JP2000326631A - 光学記録媒体の製造方法 - Google Patents
光学記録媒体の製造方法Info
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- JP2000326631A JP2000326631A JP11138062A JP13806299A JP2000326631A JP 2000326631 A JP2000326631 A JP 2000326631A JP 11138062 A JP11138062 A JP 11138062A JP 13806299 A JP13806299 A JP 13806299A JP 2000326631 A JP2000326631 A JP 2000326631A
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 タクトタイムの短縮が可能で、生産性を大幅
に向上することができる、光学記録媒体の製造方法を提
供する。 【解決手段】 レーザー吸収色素を含有する記録層を有
し、レーザーによる情報の記録・再生が可能な光学記録
媒体を製造するにあたり、少なくとも該レーザー吸収色
素と、ｐＨ４以上のヘキサフルオロブタノールとを混合
して塗布液を調製し、該塗布液を透明基板上に塗布し、
乾燥して記録層を形成することを特徴とする、光学記録
媒体の製造方法。
に向上することができる、光学記録媒体の製造方法を提
供する。 【解決手段】 レーザー吸収色素を含有する記録層を有
し、レーザーによる情報の記録・再生が可能な光学記録
媒体を製造するにあたり、少なくとも該レーザー吸収色
素と、ｐＨ４以上のヘキサフルオロブタノールとを混合
して塗布液を調製し、該塗布液を透明基板上に塗布し、
乾燥して記録層を形成することを特徴とする、光学記録
媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学記録媒体の製
造方法に関する。大量の情報を記録し、伝達するという
時代的要求に伴い、今日では、光学記録媒体は広く一般
に使用されるようになった。光学記録媒体としては、光
磁気記録媒体、相変化型光学記録媒体、カルコゲン酸化
物光記録媒体、有機色素系光学記録媒体などがある。こ
れらの中でも、記録層にレーザー吸収色素を含む有機色
素系の光学記録媒体、例えばＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等
は、安価である等の理由から、近年需要が爆発的に増大
している。言い換えると、他の方式の光学記録媒体と比
較し、有機色素系の光学記録媒体の最大の利点の一つ
は、スピンコート法などの塗布法により記録層を形成で
きるため、常圧での高生産性により大幅なコストダウン
が可能な点にある。
造方法に関する。大量の情報を記録し、伝達するという
時代的要求に伴い、今日では、光学記録媒体は広く一般
に使用されるようになった。光学記録媒体としては、光
磁気記録媒体、相変化型光学記録媒体、カルコゲン酸化
物光記録媒体、有機色素系光学記録媒体などがある。こ
れらの中でも、記録層にレーザー吸収色素を含む有機色
素系の光学記録媒体、例えばＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等
は、安価である等の理由から、近年需要が爆発的に増大
している。言い換えると、他の方式の光学記録媒体と比
較し、有機色素系の光学記録媒体の最大の利点の一つ
は、スピンコート法などの塗布法により記録層を形成で
きるため、常圧での高生産性により大幅なコストダウン
が可能な点にある。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】一般に有機色素系の光
学記録媒体の場合、表面に案内溝を有する透明樹脂基板
上に、記録層や反射層等の各層が設けられている。通
常、この案内溝はフォトポリマー法または射出成形法に
より形成されるが、前者の場合、フォトポリマーから型
取りするために生産性が悪く高価であるという欠点を有
していた。後者の場合は、射出成形法によるために生産
性にすぐれ、安価なディスクを生産できるが、射出成形
法に使用できる樹脂は、加熱時の流動性が必要なため材
料に制約があり、一般に耐溶剤性が悪い。このような射
出成形プラスチック透明基板上に、レーザー吸収色素を
溶液塗布によって薄膜形成させる場合、基板上の案内溝
が塗布溶剤におかされないことが必要である。塗布に使
用できる溶剤としては、従来からセロソルブ系溶剤や、
フッ素化アルコール、フッ素化炭化水素、フッ素化アミ
ン、フッ素化ニトリル、フッ素化ケトン、フッ素化エス
テル、フッ素化エーテル、フッ素化カルボン酸、フッ素
化アミドおよびフッ素化ニトロなどの各種フッ素系溶媒
が提案されていた。
学記録媒体の場合、表面に案内溝を有する透明樹脂基板
上に、記録層や反射層等の各層が設けられている。通
常、この案内溝はフォトポリマー法または射出成形法に
より形成されるが、前者の場合、フォトポリマーから型
取りするために生産性が悪く高価であるという欠点を有
していた。後者の場合は、射出成形法によるために生産
性にすぐれ、安価なディスクを生産できるが、射出成形
法に使用できる樹脂は、加熱時の流動性が必要なため材
料に制約があり、一般に耐溶剤性が悪い。このような射
出成形プラスチック透明基板上に、レーザー吸収色素を
溶液塗布によって薄膜形成させる場合、基板上の案内溝
が塗布溶剤におかされないことが必要である。塗布に使
用できる溶剤としては、従来からセロソルブ系溶剤や、
フッ素化アルコール、フッ素化炭化水素、フッ素化アミ
ン、フッ素化ニトリル、フッ素化ケトン、フッ素化エス
テル、フッ素化エーテル、フッ素化カルボン酸、フッ素
化アミドおよびフッ素化ニトロなどの各種フッ素系溶媒
が提案されていた。
【０００３】しかしながら、上記のような、従来公知の
セロソルブ系溶剤や、フッ素系溶媒には、高濃度に溶解
し得るレーザー吸収色素はほとんどない。比較的良く使
われているのは、特開昭６３−１５９０９０号公報、特
開平２−４５８１号公報、特開平４−８５８５号公報、
特開平４−３３７５３８号公報などに記載のフッ素化ア
ルコール系溶媒であり、中でもトリフルオロプロパノー
ル（ＴＦＰ）は最も広く使用されている。しかし本発明
者らの検討の結果、ＴＦＰは水に対する親和性が高く、
記録層形成用の塗布液の余剰分を回収し再利用するとい
う所謂リサイクル工程において、回収した塗布液中に水
分が混入しやすく、色素の分解や、溶解度の低下をもた
らすため、塗布液をリサイクルして使用する事が難しい
ことが判明した。又、次に良く使用されているオクタフ
ルオロペンタノール（ＯＦＰ）についても検討したとこ
ろ、リサイクル性は良好であるが、沸点の高さが原因で
蒸発速度が遅いため、タクト短縮に限界があり、効率的
に生産性を上げる事が難しいという問題があることがわ
かった。
セロソルブ系溶剤や、フッ素系溶媒には、高濃度に溶解
し得るレーザー吸収色素はほとんどない。比較的良く使
われているのは、特開昭６３−１５９０９０号公報、特
開平２−４５８１号公報、特開平４−８５８５号公報、
特開平４−３３７５３８号公報などに記載のフッ素化ア
ルコール系溶媒であり、中でもトリフルオロプロパノー
ル（ＴＦＰ）は最も広く使用されている。しかし本発明
者らの検討の結果、ＴＦＰは水に対する親和性が高く、
記録層形成用の塗布液の余剰分を回収し再利用するとい
う所謂リサイクル工程において、回収した塗布液中に水
分が混入しやすく、色素の分解や、溶解度の低下をもた
らすため、塗布液をリサイクルして使用する事が難しい
ことが判明した。又、次に良く使用されているオクタフ
ルオロペンタノール（ＯＦＰ）についても検討したとこ
ろ、リサイクル性は良好であるが、沸点の高さが原因で
蒸発速度が遅いため、タクト短縮に限界があり、効率的
に生産性を上げる事が難しいという問題があることがわ
かった。
【０００４】また、特開平１０−１１９４３２等には、
レーザー吸収色素の塗布溶媒の例として、１Ｈ，１Ｈ，
３Ｈ−ヘキサフルオロブタノールが記載されている。こ
れに関しても、本発明者らは検討を行ったところ、ヘキ
サフルオロブタノールは、色素を高濃度に溶解し、樹脂
基板も侵さないため好ましいが、通常市販されているヘ
キサフルオロブタノールは強酸性であることが多く、強
酸性の塗布溶媒を用いて記録層を形成した場合、記録層
に含まれるレーザー吸収色素や各種添加剤等が徐々に分
解されるため好ましくない。また塗布液中のレーザー吸
収色素や各種添加剤等が酸により分解されやすいため、
リサイクル可能回数が少ないことも明らかになった。
レーザー吸収色素の塗布溶媒の例として、１Ｈ，１Ｈ，
３Ｈ−ヘキサフルオロブタノールが記載されている。こ
れに関しても、本発明者らは検討を行ったところ、ヘキ
サフルオロブタノールは、色素を高濃度に溶解し、樹脂
基板も侵さないため好ましいが、通常市販されているヘ
キサフルオロブタノールは強酸性であることが多く、強
酸性の塗布溶媒を用いて記録層を形成した場合、記録層
に含まれるレーザー吸収色素や各種添加剤等が徐々に分
解されるため好ましくない。また塗布液中のレーザー吸
収色素や各種添加剤等が酸により分解されやすいため、
リサイクル可能回数が少ないことも明らかになった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記した
従来の課題を解決すべく鋭意研究を進めた結果、射出成
形プラスチック透明基板を用いた場合にも基板をおかす
ことなく均一に塗布可能で、しかもレーザー吸収色素を
高濃度に溶解し得、リサイクル使用が可能で、かつ、タ
クト短縮による生産性の大幅な向上が得られる新規な溶
剤として、ｐＨ４以上のヘキサフルオロブタノールが好
適であることを初めて見出し、本発明に到達した。すな
わち、本発明はレーザー吸収色素を含有する記録層を有
し、レーザーによる情報の記録・再生が可能な光学記録
媒体を製造するにあたり、少なくとも該レーザー吸収色
素と、ｐＨ４以上のヘキサフルオロブタノールとを混合
して塗布液を調製し、該塗布液を透明基板上に塗布し、
乾燥して記録層を形成することを特徴とする、光学記録
媒体の製造方法を要旨とするものである。
従来の課題を解決すべく鋭意研究を進めた結果、射出成
形プラスチック透明基板を用いた場合にも基板をおかす
ことなく均一に塗布可能で、しかもレーザー吸収色素を
高濃度に溶解し得、リサイクル使用が可能で、かつ、タ
クト短縮による生産性の大幅な向上が得られる新規な溶
剤として、ｐＨ４以上のヘキサフルオロブタノールが好
適であることを初めて見出し、本発明に到達した。すな
わち、本発明はレーザー吸収色素を含有する記録層を有
し、レーザーによる情報の記録・再生が可能な光学記録
媒体を製造するにあたり、少なくとも該レーザー吸収色
素と、ｐＨ４以上のヘキサフルオロブタノールとを混合
して塗布液を調製し、該塗布液を透明基板上に塗布し、
乾燥して記録層を形成することを特徴とする、光学記録
媒体の製造方法を要旨とするものである。
【０００６】本発明に使用する透明基板としては、ガラ
ス、プラスチック等が挙げられるが、種々の点からプラ
スチックが好適である。プラスチックとしてはアクリル
樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹
脂、ニトロセルロース、ポリエチレン樹脂、ポリプロピ
レン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ポ
リサルホン樹脂等が挙げられる。特に好ましい透明基板
としては、量産性にすぐれ、実用的なレベルの複屈折、
軟化点、耐熱性を有している射出成形ポリカーボネート
樹脂基板、ポリメタクリル樹脂基板が挙げられる。
ス、プラスチック等が挙げられるが、種々の点からプラ
スチックが好適である。プラスチックとしてはアクリル
樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹
脂、ニトロセルロース、ポリエチレン樹脂、ポリプロピ
レン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ポ
リサルホン樹脂等が挙げられる。特に好ましい透明基板
としては、量産性にすぐれ、実用的なレベルの複屈折、
軟化点、耐熱性を有している射出成形ポリカーボネート
樹脂基板、ポリメタクリル樹脂基板が挙げられる。
【０００７】レーザー吸収色素としては、ヘキサフルオ
ロブタノール中に高濃度に溶解するものが好ましく、４
００〜９００ｎｍの波長帯域で吸収を有し、しかも分子
吸光係数が１０3 〜１０6 ｃｍ-1であるものが好適であ
る。このようなレーザー吸収色素として使用される有機
色素としては、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ホルマザンニッケル系色素、シアニン系色
素、ピコリン系色素、ナフトラクタム系色素、アズレン
系色素、スクワリリウム系色素、含金属インドアニリン
系色素、含金属アゾ系色素、ジチオールニッケル系色
素、アントラキノン系色素、ビスアンスロン系色素、フ
タロイルナフタルイミド系色素、シアノメチレンピコリ
ン系色素、ナフトキノンメチド系色素、インドアニリン
系色素、ナフトキノン系色素、フエノチアジン系色素、
縮合環系色素等が挙げられる。
ロブタノール中に高濃度に溶解するものが好ましく、４
００〜９００ｎｍの波長帯域で吸収を有し、しかも分子
吸光係数が１０3 〜１０6 ｃｍ-1であるものが好適であ
る。このようなレーザー吸収色素として使用される有機
色素としては、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ホルマザンニッケル系色素、シアニン系色
素、ピコリン系色素、ナフトラクタム系色素、アズレン
系色素、スクワリリウム系色素、含金属インドアニリン
系色素、含金属アゾ系色素、ジチオールニッケル系色
素、アントラキノン系色素、ビスアンスロン系色素、フ
タロイルナフタルイミド系色素、シアノメチレンピコリ
ン系色素、ナフトキノンメチド系色素、インドアニリン
系色素、ナフトキノン系色素、フエノチアジン系色素、
縮合環系色素等が挙げられる。
【０００８】更に、本発明における特に好ましい有機色
素としては、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、
含金属アゾ系色素が挙げられる。このような色素を主成
分として含有する記録層は、例えば、スピンコート法等
の常用手段により塗設される。レーザー吸収色素の塗布
に用いる溶媒としては、ｐＨ４．０以上、好ましくはｐ
Ｈ４．５以上であるヘキサフルオロブタノール（ＨＦ
Ｂ）が用いられる。溶媒のｐＨが４．０未満であると、
そのような溶媒を用いて形成された記録層中では、該層
に含まれるレーザー吸収色素や各種添加剤等が徐々に分
解されてしまうため好ましくない。また、塗布液中のレ
ーザー吸収色素や各種添加剤等が酸により分解されやす
いため、リサイクル可能回数が少ない点もまた、好まし
くない。溶媒のｐＨは、中和や酸性イオンの除去等によ
り調整する。ＨＦＢの中でも、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキ
サフルオロブタノールが特に好ましい。記録層形成用の
塗布液には、本発明の性能を損わない範囲で他の溶媒を
含んでいてもよく、又、レーザー吸収色素の他に、必要
に応じてバインダー樹脂が含まれていても良い。
素としては、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、
含金属アゾ系色素が挙げられる。このような色素を主成
分として含有する記録層は、例えば、スピンコート法等
の常用手段により塗設される。レーザー吸収色素の塗布
に用いる溶媒としては、ｐＨ４．０以上、好ましくはｐ
Ｈ４．５以上であるヘキサフルオロブタノール（ＨＦ
Ｂ）が用いられる。溶媒のｐＨが４．０未満であると、
そのような溶媒を用いて形成された記録層中では、該層
に含まれるレーザー吸収色素や各種添加剤等が徐々に分
解されてしまうため好ましくない。また、塗布液中のレ
ーザー吸収色素や各種添加剤等が酸により分解されやす
いため、リサイクル可能回数が少ない点もまた、好まし
くない。溶媒のｐＨは、中和や酸性イオンの除去等によ
り調整する。ＨＦＢの中でも、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキ
サフルオロブタノールが特に好ましい。記録層形成用の
塗布液には、本発明の性能を損わない範囲で他の溶媒を
含んでいてもよく、又、レーザー吸収色素の他に、必要
に応じてバインダー樹脂が含まれていても良い。
【０００９】本発明の全溶媒に対するレーザー吸収色素
の比率は、特に好ましくは０．５〜８．０重量％であ
る。またバインダーを使用する場合、バインダーに対す
るレーザー吸収色素の比率は１０重量％以上が好まし
い。更に、記録媒体の安定性や耐光性向上のために一重
項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（ア
セチルアセトナート、ビスフェニルジチオール、サリチ
ルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等の
キレート）などを含有していてもよい。
の比率は、特に好ましくは０．５〜８．０重量％であ
る。またバインダーを使用する場合、バインダーに対す
るレーザー吸収色素の比率は１０重量％以上が好まし
い。更に、記録媒体の安定性や耐光性向上のために一重
項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（ア
セチルアセトナート、ビスフェニルジチオール、サリチ
ルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等の
キレート）などを含有していてもよい。
【００１０】このような、レーザー吸収色素を含む塗布
液は、０．３μｍ以下のフィルターで濾過することが好
ましい。スピンコートの回転数は５００〜１００００ｒ
ｐｍが好ましい。スピンコートの後、場合によっては加
熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行なってもよ
い。また、塗布膜の膜厚は３００〜３０００Åが好まし
い。
液は、０．３μｍ以下のフィルターで濾過することが好
ましい。スピンコートの回転数は５００〜１００００ｒ
ｐｍが好ましい。スピンコートの後、場合によっては加
熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行なってもよ
い。また、塗布膜の膜厚は３００〜３０００Åが好まし
い。
【００１１】本発明の光学記録媒体の記録層は基板の両
面に設けてもよいし、片面だけに設けてもよい。一媒体
中に複数の記録層を有していてもよい。本発明の光学記
録媒体は通常反射層を有しており、該反射層の材料とし
ては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、
Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を
挙げることができる。これらのうちで好ましいものはＡ
ｌ、ＡｇおよびＡｕである。とくに好ましくはＡｇおよ
びＡｕである。これらの物質は単独で用いてもよいし、
あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用いても
よい。反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、ス
パッタリングまたはイオンプレーティングすることによ
り記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は
一般には１００〜３０００Åの範囲にある。
面に設けてもよいし、片面だけに設けてもよい。一媒体
中に複数の記録層を有していてもよい。本発明の光学記
録媒体は通常反射層を有しており、該反射層の材料とし
ては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、
Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を
挙げることができる。これらのうちで好ましいものはＡ
ｌ、ＡｇおよびＡｕである。とくに好ましくはＡｇおよ
びＡｕである。これらの物質は単独で用いてもよいし、
あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用いても
よい。反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、ス
パッタリングまたはイオンプレーティングすることによ
り記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は
一般には１００〜３０００Åの範囲にある。
【００１２】上記の様にして得られた記録媒体への記録
は基体の両面または、片面に設けた記録層に１μｍ程度
に集束したレーザー光、好ましくは、半導体レーザーの
光を照射することにより行われ、記録層の照射部分がそ
の光を吸収して局所的に温度上昇した結果、物理的ある
いは化学的な変化を生じてその部分の光学的特性を変え
ることにより情報が記録される。記録媒体からの情報の
読み取りもまた、レーザービームを記録層に照射するこ
とによって行われ、記録層の光学的変化に応じた、反射
光または透過光の変化量を検出することにより情報が再
生される。光源としては、各種のレーザーを用いること
ができるが、価格、大きさの点で、半導体レーザーが特
に好ましい。半導体レーザーとしては、中心波長８３０
ｎｍ、７８０ｎｍ、６８０〜６３０ｎｍ、４４０ｎｍ等
のレーザーが望ましい。
は基体の両面または、片面に設けた記録層に１μｍ程度
に集束したレーザー光、好ましくは、半導体レーザーの
光を照射することにより行われ、記録層の照射部分がそ
の光を吸収して局所的に温度上昇した結果、物理的ある
いは化学的な変化を生じてその部分の光学的特性を変え
ることにより情報が記録される。記録媒体からの情報の
読み取りもまた、レーザービームを記録層に照射するこ
とによって行われ、記録層の光学的変化に応じた、反射
光または透過光の変化量を検出することにより情報が再
生される。光源としては、各種のレーザーを用いること
ができるが、価格、大きさの点で、半導体レーザーが特
に好ましい。半導体レーザーとしては、中心波長８３０
ｎｍ、７８０ｎｍ、６８０〜６３０ｎｍ、４４０ｎｍ等
のレーザーが望ましい。
【００１３】
【実施例】以下、実施例によりこの発明を具体的に説明
するが、かかる実施例は本発明を限定するものではな
い。 実施例１ 下記構造式で表されるアゾ系色素
するが、かかる実施例は本発明を限定するものではな
い。 実施例１ 下記構造式で表されるアゾ系色素
【００１４】
【化１】
【００１５】とニッケルイオンから形成された含金属ア
ゾ系色素０．１５ｇをｐＨ４．５の１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−
ヘキサフルオロペンタノール７．５ｇに溶解し、０．２
２μｍのフィルターで濾過して溶液を得た。次いで、深
さ７００Å、幅０．７μｍの溝（グルーブ）付の射出成
型ポリカーボネート樹脂基体（直径５インチ）上に上記
の溶液を滴下し、スピンコート法により１０００ｒｐｍ
の回転数で塗布した。塗布後、７０℃で２０分間乾燥し
た。塗布膜の最大吸収波長は７３４ｎｍであった。
ゾ系色素０．１５ｇをｐＨ４．５の１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−
ヘキサフルオロペンタノール７．５ｇに溶解し、０．２
２μｍのフィルターで濾過して溶液を得た。次いで、深
さ７００Å、幅０．７μｍの溝（グルーブ）付の射出成
型ポリカーボネート樹脂基体（直径５インチ）上に上記
の溶液を滴下し、スピンコート法により１０００ｒｐｍ
の回転数で塗布した。塗布後、７０℃で２０分間乾燥し
た。塗布膜の最大吸収波長は７３４ｎｍであった。
【００１６】次いで、上記の塗布膜の上に、スパッタリ
ング法により、膜厚１０００Å（１００ｎｍ）の銀膜を
成膜して反射層を形成した。そして、この反射層の上
に、紫外線硬化樹脂をスピンコートした後に硬化させて
厚さ１０μｍ（１００００ｎｍ）の保護層を形成し、本
発明の光学記録媒体を得た。この光学記録媒体を１．４
ｍ／ｓで回転させながら、中心波長７８０ｎｍの半導体
レーザー光を記録パワー６．６ｍＷで照射し、ＥＦＭ信
号を記録した。その後、上記の記録部を上記と同波長の
半導体レーザーが備えられたＣＤプレーヤーで再生した
結果、良好な再生信号を得た。また、耐光性（キセノン
フェードメーター加速テスト：６０時間）および保存安
定性（７０℃、８５ＲＨ：５００時間）試験を行った結
果、初期と比較して、感度および再生信号の劣化は認め
られず、光学記録媒体として優れていた。
ング法により、膜厚１０００Å（１００ｎｍ）の銀膜を
成膜して反射層を形成した。そして、この反射層の上
に、紫外線硬化樹脂をスピンコートした後に硬化させて
厚さ１０μｍ（１００００ｎｍ）の保護層を形成し、本
発明の光学記録媒体を得た。この光学記録媒体を１．４
ｍ／ｓで回転させながら、中心波長７８０ｎｍの半導体
レーザー光を記録パワー６．６ｍＷで照射し、ＥＦＭ信
号を記録した。その後、上記の記録部を上記と同波長の
半導体レーザーが備えられたＣＤプレーヤーで再生した
結果、良好な再生信号を得た。また、耐光性（キセノン
フェードメーター加速テスト：６０時間）および保存安
定性（７０℃、８５ＲＨ：５００時間）試験を行った結
果、初期と比較して、感度および再生信号の劣化は認め
られず、光学記録媒体として優れていた。
【００１７】比較例１〜３ 溶媒を、それぞれフッ素化エーテル系溶媒、テトラフル
オロプロパノール、オクタフルオロペンタノールに変更
した以外は、実施例１と同様にして光学記録媒体を製造
した。実施例１および比較例１〜３における、色素溶解
性、溶媒の基板への影響、回収塗布液の水分含有量、お
よびタクトタイムについて評価し、結果を表−１にまと
めた。
オロプロパノール、オクタフルオロペンタノールに変更
した以外は、実施例１と同様にして光学記録媒体を製造
した。実施例１および比較例１〜３における、色素溶解
性、溶媒の基板への影響、回収塗布液の水分含有量、お
よびタクトタイムについて評価し、結果を表−１にまと
めた。
【００１８】［色素溶解性］レーザー吸収色素を４０度
の溶媒に添加し、３０分間撹拌した後、飽和濃度を測定
する。色素の飽和濃度１０％以上を◎、１％〜１０％未
満を○、０．１％〜１％未満を△、０．１％未満を×と
した。
の溶媒に添加し、３０分間撹拌した後、飽和濃度を測定
する。色素の飽和濃度１０％以上を◎、１％〜１０％未
満を○、０．１％〜１％未満を△、０．１％未満を×と
した。
【００１９】［溶媒の基板への影響］溶媒にポリカーボ
ネートからなる透明樹脂基板を浸漬し、１時間後の基板
の質量変化が１％未満の場合を○、１％以上の場合を×
とした。
ネートからなる透明樹脂基板を浸漬し、１時間後の基板
の質量変化が１％未満の場合を○、１％以上の場合を×
とした。
【００２０】［回収塗布液中の水分含有量］塗布液をス
ピンコーターにて透明樹脂基板上に塗布した後に、回収
された余剰塗布液に、新たに溶媒を加え、色素濃度を初
回塗布時の濃度に再調整し、これを用いて新たな透明樹
脂基板にスピンコートを行う。余剰塗布液の回収、再調
整を１０回繰り返した後（つまり初回塗布時から数えて
１１回目の塗布後）に回収された余剰塗布液中の水分量
を、三菱化学（株）製 微量水分測定装置ＣＡ０７にて
測定した。水分量が０．１％未満の場合を◎、０．１％
〜５％未満の場合を○、５％以上の場合を×とした。
ピンコーターにて透明樹脂基板上に塗布した後に、回収
された余剰塗布液に、新たに溶媒を加え、色素濃度を初
回塗布時の濃度に再調整し、これを用いて新たな透明樹
脂基板にスピンコートを行う。余剰塗布液の回収、再調
整を１０回繰り返した後（つまり初回塗布時から数えて
１１回目の塗布後）に回収された余剰塗布液中の水分量
を、三菱化学（株）製 微量水分測定装置ＣＡ０７にて
測定した。水分量が０．１％未満の場合を◎、０．１％
〜５％未満の場合を○、５％以上の場合を×とした。
【００２１】［タクトタイム］スピンコーターにて塗布
された塗布液膜を、７０度で２０分間乾燥した後、完全
に乾燥しているものを○、乾燥していないものを×とし
た。
された塗布液膜を、７０度で２０分間乾燥した後、完全
に乾燥しているものを○、乾燥していないものを×とし
た。
【００２２】
【表１】
【００２３】ＨＦＢ：１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオ
ロブタノール HFE-7200：商品名（住友スリーエム（株）製）。Ｃ4 Ｆ
9 ＯＣ2 Ｈ5 ＴＦＰ：１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロパノー
ル ＯＦＰ：１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンタノー
ル
ロブタノール HFE-7200：商品名（住友スリーエム（株）製）。Ｃ4 Ｆ
9 ＯＣ2 Ｈ5 ＴＦＰ：１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロパノー
ル ＯＦＰ：１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンタノー
ル
【００２４】
【発明の効果】本発明の製造方法では、レーザー吸収色
素の塗布溶媒が基板を侵さず、リサイクル使用に好適で
あり、沸点が適当な温度範囲にあるため媒体製造のタク
トタイムが短縮でき、大幅な生産効率の向上が可能であ
り、工業的に非常に有利である。
素の塗布溶媒が基板を侵さず、リサイクル使用に好適で
あり、沸点が適当な温度範囲にあるため媒体製造のタク
トタイムが短縮でき、大幅な生産効率の向上が可能であ
り、工業的に非常に有利である。
Claims (1)
- 【請求項１】 レーザー吸収色素を含有する記録層を有
し、レーザーによる情報の記録・再生が可能な光学記録
媒体を製造するにあたり、少なくとも該レーザー吸収色
素と、ｐＨ４以上のヘキサフルオロブタノールとを混合
して塗布液を調製し、該塗布液を透明基板上に塗布し、
乾燥して記録層を形成することを特徴とする、光学記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11138062A JP2000326631A (ja) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | 光学記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11138062A JP2000326631A (ja) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | 光学記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000326631A true JP2000326631A (ja) | 2000-11-28 |
Family
ID=15213097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11138062A Pending JP2000326631A (ja) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | 光学記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000326631A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1255247A3 (en) * | 2001-04-26 | 2003-02-12 | Asahi Glass Company Ltd. | Solvent composition and coating fluid for an optical recording medium |
-
1999
- 1999-05-19 JP JP11138062A patent/JP2000326631A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1255247A3 (en) * | 2001-04-26 | 2003-02-12 | Asahi Glass Company Ltd. | Solvent composition and coating fluid for an optical recording medium |
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