JP2000323049A - プラズマディスプレー及びそのブラックマトリックス製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレー及びそのブラックマトリックス製造方法

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JP2000323049A
JP2000323049A JP2000096685A JP2000096685A JP2000323049A JP 2000323049 A JP2000323049 A JP 2000323049A JP 2000096685 A JP2000096685 A JP 2000096685A JP 2000096685 A JP2000096685 A JP 2000096685A JP 2000323049 A JP2000323049 A JP 2000323049A
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▲ミン▼先 柳
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 外光反射を減らせるようにブラックマトリッ
クスを採り入れることによって画像のコントラストを向
上させたプラズマディスプレーを提供する。 【解決手段】 背面基板２０と、背面基板２０の内側表
面上に形成されたストリップ状の第１電極２１と、第１
電極２１が覆われるように背面基板２０上に塗布された
誘電体層２２と、誘電体層２２上に形成されて放電空間
を限定するストリップ状の隔壁２３と、放電空間内に塗
布される蛍光体層２５と、隔壁２３上に結合される透明
な前面基板２８と、前面基板２８の内側表面上に第１電
極２１と交差するように平行に形成されるストリップ状
の第２及び第３電極２６、２７と、前記一対の第２及び
第３電極２６、２７を含んで構成される放電セルと隣接
した他の放電セルとの間で前記前面基板２８の内表面上
に前記第２及び第３電極２６、２７と平行に形成された
溝３２を光遮断物質で満たして形成されたブラックマト
リックス３１とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は外光反射を減らせる
プラズマディスプレー及び該プラズマディスプレーのブ
ラックマトリックス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的なプラズマディスプレーは一対の
基板間にあるガスを放電させる時生じる紫外線により蛍
光体を励起させることによって画像を形成する。
【０００３】このようなプラズマディスプレーは交流型
（AC type）、直流型（DC type）及び混合型（Hybrid t
ype）に大別されるが、従来の交流型プラズマディスプ
レーの一例が図７及び図８に示されている。
【０００４】図面を参照すれば、プラズマディスプレー
は背面基板１０と、前記背面基板１０上に形成されたア
ドレス電極であるストリップ形状の第１電極１１と、こ
の第１電極１１が覆われるように背面基板１０上に形成
される誘電体層１２と、前記誘電体層１２の上面に形成
されて放電空間を限定して放電セル間の光学的クロスト
ークを防止する多数のストリップ型隔壁１３と、前記放
電空間内に塗布された蛍光体層１５を含む。
【０００５】前記隔壁１３上には前面基板１８が結合さ
れ、この前面基板１８の下面には第２電極１６と第３電
極１７が前記第１電極１１と交差するように形成され
る。前記第２及び第３電極１６、１７は透明なITO（Ind
ium Tin Oxide）で形成され、ここにはライン抵抗を減
らすためのバス電極１６a、１７aが備えられる。このよ
うなバス電極１６a、１７aは放電空間内の蛍光体が発光
することによって前面基板１８を通して透過する光の遮
断を最小化するためにできるだけその幅が小さい値に制
限され、例えば銀（Ag）ペーストのようなメタルを利用
した印刷方式と感光膜を利用したフォトリソグラフィ方
式等により形成されることができる。
【０００６】前記前面基板１８の下面には前記第２及び
第３電極１６、１７を覆う誘電体層１９が形成され、こ
の誘電体層１９の下面に保護層２１が塗布できる。ま
た、それぞれの放電セル間にはブラックマトリックス２
２が形成される。
【０００７】前記のようなプラズマディスプレーの動作
において、前記ブラックマトリックス２２は前面基板１
８に入射される外部光中で一部光（図８で点線で示され
る）を反射させることなく吸収することによってコント
ラストを向上させる。
【０００８】前記ブラックマトリックス２２の幅が広が
るほど外光反射率は低下されてコントラストは向上され
るが、前記幅の増加に伴う外光反射の低減の効果は微々
たるもので、前記幅をあまりにも大幅にすればむしろ放
電空間内から外部に放出される画像が遮断されるので輝
度が低下するという問題点がある。
【０００９】また、前記透明電極である第２及び第３電
極１６、１７に具備されるバス電極１６a、１７aを黒色
で形成してブラックマトリックス２２と同様な効果を図
ることができるが、このようなバス電極１６a、１７aの
幅は極めて小さくて外光反射率を低下させるには限界が
ある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点を
解決するために創出されたものであって、本発明の目的
は、外光反射を減らせるように前面ガラス基板に形成さ
れた溝内にブラックマトリックスを採用することによっ
て画像のコントラストを向上させたプラズマディスプレ
ー及び該プラズマディスプレーのブラックマトリックス
製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明によるプラズマディスプレーは、背面基板と、
前記背面基板の内側表面上に平行に形成されたストリッ
プ状の第１電極と、前記第１電極が覆われるように前記
背面基板上に塗布された誘電体層と、前記誘電体層上に
形成されて放電空間を限定するストリップ状の隔壁と、
前記放電空間内に塗布される蛍光体層と、前記隔壁上に
結合される透明な前面基板と、前記前面基板の内側表面
上に前記第１電極と交差するように平行に形成されるス
トリップ状の第２及び第３電極と、前記一対の第２及び
第３電極を含んで構成される放電セルと、隣接した他の
放電セルとの間で前記前面基板の内表面上に前記第２及
び第３電極と平行に形成された溝を光遮断物質で満たし
て形成されたブラックマトリックスとを含むことを特徴
とする。
【００１２】本発明の一特徴によれば、前記ブラックマ
トリックスは下部から上部に行くほど次第に幅が減少す
る形状である。
【００１３】本発明の他の特徴によれば、前記ブラック
マトリックスはその端面がダム状である。
【００１４】本発明の他の特徴によれば、前記ブラック
マトリックスはその断面が湾曲された"V"字形である。
【００１５】前記ブラックマトリックスの高さ、外光の
入射角及び前記ブラックマトリックス間の距離の間には
次の H tanθ≧（D／２）関係が成立つ。
【００１６】また、本発明の他の特徴によれば、前記ブ
ラックマトリックスの高さ(H)は３０乃至６０μｍ、ま
たは５０μｍである。
【００１７】また、本発明によれば、プラズマディスプ
レーの前面ガラス基板内側表面に所定パターンの溝を形
成する段階と、前記所定パターンの溝に光遮断用物質を
満たす段階と、前記前面ガラス基板を焼成させることに
よって前記ブラックマトリックス材料を前記ガラス基板
に融着させる段階とを具備するプラズマディスプレーの
ブラックマトリックス製造方法が提供される。
【００１８】本発明の一特徴によれば、前記焼成段階後
に前記前面ガラス基板の内側表面にブラックマトリック
ス拡散防止用保護膜を形成する段階をさらに具備する。
【００１９】本発明の他の特徴によれば、前記前面ガラ
ス基板の内側表面上に形成する所定パターンの溝は前記
前面ガラス基板が軟化した状態で金型により前記前面ガ
ラス基板を加圧してなる。
【００２０】本発明の他の特徴によれば、前記前面ガラ
ス基板の内側表面上に形成する所定パターンの溝は前記
前面ガラス基板に所定のフォトレジストパターンを形成
した状態で前記前面ガラス基板を蝕刻することによって
成される。
【００２１】本発明の他の特徴によれば、前記光遮断用
物質は黒色の無機顔料やNDフィルター用材料である。
【００２２】また、本発明によれば、フィルム支持体上
にガラス粉末と接着剤とを混合させた透明なペースト及
び、ガラス粉末、接着剤及び光遮断用物質を混合させた
不透明ペーストを所定パターンで塗布する段階と、前記
フィルム支持体上の透明ペースト及び、不透明ペースト
を加圧してグリーンテープを形成する段階と、前記グリ
ーンテープをプラズマディスプレーの前面ガラス基板に
付着させてフィルム支持体を除去する段階と、前記透明
ペーストと不透明ペーストとが前記前面ガラス基板と融
着するように焼成させる段階とを具備するプラズマディ
スプレーのブラックマトリックス製造方法が提供され
る。
【００２３】本発明の他の特徴によれば、前記焼成段階
後に前記透明ペースト及び不透明ペーストの内表面に保
護膜を形成する段階をさらに具備する。
【００２４】また、本発明によれば、フィルム支持体上
にガラス粉末とペーストを混合させて形成した透明ペー
ストをフィルム支持体上に塗布させてグリーンテープを
形成する段階と、前記グリーンテープをプラズマディス
プレーの前面ガラス基板の内側表面にラミネートさせる
段階と、前記グリーンテープに所定パターンの溝を形成
する段階と、前記溝に光遮断用物質を満たす段階と、前
記前面ガラス基板を焼成させることによって前記ブラッ
クマトリックス材料を前記ガラス基板に融着させる段階
とを具備するプラズマディスプレーのブラックマトリッ
クス製造方法が提供される。
【００２５】本発明の他の特徴によれば、前記グリーン
テープに所定パターンの溝を形成する段階は金型で前記
グリーンテープの表面を加圧することによってなされ
る。
【００２６】本発明の他の特徴によれば、前記グリーン
テープに形成する所定パターンの溝は所定のフォトレジ
ストパターンを形成した状態で前記グリーンテープの表
面を蝕刻することによってなされる。
【００２７】また、本発明の他の特徴によれば、前記グ
リーンテープの表面に保護膜を形成する段階をさらに具
備する。
【００２８】
【発明の実施の形態】以下、添付された図面を参照して
本発明による望ましい一実施の形態を説明する。本発明
の一実施の形態によるプラズマディスプレーが示された
図１を参照する。図示されたように、背面基板２０の内
側表面にはストリップ状でアドレス電極である第１電極
２１が形成され、この第１電極２１は前記背面基板２０
の内側表面上に形成された誘電体層２２により覆われ
る。前記誘電体層２２の上面にはストリップ状の隔壁２
３が前記第１電極２１と平行に形成されて放電空間を限
定し、前記放電空間内には蛍光体層２５が塗布される。
【００２９】前記隔壁２３上には透明な前面基板２８が
結合され、この前面基板２８の下面には前記第１電極２
１と交差するようにストリップ状の第２及び第３電極２
６、２７が形成される。前記第２及び第３電極２６、２
７にはライン抵抗を減らすためのバス電極２６a、２７a
が具備できる。また、前記前面基板２８の下面には前記
第２及び第３電極２６、２７が覆われるように誘電体層
２９が形成され、前記誘電体層２９の下面には保護層２
１が塗布できる。
【００３０】本発明によれば、前記第２及び第３電極２
６、２７を含んで構成される１つの放電セルと、隣接し
た他の放電セルとの間で前記前面基板２８の内側表面に
溝３２（図２参照）を形成し、前記溝３２をブラックマ
トリックス材料で充填させて形成されたブラックマトリ
ックス３１（図２参照）が具備される。前記ブラックマ
トリックス３１は前記第２及び第３電極２６、２７に対
して平行に延びる。
【００３１】すなわち、一つの放電セルの第２電極２６
と隣接する放電セルの第３電極２７間の前面基板２８に
は図２に示されたようにエッチングにより溝３２が形成
され、この溝３２に光遮断物質が充填されてブラックマ
トリックス３１が形成される。
【００３２】前記ブラックマトリックス３１は多様な形
態の断面を有しうる。例えば、湾曲された逆"V"字形ま
たは湾曲されたダム型として、下部から上部に行くほど
その幅が減少することが望ましい。
【００３３】前記のようなブラックマトリックス３１が
採用される場合、図２に示されたように、前面基板２８
と誘電体層２９との間の第２及び第３電極２６、２７に
より反射された外光はブラックマトリックス３１に入射
されてすべて吸収できる。したがって、外光反射率は低
下される。
【００３４】図４ないし図５を参照して、前記ブラック
マトリックス３１を形成する方法を説明する。
【００３５】前記ブラックマトリックス３１を形成する
方法の第１の実施の形態は金型で基板２８を加工するこ
とである（図４Ａ）。ガラス基板を生産する間に、板状
のガラスを成形する過程でガラス基板が冷却される前の
軟化した状態で浮彫の金型でガラス基板の表面に図４Ｂ
と同様な溝を形成する(図５のS８１)。次いで、ブラッ
クマトリックス材料を塗布する（図４Ｃ）。例えば、黒
色の無機顔料またはメタリックオキシドのような光量減
少用ND(Neutral Density)フィルター材料をガラス基板
の前面に塗布する。以降、基板を洗浄して図４Ｂのよう
に溝３２にのみ前記無機顔料またはNDフィルター用材料
を残す(図５のS８２)。次いで、ブラックマトリックス
材料をガラス基板に融着させるように焼成工程を行い、
必要に応じて拡散防止膜のような保護膜をその上に形成
することになる(図５のS８３)。保護膜が完成される
と、基板上に透明電極のような電極パターンを形成する
(図５のS８４)。
【００３６】前記ブラックマトリックス３１を形成する
方法の第２の実施の形態は蝕刻を行うことである。ま
ず、フォトレジストを基板に塗布し、露光及び現像を通
して所定のパターンを形成する。次いで、高圧で蝕刻し
てからフォトレジストを除去すれば、図４Ｂに示したよ
うな溝３２が形成できる。以降、無機顔料またはNDフィ
ルターの塗布及び除去、焼成、保護膜処理などは前述し
たような方式で行われる。蝕刻作業を行う時、通常の圧
力の蝕刻を行うとU字状の溝が形成される反面、ノズル
を通して高圧で蝕刻すれば溝の形がV字状に近づく傾向
があるのでノズルを用いた高圧蝕刻が望ましい。
【００３７】前記ブラックマトリックス３１を形成する
方法の第３の実施の形態は、グリーンテープを用いるこ
とである。グリーンテープは公知の如くガラス粉末と接
着剤とがペースト状態で存在するものである。このよう
な方法は図６Ａ及び図６Ｂに基づいて説明する。
【００３８】図６Ａを参照すれば、まずフィルムのよう
な支持体８１上にガラス粉末と接着剤を混合させたペー
ストをノズルで塗布する。部材番号８３は透明な状態の
ペーストである反面、８２は顔料が含まれた状態の不透
明ペーストである。不透明ペースト８２と他の透明ペー
スト８３との間には所定の間隔が設定されているが、こ
れは今後の加圧工程時に前記ペーストの拡散のための余
裕面積である。次いで、前記ペーストの上部を加圧する
ことによって、図６Ｂに示されたように、薄くて平坦な
グリーンテープを形成する。部材番号８２'は顔料が混
合された不透明ペースト８２が加圧された状態であり、
８３'は透明ペースト８３が加圧された状態である。図
６Ｂに示されたペースト８２'のパターンは最終的に形
成されるブラックマトリックス３１のパターンと一致す
る。次いで、グリーンテープを前面基板２８に付着さ
せ、支持体８１を取り除けば前面ガラス基板２８に図１
のようなブラックマトリックス３１が形成される。以
降、前述したような焼成及び保護膜形成工程を経ること
になる。
【００３９】本発明に係るブラックマトリックス３１を
形成する方法の第４の実施の形態はグリーンテープを他
の方式で活用することである。第４の実施の形態によれ
ば、まず透明ペーストをフィルム支持体上に塗布してグ
リーンテープを作り、前記透明なグリーンテープを前面
ガラス基板にラミネートさせる。次いで、グリーンテー
プを金型で加圧することによって、図４Ｂに示したよう
な溝３２を形成したり、または前述したようにフォトレ
ジストパターンを用いて蝕刻することによって溝３２を
形成する。次いで、黒色の無機顔料やNDフィルター用材
料をグリーンテープペースト上に塗布し、それを除去す
ることによって顔料またはNDフィルター用材料を前記溝
３２内にのみ残留させる。次いで、焼成及び保護膜の形
成は前述した方式と同様に行われる。グリーンテープは
光の透過率が９６％に達するので有用に適用しうる。
【００４０】また、前記ブラックマトリックス３１とは
別途に通常的な平面ブラックマトリックス層（図８の２
２）がさらに形成されることが望ましい。
【００４１】図２には本発明によるプラズマディスプレ
ーに採用されたブラックマトリックス３１の構造が詳し
く示されている。図面を参照すれば、前記ブラックマト
リックス３１の底面幅(W)は従来の前面基板に形成され
たブラックマトリックス（図８の２２参照）の幅と同じ
か小さいことが望ましい。前記ブラックマトリックス３
１の高さ(H)は外光反射を最も効率的に減少させること
ができるように設定される。本発明者の実験によれば、
前記ブラックマトリックス３１の高さ(H)はブラックマ
トリックス３１間の距離（D）と次のような関係があ
る。
【００４２】
【式１】H tanθ≧（D／２） …（１）
【００４３】ここで、θは外光の入射角を示す。前記プ
ラズマディスプレー装置が使われる通常的な作業条件を
示した図３を参照する。図示されたように、視聴者の頭
上約２４５ｃｍの高さには光源(L)が設けられ、視聴者
の目の高さは約６０ｃｍであり、その前方約２．２ｍ地
点にディスプレー１００が置かれている。前記のような
条件下で、前記光源(L)とディスプレー１００を連結し
た直線は地面と約４０゜の角をなす。この場合、光源
(L)からディスプレー１００に対する光の入射角θは約
４０゜となる。したがって、上記式（１）により次の関
係が成立つ。
【００４４】
【式２】H tan４０≧（D／２） …（２）
【００４５】
【式３】H≧１．１９×（D／２） …（３）
【００４６】したがって、上記式を満足するようにブラ
ックマトリックス３１の底面幅(W)と高さ(H)を設定すれ
ば外光反射率を最低にすることができる。本発明者の実
験によれば、前記関係式によってプラズマディスプレー
の反射輝度はほぼ０になって外光遮断率が約１になっ
た。前記Hの値が上の関係を満さないとしても、通用さ
れる平面形ブラックマトリックスの膜厚さ(通常１０μ
ｍ)よりH値が大きければ、既存のブラックマトリックス
より外光遮断率が著しく優れる。このような事実は図２
によっても分かる。例えば、前記ブラックマトリックス
の高さ(H)は３０乃至６０μｍであることが望ましく、
例えば５０μｍであることが望ましい。
【００４７】
【発明の効果】本発明のプラズマディスプレーによれ
ば、前面基板に形成された溝にブラックマトリックスを
具備して前面基板または電極で反射される外光をすべて
吸収することによって外光反射率を低下させて結局画像
のコントラストを向上させることができる。
【００４８】本発明は添付された図面に示された一実施
の形態を参考にして説明されたが、これは例示的なもの
であり、同様の分野で通常の知識を有する者ならばこれ
より多様な変形及び均等な他の実施の形態が可能である
ことは勿論である。したがって、本発明の真の保護範囲
は特許請求の範囲の記載によって定まるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態によるプラズマディスプレ
ーの分離斜視図。
【図２】図１のIV-IVによる部分断面図。
【図３】プラズマディスプレーの一般的な視聴条件を示
した図面。
【図４】本発明によるプラズマディスプレーのブラック
マトリックスの形成工程を説明するための図面。
【図５】本発明のプラズマディスプレーの製造方法を示
したフローチャート。
【図６】本発明によるブラックマトリックスの形成工程
の他の例を説明した図面。
【図７】従来のプラズマディスプレーの分離斜視図。
【図８】図７のII-II線による部分断面図。
【符号の説明】
２０ 背面基板 ２１ 第１電極 ２２ ブラックマトリックス ２３ 隔壁 ２５ 蛍光体層 ２６ 第２電極 ２６a バス電極 ２７ 第３電極 ２７a バス電極 ２８ 前面基板 ２９ 誘電体層 ３１ ブラックマトリックス ３２ 溝
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 5/66 １０１ Ｈ０４Ｎ 5/66 １０１Ａ

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 背面基板と、 前記背面基板の内側表面上に平行に形成されたストリッ
    プ状の第１電極と、 前記第１電極が覆われるように前記背面基板上に塗布さ
    れた誘電体層と、 前記誘電体層上に形成されて放電空間を限定するストリ
    ップ状の隔壁と、 前記放電空間内に塗布される蛍光体層と、 前記隔壁上に結合される透明な前面基板と、 前記前面基板の内側表面上に前記第１電極と交差するよ
    うに平行に形成されるストリップ状の第２及び第３電極
    と、 前記一対の第２及び第３電極を含んで構成される放電セ
    ルと、隣接した他の放電セルとの間で前記前面基板の内
    表面上に前記第２及び第３電極と平行に形成された溝を
    光遮断物質で満たして形成されたブラックマトリックス
    と、 を含むことを特徴とするプラズマディスプレー。
  2. 【請求項２】 前記ブラックマトリックスは下部から上
    部に行くほど次第に幅が減少する形状であることを特徴
    とする請求項１に記載のプラズマディスプレー。
  3. 【請求項３】 前記ブラックマトリックスはその端面が
    ダム状であることを特徴とする請求項２に記載のプラズ
    マディスプレー。
  4. 【請求項４】 前記ブラックマトリックスはその断面が
    湾曲された"V"字形であることを特徴とする請求項２に
    記載のプラズマディスプレー。
  5. 【請求項５】 前記ブラックマトリックスの高さ(H)、
    外光の入射角(θ)及び前記ブラックマトリックス間の距
    離(D)の間には次の関係が成立つことを特徴とする請求
    項１に記載のプラズマディスプレー。 H tanθ≧（D／２）
  6. 【請求項６】 前記ブラックマトリックスの高さ(H)は
    ３０乃至６０μｍであることを特徴とする請求項１に記
    載のプラズマディスプレー。
  7. 【請求項７】 前記ブラックマトリックスの高さ(H)は
    ５０μｍであることを特徴とする請求項１に記載のプラ
    ズマディスプレー。
  8. 【請求項８】 プラズマディスプレーの前面ガラス基板
    内側表面に所定パターンの溝を形成する段階と、 前記所定パターンの溝に光遮断用物質を満たす段階と、 前記前面ガラス基板を焼成させることによって前記ブラ
    ックマトリックス材料を前記ガラス基板に融着させる段
    階と、 を具備することを特徴とするプラズマディスプレーのブ
    ラックマトリックス製造方法。
  9. 【請求項９】 前記焼成段階後に前記前面ガラス基板の
    内側表面にブラックマトリックス拡散防止用保護膜を形
    成する段階をさらに具備することを特徴とする請求項８
    に記載のプラズマディスプレーのブラックマトリックス
    製造方法。
  10. 【請求項１０】 前記前面ガラス基板の内側表面上に形
    成する所定パターンの溝は前記前面ガラス基板が軟化し
    た状態で金型により前記前面ガラス基板を加圧してなる
    ことを特徴とする請求項８に記載のプラズマディスプレ
    ーのブラックマトリックス製造方法。
  11. 【請求項１１】 前記前面ガラス基板の内側表面上に形
    成する所定パターンの溝は前記前面ガラス基板に所定の
    フォトレジストパターンを形成した状態で前記前面ガラ
    ス基板を蝕刻することによって成されることを特徴とす
    る請求項８に記載のプラズマディスプレーのブラックマ
    トリックス製造方法。
  12. 【請求項１２】 前記光遮断用物質は黒色の無機顔料や
    NDフィルター用材料であることを特徴とする請求項８に
    記載のプラズマディスプレーのブラックマトリックス製
    造方法。
  13. 【請求項１３】 フィルム支持体上にガラス粉末と接着
    剤とを混合させた透明なペースト及び、ガラス粉末、接
    着剤及び光遮断用物質を混合させた不透明ペーストを所
    定パターンで塗布する段階と、 前記フィルム支持体上の透明ペースト及び、不透明ペー
    ストを加圧してグリーンテープを形成する段階と、 前記グリーンテープをプラズマディスプレーの前面ガラ
    ス基板に付着させてフィルム支持体を除去する段階と、 前記透明ペーストと不透明ペーストとが前記前面ガラス
    基板と融着するように焼成させる段階と、 を具備することを特徴とするプラズマディスプレーのブ
    ラックマトリックス製造方法。
  14. 【請求項１４】 前記焼成段階後に前記透明ペースト及
    び不透明ペーストの内表面に保護膜を形成する段階をさ
    らに具備することを特徴とする請求項１１に記載のプラ
    ズマディスプレーのブラックマトリックス製造方法。
  15. 【請求項１５】 フィルム支持体上にガラス粉末とペー
    ストを混合させて形成した透明ペーストをフィルム支持
    体上に塗布させてグリーンテープを形成する段階と、 前記グリーンテープをプラズマディスプレーの前面ガラ
    ス基板の内側表面にラミネートさせる段階と、 前記グリーンテープに所定パターンの溝を形成する段階
    と、 前記溝に光遮断用物質を満たす段階と、 前記前面ガラス基板を焼成させることによって前記ブラ
    ックマトリックス材料を前記ガラス基板に融着させる段
    階と、 を具備することを特徴とするプラズマディスプレーのブ
    ラックマトリックス製造方法。
  16. 【請求項１６】 前記グリーンテープに所定パターンの
    溝を形成する段階は金型で前記グリーンテープの表面を
    加圧することによってなされることを特徴とする請求項
    １５に記載のプラズマディスプレーのブラックマトリッ
    クス製造方法。
  17. 【請求項１７】 前記グリーンテープに形成する所定パ
    ターンの溝は所定のフォトレジストパターンを形成した
    状態で前記グリーンテープの表面を蝕刻することによっ
    てなされることを特徴とする請求項１５に記載のプラズ
    マディスプレーのブラックマトリックス製造方法。
  18. 【請求項１８】 前記グリーンテープの表面に保護膜を
    形成する段階をさらに具備することを特徴とする請求項
    １５に記載のプラズマディスプレーのブラックマトリッ
    クス製造方法。
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