、炭素原子数５〜１２のシクロアルキ
ル基又はフェニルアルキル基（但し、アルキル基は炭素
原子数１〜３のアルキル基）を表わし；Ｒ4は、炭素原
子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数２〜４のアルキ
ル基であって−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１〜４のアル
コキシ基、−ＣＮもしくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素
原子数１〜４のアルキル基）によって置換された基、炭
素原子数３〜５のアルケニル基、炭素原子数５〜１２の
シクロアルキル基、フェニルアルキル基（但し、アルキ
ル基は炭素原子数１〜３のアルキル基）、未置換のフェ
ニル基、又はフェニル基であってハロゲン原子、炭素原
子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコ
キシ基もしくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜
４のアルキル基）によって置換された基を表わすか、又
は、Ｒ4はＲ2と一緒になって炭素原子数１〜７のアルキ
レン基、フェニルアルキレン基（但し、アルキレン基は
炭素原子数１〜４のアルキレン基）、ｏ−キシリレン
基、２−ブテニレン基、炭素原子数２〜３のオキサアル
キレン基もしくは炭素原子数２〜３のアザアルキレン基
を表わすか、又は、Ｒ4はＲ3と一緒になって炭素原子数
３〜７のアルキレン基又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−も
しくは−Ｎ（Ｒ9）−によって中断された炭素数３〜７
のアルキレン基、又はこれらの炭素原子数３〜７のアル
キレン基が−ＯＨ、炭素原子数１〜４のアルコキシ基も
しくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアル
キル基）によって置換された基を表わし；Ｒ5は、水素
原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３
〜１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、ヒドロキシ
シクロヘキシル基を表わすか、又は炭素原子数１〜４の
アルキル基であってＣ１、Ｂｒ、−ＣＮ、−ＳＨ、−Ｎ
Ｒ 2（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基）、ピ
ペリジノ基、モルホリノ基、−ＯＨ、炭素原子数１〜４
のアルコキシ基、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2
ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル
基）、−ＯＯＣＲ10、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ’（但
し、Ｒ’は炭素原子数１〜８のアルキル基）、−ＣＯＮ
ＨＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基）、−
ＣＯＮＲ2（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル
基）、下記式（ｉ）
【化１１】 で示される基、−ＣＯＲ(但し、Ｒは炭素原子数１〜４
のアルキル基)もしくは下記式（ｉｉ）
【化１２】 で示される基によりモノ−又はポリ置換された基を表わ
すか、又は、２，３−エポキシプロピル基、−（ＣＨ2
ＣＨ2Ｏ）nＨ（但し、ｎは２〜２０の整数）、未置換の
フェニル基、又はフェニル基であってハロゲン原子、炭
素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアル
コキシ基もしくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１
〜４のアルキル基）によって置換された基を表わすか、
又は、フェニルアルキル基（但し、アルキル基は炭素原
子数１〜３のアルキル基）、テトラヒドロピラニル基、
テトラヒドロフラニル基、−ＣＯＯＲ10、−ＣＯＯＲ’
（但し、Ｒ’は炭素原子数１〜８のアルキル基）、−Ｃ
ＯＮＨＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル
基）、−ＣＯＮＲ’2（但し、Ｒ’は炭素原子数１〜８
のアルキル基）、−Ｓｉ（Ｒ11）（Ｒ12）2又は−ＳＯ2
Ｒ13を表わし；Ｒ6は、炭素原子数１〜１２のアルキル
基、炭素原子数３〜１２のアルケニル基、シクロヘキシ
ル基、ヒドロキシシクロヘキシル基を表わすか、又は炭
素原子数１〜４のアルキル基であってＣ１、Ｂｒ、−Ｃ
Ｎ、−ＳＨ、−ＮＲ2（但し、Ｒは炭素原子数１〜４の
アルキル基）、ピペリジノ基、モルホリノ基、−ＯＨ、
炭素原子数１〜４のアルコキシ基、−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｃ
Ｎ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１
〜４のアルキル基）、−ＯＯＣＲ10、−ＣＯＯＨ、−Ｃ
ＯＯＲ’（但し、Ｒ’は炭素原子数１〜８のアルキル
基）、−ＣＯＮＲ2（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のア
ルキル基）、前記式（ｉ）で示される基、−ＣＯＲ(但
し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基)もしくは前記
式（ｉｉ）で示される基によりモノ−又はポリ置換され
た基を表わすか、又は、２，３−エポキシプロピル基、
フェニルアルキル基（但し、アルキル基は炭素原子数１
〜３のアルキル基）、フェニルヒドロキシアルキル基
(但し、ヒドロキシアルキル基は炭素原子数１〜３のヒ
ドロキシアルキル基)、未置換のフェニル基、又はフェ
ニル基であってハロゲン原子、−ＳＨ、炭素原子数１〜
４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基もし
くは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキ
ル基）によってモノ−又はポリ置換された基を表わす
か、又は、２−ベンゾチアジル基、２−ベンズイミダゾ
リル基、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−ＳＨ又は−Ｃ
Ｈ2ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2ＣＨ2−ＳＨを表わし；Ｒ7及びＲ8
は、互いに独立して水素原子、炭素原子数１〜１２のア
ルキル基、炭素原子数２〜４のアルキル基であって−Ｏ
Ｈ、−ＳＨ、炭素原子数1〜４のアルコキシ基、−ＣＮ
もしくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のア
ルキル基）によって置換された基を表わすか、又は互い
に独立して炭素原子数３〜５のアルケニル基、シクロヘ
キシル基、フェニルアルキル基（但し、アルキル基は炭
素原子数１〜３のアルキル基）、未置換のフェニル基、
又はフェニル基であって炭素原子数１〜１２のアルキル
基もしくはハロゲン原子によってモノ−又はポリ置換さ
れた基を表わすか、又は、Ｒ7及びＲ8は一緒になって炭
素原子数２〜７のアルキレン基又は−Ｏ−、−Ｓ−もし
くは−Ｎ（Ｒ14）−によって中断さた炭素原子数２〜７
のアルキレン基を表わし；Ｒ9は、水素原子、炭素原子
数１〜１２のアルキル基、又は−ＯＨ、−ＳＨもしくは
ＨＳ−（ＣＨ2）m−ＣＯＯ−（但し、ｍは１〜２の整
数）で置換された炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭
素原子数２〜１２のアルキル基であって−Ｏ−、−ＮＨ
−もしくは−Ｓ−によって中断された基、炭素原子数３
〜５のアルケニル基、フェニルアルキル基（但し、アル
キル基は炭素原子数１〜３のアルキル基）、−ＣＨ2Ｃ
Ｈ2ＣＮ、未置換もしくはＯＨ−もしくはＳＨ−で置換
された炭素原子数１〜４のアルキル−ＣＯ−ＣＨ2ＣＨ2
−基、未置換もしくはＯＨ−もしくはＳＨ−で置換され
た炭素原子数２〜８のアルカノイル基、又はベンゾイル
基を表わし；Ｒ10は、炭素原子数１〜４のアルキル基、
炭素原子数２〜４のアルケニル基又はフェニル基を表わ
し；Ｒ11及びＲ12は、互いに独立して炭素原子数１〜４
のアルキル基又はフェニル基を表わし；Ｒ13は、炭素原
子数１〜１８のアルキル基、フェニル基又は炭素原子数
１〜１４のアルキル基によって置換されたフェニル基を
表わし；Ｒ14は、直鎖もしくは枝分れ鎖の炭素原子数２
〜１６のアルキレン基又は１〜６個の−Ｏ−もしくは−
Ｓ−によって中断された直鎖もしくは枝分れ鎖の炭素原
子数２〜１６のアルキレン基、又はこれらのアルキレン
基が１〜５個の−ＳＨ基によって置換された直鎖もしく
は枝分れ鎖のアルキレン基を表わす。但し、前記した基
Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4又はＹのうち少なくとも一つ
は１〜５個の−ＳＨ基によって置換されているか、又は
Ｙは少なくとも一つの−ＳＳ−基を含む。） また、別の形態は、（Ａ）１分子内に２個以上の不飽和
二重結合と１個以上のカルボキシル基を有する感光性プ
レポリマー、（Ｂ）光重合開始剤として前記一般式
（Ｉ）で表わされる化合物、（Ｂ−１）上記光重合開始
剤以外の他の光重合開始剤及び（Ｃ）反応性希釈剤を含
有することを特徴としている。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明者は、エッチングレジスト
として好ましい特性を有する感光性樹脂組成物を開発す
べく、鋭意研究を重ねた結果、１分子中に２個以上の不
飽和二重結合と１個以上のカルボキシル基を有する感光
性プレポリマー（Ａ）の光重合開始剤として前記一般式
（Ｉ）式で表わされる化合物又はその酸添加塩を用いた
場合、従来用いられるアセトフェノン系、ベンゾフェノ
ン系、ベンゾイン系、アミノケトン系などの光重合開始
剤と比較して、露光の際に照射された活性エネルギー線
に対して高感度に反応し、感光性プレポリマーの光重合
速度が大きくなり、解像性が向上することを見出し、ま
た、塗膜としての柔軟性も改善され、現像後のレジスト
パターンの欠けや欠損が非常に減少することを見出し、
本発明を完成するに至ったものである。
【０００７】以下、本発明の感光性樹脂組成物の各構成
成分について詳細に説明する。まず、前記１分子中に２
個以上の不飽和二重結合と１個以上のカルボキシル基を
有する感光性プレポリマー（Ａ）としては、以下のよう
なものが挙げられる。 （１）（ａ）不飽和カルボン酸と（ｂ）不飽和二重結合
を有する化合物の共重合体にエチレン性不飽和基をペン
ダントとして付加させることによって得られるカルボキ
シル基含有感光性樹脂 （２）（ｃ）グリシジル基と不飽和二重結合を有する化
合物と（ｂ）不飽和二重結合を有する化合物の共重合体
に、（ａ）不飽和カルボン酸を反応させ、生成した２級
の水酸基に（ｄ）多塩基酸無水物を反応させて得られる
カルボキシル基含有感光性樹脂 （３）（ｅ）不飽和二重結合を有する酸無水物と（ｂ）
不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、（ｆ）水
酸基と不飽和二重結合を有する化合物を反応させて得ら
れるカルボキシル基含有感光性樹脂 （４）（ｇ）エポキシ化合物と（ｈ）不飽和モノカルボ
ン酸を反応させ、生成した２級の水酸基に（ｄ）多塩基
酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光
性樹脂
【０００８】上記のような感光性プレポリマー（Ａ）
は、バックボーン・ポリマーの側鎖に多数の遊離のカル
ボキシル基を有するため、希アルカリ水溶液による現像
が可能になる。また、上記感光性プレポリマー（Ａ）の
酸価は、４５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲にあること
が好ましい。感光性プレポリマーの酸価が４５ｍｇＫＯ
Ｈ／ｇ未満であるとアルカリ現像が困難となり、一方、
２００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると現像液による露光部の
溶解が進むために、必要以上にラインが痩せたり、場合
によっては、露光部と未露光部の区別なく現像液で溶解
剥離してしまい、特にスルーホールの開口部のエッジ部
が破損しやすく、正常なレジストパターンの描画が困難
となるので好ましくない。
【０００９】前記（１）のカルボキシル基含有感光性樹
脂は、不飽和カルボン酸（ａ）と不飽和二重結合を有す
る化合物（ｂ）の共重合体のカルボキシル基の一部に、
充分な光硬化深度が得られる程度にまで光硬化性を向上
させる割合で、例えばグリシジル（メタ）アクリレート
を反応させ、該グリシジル（メタ）アクリレートの不飽
和二重結合を側鎖に導入した樹脂である。上記共重合体
の一方のモノマー成分である不飽和カルボン酸（ａ）の
有するカルボキシル基の一部は未反応のまま残存するた
め、得られるカルボキシル基含有感光性樹脂は、アルカ
リ水溶性液に対して可溶性である。そのため、このよう
な樹脂を含有する感光性樹脂組成物から形成した皮膜
は、選択的露光後にアルカリ水溶液により安定した現像
が可能となる。
【００１０】前記不飽和カルボン酸（ａ）の具体的な例
としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、酢酸ビニル、又は
これらの酸無水物、さらには、無水マレイン酸、無水イ
タコン酸、無水ピロメリット酸などの酸無水物と２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレート類などの水酸基を有する不飽和化
合物との反応生成物等が挙げられ、これらを単独で又は
２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの
中でもアクリル酸及び／又はメタアクリル酸が好まし
い。
【００１１】前記不飽和二重結合を有する化合物（ｂ）
の具体例としては、スチレン、クロロスチレン、α−メ
チルスチレン；置換基としてメチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブ
チル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、カプリ
ル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、
シクロヘキシル、イソボルニル、メトキシエチル、ブト
キシエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプ
ロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル等を有す
る（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールのモ
ノ（メタ）アクリレート又はポリプロピレングリコール
のモノ（メタ）アクリレート；酢酸ビニル、酪酸ビニ
ル、安息香酸ビニル；アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシメチルメタクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアク
リルアミド、Ｎ−エトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−
ブトキシメチルアクリルアミド、アクリロニトリル、ビ
ニルエーテル類、もしくはイソブチレン等が挙げられ、
これらを単独で又は２種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。これらの化合物の中でも、好ましくは、ス
チレン、α−メチルスチレン、低級アルキル（メタ）ア
クリレート、イソブチレンが用いられ、特に樹脂の熱分
解性の点からはメチルメタアクリレートが好ましい。
【００１２】エチレン性不飽和基を有するペンダントと
しては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタク
リロイロ基などがある。このようなペンダントを前記共
重合体に付与させる方法は、共重合体のカルボキシル基
に、グリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物や
（メタ）アクリル酸クロライドを付加反応させる方法が
一般的である。ここでいうグリシジル基を有するエチレ
ン性不飽和化合物や（メタ）アクリル酸クロライドとし
ては、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシ
ジルエーテル、α−メチルグリシジル（メタ）アクリレ
ート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、ク
ロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエ
ーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテル、（メタ）
アクリル酸クロライド、アクリルクロライド、メタアリ
ルクロライドや、下記一般式（１）〜（４）で示される
化合物などが挙げられる。これらの中でもグリシジル
（メタ）アクリレートが好ましい。
【化１３】
【００１３】前記（２）のカルボキシル基含有感光性樹
脂は、（ｃ）分子中にグリシジル基と不飽和二重結合を
有する化合物と前記（ｂ）不飽和二重結合を有する化合
物の共重合体のエポキシ基に、充分な光硬化深度が得ら
れる程度にまで光硬化性を向上させる割合で、前記
（ａ）不飽和カルボン酸のカルボキシル基を反応させ、
該不飽和カルボン酸の不飽和二重結合を側鎖に導入する
と共に、上記付加反応で生成した２級の水酸基に（ｄ）
多塩基酸無水物をエステル化反応させ、側鎖にカルボキ
シル基を導入した樹脂である。
【００１４】上記分子中にグリシジル基と不飽和二重結
合を含有する化合物（ｃ）の具体例としては、グリシジ
ル（メタ）アクリレート、α−メチルグリシジル（メ
タ）アクリレートや、前記式（１）〜（４）で示される
化合物などが挙げられ、これらを単独で又は２種以上を
組み合わせて用いることができる。一方、多塩基酸無水
物（ｄ）の具体例としては、無水コハク酸、無水マレイ
ン酸、無水アジピン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、無水イタコン酸、メチルエンドメ
チレンテトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット
酸、無水ピロメリット酸等が挙げられ、これらを単独で
又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００１５】前記（３）のカルボキシル基含有感光性樹
脂は、（ｅ）不飽和二重結合を有する酸無水物と前記
（ｂ）不飽和二重結合を有する化合物の共重合体の酸無
水物基の一部に、充分な光硬化深度が得られる程度にま
で光硬化性を向上させる割合で、（ｆ）水酸基と不飽和
二重結合を有する化合物の水酸基を反応させてハーフエ
ステルとし、該化合物（ｆ）の不飽和二重結合を側鎖に
導入した樹脂である。
【００１６】前記不飽和二重結合を有する酸無水物
（ｅ）の具体的な例としては、無水マレイン酸、無水イ
タコン酸、さらには無水ピロメリット酸と２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレート類などの水酸基を有する不飽和化合物
との部分反応生成物等が挙げられ、これらを単独で又は
２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの
中でも、ポリマーを安定して合成できる無水マレイン酸
が好ましい。
【００１７】水酸基と不飽和二重結合を有する化合物
（ｆ）の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレー
ト類；（メタ）アクリレートにカプロラクトンを反応さ
せたモノマー、（メタ）アクリレートにポリカプロラク
トンオリゴマーを反応させたマクロモノマー等が挙げら
れ、これらを単独で又は２種以上を組み合わせて使用す
ることができる。前記したようなカルボキシル基含有感
光性樹脂（１）〜（３）は、光硬化性に優れると共に、
組成物の保存安定性に寄与する。
【００１８】前記（４）のカルボキシル基含有感光性樹
脂は、（ｇ）エポキシ化合物のエポキシ基に、充分な光
硬化深度が得られる程度にまで光硬化性を向上させる割
合で、（ｈ）不飽和モノカルボン酸のカルボキシル基を
反応させ、例えばエポキシアクリレートを生成させると
共に、上記付加反応で生成した２級の水酸基に前記
（ｄ）多塩基酸無水物をエステル化反応させ、側鎖にカ
ルボキシル基を導入した樹脂である。このようなカルボ
キシル基含有感光性樹脂は、光硬化性に優れると共に、
バックボーンポリマーのエポキシアクリレートは疎水性
を示す。従って、該樹脂を含有する感光性樹脂組成物を
用いた場合、エポキシアクリレートの疎水性が有利に利
用され、光硬化しにくいパターン深部の耐現像性が向上
する。その結果、現像及び露光工程における条件設定の
余裕度が広がり、量産時の歩留まりを向上できる。
【００１９】前記エポキシ化合物（ｇ）としては、全て
のエポキシ樹脂が使用可能であるが、代表的な例として
は、ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＡ型、ビ
スフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、フェノールノ
ボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノール
Ａのノボラック型、ビフェノール型、ビキシレノール
型、Ｎ−グリシジル型等の公知慣用のエポキシ化合物
や、市販品として好適なものとしてはダイセル社製ＥＨ
ＰＥ−３１５０等が挙げられ、これらを単独で又は２種
以上を組み合わせて用いることができる。
【００２０】不飽和モノカルボン酸（ｈ）の具体例とし
ては、アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、ケイ
皮酸、α−シアノケイ皮酸、β−スチリルアクリル酸、
β−フルフリルアクリル酸等が挙げられ、これらを単独
で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００２１】前記エポキシ化合物（ｇ）と不飽和モノカ
ルボン酸（ｈ）の反応は、エポキシ基の当量数／カルボ
キシル基の当量数が０．８〜１．２、好ましくは０．９
〜１．０５となる割合で行うことが好ましい。エポキシ
基の当量数／カルボキシル基の当量数が０．８未満で
は、不飽和モノカルボン酸が残るため臭気の問題があ
り、一方、上記当量数が１．２を越えた場合、エポキシ
基が多く残るため、多塩基酸無水物を反応させる段階で
ゲル化し易くなるので好ましくない。また、生成した２
級の水酸基に対する多塩基酸無水物の反応比率は、最終
的に得られる樹脂の酸価が好ましくは４５〜１６０ｍｇ
ＫＯＨ／ｇの範囲内となるように調整する。一般的に
は、エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸の反応で生
成する水酸基１当量に対し、多塩基酸無水物の当量が
０．３以上、好ましくは０．５以上である。
【００２２】次に、前記一般式（I）で表わされる光重
合開始剤（Ｂ）はα−アミノアセトフェノン系化合物で
あり、その具体例としては以下のような化合物が挙げら
れる。 ＊1-［４−(３−メルカプトプロピルチオ)フェニル］−
２−メチル−２−モルフォリン−４−イル−プロパン−
１−オン ＊１−[４−（メルカプトエチルチオ）フェニル］−２
−メチル−２−モルフォリン−４−イル−プロパン−１
−オン ＊１−[４−（４−メルカプトフェニルチオ）フェニ
ル］−２−メチル−２−モルフォリン−４−イル−プロ
パン−１−オン ＊１−[４−（２，３−ジヒドロキシ−４−メルカプト
ブチルチオ）フェニル］−２−メチル−２−モルフォリ
ン−４−イル−プロパン−１−オン ＊１−[４−（３−メルカプトプロピルチオ）フェニ
ル］−２−ジメチルアミノ−２−メチルペンテ−４−エ
ノ−１−オン ＊１−[４−（３−メルカプトプロピルチオ）フェニ
ル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１
−オン ＊１−[４−（３−メルカプトプロピルアミノ）フェニ
ル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパン−
１−オン ＊１−[４−（３−メルカプトプロピルアミノ）フェニ
ル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１
−オン ＊１−[４−（６−メルカプトヘキシルチオ）フェニ
ル］−２−メチル−２−モルフォリン−４−イル−プロ
パン−１−オン ＊１−[４−｛２−[２−（２−メルカプト−エトキシ）
エトキシ］エチルチオ｝フェニル]−２−メチル−２−
モルフォリン−４−イル−プロパン−１−オン ＊１−｛４−[２−（２−メルカプト−エチルチオ）エ
チルチオ］フェニル｝−２−メチル−２−モルフォリン
−４−イル−プロパン−１−オン ＊１−[４−(１０−メルカプトデカニルチオ）フェニ
ル]−２−メチル−２−モルフォリン−４−イル−プロ
パン−１−オン ＊１−[４−(４−メルカプトブチルチオ）フェニル]−
２−メチル−２−モルフォリン−４−イル−プロパン−
１−オン ＊１−[４−(４−メルカプトメチル−ベンジルチオ）フ
ェニル]−２−メチル−２−モルフォリン−４−イル−
プロパン−１−オン ＊１−[４−(３−メルカプト−２−メルカプトメチル−
２−メチル−プロピオチオ）フェニル]−２−メチル−
２−モルフォリン−４−イル−プロパン−１−オン ＊[４−(２−メチル−２−モルフォリン−４−イル−プ
ロピオニル）フェニルチオ]酢酸２，２−ビスメルカプ
トアセトキシメチル−ブチルエステル ＊３−メルカプトプロピオン酸２−[４−(２−メチル−
２−モルフォリン−４−イル−プロピオニル）フェニル
チオ]エチルエステル ＊メルカプト酢酸２−[４−(２−メチル−２−モルフォ
リン−４−イル−プロピオニル）フェニルチオ]エチル
エステル ＊２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−[４−(３−
メルカプト−プロポキシ)−３−メトキシフェニル]ブタ
ン−１−オン ＊２−(３−メルカプトメチル−ピペリジン−１−イル)
−２−メチル−１−(４−メチルチオ−フェニル)プロパ
ン−１−オン ＊１−[４−(３−メルカプト−プロポキシ)フェニル]−
２−メチル−２−モルフォリン−４−イループロパン−
１−オン ＊１−[４−(３−メルカプト−プロピルチオ)フェニル]
−２−(３−メルカプトメチル−ピペリジン−１−イル)
−２−メチループロパン−１−オン ＊１−[４´−(３−メルカプト−プロピルチオ)ビフェ
ニリ−４−イル]−２−メチル−２−モルフォリン−４
−イループロパン−１−オン ＊２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−[４´−(３
−メルカプト−プロピルチオ)ビフェニリ−４−イル]−
ブタン−１−オン これらの光重合開始剤(Ｂ)は、単独で用いてもよいし、
２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記光重
合開始剤(Ｂ)の含有量は、前記感光性プレポリマー(Ａ)
１００重量部当たり、通常０．０１〜５０重量部、好ま
しくは０．１〜２０重量部の範囲で選ばれる。
【００２３】本発明の組成物において、上記光重合開始
剤(Ｂ)と組み合わせて用いられる他の光重合開始剤(Ｂ
−１)は、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、ベン
ゾインエーテル系、ケタール系、アシルホスフィンオキ
サイド、パーオキサイド系、チタノセン系などのラジカ
ル光重合開始剤である。例えば、他の光重合開始剤（Ｂ
−１)の具体例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキ
ルエーテル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−
２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２
−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−
フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェ
ノン等のアセトフェノン類；２−メチル−１−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン
−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１等のアミ
ノアセトフェノン類；２−メチルアントラキノン、２−
エチルアントラキノン、２−ターシャリーブチルアント
ラキノン、１−クロロアントラキノン等のアントラキノ
ン類；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエ
チルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，
４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン
類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチ
ルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン等のベンゾ
フェノン類；又はキサントン類；（２，６−ジメトキシ
ベンゾイル）−２，４，４−ペンチルホスフィンオキサ
イド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フ
ェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチル
ベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、エチル−
２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネ
イト等のアシルホスフィンオキサイド類；各種パーオキ
サイド類などが挙げられ、これら公知慣用の光重合開始
剤を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることがで
きる。これらの光重合開始剤(Ｂ−１)の配合割合は、前
記感光性プレポリマー(Ａ)１００重量部当たり、０．１
〜２０重量部の範囲が好ましい。
【００２４】前記のような光重合開始剤（Ｂ及びＢ−
１）と共に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエ
ステル、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、
トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミ
ン類のような光増感剤を単独であるいは２種以上組み合
わせて用いることができる。さらに、可視領域でラジカ
ル重合を開始するチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社
製イルガキュア７８４等のチタノセン系光重合開始剤、
ロイコ染料等を硬化助剤として組み合わせて用いること
ができる。
【００２５】本発明の感光性樹脂組成物に用いられる反
応性希釈剤（Ｃ）は、該組成物の粘度を調整して作業性
を向上させるとともに、架橋密度を上げ、密着性などを
有する塗膜を得るために使用する液状感光性化合物であ
る。このような反応性希釈剤（Ｃ）としては、多価アル
コールにα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる
化合物、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポ
リエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メ
タ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メ
タ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等；グリ
シジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加
して得られる化合物、例えばエチレングリコールジグリ
シジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレング
リコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルト
リアクリレート、ビスフェノールＡグリシジルエーテル
ジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステ
ルジ（メタ）アクリレート、グリセリンポリグリシジル
エーテルポリ（メタ）アクリレート等；その他、２，２
−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−（メタ）アク
リロイルオキシポリエトキシフェニル）プロパン、２−
ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル
（メタ）アクリレート、等の多官能モノマーが挙げら
れ、１種又は２種以上用いられる。これらの多官能モノ
マーと共に、単官能モノマーを適当量併用することもで
きる。
【００２６】単官能モノマーの例としては、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−ク
ロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）ア
クリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル
酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロー
ル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。これらの反
応性希釈剤(Ｃ)の含有量は、前記感光性プレポリマー
（Ａ）１００重量部当たり２〜５０重量部の範囲が好適
である。反応性希釈剤(Ｃ)の配合量が上記範囲よりも少
ない場合、塗膜の硬化不良、可撓性の低下、現像速度の
遅延等を招き、一方、上記範囲よりも多い場合には粘着
性の増大、コールドフロー、硬化レジストの剥離速度低
下等を招くので好ましくない。
【００２７】本発明の感光性樹脂組成物は、上記（Ａ）
成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分を必須成分とするが、必
要に応じて熱重合禁止剤、可塑剤、染料（色素、変色
剤）、密着性付与剤、酸化防止剤、溶剤、表面張力改質
材、安定剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、等の添加剤
を適宜添加することができる。例えば、熱重合禁止剤は
感光性樹脂組成物の熱的な重合又は経時的な重合を防止
するために添加するもので、ｐ−メトキシフェノール、
ヒドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、
２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒ
ドロキシベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジ
ン、クロラニル、ナフチルアミン、β−ナフトール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ニトロベン
ゼン、ジニトロベンゼン、ピクリン酸、ｐ−トルイジン
等が挙げられる。
【００２８】可塑剤は膜物性をコントロールするために
添加するもので、例えばジブチルフタレート、ジヘプチ
ルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレ
ート等のフタル酸エステル類；トリエチレングリコール
ジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート
等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェー
ト、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；
ｐ−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイソ
ブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセ
バケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等
の脂肪族二塩基酸エステル類；クエン酸トリエチル、ク
エン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、
ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポキシシクロヘキサン
−１，２−ジカルボン酸ジオクチル等の脂肪酸エステル
類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等のグリコール類などが挙げられる。
【００２９】色素としては、例えば、ブリリアントグリ
ーン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロシン
Ｂ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシ
ックフクシン、フェノールフタレイン、１，３−ジフェ
ニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモールフタレ
イン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ロ
ーズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタ
レイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレン
ジＩＶ、ジフェニルチオカルバゾン、２，７−ジクロロ
フルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、
ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチルレッド、ナイルブ
ルーＡ、フェナセタリン、メチルバイオレット、マラカ
イトグリーン、パラフクシン、オイルブルー＃６０３
［オリエント化学工業（株）製］、ビクトリアピュアブ
ルーＢＯＨ、スピロンブルーＧＮ［保土ケ谷化学工業
（株）製］、ローダミン６Ｇ等である。
【００３０】変色剤は、露光により可視像を与えること
ができるように感光性樹脂組成物中に添加され、具体例
として前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルア
ニリン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフ
ェニル−ｐ−フェニレンジアミン、ｐ−トルイジン、
４、４′−ビフェニルジアミン、ｏ−クロロアニリン、
ロイコクリスタルバイオレット、ロイコマラカイトグリ
ーン、ロイコアニリン、ロイコメチルバイオレット等が
挙げられる。
【００３１】密着促進剤としては、例えばベンズイミダ
ゾール、ベンズチアゾール、ベンズオキソゾール、ベン
ズトリアゾール、２−メルカプトベンズチアゾール、２
−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
【００３２】本発明の感光性樹脂組成物は、ディップコ
ート法、フローコート法、ロールコート法、バーコータ
ー法、スクリーン印刷法等の常法により、加工すべき
（銅張）基板上に直接塗工し、厚さ１〜１５０μｍの感
光層を容易に形成することもできる。塗工時に適宜の量
の溶剤を添加することもできる。本発明のエッチングレ
ジストインクに用いることのできる溶剤は、乾燥が容易
で毒性の少ない溶剤が選ばれる。例えば、メタノール、
エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、ブタノール、イソブタノール等のアルコール類；
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸シクロヘキ
シル、アセト酢酸メチル、アジピン酸ジメチル、グルタ
ミン酸ジメチル、琥珀酸ジメチル等の酢酸エステル類；
シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、２−ブタ
ノン、メチルイソブチルケトン、アセトン等のケトン
類；α−テルピオネール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエ
ーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジブチルエーテル等のエチレングリコールやジエ
チレングリコールの誘導体；及びトルエン、ミネラルス
ピリットなどを好適に用いることができる。これらの溶
剤は単独で又は２種以上を混合して前記アルカリ水溶液
に可溶な感光性プレポリマーと光重合性不飽和化合物
（反応性希釈剤）を溶解し、他の成分を添加して粘度を
調整し、エッチングレジストインクを得ることが出来
る。
【００３３】本発明の感光性樹脂組成物の塗膜を光硬化
させるための照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメ
タルハライドランプが適当である。その他、レーザー光
線なども露光用活性光源として利用することができる。
次いで、露光後、感光層上に重合体フィルムからなるフ
ォトマスク等が存在している場合には、これを除去した
後、アルカリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、揺動
浸漬、ブラッシング等の公知方法により未露光部を除去
して現像する。
【００３４】現像に用いられるアルカリ性水溶液として
は、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、ア
ミン類などのアルカリ水溶液が使用でき、特に、炭酸ナ
トリウムが好ましい。現像に用いるアルカリ水溶液のｐ
Ｈは、９〜１１の範囲に調整することが好ましく、ま
た、その温度は、感光層の現像性に合わせて調節され
る。また、アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡
剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入し
てもよい。
【００３５】さらに、プリント配線板を製造するに際し
ては、現像されたフォトレジスト画像をマスクとして露
光している基板の表面を、エッチング、めっき等の公知
方法で処理する。次いで、フォトレジスト画像は、通
常、現像に用いたアルカリ水溶液よりさらに強アルカリ
性の水溶液で剥離される。この強アルカリ性の水溶液と
しては、例えば、１〜５重量％の水酸化ナトリウム水溶
液等が用いられる。
【００３６】
【実施例】以下に実施例及び比較例を示して本発明につ
いて具体的に説明するが、本発明が以下の実施例に限定
されるものでないことは言うまでもない。なお、以下に
おいて「部」及び「％」とあるのは、特に断りのない限
り全て「重量部」及び「重量％」を表わす。
【００３７】合成例１ クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のエピクロンＮ−
６９５（大日本インキ化学工業（株）製、エポキシ当量
＝２２０）２２０部を攪拌機及び還流冷却器を備えた四
つ口フラスコに入れ、ジエチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート２１４部を加え、加熱溶解した。次
に、重合禁止剤としてハイドロキノン０．１部と、反応
触媒としてジメチルベンジルアミン２．０部を加えた。
この混合溶液を９５〜１０５℃に加熱し、アクリル酸７
２部を徐々に滴下し、テトラヒドロフタル酸１０６部を
加え、８時間反応させ、冷却後、取り出した。このよう
にして得られたエチレン性不飽和二重結合及びカルボキ
シル基を併せ持つ感光性プレポリマーは、不揮発分６５
％、固形分の酸価１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子
量（Ｍｗ）３，５００であった。以下、この感光性プレ
ポリマーを樹脂Ａと称す。
【００３８】合成例２ 温度計、攪拌機、滴下ロート、及び還流冷却器を備えた
フラスコに、メチルメタアクリレート、エチルメタアク
リレート、メタアクリル酸をモル比で１：１：２になる
ように仕込み、溶媒としてジプロピレングリコールモノ
エチルエーテル、触媒としてアゾビスイソブチロニトリ
ル（ＡＩＢＮ）を入れ、窒素雰囲気下、８０℃で４時間
攪拌し、樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を冷却し、重合
禁止剤としてテトラブチルホスニウムブロミドを用い、
グリシジルメタアクリレートを９５〜１０５℃で１６時
間の条件で２０モル％付加反応させ、冷却後取り出し
た。このようにして得られたエチレン性不飽和二重有結
合とカルボキシル基を併せ持つ感光性プレポリマーは、
不揮発分６５％、固形物の酸価１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、
Ｍｗ３５，０００であった。以下、この感光性プレポリ
マーを樹脂Ｂと称す。なお、得られた各感光性プレポリ
マーの重量平均分子量の測定は、（株）島津製作所製ポ
ンプＬＣ−６ＡＤと昭和電工（株）製カラムＳｈｏｄｅ
ｘ（登録商標）ＫＦ−８０４、ＫＦ−８０３、ＫＦ−８
０２を三本つないだ高速液体クロマトグラフィーにより
測定した。
【００３９】実施例１ 合成例１で得られた（Ａ）成分である樹脂Ａ１００部に
（Ｂ）成分の１−〔４−（３−メルカプトプロピルチ
オ）フェニル〕−２−メチル−２−モルフォリン−４−
イル−プロパン−１−オン１０部、（Ｂ−１）成分のジ
エチルチオキサントン（日本化薬（株）製：ＤＥＴＸ−
Ｓ）１部、（Ｃ）成分のジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート２０部、染料（ロイコクリスタルバイオレ
ット）０．３部、染料（マラカイトグリーン）０．０５
部、消泡剤（信越化学工業（株）製：ＫＳ−６６）１部
を配合し、更に３本ロールミルで混合分散させることに
より、感光性樹脂組成物を調製した。
【００４０】実施例２ 実施例１において（Ｂ−１）成分のジエチルチオキサン
トンを用いない以外は実施例１と全く同じ処方及び方法
により感光性樹脂組成物を調製した。
【００４１】実施例３ 実施例１において（Ａ）成分の樹脂Ａに代えて樹脂Ｂを
１００部用いる以外は実施例１と全く同じ処方及び方法
により感光性樹脂組成物を調製した。
【００４２】実施例４ 実施例３において（Ｂ−１）成分のジエチルチオキサン
トンを用いない以外は実施例３と全く同じ処方及び方法
により感光性樹脂組成物を調製した。
【００４３】比較例１ 実施例１において（Ｂ）成分を用いずに、それに代えて
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２
−モルフォリノプロパン−１−オン（チバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ（株）製：イルガキュアー９０７）を
用いる以外は実施例１と全く同じ処方及び方法により感
光性樹脂組成物を調製した。
【００４４】比較例２ 比較例１において（Ａ）成分の樹脂Ａに代えて樹脂Ｂを
１００部用いる以外は比較例１と全く同じ処方及び方法
により感光性樹脂組成物を調製した。
【００４５】調製した各感光性樹脂組成物を銅張積層板
上にロールーコーターにて１０μｍ厚（仮乾燥８０℃×
１０分後の厚み）に塗布し、所望のネガパターンフィル
ムを使用して１００ｍＪ／ｃｍ2 で密着露光し、１％炭
酸ソーダ水溶液で現像することによりレジストパターン
を得た。パターン形成性は、このレジストパターンを電
子顕微鏡で観察して評価した。レジストパターンを形成
させた銅張積層板を５０℃の塩化第２鉄水溶液をスプレ
ーしてエッチングした後、５０℃の３％水酸化ナトリウ
ム水溶液で感光性樹脂硬化塗膜を剥離した。
【００４６】感度：仮乾燥後の塗膜にコダックＮｏ．２
のステップタブレットをのせて、超高圧水銀灯で１００
ｍＪ／ｃｍ2の露光を行い、３０℃で１％炭酸ナトリウ
ム水溶液を６０秒間スプレーすることにより未露光部分
を除去した。感光性樹脂組成物の光感度は、銅張基板上
に形成された光硬化膜のステップタブレットの段数を測
定することにより評価した。（このステップタブレット
の段数が高いほど光感度が高いことを示している。）
【００４７】細線密着性：上記のように銅張基板上に塗
膜を形成して仮乾燥した後、ライン幅１０μｍ、１５μ
ｍ、２０μｍ、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μ
ｍ、４５μｍ及び５０μｍのパターンマスク（スペース
幅は４００μｍ）を用いて、感度評価の場合と同様に露
光、現像して密着性良好な最小ライン幅（μｍ）を調べ
た。
【００４８】レジスト剥離性：１０ｃｍ×２０ｃｍの長
方形の開口部（光透過部）を有するネガフィルムを用い
て感度評価の場合と同様に露光した後、１％炭酸ナトリ
ウム水溶液にて現像した。次いで５０℃の３％水酸化ナ
トリウム水溶液を入れたビーカーに現像後の基板を浸漬
し、レジスト膜（光硬化皮膜）を剥離し、剥離する時間
及び剥離片の状態を観測した。評価基準は以下の通りで
ある。 ○：レジスト膜に少なくとも６〜７本の亀裂が生じ、レ
ジスト膜が微小片（２０ｍｍ角以下）となり剥離する。 △：レジスト膜に少なくとも２〜３本の亀裂が生じ、レ
ジスト膜が小片（４０ｍｍ角以下）となり剥離する。 ×：レジスト膜に亀裂を生じずに１０ｃｍ×２０ｃｍの
ままほぼ膜状に剥離する。
【００４９】柔軟性：レジスト膜の柔軟性は、光硬化後
の塗膜を碁盤目状にカットしてからセロハン粘着テープ
で剥離を行った後、各目の塗膜の様子を顕微鏡で観察し
て評価した。 ◎：全ての目の塗膜端部に欠け及び欠損なし。 ○：一部の目の塗膜端部に欠け及び欠損が僅かに発生。 △：全ての目の塗膜端部に欠け及び欠損が僅かに発生。 ×：全ての目の塗膜端部に欠け及び欠損が発生。
【００５０】前記各特性試験の結果を表１に示す。
【表１】
【００５１】
【発明の効果】以上のように、本発明の感光性樹脂組成
物は、（Ａ）１分子内に２個以上の不飽和二重結合と１
個以上のカルボキシル基を有する感光性プレポリマー及
び（Ｃ）反応性希釈剤と組み合わせて、（Ｂ）光重合開
始剤として前記一般式（Ｉ）で表わされるα−アミノア
セトフェノン系化合物を使用しているため、解像性、密
着性及び膜強度に優れた光硬化皮膜が得られ、液状フォ
トエッチングレジストとしてのパターン形成性、エッチ
ング耐性、剥離性等の諸特性のみでなく、塗膜としての
柔軟性も改善され、現像後のレジストパターンの欠けや
欠損が非常に減少し、そのため歩留まりが向上するとい
う優れた性能を示す。このため、従来品よりも安定性に
優れ、レジストとしての性能が良好な液状フォトエッチ
ングレジストを提供するという点で、工業的に価値が大
きいものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/027 ５１１ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５１１ 7/029 7/029 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ 3/18 3/18 Ｄ Ｆターム(参考） 2H025 AA02 AA13 AA14 AB15 AB20 AC01 AD01 BC13 BC32 BC34 BC38 BC42 BC43 BC85 CA01 FA03 FA17 4J011 AA05 QA03 QA06 QA13 QA17 QA18 QA23 QA24 QA26 QA32 QA34 QA42 QB03 QB16 QB20 QB22 SA02 SA03 SA15 SA16 SA17 SA22 SA32 SA34 SA63 SA64 SA76 SA84 TA03 TA04 TA05 UA01 UA02 VA01 WA01 4J027 AA02 AC03 AC04 AC06 AE02 AE03 AE04 AE05 AE07 BA07 BA08 BA19 BA20 BA21 BA24 BA26 BA28 CB10 CC05 CC07 CD10 5E339 AD01 AD03 BC02 BD06 BE13 CC01 CC02 CD01 CE12 CE19 CF16 CF17 DD02 GG01 5E343 CC62 CC65 GG08 GG20

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （Ａ）１分子内に２個以上の不飽和二重
    結合と１個以上のカルボキシル基を有する感光性プレポ
    リマー、（Ｂ）光重合開始剤として下記一般式（Ｉ）で
    表わされる化合物及び（Ｃ）反応性希釈剤を含有するこ
    とを特徴とする感光性樹脂組成物。 【化１】 （式中、Ａｒは、次式 【化２】 で示される基、又はこれらの基がハロゲン原子、炭素原
    子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜１２のアル
    ケニル基、炭素原子数５〜６のシクロアルキル基、フェ
    ニルアルキル基(但し、アルキル基は炭素原子数１〜３
    のアルキル基)、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ(但し、Ｒは炭
    素原子数１〜４のアルキル基)、−ＯＲ5、−ＳＨ、−Ｓ
    Ｒ6、−ＳＯＲ6、−ＳＯ2Ｒ6、−ＣＮ、−ＳＯ2ＮＨ2、
    −ＳＯ2ＮＨＲ(但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル
    基)、−ＳＯ2ＮＲ2(但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアル
    キル基)、−ＮＲ7Ｒ8及び−ＮＨＣＯＲ7のうちの１〜５
    個によって、もしくは下記式（Ｉａ） 【化３】 で示される基によって置換された基を表わし；Ｘは、直
    接結合、−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（Ｒ9）−を表わし；
    Ｙは、水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、又
    はこれらのアルキル基が−ＯＨ、−ＯＲ9、−ＣＯＯ
    Ｒ9、−ＳＨ、−Ｎ（Ｒ9）2もしくはハロゲン原子のう
    ちの１〜５個によって置換されているか、もしくは前記
    式（Ｉａ）で示される基によって１〜５回置換された基
    を表わすか、又は１〜９個の−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ9）−、
    −Ｓ−、−ＳＳ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｘ−Ｃ（＝
    Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ
    −、−Ｘ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｘ−、もしくは次式 【化４】 で示される基によって中断された炭素原子数２〜２０の
    アルキル基、もしくは該中断された炭素原子数２〜２０
    のアルキル基がさらに１〜５個の−ＳＨによって置換さ
    れたアルキル基を表わすか、又は、ベンジル基もしくは
    −ＣＨ2ＳＨによって１回又は２回置換されたベンジル
    基又はこれらのベンジル基がさらに炭素原子数１〜４の
    アルキル基によって置換された基を表わし；Ｒ1及びＲ2
    は、互いに独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、又
    は−ＯＨ、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、−ＳＨ、
    −ＣＮ、−ＣＯＯＲ’（但し、Ｒ’は１〜８のアルキル
    基）、ＲＣＯＯ−（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアル
    キル基）、もしくは−ＮＲ3Ｒ4によって置換された炭素
    原子数１〜８のアルキル基を表わすか、又は互いに独立
    して炭素原子数３〜６のアルケニル基、フェニル基、ク
    ロロフェニル基、Ｒ5−Ｏ−フェニル基、Ｒ6−Ｓ−フェ
    ニル基もしくはフェニルアルキル基（但し、アルキル基
    は炭素原子数１〜３のアルキル基）、又はこれらの炭素
    原子数３〜６のアルケニル基、フェニル基、クロロフェ
    ニル基、Ｒ5−Ｏ−フェニル基、Ｒ6−Ｓ−フェニル基も
    しくはフェニルアルキル基（アルキル基は炭素原子数１
    〜３のアルキル基）がさらに１〜５個の−ＳＨによって
    置換された基を表わすか、又は、Ｒ1及びＲ2は一緒にな
    って直鎖もしくは枝分れ鎖の炭素原子数２〜９のアルキ
    レン基、炭素原子数３〜９のオキサアルキレン基もしく
    は炭素原子数３〜９のアザアルキレン基、又はこれらの
    炭素原子数２〜９のアルキレン基、炭素原子数３〜９の
    オキサアルキレン基もしくは炭素原子数３〜９のアザア
    ルキレン基がさらに１〜５個の−ＳＨによって置換され
    た基を表わし；Ｒ3は、水素原子、炭素原子数１〜１２
    のアルキル基、炭素原子数２〜４のアルキル基であって
    −ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、−
    ＣＮもしくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４
    のアルキル基）によって置換された基、炭素原子数３〜
    ５のアルケニル基、炭素原子数５〜１２のシクロアルキ
    ル基又はフェニルアルキル基（但し、アルキル基は炭素
    原子数１〜３のアルキル基）を表わし；Ｒ4は、炭素原
    子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数２〜４のアルキ
    ル基であって−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１〜４のアル
    コキシ基、−ＣＮもしくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素
    原子数１〜４のアルキル基）によって置換された基、炭
    素原子数３〜５のアルケニル基、炭素原子数５〜１２の
    シクロアルキル基、フェニルアルキル基（但し、アルキ
    ル基は炭素原子数１〜３のアルキル基）、未置換のフェ
    ニル基、又はフェニル基であってハロゲン原子、炭素原
    子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコ
    キシ基もしくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜
    ４のアルキル基）によって置換された基を表わすか、又
    は、Ｒ4はＲ2と一緒になって炭素原子数１〜７のアルキ
    レン基、フェニルアルキレン基（但し、アルキレン基は
    炭素原子数１〜４のアルキレン基）、ｏ−キシリレン
    基、２−ブテニレン基、炭素原子数２〜３のオキサアル
    キレン基もしくは炭素原子数２〜３のアザアルキレン基
    を表わすか、又は、Ｒ4はＲ3と一緒になって炭素原子数
    ３〜７のアルキレン基又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−も
    しくは−Ｎ（Ｒ9）−によって中断された炭素数３〜７
    のアルキレン基、又はこれらの炭素原子数３〜７のアル
    キレン基が−ＯＨ、炭素原子数１〜４のアルコキシ基も
    しくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアル
    キル基）によって置換された基を表わし；Ｒ5は、水素
    原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３
    〜１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、ヒドロキシ
    シクロヘキシル基を表わすか、又は炭素原子数１〜４の
    アルキル基であってＣ１、Ｂｒ、−ＣＮ、−ＳＨ、−Ｎ
    Ｒ 2（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基）、ピ
    ペリジノ基、モルホリノ基、−ＯＨ、炭素原子数１〜４
    のアルコキシ基、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2
    ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル
    基）、−ＯＯＣＲ10、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ’（但
    し、Ｒ’は炭素原子数１〜８のアルキル基）、−ＣＯＮ
    ＨＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基）、−
    ＣＯＮＲ2（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル
    基）、下記式（ｉ） 【化５】 で示される基、−ＣＯＲ(但し、Ｒは炭素原子数１〜４
    のアルキル基)もしくは下記式（ｉｉ） 【化６】 で示される基によりモノ−又はポリ置換された基を表わ
    すか、又は、２，３−エポキシプロピル基、−（ＣＨ2
    ＣＨ2Ｏ）nＨ（但し、ｎは２〜２０の整数）、未置換の
    フェニル基、又はフェニル基であってハロゲン原子、炭
    素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアル
    コキシ基もしくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１
    〜４のアルキル基）によって置換された基を表わすか、
    又は、フェニルアルキル基（但し、アルキル基は炭素原
    子数１〜３のアルキル基）、テトラヒドロピラニル基、
    テトラヒドロフラニル基、−ＣＯＯＲ10、−ＣＯＯＲ’
    （但し、Ｒ’は炭素原子数１〜８のアルキル基）、−Ｃ
    ＯＮＨＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル
    基）、−ＣＯＮＲ’2（但し、Ｒ’は炭素原子数１〜８
    のアルキル基）、−Ｓｉ（Ｒ11）（Ｒ12）2又は−ＳＯ2
    Ｒ13を表わし；Ｒ6は、炭素原子数１〜１２のアルキル
    基、炭素原子数３〜１２のアルケニル基、シクロヘキシ
    ル基、ヒドロキシシクロヘキシル基を表わすか、又は炭
    素原子数１〜４のアルキル基であってＣ１、Ｂｒ、−Ｃ
    Ｎ、−ＳＨ、−ＮＲ2（但し、Ｒは炭素原子数１〜４の
    アルキル基）、ピペリジノ基、モルホリノ基、−ＯＨ、
    炭素原子数１〜４のアルコキシ基、−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｃ
    Ｎ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１
    〜４のアルキル基）、−ＯＯＣＲ10、−ＣＯＯＨ、−Ｃ
    ＯＯＲ’（但し、Ｒ’は炭素原子数１〜８のアルキル
    基）、−ＣＯＮＲ2（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のア
    ルキル基）、前記式（ｉ）で示される基、−ＣＯＲ(但
    し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基)もしくは前記
    式（ｉｉ）で示される基によりモノ−又はポリ置換され
    た基を表わすか、又は、２，３−エポキシプロピル基、
    フェニルアルキル基（但し、アルキル基は炭素原子数１
    〜３のアルキル基）、フェニルヒドロキシアルキル基
    (但し、ヒドロキシアルキル基は炭素原子数１〜３のヒ
    ドロキシアルキル基)、未置換のフェニル基、又はフェ
    ニル基であってハロゲン原子、−ＳＨ、炭素原子数１〜
    ４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基もし
    くは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキ
    ル基）によってモノ−又はポリ置換された基を表わす
    か、又は、２−ベンゾチアジル基、２−ベンズイミダゾ
    リル基、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−ＳＨ又は−Ｃ
    Ｈ2ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2ＣＨ2−ＳＨを表わし；Ｒ7及びＲ8
    は、互いに独立して水素原子、炭素原子数１〜１２のア
    ルキル基、炭素原子数２〜４のアルキル基であって−Ｏ
    Ｈ、−ＳＨ、炭素原子数1〜４のアルコキシ基、−ＣＮ
    もしくは−ＣＯＯＲ（但し、Ｒは炭素原子数１〜４のア
    ルキル基）によって置換された基を表わすか、又は互い
    に独立して炭素原子数３〜５のアルケニル基、シクロヘ
    キシル基、フェニルアルキル基（但し、アルキル基は炭
    素原子数１〜３のアルキル基）、未置換のフェニル基、
    又はフェニル基であって炭素原子数１〜１２のアルキル
    基もしくはハロゲン原子によってモノ−又はポリ置換さ
    れた基を表わすか、又は、Ｒ7及びＲ8は一緒になって炭
    素原子数２〜７のアルキレン基又は−Ｏ−、−Ｓ−もし
    くは−Ｎ（Ｒ14）−によって中断さた炭素原子数２〜７
    のアルキレン基を表わし；Ｒ9は、水素原子、炭素原子
    数１〜１２のアルキル基、又は−ＯＨ、−ＳＨもしくは
    ＨＳ−（ＣＨ2）m−ＣＯＯ−（但し、ｍは１〜２の整
    数）で置換された炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭
    素原子数２〜１２のアルキル基であって−Ｏ−、−ＮＨ
    −もしくは−Ｓ−によって中断された基、炭素原子数３
    〜５のアルケニル基、フェニルアルキル基（但し、アル
    キル基は炭素原子数１〜３のアルキル基）、−ＣＨ2Ｃ
    Ｈ2ＣＮ、未置換もしくはＯＨ−もしくはＳＨ−で置換
    された炭素原子数１〜４のアルキル−ＣＯ−ＣＨ2ＣＨ2
    −基、未置換もしくはＯＨ−もしくはＳＨ−で置換され
    た炭素原子数２〜８のアルカノイル基、又はベンゾイル
    基を表わし；Ｒ10は、炭素原子数１〜４のアルキル基、
    炭素原子数２〜４のアルケニル基又はフェニル基を表わ
    し；Ｒ11及びＲ12は、互いに独立して炭素原子数１〜４
    のアルキル基又はフェニル基を表わし；Ｒ13は、炭素原
    子数１〜１８のアルキル基、フェニル基又は炭素原子数
    １〜１４のアルキル基によって置換されたフェニル基を
    表わし；Ｒ14は、直鎖もしくは枝分れ鎖の炭素原子数２
    〜１６のアルキレン基又は１〜６個の−Ｏ−もしくは−
    Ｓ−によって中断された直鎖もしくは枝分れ鎖の炭素原
    子数２〜１６のアルキレン基、又はこれらのアルキレン
    基が１〜５個の−ＳＨ基によって置換された直鎖もしく
    は枝分れ鎖のアルキレン基を表わす。但し、前記した基
    Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4又はＹのうち少なくとも一つ
    は１〜５個の−ＳＨ基によって置換されているか、又は
    Ｙは少なくとも一つの−ＳＳ−基を含む。）
  2. 【請求項２】 前記光重合開始剤（Ｂ）以外の他の光重
    合開始剤（Ｂ−１）をさらに含有することを特徴とする
    請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
  3. 【請求項３】 前記感光性プレポリマー（Ａ）が酸価４
    ５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇを有する請求項１又は２に記
    載の感光性樹脂組成物。
  4. 【請求項４】 前記光重合開始剤（Ｂ）の含有量が感光
    性プレポリマー（Ａ）１００重量部当たり０．０１〜５
    ０重量部である請求項１乃至３のいずれか一項に記載の
    感光性樹脂組成物。
  5. 【請求項５】 前記他の光重合開始剤（Ｂ−１）の含有
    量が感光性プレポリマー（Ａ）１００重量部当たり０．
    １〜２０重量部である請求項２乃至４のいずれか一項に
    記載の感光性樹脂組成物。
  6. 【請求項６】 前記反応性希釈剤（Ｃ）が分子内に不飽
    和二重結合を有する液状感光性化合物であり、その含有
    量が感光性プレポリマー（Ａ）１００重量部当たり２〜
    ５０重量部である請求項１乃至５のいずれか一項に記載
    の感光性樹脂組成物。
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