JP2000325903A - 長尺の線条体に付着した塵埃の除去方法 - Google Patents
長尺の線条体に付着した塵埃の除去方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 長尺の線条体に付着している塵埃を、装置を
複雑にしないで、単にガスを噴き付けるよりも効果的に
除去すること。 【解決手段】 超音波が乗ったガスを長尺の線条体に噴
き付けて、該線条体に付着した塵埃を剥離させ、該塵埃
を吸引除去する。
複雑にしないで、単にガスを噴き付けるよりも効果的に
除去すること。 【解決手段】 超音波が乗ったガスを長尺の線条体に噴
き付けて、該線条体に付着した塵埃を剥離させ、該塵埃
を吸引除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ等の長
尺の線条体に付着した塵埃を除去する方法に関する。
尺の線条体に付着した塵埃を除去する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバは最終製品となるまでに、棒
状の石英ガラスを細径化して得られるガラス繊維の周囲
に樹脂が被覆された光ファイバ素線、光ファイバ素線の
外周に着色インクが被覆された光ファイバ心線、複数の
光ファイバ心線が一括被覆された光ファイバテープ心線
の各製造工程や、張力を加えながら他のボビンに巻き替
えるスクリーニング工程などで、何度も他のボビンに巻
き取られる。本明細書では、ガラス繊維のみ、光ファイ
バ素線、光ファイバ心線および光ファイバテープ心線を
特に区別せずに言う場合、光ファイバと総称する。
状の石英ガラスを細径化して得られるガラス繊維の周囲
に樹脂が被覆された光ファイバ素線、光ファイバ素線の
外周に着色インクが被覆された光ファイバ心線、複数の
光ファイバ心線が一括被覆された光ファイバテープ心線
の各製造工程や、張力を加えながら他のボビンに巻き替
えるスクリーニング工程などで、何度も他のボビンに巻
き取られる。本明細書では、ガラス繊維のみ、光ファイ
バ素線、光ファイバ心線および光ファイバテープ心線を
特に区別せずに言う場合、光ファイバと総称する。
【０００３】光ファイバが巻き取られる場合に、光ファ
イバに微細な塵埃が付着することがある。例えば、光フ
ァイバ素線に着色インクを被覆して光ファイバ心線を製
造する場合、塵埃が付着した光ファイバ心線を着色する
ためのダイスに通すと、該ダイスが目詰まりを起こすこ
とがある。また、塵埃の上に着色インクが被覆された光
ファイバ心線は外観不良となるので、不良部分を廃棄し
なければならない等、種々不具合が生じる。この対策と
して、従来から光ファイバを巻き取るときに塵埃を除去
することが行われている。
イバに微細な塵埃が付着することがある。例えば、光フ
ァイバ素線に着色インクを被覆して光ファイバ心線を製
造する場合、塵埃が付着した光ファイバ心線を着色する
ためのダイスに通すと、該ダイスが目詰まりを起こすこ
とがある。また、塵埃の上に着色インクが被覆された光
ファイバ心線は外観不良となるので、不良部分を廃棄し
なければならない等、種々不具合が生じる。この対策と
して、従来から光ファイバを巻き取るときに塵埃を除去
することが行われている。
【０００４】従来知られている主な光ファイバの除塵方
法としては、ガス流を噴き付ける方法（特開平６−１８
３７９１号公報）、光ファイバの静電気を除電する方法
（実開平５−９４２４２号公報）、水槽内で超音波洗浄
する方法（特開平８−９４８９４号公報）、揮発性洗浄
液を噴き付ける方法（特開平８−２６７７７号公報）、
ループ状の繊維を接触させる方法（特開平８−１９４４
１４号公報）、弾性を有するプラスチックの多孔質体を
接触させる方法（特開平１０−２９８３７号公報）が挙
げられる。一方、ウェブの除塵装置として、超音波エア
を噴出する除塵装置がある（特開平７−６０２１１号公
報）。
法としては、ガス流を噴き付ける方法（特開平６−１８
３７９１号公報）、光ファイバの静電気を除電する方法
（実開平５−９４２４２号公報）、水槽内で超音波洗浄
する方法（特開平８−９４８９４号公報）、揮発性洗浄
液を噴き付ける方法（特開平８−２６７７７号公報）、
ループ状の繊維を接触させる方法（特開平８−１９４４
１４号公報）、弾性を有するプラスチックの多孔質体を
接触させる方法（特開平１０−２９８３７号公報）が挙
げられる。一方、ウェブの除塵装置として、超音波エア
を噴出する除塵装置がある（特開平７−６０２１１号公
報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記方法のうち、繊維
や多孔質体を接触させて塵埃を除去する方法は、接触に
より光ファイバに傷がつくおそれがある。特に生産効率
を上昇させるために、光ファイバの巻き取り速度（以
下、線速ということがある）を増大させるとそのおそれ
が増す。揮発性洗浄液を使用する方法、水槽内で超音波
洗浄する方法はいずれも液体を完全に除去するためにガ
スを噴き付けることが必要となり、単にガスを噴き付け
るのに比して、装置が複雑かつ大がかりとなるため、設
備コストが増える。さらに、環境保全のために揮発性洗
浄液回収装置が必要であり、その設備コストも必要であ
る。従来、ガスを噴き付けても、径の大きさが２０μｍ
以下の微小な塵埃を除去することは困難であった。そこ
で、本発明は、装置を複雑にせず、単にガスを噴き付け
るよりも効果の大きい除塵方法を提供することを課題と
する。
や多孔質体を接触させて塵埃を除去する方法は、接触に
より光ファイバに傷がつくおそれがある。特に生産効率
を上昇させるために、光ファイバの巻き取り速度（以
下、線速ということがある）を増大させるとそのおそれ
が増す。揮発性洗浄液を使用する方法、水槽内で超音波
洗浄する方法はいずれも液体を完全に除去するためにガ
スを噴き付けることが必要となり、単にガスを噴き付け
るのに比して、装置が複雑かつ大がかりとなるため、設
備コストが増える。さらに、環境保全のために揮発性洗
浄液回収装置が必要であり、その設備コストも必要であ
る。従来、ガスを噴き付けても、径の大きさが２０μｍ
以下の微小な塵埃を除去することは困難であった。そこ
で、本発明は、装置を複雑にせず、単にガスを噴き付け
るよりも効果の大きい除塵方法を提供することを課題と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題の解
決のため、超音波が乗ったガスを長尺の線条体に噴き付
けて該線条体に付着した塵埃を剥離させ、該塵埃を吸引
除去する方法を提供する。
決のため、超音波が乗ったガスを長尺の線条体に噴き付
けて該線条体に付着した塵埃を剥離させ、該塵埃を吸引
除去する方法を提供する。
【０００７】また、前述の方法において、超音波が乗っ
たガスを噴き出す噴出口と塵埃を吸引する吸引口とを、
長尺の線条体のパスラインにそって噴出口、吸引口、噴
出口の順に、近接させて配置し、バックアップローラを
前記噴出口および前記吸引口に対向するように配置し、
前記線条体を前記バックアップローラに接触させて、該
線条体に超音波が乗ったガスを前記噴出口から噴き付け
て該線条体に付着した塵埃を剥離させ、該塵埃を前記吸
引口から吸引除去することを特徴とする塵埃除去方法を
提供する。
たガスを噴き出す噴出口と塵埃を吸引する吸引口とを、
長尺の線条体のパスラインにそって噴出口、吸引口、噴
出口の順に、近接させて配置し、バックアップローラを
前記噴出口および前記吸引口に対向するように配置し、
前記線条体を前記バックアップローラに接触させて、該
線条体に超音波が乗ったガスを前記噴出口から噴き付け
て該線条体に付着した塵埃を剥離させ、該塵埃を前記吸
引口から吸引除去することを特徴とする塵埃除去方法を
提供する。
【０００８】あるいは、噴出口と吸引口の配置を変更し
て、超音波が乗ったガスを噴き出す噴出口と塵埃を吸引
する吸引口とを、長尺の線条体のパスラインに垂直な断
面において前記噴出口が前記吸引口を挟むように近接さ
せて配置し、前述の場合と同様にバックアップローラを
配置して、前記線条体を前記バックアップローラに接触
させて、該線条体に超音波が乗ったガスを前記噴出口か
ら噴き付けて該線条体に付着した塵埃を剥離させ、該塵
埃を前記吸引口から吸引除去することを特徴とする塵埃
除去方法を提供する。
て、超音波が乗ったガスを噴き出す噴出口と塵埃を吸引
する吸引口とを、長尺の線条体のパスラインに垂直な断
面において前記噴出口が前記吸引口を挟むように近接さ
せて配置し、前述の場合と同様にバックアップローラを
配置して、前記線条体を前記バックアップローラに接触
させて、該線条体に超音波が乗ったガスを前記噴出口か
ら噴き付けて該線条体に付着した塵埃を剥離させ、該塵
埃を前記吸引口から吸引除去することを特徴とする塵埃
除去方法を提供する。
【０００９】さらに、前記バックアップローラとして、
長尺の線条体の直径よりも大きく該直径の１０倍以下の
幅の平溝を有するバックアップローラを使用することを
特徴とする塵埃除去方法を提供する。
長尺の線条体の直径よりも大きく該直径の１０倍以下の
幅の平溝を有するバックアップローラを使用することを
特徴とする塵埃除去方法を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】光ファイバのスクリーニング工程
を例として、その工程で適用される本発明の塵埃除去方
法について図１を参照して以下に説明する。光ファイバ
２はキャプスタン４により引っ張られ、繰出ボビン１か
ら繰り出される。繰り出された光ファイバ２は荷重設定
ローラ５により張力が加えられる。その後、静電気除去
装置９Ａにより光ファイバ２または塵埃に帯電している
静電気が除去され、塵埃除去装置６により光ファイバ２
に付着している微小な塵埃が除去される。その後、塵埃
が光ファイバ２に付着していないことを確認するため
に、外径測定器８により光ファイバ２の外径が測定され
る。そして、静電気除去装置９Ｃにより光ファイバ２に
帯電している静電気が除去され、光ファイバ２は巻取ボ
ビン１０に巻き取られる。光ファイバ２の弱い部分は、
荷重設定ローラにより加えられる張力に耐えられず、当
該部分において光ファイバは断線する。これにより、耐
張力性の弱い部分が以下の工程に流れることはない。前
述したように、本発明では、光ファイバのパスライン上
に塵埃除去装置を設けて微少な塵埃を除去する。塵埃除
去装置は巻取ボビンの直前に設けることが好ましい。
を例として、その工程で適用される本発明の塵埃除去方
法について図１を参照して以下に説明する。光ファイバ
２はキャプスタン４により引っ張られ、繰出ボビン１か
ら繰り出される。繰り出された光ファイバ２は荷重設定
ローラ５により張力が加えられる。その後、静電気除去
装置９Ａにより光ファイバ２または塵埃に帯電している
静電気が除去され、塵埃除去装置６により光ファイバ２
に付着している微小な塵埃が除去される。その後、塵埃
が光ファイバ２に付着していないことを確認するため
に、外径測定器８により光ファイバ２の外径が測定され
る。そして、静電気除去装置９Ｃにより光ファイバ２に
帯電している静電気が除去され、光ファイバ２は巻取ボ
ビン１０に巻き取られる。光ファイバ２の弱い部分は、
荷重設定ローラにより加えられる張力に耐えられず、当
該部分において光ファイバは断線する。これにより、耐
張力性の弱い部分が以下の工程に流れることはない。前
述したように、本発明では、光ファイバのパスライン上
に塵埃除去装置を設けて微少な塵埃を除去する。塵埃除
去装置は巻取ボビンの直前に設けることが好ましい。
【００１１】以下、図２を参照して、本発明で使用され
る塵埃除去装置について説明する。この装置には、ガス
を噴き出すプレッシャーヘッド部１１が設けられてい
る。該プレッシャーヘッド部１１は図示していないガス
供給器に連続している。また、この装置にはガスを吸引
するバキュームヘッド部１２が設けられている。該バキ
ュームヘッド部１２は図示していないガス吸引器に連続
している。プレッシャーヘッド部１１から噴き出された
ガスが超音波発生器１３を通過するときにガスが振動
し、３０〜１２０ｋＨｚ程度の周波数の超音波が発生す
る。そして、超音波が乗ったガス（以降、単に超音波ガ
スということがある）が噴出口１４から噴き出される。
超音波ガスは光ファイバ２に付着した塵埃を剥離し、該
塵埃は吸引口１５からバキュームヘッド部１２に吸引さ
れ、図示していないガス吸引器に排出される。
る塵埃除去装置について説明する。この装置には、ガス
を噴き出すプレッシャーヘッド部１１が設けられてい
る。該プレッシャーヘッド部１１は図示していないガス
供給器に連続している。また、この装置にはガスを吸引
するバキュームヘッド部１２が設けられている。該バキ
ュームヘッド部１２は図示していないガス吸引器に連続
している。プレッシャーヘッド部１１から噴き出された
ガスが超音波発生器１３を通過するときにガスが振動
し、３０〜１２０ｋＨｚ程度の周波数の超音波が発生す
る。そして、超音波が乗ったガス（以降、単に超音波ガ
スということがある）が噴出口１４から噴き出される。
超音波ガスは光ファイバ２に付着した塵埃を剥離し、該
塵埃は吸引口１５からバキュームヘッド部１２に吸引さ
れ、図示していないガス吸引器に排出される。
【００１２】単にガスを高速で光ファイバに噴き付ける
と、光ファイバの周囲にガスの境界層が生じて、微小な
塵埃が閉じこめられるが、超音波ガス流を噴き付ける
と、境界層が超音波により破られるので、微小な塵埃も
除去することができる。
と、光ファイバの周囲にガスの境界層が生じて、微小な
塵埃が閉じこめられるが、超音波ガス流を噴き付ける
と、境界層が超音波により破られるので、微小な塵埃も
除去することができる。
【００１３】光ファイバを巻き取るときに、光ファイバ
が振れること、いわゆる線振れが起こると、光ファイバ
の巻き取りが乱れて光ファイバの特性が損なわれるおそ
れがある。光ファイバ素線の製造工程時等、被覆を行う
工程では被覆の偏りが生じるおそれもある。したがっ
て、超音波ガスを噴き付けるときには、線振れが生じな
いように、バックアップローラ６を塵埃除去装置７に対
向する位置に設けて光ファイバが振れないようにするの
が好ましい。図３に示すように、バックアップローラに
平溝１６をつけると、光ファイバがパスラインに垂直な
方向にバックアップローラ上をすべる範囲を一定の範囲
内に抑えることができるので、さらに好ましい。平溝１
６の幅は、光ファイバ２の径より大きく、光ファイバ２
の径の５倍以下であることが好ましい。
が振れること、いわゆる線振れが起こると、光ファイバ
の巻き取りが乱れて光ファイバの特性が損なわれるおそ
れがある。光ファイバ素線の製造工程時等、被覆を行う
工程では被覆の偏りが生じるおそれもある。したがっ
て、超音波ガスを噴き付けるときには、線振れが生じな
いように、バックアップローラ６を塵埃除去装置７に対
向する位置に設けて光ファイバが振れないようにするの
が好ましい。図３に示すように、バックアップローラに
平溝１６をつけると、光ファイバがパスラインに垂直な
方向にバックアップローラ上をすべる範囲を一定の範囲
内に抑えることができるので、さらに好ましい。平溝１
６の幅は、光ファイバ２の径より大きく、光ファイバ２
の径の５倍以下であることが好ましい。
【００１４】超音波ガスを噴き付けて、効率よく微小な
塵埃を除去するには、噴出口１４と光ファイバ２との距
離および吸引口１５光ファイバ２との距離をそれぞれ２
ｍｍ以下にすることが好ましい。
塵埃を除去するには、噴出口１４と光ファイバ２との距
離および吸引口１５光ファイバ２との距離をそれぞれ２
ｍｍ以下にすることが好ましい。
【００１５】バックアップローラ側に付着している塵埃
を除去するために、図１に示すように塵埃除去装置７Ａ
および７Ｂを光ファイバの軸に対象な位置に２台配置
し、光ファイバの全周囲にわたって塵埃を除去する。
を除去するために、図１に示すように塵埃除去装置７Ａ
および７Ｂを光ファイバの軸に対象な位置に２台配置
し、光ファイバの全周囲にわたって塵埃を除去する。
【００１６】ガスの噴出速度は、２００ないし４００ｍ
／秒であることが好ましい。ガスの吸引圧力は、２００
０ｍｍＡｑ以上であることが好ましい。ガスの種類は、
乾燥したガス（湿度１％以下）であり、光ファイバと化
学反応を起こさないものであればよい。また、粘性率が
低いものが好ましい。ドライエアが使用可能であるが、
窒素や二酸化炭素であってもよい。
／秒であることが好ましい。ガスの吸引圧力は、２００
０ｍｍＡｑ以上であることが好ましい。ガスの種類は、
乾燥したガス（湿度１％以下）であり、光ファイバと化
学反応を起こさないものであればよい。また、粘性率が
低いものが好ましい。ドライエアが使用可能であるが、
窒素や二酸化炭素であってもよい。
【００１７】光ファイバに静電気力により付着している
塵埃を除去するには、超音波ガスを噴き付ける前に光フ
ァイバまたは塵埃から静電気を除去しておくのが効果的
である。したがって、図１に示すように塵埃除去装置７
Ａの直前に静電気除去装置９Ａを配置して静電気を除去
することが好ましい。静電気除去装置には、光ファイバ
または塵埃の電荷を放出させるもの等が使用できる。ま
た、巻取ボビンの直前で光ファイバの静電気を除去する
ことは、巻き乱れを防ぐことができるのでより好まし
い。
塵埃を除去するには、超音波ガスを噴き付ける前に光フ
ァイバまたは塵埃から静電気を除去しておくのが効果的
である。したがって、図１に示すように塵埃除去装置７
Ａの直前に静電気除去装置９Ａを配置して静電気を除去
することが好ましい。静電気除去装置には、光ファイバ
または塵埃の電荷を放出させるもの等が使用できる。ま
た、巻取ボビンの直前で光ファイバの静電気を除去する
ことは、巻き乱れを防ぐことができるのでより好まし
い。
【００１８】図２では、超音波ガスが光ファイバのパス
ラインに対して上流および下流方向から噴き付けられる
構成を示した。この場合、超音波ガスが、光ファイバに
随伴して流れる光ファイバの周囲の気体の流れを乱し
て、微小な塵埃を除去し易い。
ラインに対して上流および下流方向から噴き付けられる
構成を示した。この場合、超音波ガスが、光ファイバに
随伴して流れる光ファイバの周囲の気体の流れを乱し
て、微小な塵埃を除去し易い。
【００１９】一方、図４に示すように、パスラインの側
方から超音波ガスを噴き付けてもよい。パスラインの方
向から見た図を図４Ａに、パスラインに垂直な方向から
見た図を図４Ｂに示す。図４Ｂで塵埃除去装置７の下部
の破線で示した部分が噴出口および吸引口であり、パス
ライン方向に沿って長くすることができる。つまり、よ
り長い部分の光ファイバに超音波ガスを噴き付けること
ができるので、塵埃を確実に除去できる。
方から超音波ガスを噴き付けてもよい。パスラインの方
向から見た図を図４Ａに、パスラインに垂直な方向から
見た図を図４Ｂに示す。図４Ｂで塵埃除去装置７の下部
の破線で示した部分が噴出口および吸引口であり、パス
ライン方向に沿って長くすることができる。つまり、よ
り長い部分の光ファイバに超音波ガスを噴き付けること
ができるので、塵埃を確実に除去できる。
【００２０】図１では光ファイバに張力を加えながら巻
き替えるスクリーニング工程を示したが、本発明は、光
ファイバの線引、着色、テープ化等の工程で、光ファイ
バを巻き取るときには、同様にして使用可能であり、有
効である。光ファイバのパスライン上にあるガイドロー
ラ、キャプスタン、荷重設定ローラに光ファイバが接触
することにより、光ファイバに塵埃が付着するおそれが
あるので、前記ガイドローラ、キャプスタン、荷重設定
ローラ等の光ファイバが接触する部分を、塵埃除去装置
で除塵しながら光ファイバを巻き取ることが好ましい。
光ファイバの着色やテープ化の工程では、繰り出された
光ファイバがダイスに入る前に、前述した方法と同様に
して除塵してもよい。光ファイバを例として説明した
が、本発明の方法は、長尺の線条体に対して適用でき
る。
き替えるスクリーニング工程を示したが、本発明は、光
ファイバの線引、着色、テープ化等の工程で、光ファイ
バを巻き取るときには、同様にして使用可能であり、有
効である。光ファイバのパスライン上にあるガイドロー
ラ、キャプスタン、荷重設定ローラに光ファイバが接触
することにより、光ファイバに塵埃が付着するおそれが
あるので、前記ガイドローラ、キャプスタン、荷重設定
ローラ等の光ファイバが接触する部分を、塵埃除去装置
で除塵しながら光ファイバを巻き取ることが好ましい。
光ファイバの着色やテープ化の工程では、繰り出された
光ファイバがダイスに入る前に、前述した方法と同様に
して除塵してもよい。光ファイバを例として説明した
が、本発明の方法は、長尺の線条体に対して適用でき
る。
【００２１】
【実施例】図１および図２に示す構成の装置を用いて、
光ファイバを除塵しながら、光ファイバに張力を加えて
巻き替えた。光ファイバの線速は２００ｍ／分とした。
塵埃除去装置から噴き出すガスはドライエアを使用し、
その噴出速度は３５０ｍ／秒とした。塵埃除去装置の直
後に配置した外径測定器により光ファイバの外径を測定
し、外径が１０μｍ以上の振れ幅で急激に変動する箇所
を塵埃付着箇所として計数し、除塵効果を調査した。外
径測定器はレーザ光を光ファイバに照射し、光ファイバ
のよってできる影の部分を測定するタイプのものを使用
した。塵埃付着箇所１箇所当たりのファイバ長を表１に
示す。バキューム圧は、大気圧とバキュームヘッド部内
の気圧との差である。
光ファイバを除塵しながら、光ファイバに張力を加えて
巻き替えた。光ファイバの線速は２００ｍ／分とした。
塵埃除去装置から噴き出すガスはドライエアを使用し、
その噴出速度は３５０ｍ／秒とした。塵埃除去装置の直
後に配置した外径測定器により光ファイバの外径を測定
し、外径が１０μｍ以上の振れ幅で急激に変動する箇所
を塵埃付着箇所として計数し、除塵効果を調査した。外
径測定器はレーザ光を光ファイバに照射し、光ファイバ
のよってできる影の部分を測定するタイプのものを使用
した。塵埃付着箇所１箇所当たりのファイバ長を表１に
示す。バキューム圧は、大気圧とバキュームヘッド部内
の気圧との差である。
【００２２】
【表１】
【００２３】（比較例１）実施例で使用した装置におい
て、塵埃除去装置のみを稼働せず、他は実施例と同様に
して、塵埃付着箇所を計数したところ、塵埃付着箇所１
箇所当たりのファイバ長は２０ｋｍ／個であった。
て、塵埃除去装置のみを稼働せず、他は実施例と同様に
して、塵埃付着箇所を計数したところ、塵埃付着箇所１
箇所当たりのファイバ長は２０ｋｍ／個であった。
【００２４】（比較例２）実施例で使用した構成の装置
において、塵埃除去装置から超音波の乗らない単なるド
ライエアが噴き出されるようにして、他は実施例と同様
にして塵埃付着箇所を計数した。結果を表２に示す。超
音波ガスを使用する場合としない場合とでは、バキュー
ム圧が同じであっても、超音波ガスを使用した場合の方
が、除塵効果が大きいことが分かった。
において、塵埃除去装置から超音波の乗らない単なるド
ライエアが噴き出されるようにして、他は実施例と同様
にして塵埃付着箇所を計数した。結果を表２に示す。超
音波ガスを使用する場合としない場合とでは、バキュー
ム圧が同じであっても、超音波ガスを使用した場合の方
が、除塵効果が大きいことが分かった。
【００２５】
【表２】
【００２６】
【発明の効果】本発明では、長尺の線条体に付着した塵
埃で径が２０μｍを越える塵埃はもちろん、径が２０μ
ｍ以下の微小な塵埃も除去することが可能である。光フ
ァイバの直径は通常２５０μｍであるので、例えば、径
が１０μｍの塵埃が光ファイバに付着すると、該光ファ
イバの外径が８％大きくなり、外観不良となってしま
う。本発明は、微小な塵埃すら付着していない光ファイ
バを巻き取るので、微小な塵埃が付着しているために外
観不良として廃棄される光ファイバの量を減らし、良品
の歩留まりを上げる。また、光ファイバの線引、着色、
テープ化の工程においては、その先の工程で本発明の方
法によって光ファイバに付着した塵埃を除去すること、
あるいは光ファイバがダイスに入る直前に該光ファイバ
に付着した塵埃を除去することによってダイスの目詰ま
りが減り、設備の稼働時間が長くなるので製造効率が上
がる。
埃で径が２０μｍを越える塵埃はもちろん、径が２０μ
ｍ以下の微小な塵埃も除去することが可能である。光フ
ァイバの直径は通常２５０μｍであるので、例えば、径
が１０μｍの塵埃が光ファイバに付着すると、該光ファ
イバの外径が８％大きくなり、外観不良となってしま
う。本発明は、微小な塵埃すら付着していない光ファイ
バを巻き取るので、微小な塵埃が付着しているために外
観不良として廃棄される光ファイバの量を減らし、良品
の歩留まりを上げる。また、光ファイバの線引、着色、
テープ化の工程においては、その先の工程で本発明の方
法によって光ファイバに付着した塵埃を除去すること、
あるいは光ファイバがダイスに入る直前に該光ファイバ
に付着した塵埃を除去することによってダイスの目詰ま
りが減り、設備の稼働時間が長くなるので製造効率が上
がる。
【図１】本発明の方法が適用される光ファイバのスクリ
ーニング工程を示す図である。
ーニング工程を示す図である。
【図２】本発明に使用される塵埃除去装置を例示する図
である。
である。
【図３】本発明に使用されるバックアップローラを例示
する図である。
する図である。
【図４】本発明に使用される塵埃除去装置とバックアッ
プローラの別の態様を例示する図である。
プローラの別の態様を例示する図である。
１：繰出ボビン ２：光ファイバ ３：ガイドローラ ４：キャプスタン ５：荷重設定ローラ ６：バックアップローラ ７：塵埃除去装置 ８：外径測定器 ９：静電気除去装置 １０：巻取ボビン １１：プレッシャーヘッド部 １２：バキュームヘッド部 １３：超音波発生器 １４：噴出口 １５：吸引口 １６：平溝
フロントページの続き (72)発明者 斎藤 達男 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Ｆターム(参考） 3B116 AA07 AB13 AB42 BB22 BB32 BB73 BB85
Claims (3)
- 【請求項１】 超音波が乗ったガスを長尺の線条体に噴
き付けて、該線条体に付着した塵埃を剥離させ、該塵埃
を吸引除去することを特徴とする長尺の線条体に付着し
た塵埃の除去方法。 - 【請求項２】 超音波が乗ったガスを噴き出す噴出口と
塵埃を吸引する吸引口とを、長尺の線条体のパスライン
にそって噴出口、吸引口、噴出口の順に、近接させて配
置し、バックアップローラを前記噴出口および前記吸引
口に対向するように配置し、前記線条体を前記バックア
ップローラに接触させて、該線条体に超音波が乗ったガ
スを前記噴出口から噴き付けて該線条体に付着した塵埃
を剥離させ、該塵埃を前記吸引口から吸引除去すること
を特徴とする請求項１に記載の長尺の線条体に付着した
塵埃の除去方法。 - 【請求項３】 超音波が乗ったガスを噴き出す噴出口と
塵埃を吸引する吸引口とを、長尺の線条体のパスライン
に垂直な断面において前記噴出口が前記吸引口を挟むよ
うに近接させて配置し、バックアップローラを前記噴出
口および前記吸引口に対向するように配置し、前記線条
体を前記バックアップローラに接触させて、該線条体に
超音波が乗ったガスを前記噴出口から噴き付けて該線条
体に付着した塵埃を剥離させ、該塵埃を前記吸引口から
吸引除去することを特徴とする請求項１に記載の長尺の
線条体に付着した塵埃の除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11144283A JP2000325903A (ja) | 1999-05-25 | 1999-05-25 | 長尺の線条体に付着した塵埃の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11144283A JP2000325903A (ja) | 1999-05-25 | 1999-05-25 | 長尺の線条体に付着した塵埃の除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000325903A true JP2000325903A (ja) | 2000-11-28 |
Family
ID=15358484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11144283A Pending JP2000325903A (ja) | 1999-05-25 | 1999-05-25 | 長尺の線条体に付着した塵埃の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000325903A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003095115A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-20 | Sustainable Technologies International Pty Ltd | Method and device for local treatment of substrates |
| WO2006015604A1 (en) * | 2004-08-13 | 2006-02-16 | Force Technology | Method and device for enhancing a process involving a solid object and a gas |
| WO2009101575A1 (en) * | 2008-02-11 | 2009-08-20 | Ecolab Inc. | Bubble enhanced cleaning method and chemistry |
| CN104375237A (zh) * | 2014-10-31 | 2015-02-25 | 中国建筑材料科学研究总院 | 一种光学纤维二次复丝表面清洁的方法及其装置 |
| US9206380B2 (en) | 2013-03-14 | 2015-12-08 | Ecolab Usa Inc. | Method of generating carbonate in situ in a use solution and of buffered alkaline cleaning under an enriched CO2 atmosphere |
-
1999
- 1999-05-25 JP JP11144283A patent/JP2000325903A/ja active Pending
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| US9845447B2 (en) | 2013-03-14 | 2017-12-19 | Ecolab Usa Inc. | Method of generating carbonate in situ in a use solution and of buffered alkaline cleaning under an enriched CO2 atmosphere |
| CN104375237A (zh) * | 2014-10-31 | 2015-02-25 | 中国建筑材料科学研究总院 | 一种光学纤维二次复丝表面清洁的方法及其装置 |
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