JP2000317373A - Method for positioning nozzle height of paste coater - Google Patents

Method for positioning nozzle height of paste coater

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JP2000317373A
JP2000317373A JP11134781A JP13478199A JP2000317373A JP 2000317373 A JP2000317373 A JP 2000317373A JP 11134781 A JP11134781 A JP 11134781A JP 13478199 A JP13478199 A JP 13478199A JP 2000317373 A JP2000317373 A JP 2000317373A
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幸宏 川隅
Shozo Igarashi
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the productivity of a coat-drawing process by shortening the tact of the process so that the quickly and effectively initial positioning of a nozzle height may be carried out at the start of drawing a paste pattern by coating. SOLUTION: A nozzle is allowed to descend from a waiting position A only by an initial descending distance nh which is determined by a maximum value UH of undulations on the substrate surface 28a and a thickness NH of a paste pattern 29 drawn by coating a substrate, when coat-drawing of the paste pattern is started. The initial descending distance nh is set to a value such that the end point of the nozzle may not be collided onto the surface of the substrate 28 and may be descended into the range of measurement of a range meter, even when the nozzle is descended by the distance. Then, the measurement, by the range meter, of the distance between the substrate surface 28a and the end point of the nozzle, and the descending of the nozzle by a micro distance are carried out repeatedly so that the end point of the nozzle may be set on a position as high as the thickness of the paste pattern 29 from the substrate 28a of the end point of the nozzle.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ノズルの吐出口に
対向するように基板をテ−ブル上に載置し、ペースト収
納筒に充填されたペーストをこのノズルの吐出口から該
基板上に吐出させながら該基板と該ノズルの相対位置関
係を変化させ、該基板上に所望形状のペーストパタ−ン
を描画するペースト塗布機におけるノズルの初期高さ位
置の設定方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method in which a substrate is placed on a table so as to face a discharge port of a nozzle, and paste filled in a paste container is discharged from the discharge port of the nozzle onto the substrate. The present invention relates to a method of setting an initial height position of a nozzle in a paste coating machine that draws a paste pattern of a desired shape on the substrate by changing a relative positional relationship between the substrate and the nozzle while discharging.

【0002】[0002]

【従来の技術】ペースト塗布機は、その装置に搭載され
た基板上に複数の(多数の)ペーストパターンを描画す
る場合、基板のうねりを測定する距離計の測定値を基
に、複数のペーストパターンを描画する毎に、ノズル先
端の吐出口(以下、単に、ノズルの先端という)をパタ
ーンを塗布するための所定の高さに位置制御してペース
トパターンを描画している。
2. Description of the Related Art When a plurality of (many) paste patterns are drawn on a board mounted on the apparatus, a paste applicator uses a plurality of paste patterns based on measured values of a distance meter for measuring the undulation of the board. Each time a pattern is drawn, a paste pattern is drawn by controlling the position of the discharge port at the tip of the nozzle (hereinafter simply referred to as the tip of the nozzle) to a predetermined height for applying the pattern.

【0003】そして、この場合、ノズル先端の基板表面
からの高さ(以下、ノズル高さ)の初期位置決めは、ノ
ズルの先端が基板に接触しない充分高い位置から距離計
による基板表面からの高さの測定とノズルの微小量下降
とを繰り返す基板表面のサーチ動作を行ないながら、ノ
ズル高さを上記の所望の高さに設定するものである。
[0003] In this case, the initial positioning of the height of the nozzle tip from the substrate surface (hereinafter referred to as the nozzle height) is performed from a sufficiently high position where the tip of the nozzle does not come into contact with the substrate. The nozzle height is set to the desired height while performing a search operation of the substrate surface which repeats the measurement of the above and the lowering of the nozzle by a very small amount.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
ペースト塗布機のノズル高さの初期位置決め制御の方法
では、ノズル先端が基板に接触しない充分高い位置か
ら、距離計による基板表面からの高さ測定とノズルの微
小量下降とを繰り返す基板表面のサーチ動作を行なうも
のであるから、基板表面に対するノズル高さを所定に決
めるのに長時間を要することになり、結果的に、ペース
トパターンの塗布描画に長時間を要することになって生
産性の向上が損なわれるものであった。
In the conventional method for controlling the initial positioning of the nozzle height of the paste applicator, the height of the nozzle from the surface of the substrate is measured from a sufficiently high position where the tip of the nozzle does not contact the substrate. Since the search operation of the substrate surface is repeated by repeating the measurement and the minute amount of the nozzle, it takes a long time to determine the nozzle height with respect to the substrate surface, and as a result, the paste pattern is applied. It takes a long time for drawing, and the improvement in productivity is impaired.

【0005】本発明の目的は、かかる問題を解消し、効
率良くノズル高さの初期設定を行なうことを可能とし、
塗布描画タクトを短縮してペーストパターンの塗布描画
の生産性を高めることができるようにしたペースト塗布
機のノズル高さの位置決め方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve such a problem and to make it possible to perform an initial setting of a nozzle height efficiently.
It is an object of the present invention to provide a method of positioning a nozzle height of a paste application machine, which can shorten the application / drawing tact and can enhance productivity of application / drawing of a paste pattern.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、基板上に塗布描画するペーストパターン
の塗布開始位置毎に、該基板のうねりの最大値と該基板
に塗布描画されるペーストパターンの厚みに基づいて、
初期下降距離を算出する第1の工程と、ノズルを該初期
下降距離だけ該基板の表面に向かって下降させる第2の
工程とを有する構成とする。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a method for applying a maximum value of the undulation of the substrate and the maximum value of the undulation of the substrate at each coating start position of the paste pattern to be applied and drawn on the substrate. Based on the thickness of the paste pattern
The method includes a first step of calculating an initial descending distance and a second step of lowering the nozzle by the initial descending distance toward the surface of the substrate.

【0007】また、本発明は、該第2の工程後、距離計
によって該ノズルの先端と該基板の表面までの距離を測
定しながら、該ノズルを、該ノズルの先端が該基板の表
面から該ペーストパターンの厚みにほぼ等しい高さにな
るように、微小距離ずつ下降させる第3の工程を有する
構成とする。
Further, according to the present invention, after the second step, while measuring the distance between the tip of the nozzle and the surface of the substrate using a distance meter, the tip of the nozzle is moved from the surface of the substrate to the tip of the nozzle. A third step of lowering the paste pattern by a small distance so as to have a height substantially equal to the thickness of the paste pattern is adopted.

【0008】さらに、本発明は、該第3の工程後、該ノ
ズルの先端の基板平面方向の位置データと該基板の表面
に対する該ノズルの先端の高さデータとをメモリに格納
する第4の工程と、該高さデータと該基板のうねりの最
大値とから該第2,第3の工程による該ノズルの実際の
下降距離を算出し、該位置データに関連して該メモリに
格納する第4の工程とを備え、該実際の下降距離を同じ
種類の基板での該第1の工程での該初期下降距離として
使用可能とする構成とする。
Further, according to the present invention, after the third step, the position data of the tip of the nozzle in the plane direction of the substrate and the height data of the tip of the nozzle with respect to the surface of the substrate are stored in a memory. And calculating the actual descent distance of the nozzle by the second and third steps from the height data and the maximum value of the undulation of the substrate, and storing the actual descent distance in the memory in association with the position data. 4), wherein the actual descending distance can be used as the initial descending distance in the first step on the same type of substrate.

【0009】かかる構成により、ペーストパターンの塗
布描画開始点でのノズルの先端高さの初期設定を迅速に
短時間で行なうことができ、複数パターンを塗布描画す
る場合や次の基板に塗布描画する際の基板表面に対する
ノズルの先端高さの初期設定に要する時間も短縮でき、
従って、パターン塗布描画時間が短縮できて、生産性が
向上する。
With this configuration, the initial height of the tip of the nozzle at the starting point of application and drawing of the paste pattern can be quickly and quickly set, and when a plurality of patterns are applied and drawn, or the next substrate is applied and drawn. The time required for initial setting of the tip height of the nozzle with respect to the substrate surface at the time of
Therefore, the pattern coating / drawing time can be reduced, and the productivity is improved.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
用いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0011】図1は本発明によるペースト塗布機の一実
施形態を示す斜視図であって、1は架台、2a,2bは
基板搬送コンベア、3は支持台、4は基板吸着盤、5は
θ軸移動テ−ブル、6a,6bはX軸移動テ−ブル、7
はY軸移動テ−ブル、8a、8bはサ−ボモ−タ、9は
Z軸移動テ−ブル、10はサ−ボモ−タ、11はボ−ル
ねじ、12はサーボモータ、13はペースト収納筒(シ
リンジ)、14は距離計、16a,16bは画像認識カ
メラ、17は制御部、18はモニタ、19はキ−ボ−
ド、20は外部記憶装置、21はケ−ブルである。
FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of a paste coater according to the present invention, wherein 1 is a gantry, 2a and 2b are substrate transport conveyors, 3 is a support table, 4 is a substrate suction disk, and 5 is θ. Axis moving table, 6a and 6b are X axis moving tables, 7
Is a Y-axis moving table, 8a and 8b are servo motors, 9 is a Z-axis moving table, 10 is a servo motor, 11 is a ball screw, 12 is a servomotor, and 13 is a paste. Storage cylinder (syringe), 14 is a distance meter, 16a and 16b are image recognition cameras, 17 is a control unit, 18 is a monitor, and 19 is a keyboard.
20 is an external storage device, and 21 is a cable.

【0012】図1において、架台1上には、X軸方向に
並行で、かつ昇降可能な2つの基板搬送コンベア2a,
2bが設けられており、図示していない基板を図面の奥
の方から手前の方に、即ち、X軸方向に水平に搬送す
る。また、架台1上に支持台3が設けられ、この支持台
3上に、θ軸移動テ−ブル5を介して基板吸着盤4が搭
載されている。このθ軸移動テ−ブル5は、基板吸着盤
4をZ軸廻りのθ方向に回転させるものである。
In FIG. 1, on a gantry 1, two substrate transport conveyors 2a, which are parallel to the X-axis direction and can be moved up and down.
2b is provided to convey a substrate (not shown) from the back of the drawing to the front, that is, horizontally in the X-axis direction. A support 3 is provided on the gantry 1, and a substrate suction board 4 is mounted on the support 3 via a θ-axis moving table 5. The θ-axis moving table 5 rotates the substrate suction plate 4 in the θ direction about the Z-axis.

【0013】架台1上には、さらに、基板搬送コンベア
2a,2bよりも外側でX軸に平行にX軸移動テ−ブル
6a,6bが設けられ、これらX軸移動テ−ブル6a,
6b間を渡るようにしてY軸移動テ−ブル7が設けられ
ている。このY軸移動テ−ブル7は、X軸移動テ−ブル
6a,6bに設けられたサ−ボモ−タ8a,8bの正転
や逆転の回転(正/逆転)により、X軸方向に水平に搬
送される。
On the gantry 1, there are further provided X-axis moving tables 6a, 6b outside of the board transfer conveyors 2a, 2b and parallel to the X-axis, and these X-axis moving tables 6a, 6b are provided.
A Y-axis moving table 7 is provided so as to extend between 6b. The Y-axis moving table 7 is horizontally moved in the X-axis direction by forward or reverse rotation (forward / reverse rotation) of servo motors 8a and 8b provided on the X-axis moving tables 6a and 6b. Transported to

【0014】Y軸移動テ−ブル7上には、サ−ボモ−タ
10の駆動によるボ−ルねじ11の正/逆転によってZ
軸方向に移動するZ軸移動テ−ブル9が設けられてい
る。このZ軸移動テ−ブル9には、ペースト収納筒13
や距離計14を支持固定した支持板15が設けられ、サ
ーボモータ12がこれらペースト収納筒13や距離計1
4を、この支持板15に設けられた図示していないリニ
ヤガイドの可動部を介してZ軸方向に移動させる。ペー
スト収納筒13は、このリニヤガイドの可動部に着脱自
在に取り付けられている。また、架台1の天板には、図
示しない基板の位置合わせなどのための画像認識カメラ
16a,16bが上方向を向けて設けられている。
On the Y-axis moving table 7, Z is set by forward / reverse rotation of a ball screw 11 driven by a servo motor 10.
A Z-axis moving table 9 that moves in the axial direction is provided. The Z-axis moving table 9 includes a paste storage cylinder 13.
A support plate 15 for supporting and fixing the distance meter 14 is provided.
4 is moved in the Z-axis direction via a movable portion of a linear guide (not shown) provided on the support plate 15. The paste storage cylinder 13 is detachably attached to the movable portion of the linear guide. The top plate of the gantry 1 is provided with image recognition cameras 16a and 16b for aligning a substrate (not shown) or the like facing upward.

【0015】架台1の内部には、サーボモータ8a,8
b,10,12などを制御する制御部17が設けられて
おり、この制御部17はケーブル21を介してモニタ1
8やキーボード19,外部記憶装置20と接続されてい
る。かかる制御部17での各種処理のためのデータがキ
ーボード19から入力され、画像認識カメラ16a,1
6bで捉えた画像や制御部17での処理状況がモニタ1
8で表示される。また、キ−ボ−ド19から入力された
データなどは、外部記憶装置20において、フロッピデ
ィスクなどの記憶媒体に記憶保管される。
Inside the gantry 1, servo motors 8a, 8
b, 10, 12 and the like, and a control unit 17 for controlling the monitor 1 via the cable 21.
8, a keyboard 19, and an external storage device 20. Data for various processes in the control unit 17 is input from the keyboard 19, and is input to the image recognition cameras 16a, 16a.
The image captured by 6b and the processing status of the control unit 17 are displayed on the monitor 1.
8 is displayed. Further, data and the like input from the keyboard 19 are stored in a storage medium such as a floppy disk in the external storage device 20.

【0016】図2は図1におけるペースト収納筒13と
距離計14との部分を拡大して示す斜視図であって、1
3aはノズル、28は基板であり、図1に対応する部分
には同一符号をつけている。
FIG. 2 is an enlarged perspective view showing a portion of the paste container 13 and the distance meter 14 in FIG.
Reference numeral 3a denotes a nozzle, 28 denotes a substrate, and portions corresponding to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.

【0017】同図において、距離計14はその下端部に
三角形の切込部が設けられ、その切込部に発光素子と複
数の受光素子とが設けられている。ノズル13aは、距
離計14のこの切込部の下部に位置付けられている。
In FIG. 1, the distance meter 14 has a triangular cut at the lower end thereof, and a light emitting element and a plurality of light receiving elements are provided at the cut. The nozzle 13a is positioned below this cut portion of the distance meter 14.

【0018】距離計14は、ノズル13aの先端のペー
スト吐出口からガラスからなる基板28の上表面までの
距離を非接触の三角測法で計測する。即ち、三角形の切
込部での片側の斜面に発光素子が設けられ、この発光素
子から放射されたレ−ザ光Lは基板28上の計測点Sで
反射し、切込部の他方の斜面に設けられた複数の受光素
子のいずれかで受光される。従って、レ−ザ光Lはペー
スト収納筒13やノズル13aで遮られることはない。
The distance meter 14 measures the distance from the paste discharge port at the tip of the nozzle 13a to the upper surface of the glass substrate 28 by non-contact triangulation. That is, a light-emitting element is provided on one side of the triangular cut portion, and the laser light L emitted from this light-emitting element is reflected at the measurement point S on the substrate 28, and the other slope of the cut portion is provided. The light is received by any one of the plurality of light receiving elements provided in the light emitting element. Therefore, the laser light L is not blocked by the paste container 13 or the nozzle 13a.

【0019】また、基板28上でのレ−ザ光Lの計測点
Sとノズル13aの先端、即ち、ペースト吐出口の直下
位置とは基板28上で僅かな距離ΔX,ΔYだけずれる
が、この僅かな距離ΔX,ΔY程度のずれでは、基板2
8の表面の凹凸に差がないので、距離計14の計測結果
とノズル13aの先端から基板28の表面までの距離
(間隔)との間に差は殆ど存在しない。従って、この距
離計14の計測結果に基いてサ−ボモ−タ12を制御す
ることにより、基板28の表面の凹凸(うねり)に合わ
せてノズル13aの先端から基板28の表面までの距離
を一定に維持することができる。
The measurement point S of the laser beam L on the substrate 28 and the tip of the nozzle 13a, that is, the position immediately below the paste discharge port are shifted by a small distance ΔX, ΔY on the substrate 28. With a slight shift of about ΔX, ΔY, the substrate 2
8, there is almost no difference between the measurement result of the distance meter 14 and the distance (interval) from the tip of the nozzle 13a to the surface of the substrate 28. Therefore, by controlling the servomotor 12 based on the measurement result of the distance meter 14, the distance from the tip of the nozzle 13a to the surface of the substrate 28 is kept constant according to the unevenness (undulation) of the surface of the substrate 28. Can be maintained.

【0020】このようにして、ノズル13aのペースト
吐出口から基板28の表面までの距離は一定に維持さ
れ、かつ、ノズル13aのペースト吐出口から吐出され
る単位時間当りのペースト量が定量に維持されることに
より、基板28上に塗布描画されるペーストパタ−ンは
幅や厚さが一様になる。
In this manner, the distance from the paste discharge port of the nozzle 13a to the surface of the substrate 28 is kept constant, and the amount of paste discharged from the paste discharge port of the nozzle 13a per unit time is maintained constant. As a result, the width and thickness of the paste pattern applied and drawn on the substrate 28 become uniform.

【0021】以上のようにして、ペースト塗布機がペー
ストパターン描画を行なうに当たっては、図3で示すよ
うに、ノズル13aの先端を基板28の表面(実際に
は、基板28のうねりの影響をなくすために、理想的な
平面である仮想的な基板主面BP)から予め決められた
高さH0の定位置Aに待機されており、この定位置(待
機位置)Aから下降させて基板28の表面28aから塗
布描画するペーストパターン29の高さNHだけ高い位
置に初期設定する。しかる後、ノズル13aのペースト
吐出口からシリンジに充填されているペーストを定量ず
つ吐出しつつ、かつ基板28の表面に対するノズル13
aの先端の高さを一定に保ちながら、基板28を移動さ
せる。これにより、この基板28上にペーストパターン
が塗布描画される。
As described above, when the paste coater performs the paste pattern drawing, as shown in FIG. 3, the tip of the nozzle 13a is placed on the surface of the substrate 28 (actually, the influence of the undulation of the substrate 28 is eliminated. Therefore, the substrate 28 waits at a fixed position A having a predetermined height H 0 from an ideal plane (virtual substrate main surface BP), and is lowered from the fixed position (standby position) A. Is initially set at a position higher by the height NH of the paste pattern 29 to be applied and drawn from the surface 28a. Thereafter, the paste filled in the syringe is discharged by a fixed amount from the paste discharge port of the nozzle 13a, and the nozzle 13a with respect to the surface of the substrate 28 is discharged.
The substrate 28 is moved while keeping the height of the tip of a constant. Thus, the paste pattern is applied and drawn on the substrate 28.

【0022】ところで、ペーストパターンの塗布描画動
作に先立つノズル13aの先端の基板28の表面からの
高さ(以下、ノズル13aの高さという)の初期設定の
従来方法では、図3において、ノズル13aを定位置A
から距離計14によるノズル13aの先端から基板28
の表面までの距離測定とノズル13aの微小距離下降と
を繰り返し行ない、ペーストパターンを塗布描画する高
さにノズル13aの先端を設定するものであった。この
ため、基板28の表面のうねりやノズル13aのペース
ト吐出口の位置(高さ)の組み立て誤差などにより、ノ
ズル13aの高さの初期位置決め処理に要する時間が長
くなり、生産性が低下する場合があった。これを防止す
るために、ノズル13aのペースト吐出口の位置(高
さ)の組み立て精度を高めると、部品と組立のコストが
上昇してしまうなどの問題も含んでいる。
By the way, in the conventional method of initially setting the height of the tip of the nozzle 13a from the surface of the substrate 28 (hereinafter referred to as the height of the nozzle 13a) prior to the paste pattern coating / drawing operation, FIG. To the fixed position A
From the tip of the nozzle 13a by the distance meter 14 to the substrate 28
The measurement of the distance to the surface and the minute distance lowering of the nozzle 13a are repeatedly performed, and the tip of the nozzle 13a is set to the height at which the paste pattern is applied and drawn. For this reason, the time required for the initial positioning process of the height of the nozzle 13a becomes long due to the undulation of the surface of the substrate 28 or the assembly error of the position (height) of the paste discharge port of the nozzle 13a, and the productivity decreases. was there. If the accuracy of assembling the position (height) of the paste discharge port of the nozzle 13a is increased in order to prevent this, the cost of parts and assembly will increase.

【0023】これに対し、この実施形態では、ノズル1
3aの先端の高さデータと基板28に対するXY軸方向
の位置データとを制御部17のメモリに格納し、ノズル
13aの先端の高さを初期設定する場合には、ソフトウ
ェアーフィードバック処理により、このメモリに格納さ
れたこれらデータから、ペーストパターン塗布描画時に
ノズル13aの先端を基板28の表面に衝突させること
なく、かつ基板28の表面からのノズル13aの先端の
高さが距離センサ14の測定範囲内に位置決めされるよ
うな初期下降距離を算出し、この算出されたデータに基
づいてノズル13aを上下に移動させ、しかる後、上記
従来の方法のように、距離センサ14の測定とノズル1
3aの微小距離下降とを繰り返してノズル13aの高さ
調整をするようにしたものであり、これにより、同じ基
板28に複数のペーストパターンを塗布描画する場合や
次の基板28にペーストパターンを塗布描画する場合
に、基板28の表面に対するノズル13aの先端の高さ
の初期位置決めに要する時間を短縮し、ペーストパター
ン塗布描画時間を短縮して生産性を高めることができる
ようにするものである。
On the other hand, in this embodiment, the nozzle 1
When the height data of the tip of the nozzle 3a and the position data of the XY axis direction with respect to the substrate 28 are stored in the memory of the control unit 17 and the height of the tip of the nozzle 13a is initialized, the software feedback processing is used. From these data stored in the memory, the height of the tip of the nozzle 13a from the surface of the substrate 28 can be measured without causing the tip of the nozzle 13a to collide with the surface of the substrate 28 at the time of applying and drawing the paste pattern. Is calculated, and the nozzle 13a is moved up and down based on the calculated data. Then, the measurement of the distance sensor 14 and the nozzle 1
The height of the nozzle 13a is adjusted by repeating the process of lowering the minute distance of 3a, so that a plurality of paste patterns are applied and drawn on the same substrate 28, or the paste pattern is applied on the next substrate 28. In the case of drawing, the time required for initial positioning of the height of the tip of the nozzle 13a with respect to the surface of the substrate 28 is shortened, and the paste pattern coating / drawing time is shortened so that productivity can be improved.

【0024】次に、この実施形態におけるノズル13a
の高さ設定のための制御方法について説明する。
Next, the nozzle 13a in this embodiment
A control method for setting the height of the object will be described.

【0025】図4は図1における制御部の構成を示すブ
ロック図であって、17aはマイクロコンピュ−タ、1
7bはモ−タコントロ−ラ、17c1,17c2はX1,
X2軸ドライバ、17dはY軸ドライバ、17eはθ軸
ドライバ、17fはZ軸ドライバ、17gはデータ通信
バス、17hは外部インタ−フェ−ス、22a,22b
は照明の可能な光源を備えた鏡筒、23は画像処理装置
(画像認識手段)、25は負圧源、25aは負圧レギュ
レータ、26は正圧源、26aは正圧レギュレータ、2
7はバルブユニット、30はサーボモータ、31〜35
はエンコ−ダでり、前出図面に対応する部分には同一符
号をつけている。
FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the control unit in FIG. 1. In FIG.
7b is a motor controller, 17c1 and 17c2 are X1,
X2 axis driver, 17d Y axis driver, 17e θ axis driver, 17f Z axis driver, 17g data communication bus, 17h external interface, 22a, 22b
Is a lens barrel having an illuminable light source, 23 is an image processing device (image recognition means), 25 is a negative pressure source, 25a is a negative pressure regulator, 26 is a positive pressure source, 26a is a positive pressure regulator,
7 is a valve unit, 30 is a servomotor, 31 to 35
Is an encoder, and portions corresponding to the above-mentioned drawings are denoted by the same reference numerals.

【0026】同図において、制御部17は、マイクロコ
ンピュ−タ17aやモ−タコントロ−ラ17b、X,
Y,Z,θ各軸のドライバ17c1〜17f、画像認識
カメラ16a,16bで得られる映像信号を処理する画
像処理装置23、キ−ボ−ド19などとの間の信号伝送
を行なう外部インタ−フェ−ス17hを内蔵している。
制御部17は、さらに、基板搬送コンベア2a,2bの
駆動制御系を含んでいるが、ここでは、図示を省略して
いる。
In FIG. 1, a control unit 17 includes a microcomputer 17a, a motor controller 17b, X,
An external interface for transmitting signals to and from the drivers 17c1 to 17f for the Y, Z, and θ axes, the image processing device 23 for processing video signals obtained by the image recognition cameras 16a and 16b, the keyboard 19, and the like. It has a built-in face 17h.
The control unit 17 further includes a drive control system for the substrate transport conveyors 2a and 2b, but is not shown here.

【0027】また、マイクロコンピュ−タ17aは、図
示しないが、主演算部や後述する塗布描画を行なうため
の処理プログラムを格納したROMや主演算部での処理
結果や外部インタ−フェ−ス17h及びモ−タコントロ
−ラ17bからの入力デ−タを格納するRAM,外部イ
ンタ−フェ−ス17hやモ−タコントロ−ラ17bとデ
−タをやりとりする入出力部などを備えている。
Although not shown, the microcomputer 17a has a main processing unit, a ROM storing a processing program for performing coating / drawing described later, processing results in the main processing unit, and an external interface 17h. And a RAM for storing input data from the motor controller 17b, and an input / output unit for exchanging data with the external interface 17h and the motor controller 17b.

【0028】サーボモータ30はθ軸移動テ−ブル5
(図1)を駆動するものである。各サ−ボモ−タ8a,
8b,10,12,30には、回転量を検出するエンコ
−ダ31〜35が設けられており、その検出結果をX,
Y,Z,θ各軸のドライバ17c1〜17fに戻して位
置制御を行なっている。
The servo motor 30 has a θ-axis moving table 5
(FIG. 1). Each servo motor 8a,
8b, 10, 12, and 30 are provided with encoders 31 to 35 for detecting the amount of rotation.
The position is controlled by returning to the drivers 17c1 to 17f for the Y, Z, and θ axes.

【0029】サ−ボモ−タ8a,8b,10がキ−ボ−
ド19から入力されてマイクロコンピュ−タ17aのR
AMに格納されているデ−タに基いて正/逆回転するこ
とにより、基板吸着盤4(図1)に真空吸着された基板
28(図2)に対し、ノズル13a(図2)がZ軸移動
テ−ブル9及びX,Y軸移動テーブル6a,6b,7
(図1)によってX,Y軸方向に任意の距離を移動し、
その移動中ペースト収納筒13に正圧源26から正圧レ
ギュレータ26a,バルブユニット27を介して僅かな
気圧が継続して印加されることにより、ノズル13aの
ペースト吐出口からペーストが吐出され、静止した基板
28上に所望のペーストパタ−ンが塗布描画される。こ
のZ軸移動テ−ブル9のX,Y軸方向への水平移動中に
距離計14がノズル13aのペースト吐出口と基板28
との間の間隔を計測し、この間隔を常に一定の間隔を維
持するように、サ−ボモ−タ12がZ軸ドライバ17f
で制御される。
The servomotors 8a, 8b and 10 are keyboads.
Input from the computer 19 and the R of the microcomputer 17a.
By rotating forward / reverse on the basis of the data stored in the AM, the nozzle 13a (FIG. 2) moves the Z of the substrate 28 (FIG. 2) vacuum-adsorbed to the substrate suction disk 4 (FIG. 1). Axis moving table 9 and X, Y axis moving tables 6a, 6b, 7
(FIG. 1) moves an arbitrary distance in the X and Y axis directions,
During this movement, a slight pressure is continuously applied from the positive pressure source 26 to the paste container 13 via the positive pressure regulator 26a and the valve unit 27, so that the paste is discharged from the paste discharge port of the nozzle 13a, and the paste is stopped. A desired paste pattern is applied and drawn on the substrate 28 thus formed. During the horizontal movement of the Z-axis moving table 9 in the X- and Y-axis directions, the distance meter 14 is connected to the paste discharge port of the nozzle 13a and the substrate 28.
Is measured, and the servo motor 12 is driven by the Z-axis driver 17f so that the distance is always kept constant.
Is controlled by

【0030】次に、図5により、この実施形態を用いた
ペースト塗布機の動作について説明する。
Next, the operation of the paste applicator using this embodiment will be described with reference to FIG.

【0031】図5において、電源が投入されると(ステ
ップ100)、まず、ペースト塗布機の初期設定が実行
されるが(ステップ200)、この初期設定工程は、図
1において、サーボモータ8a,8b,10を駆動する
ことにより、Z軸移動テ−ブル9をX,Y方向に移動さ
せて所定の基準位置に位置決めし、ノズル13a(図
2)を、そのペースト吐出口がペースト塗布を開始する
位置(即ち、ペースト塗布開始点)となるように、所定
の原点位置に設定し、さらに、ペーストパタ−ンデ−タ
や基板28の位置デ−タ,ペースト吐出終了位置デ−タ
の設定を行なうものである。かかるデ−タの入力はキ−
ボ−ド19(図1)から行なわれ、入力されたデ−タ
は、上記のように、マイクロコンピュ−タ17a(図
4)に内蔵されたRAMに格納される。
In FIG. 5, when the power is turned on (step 100), first, the initial setting of the paste coating machine is executed (step 200). This initial setting step is performed in FIG. By driving 8b and 10, the Z-axis moving table 9 is moved in the X and Y directions and positioned at a predetermined reference position, and the nozzle 13a (FIG. 2) starts to apply paste through its paste discharge port. At a predetermined origin position so as to be a position (ie, a paste application start point), and further, setting of paste pattern data, position data of the substrate 28, and paste discharge end position data. Is performed. The input of such data is key
The data input from the board 19 (FIG. 1) is stored in the RAM incorporated in the microcomputer 17a (FIG. 4) as described above.

【0032】この初期設定工程(ステップ200)が終
了すると、次に、基板28を基板吸着盤4(図1)に搭
載して吸着保持させる(ステップ300)。この基板搭
載工程は、基板搬送コンベア2a,2b(図1)によっ
てこの基板28がX軸方向に基板吸着盤4の上方まで搬
送され、図1に図示していない昇降手段によってこれら
基板搬送コンベア2a,2bを下降させることにより、
基板28を基板吸着盤4に搭載するものである。
When this initial setting step (step 200) is completed, the substrate 28 is mounted on the substrate suction plate 4 (FIG. 1) and held by suction (step 300). In the substrate mounting step, the substrate 28 is transported in the X-axis direction to a position above the substrate suction plate 4 by the substrate transport conveyors 2a and 2b (FIG. 1), and the substrate transport conveyor 2a is moved by an elevating means (not shown in FIG. 1). , 2b by lowering
The substrate 28 is mounted on the substrate suction plate 4.

【0033】次に、基板28の表面のうねり測定を行な
うか否かの判断を行なう(ステップ350)。この判断
は、基板吸着盤4上の基板28がロットの最初のもので
あるかどうかによって行なう。そして、ロットの最初の
ものであるかどうかは、上位ホストコンピュータから与
えられるデータやキーボード19(図1)からの入力デ
ータなどを参照して判断することができる。
Next, it is determined whether or not undulation measurement of the surface of the substrate 28 is to be performed (step 350). This determination is made based on whether the substrate 28 on the substrate suction board 4 is the first one in the lot. Whether or not the lot is the first one can be determined by referring to data provided from the host computer, input data from the keyboard 19 (FIG. 1), and the like.

【0034】最初の基板であれば、距離計14をその測
定許容高さにあるようにしてZ軸を固定してX,Y軸方
向に移動させることにより、そのうねりを測定し、うね
りの最大値を得る(ステップ355)。この測定値は、
制御部17のメモリに格納される。
In the case of the first substrate, the undulation is measured by moving the distance meter 14 in the X and Y axis directions while fixing the Z-axis so as to be at the measurement allowable height, and measuring the maximum undulation. Obtain a value (step 355). This measurement is
It is stored in the memory of the control unit 17.

【0035】次に、基板予備位置決め処理(ステップ4
00)を行なう。
Next, a substrate pre-positioning process (step 4)
00).

【0036】この処理は、図1において、図示していな
い位置決めチャックにより、この基板28のX,Y方向
の位置合わせを行なうものである。このために、基板吸
着盤4に搭載された基板28の位置決め用マ−クを画像
認識カメラ16a,16bで撮影し、これら位置決め用
マ−クの中心位置を画像処理で求めて基板28のθ方向
での傾きを検出し、これに応じてサ−ボモ−タ30(図
4)を駆動してこのθ方向の傾きも補正する。
In this process, the positioning of the substrate 28 in the X and Y directions is performed by a positioning chuck not shown in FIG. For this purpose, the marks for positioning the substrate 28 mounted on the substrate suction plate 4 are photographed by the image recognition cameras 16a and 16b, and the center positions of the marks for positioning are determined by image processing to obtain the θ of the substrate 28. The inclination in the direction is detected, and the servomotor 30 (FIG. 4) is driven in accordance with the inclination to correct the inclination in the θ direction.

【0037】なお、ペースト収納筒13内の残りペース
トが少ない場合には、次のペーストパターン塗布作業の
途中でペーストの途切れがないようにするために、前以
てペースト収納筒13をノズル13aとともに交換する
が、このようにノズル13aを交換すると、その位置ず
れが生ずることがあるので、基板28上のペーストパタ
ーンを形成しない箇所に交換した新たなノズル13aを
用いて十字描画を行ない、この十字描画の交点の中心位
置を画像処理で求め、この中心位置と基板28上の位置
決め用マ−クの中心位置との間の距離を算出し、これを
ノズル13aのペースト吐出口の位置ずれ量dx,dy
としてマイクロコンピュ−タ17aに内蔵のRAMに格
納する。これにより、基板予備位置決め処理(ステップ
400)を終了する。かかるノズル13aのペースト吐
出口の位置ずれ量dx,dyは、後に行なうペーストパ
ターンの塗布描画の動作時、この位置ずれを補正するの
に用いる。
When the amount of the remaining paste in the paste container 13 is small, the paste container 13 is moved together with the nozzle 13a in advance so that the paste is not interrupted during the next paste pattern coating operation. However, if the nozzle 13a is replaced in this way, the misalignment may occur. Therefore, a cross drawing is performed using a new nozzle 13a that has been replaced on a portion of the substrate 28 where a paste pattern is not to be formed. The center position of the intersection of drawing is determined by image processing, the distance between this center position and the center position of the positioning mark on the substrate 28 is calculated, and this is calculated as the displacement dx of the paste discharge port of the nozzle 13a. , Dy
Is stored in a RAM built in the microcomputer 17a. Thus, the substrate pre-positioning process (Step 400) ends. The positional deviation amounts dx and dy of the paste discharge port of the nozzle 13a are used to correct the positional deviation in a later-described paste pattern application / drawing operation.

【0038】次に、ペーストパターン描画処理(ステッ
プ500)を行なうが、この処理の詳細を図6により説
明する。
Next, paste pattern drawing processing (step 500) is performed. Details of this processing will be described with reference to FIG.

【0039】図6において、この処理(ステップ50
0)は、塗布開始位置にノズル13aの吐出口を位置付
けるために、Z軸移動テ−ブル9を移動させ、ノズル1
3aのペースト吐出口の位置の比較・調整移動を行な
う。
In FIG. 6, this processing (step 50)
0) moves the Z-axis moving table 9 to position the ejection port of the nozzle 13a at the application start position, and moves the nozzle 1
The position of the paste discharge port 3a is compared and adjusted.

【0040】このために、まず、先の基板予備位置決め
処理(ステップ400)で得られてマイクロコンピュ−
タ17aのRAMに格納されたノズル13aのペースト
吐出口の位置ずれ量dx,dyが、図2に示したその許
容範囲△X,△Y内にあるか否かの判断を行なう。そし
て、この許容範囲内(△X≧dx及び△Y≧dy)であ
れば、そのままとし、また、許容範囲外(△X<dxま
たは△Y<dy)であれば、この位置ずれ量dx,dy
を基にZ軸移動テ−ブル9を移動させてペースト収納筒
13を移動させることにより、ノズル13aのペースト
吐出口と基板28の所望位置との間の位置ずれを解消さ
せ、ノズル13aのペースト吐出口を所望位置に位置決
めする(ステップ501)。
For this purpose, first, the micro-computer obtained in the preceding substrate pre-positioning process (step 400) is used.
It is determined whether or not the positional deviation amounts dx and dy of the paste discharge port of the nozzle 13a stored in the RAM of the data 17a are within the allowable ranges ΔX and ΔY shown in FIG. If it is within the allowable range (範 囲 X ≧ dx and △ Y ≧ dy), it is left as it is, and if it is out of the allowable range (△ X <dx or △ Y <dy), the displacement dx, dy
By moving the Z-axis moving table 9 based on the above, the paste storage tube 13 is moved, thereby eliminating the positional deviation between the paste discharge port of the nozzle 13a and the desired position of the substrate 28, and the paste of the nozzle 13a. The discharge port is positioned at a desired position (step 501).

【0041】次に、ノズル13aのペースト吐出口の高
さをペーストパターン描画高さに設定する(ステップ5
02)。このステップ502を図7で詳しく説明する。
Next, the height of the paste discharge port of the nozzle 13a is set to the paste pattern drawing height (step 5).
02). This step 502 will be described in detail with reference to FIG.

【0042】図7において、ノズル13aのペースト吐
出口の位置データ(XY軸座標)を基にしてノズル13
aの初期移動距離を後述する式(1)に基づいて算出し
(ステップ502a)、ノズル13aを初期移動距離分
下降させる(ステップ502b)。次に、基板28の表
面の高さを距離計14により測定し(ステップ502
c)、ノズル13aのペースト吐出口がペーストパター
ンを描画する高さに設定されているか否かを確認し(ス
テップ502d)、描画高さに設定できていない場合に
は、ノズル13aの微小距離下降を行ない(ステップ5
02e)、ノズル13aのペースト吐出口が塗布描画高
さに設定されるまで、上記のステップ502c〜502
eの動作を繰り返す。
In FIG. 7, the nozzle 13a is determined based on the position data (XY coordinate) of the paste discharge port of the nozzle 13a.
The initial movement distance of a is calculated based on equation (1) described later (step 502a), and the nozzle 13a is lowered by the initial movement distance (step 502b). Next, the height of the surface of the substrate 28 is measured by the distance meter 14 (Step 502).
c) It is checked whether or not the paste discharge port of the nozzle 13a is set to the height at which the paste pattern is drawn (step 502d). (Step 5
02e) until the paste discharge port of the nozzle 13a is set at the application drawing height.
The operation of e is repeated.

【0043】以上の動作を図3で説明すると、ペースト
パターン29の塗布前には、ノズル13aの先端は、想
定される基板主面BPに対し、一定の高さH0の定位置
Aに設定されている。図7のステップ502aでは、後
述する式(1)によって初期下降距離nhを算出し、こ
の初期下降距離nhだけノズル13aを下降させる。こ
の場合、この初期下降距離nhは、この分ノズル13a
を下降させても、ノズル13aの先端が基板28の表面
28に衝突せず、かつ距離計14の測定範囲内の高さに
ノズル13aの先端が位置決めされるような値に設定さ
れる。そして、このように高さ設定されたノズル13a
の先端が基板28の表面28aから塗布描画するペース
トパターン29の高さNHの位置に設定されていないと
きには(即ち、この塗布描画されるべきペーストパター
ン29の高さNHよりもまだ高さhの位置にあるときに
は)、上記ステップ502c〜502eにより、距離計
14でノズル13aの先端の基板28の表面28aから
の高さを測定し、その測定値が高さNHに達したか否か
を判定しながらノズル13aを微少距離ずつ下降させ
る。
The above operation will be described with reference to FIG. 3. Before the application of the paste pattern 29, the tip of the nozzle 13 a is set at a fixed position A with a constant height H 0 with respect to the assumed substrate main surface BP. Have been. In step 502a of FIG. 7, the initial descent distance nh is calculated by the following equation (1), and the nozzle 13a is lowered by the initial descent distance nh. In this case, the initial descent distance nh is determined by the
Is set so that the tip of the nozzle 13a does not collide with the surface 28 of the substrate 28 and the tip of the nozzle 13a is positioned at a height within the measurement range of the distance meter 14. Then, the nozzle 13a having the height set as described above is used.
Is not set at the position of the height NH of the paste pattern 29 to be applied and drawn from the surface 28a of the substrate 28 (that is, the height h is still higher than the height NH of the paste pattern 29 to be applied and drawn). Position), the distance meter 14 measures the height of the tip of the nozzle 13a from the surface 28a of the substrate 28 by the steps 502c to 502e, and determines whether or not the measured value has reached the height NH. Then, the nozzle 13a is lowered by a minute distance.

【0044】以上の動作を行なうと、基板28の表面2
8aの近くまでノズル13aを迅速に下降させ、この下
降位置から微少距離ずつ降下させていくものであるか
ら、ノズル13aの先端の基板28の表面28aに対す
る高さ方向の初期位置設定(このときの定位置Aからの
ノズル13aの下降距離をnh’とする)を迅速に短時
間で行なうことができる。
By performing the above operation, the surface 2 of the substrate 28
Since the nozzle 13a is quickly lowered to a position near the nozzle 8a, and is gradually lowered by a small distance from the lowered position, the initial position of the tip of the nozzle 13a in the height direction with respect to the surface 28a of the substrate 28 (at this time, (The lower distance of the nozzle 13a from the fixed position A is assumed to be nh ').

【0045】ここで、上記の初期降下距離nhは、 nh=H0−(NH+UH+ε) ……(1) 但し、UH:基板主面BPに対する基板表面28aのう
ねりの最大値 ε:余裕値 で表わされる。このうねりの最大値UHは図5でのステ
ップ355で測定されたものである。通常、ガラスから
なる基板28は、薄膜回路パターンを形成するために研
磨などの加工処理が施されることにより、高精度の平面
度が保たれる。また、かかる基板を搭載する基板吸着盤
4(図1)も、高い精度で平面度が保たれるように表面
加工されているが、これでも、若干のうねりが残る。そ
こで、かかる基板吸着盤4の表面に基板28を真空吸着
して固定すると、基板28がこの基板吸着盤4の表面に
倣って固定されることになり、基板28の表面28aに
うねりが生ずることになる。このうねりの最大値が図3
に示す値UHである。
Here, the initial descent distance nh is represented by nh = H 0- (NH + UH + ε) (1) where UH is the maximum value of the undulation of the substrate surface 28a with respect to the substrate main surface BP. It is. The maximum value UH of the undulation is measured in step 355 in FIG. Usually, the glass substrate 28 is subjected to a processing such as polishing in order to form a thin film circuit pattern, so that high-precision flatness is maintained. The surface of the substrate suction plate 4 (FIG. 1) on which such a substrate is mounted is also processed so as to maintain flatness with high accuracy, but a slight undulation still remains. Therefore, when the substrate 28 is vacuum-adsorbed and fixed on the surface of the substrate suction plate 4, the substrate 28 is fixed following the surface of the substrate suction plate 4 and the surface 28a of the substrate 28 is undulated. become. The maximum value of this undulation is shown in FIG.
Is the value UH shown in FIG.

【0046】以上のノズル13aの先端の高さの初期設
定動作が終了すると、この塗布開始位置での距離計14
で測定されるノズル13aの先端のZ軸座標値NHを高
さデータとして制御部17(図1)のメモリに格納し
(ステップ502f)、次いで、ノズル13aの先端の
塗布開始位置でのXY軸座標値を位置データとしてこの
メモリに格納する(ステップ502g)。格納するメモ
リ形式の一例を図8に示す。そして、最後に、この格納
した高さデータNHと上記の基板28の表面のうねりの
最大値UHとから、この塗布開始位置でノズル13aを
実際に下降させた距離nh’を、 nh’=H0−(NH+UH+ε) ……(2) によって求め、これを同じ種類の他の基板28での同じ
塗布開始位置での初期下降距離nhとして、位置データ
としてのXY座標値と関連付けてメモリに格納する(ス
テップ502h)。これにより、同じ種類の他の基板2
8の同じ塗布開始位置でのノズル13aの先端の高さの
初期位置設定処理(ステップ502b)は、この距離n
h’をノズル13aの先端高さの初期下降距離nhとし
て用いて行なうことができ、このとき、勿論、最終的な
高さの微調整にステップ502eが使用される場合もあ
るが、このステップ502eの処理もほとんど省略でき
てノズル13aの先端高さの初期位置設定に要する時間
をさらに短縮できる。
When the initial setting operation of the height of the tip of the nozzle 13a is completed, the distance meter 14 at the application start position is completed.
Is stored in the memory of the control unit 17 (FIG. 1) as height data (step 502f), and then the XY axes at the application start position of the tip of the nozzle 13a are measured. The coordinate values are stored as position data in this memory (step 502g). FIG. 8 shows an example of a memory format for storing. Finally, based on the stored height data NH and the maximum value UH of the undulation on the surface of the substrate 28, the distance nh ′ at which the nozzle 13a was actually lowered at the application start position is represented by nh ′ = H 0− (NH + UH + ε) (2), which is stored in the memory as the initial descent distance nh at the same coating start position on another substrate 28 of the same type in association with the XY coordinate values as position data. (Step 502h). Thereby, another substrate 2 of the same type
In the initial position setting process (step 502b) of the height of the tip of the nozzle 13a at the same application start position of No. 8 (step 502b), this distance n
h ′ can be used as the initial descent distance nh of the height of the tip of the nozzle 13a. At this time, of course, step 502e may be used for fine adjustment of the final height. Can be omitted substantially, and the time required for setting the initial position of the tip height of the nozzle 13a can be further reduced.

【0047】なお、上記の余裕値εを設定することによ
り、同じ種類の他の基板28の同じ塗布開始位置でのノ
ズル13aの先端の初期位置設定を、基板厚さに製作上
のバラツキがあっても、安心して行なうことができる。
By setting the above-mentioned margin value ε, the initial position of the tip of the nozzle 13a at the same coating start position on another substrate 28 of the same type can be set differently depending on the thickness of the substrate. But you can do it with confidence.

【0048】同じ基板28で複数のペーストパターンを
塗布描画する場合には、これらペーストパータンの塗布
開始位置毎に、上記のノズル高さNHと基板28のうね
りの最大値UHを用いて、上記式(1)により、ノズル
13aの初期下降距離nhを求め、ステップ502b〜
502eの初期高さ位置設定を行ない、これとともに、
ステップ502f〜502hの動作を行なう。これによ
り、同じ基板28での各ペーストパターンの塗布描画開
始位置毎の、その位置のXY座標値とZ座標値NHと距
離nh’とが互いに関連付けられてメモリに格納される
ことになる。
In the case where a plurality of paste patterns are applied and drawn on the same substrate 28, the above formula is used for each application start position of the paste pattern using the nozzle height NH and the maximum value UH of the undulation of the substrate 28. According to (1), the initial descent distance nh of the nozzle 13a is obtained, and
The initial height position of 502e is set.
The operation of steps 502f to 502h is performed. As a result, the XY coordinate value, the Z coordinate value NH, and the distance nh ′ of the paste pattern at each coating / painting start position on the same substrate 28 are stored in the memory in association with each other.

【0049】なお、ペースト収納筒13が交換されてい
ないときには、ノズル13aの先端の位置ずれ量dx,
dyのデータは存在しないので、ペーストパターン描画
処理(ステップ500)に入ったところで、直ちに、上
記で説明したノズル13aの先端の高さの初期設定を行
なう。
When the paste container 13 has not been replaced, the positional deviation dx,
Since the data of dy does not exist, the initial setting of the height of the tip of the nozzle 13a described above is immediately performed upon entering the paste pattern drawing processing (step 500).

【0050】以上の処理が終了すると、次に、マイクロ
コンピュータ17aのRAMに格納されたペーストパタ
ーンデータに基づいてサーボモータ8a,8b,10が
駆動され、これにより、ノズル13aのペースト吐出口
が基板28に対向した状態で、このペーストパターンデ
ータに応じてX,Y方向に移動するとともに、ペースト
収納筒13に正圧源26から正圧レギュレータ26a及
びバルブユニット27を介して僅かな気圧が印加され、
ノズル13aのペースト吐出口からのペーストの吐出を
開始する(ステップ503)。これにより、基板28へ
のペーストパターンの塗布描画が開始する。そして、こ
れとともに、先に説明したように、マイクロコンピュー
タ17aは距離計14からノズル13aのペースト吐出
口と基板28の表面との間の間隔の実測デ−タを入力し
て基板28の表面のうねりを測定し(ステップ50
4)、この測定値に応じてサーボモータ12を駆動する
ことにより、基板28の表面からのノズル13aの先端
の高さが一定に維持される(ステップ505〜50
7)。この場合、ノズル13aの先端が既に塗布された
ペーストパターン横切るときには、ノズル13aの先端
の高さは変化させず(ステップ505)、これが横切ら
ないときには、基板28の表面のうねりに応じてノズル
13aの先端の高さを変化させる(ステップ506,5
07)。
When the above processing is completed, the servo motors 8a, 8b and 10 are driven based on the paste pattern data stored in the RAM of the microcomputer 17a. In the state facing the paste pattern data 28, the paste moves in the X and Y directions in accordance with the paste pattern data, and a slight pressure is applied to the paste container 13 from the positive pressure source 26 via the positive pressure regulator 26 a and the valve unit 27. ,
The discharge of the paste from the paste discharge port of the nozzle 13a is started (Step 503). Thereby, the application drawing of the paste pattern on the substrate 28 starts. At the same time, as described above, the microcomputer 17a inputs the measured data of the distance between the paste discharge port of the nozzle 13a and the surface of the substrate 28 from the distance meter 14, and Measure the swell (step 50)
4) By driving the servo motor 12 according to the measured value, the height of the tip of the nozzle 13a from the surface of the substrate 28 is kept constant (steps 505 to 50).
7). In this case, when the tip of the nozzle 13a crosses the already applied paste pattern, the height of the tip of the nozzle 13a is not changed (Step 505). Change the height of the tip (Steps 506, 5
07).

【0051】このようにして、ペーストパターンの塗布
描画が進むが、この間、常時ノズル13aの先端が基板
28の表面上で上記ペーストパターンデータによって決
まる描画パタ−ンの終端であるか否かの判断する(ステ
ップ508)。終端でなければ、再び基板28の表面う
ねりの測定処理(ステップ504)に戻り、以下、上記
の各工程を繰り返してペーストパターンの終端に達する
まで継続する。また描画パタ−ン終端に達すると(ステ
ップ508)、ノズル13aのペースト吐出口からのペ
ーストの吐出を停止させるとともに、サーボモータ12
を駆動してノズル13aを上昇させ(ステップ50
9)、ほかに描画すべきペーストパターンがあるか否か
判定する(ステップ510)。ほかに描画すべきペース
トパターンがある場合には、新たに描画すべきペースト
パターンに対してステップ501からの動作を行ない、
ほかに描画すべきペーストパターンがない場合には(ス
テップ510)、ノズル13aを上昇させて(ステップ
511)この基板28に対するペーストパターン描画工
程(ステップ500)が終了する。
In this manner, the application and drawing of the paste pattern proceeds. During this time, it is determined whether or not the tip of the nozzle 13a is always the end of the drawing pattern determined by the paste pattern data on the surface of the substrate 28. (Step 508). If it is not the end, the process returns to the process of measuring the surface undulation of the substrate 28 (step 504), and the above steps are repeated until the end of the paste pattern is reached. When the end of the drawing pattern is reached (step 508), the discharge of the paste from the paste discharge port of the nozzle 13a is stopped, and the servo motor 12
To raise the nozzle 13a (step 50).
9) It is determined whether there is another paste pattern to be drawn (step 510). If there is another paste pattern to be drawn, the operation from step 501 is performed on the paste pattern to be newly drawn,
If there is no other paste pattern to be drawn (step 510), the nozzle 13a is raised (step 511), and the paste pattern drawing step (step 500) for the substrate 28 is completed.

【0052】以上のようにして図5のステップ500の
工程が終了すると、次に、基板排出処置(ステップ60
0)に進み、図1において、基板28の基板吸着盤4へ
の吸着を解除し、基板搬送コンベア2a,2bを上昇さ
せて基板28をこれらに載置させ、しかる後、これら基
板搬送コンベア2a,2bを移動させることにより、装
置外に排出する。
When the process of step 500 in FIG. 5 is completed as described above, next, a substrate discharging process (step 60)
1), the suction of the substrate 28 to the substrate suction board 4 is released, and the substrate transport conveyors 2a and 2b are lifted to place the substrate 28 thereon, and then the substrate transport conveyor 2a in FIG. , 2b are discharged out of the apparatus.

【0053】そして、以上の全工程が全ての基板に対し
て終了したかを判定し(ステップ700)、複数枚の基
板に同じパタ−ンでペ−ストを塗布する場合には、ほか
の基板に対してステップ300〜700の工程を繰り返
し、全ての基板についてかかる一連の処理が終了すると
(ステップ700)、作業が全て終了となる。
Then, it is determined whether or not all the above processes have been completed for all the substrates (step 700), and when the paste is applied to a plurality of substrates with the same pattern, the other substrates are used. Steps 300 to 700 are repeated, and when a series of such processes is completed for all the substrates (step 700), all the operations are completed.

【0054】なお、同じ種類の基板28に同じペースト
パターンを塗布描画する場合には、最初にペーストパタ
ーンの塗布描画を行なう基板28に対して、ペーストパ
ターンの塗布描画開始毎に、図7のステップ502aに
より、ノズル13aの初期下降距離nhを算出してノズ
ル13aの先端高さの初期位置設定を行なうが、2枚目
以降の基板28に対しては、基板28のうねりは、上記
のように、基板吸着盤4(図1)の平面度にほぼ依存
し、同じ種類の基板28には、ほぼ同じうねりが生ずる
から、ペーストパターンの塗布描画が行なわれた1つ前
の基板28に対して図7のステップ502hで得られた
初期下降距離nh’を用い、図7のステップ502bの
下降を行なう。勿論、使用する初期下降距離nh’は、
塗布描画するペーストパターンの描画開始位置に対応し
たものであり、これは図7のステッブ502gで格納し
たノズル先端のXY軸座標データからこれに対応する初
期下降距離nh’を用いるものである。また、2枚目以
降の基板28に対しても、図7のステップ502f〜5
02hの動作を行なうものであり、これにより、次にペ
ーストパターンの塗布描画する基板28に対して初期下
降距離nh’が得られるようにしている。
When the same paste pattern is applied and drawn on the same type of substrate 28, the step shown in FIG. According to 502a, the initial descent distance nh of the nozzle 13a is calculated and the initial position of the height of the tip of the nozzle 13a is set. For the second and subsequent substrates 28, the undulation of the substrate 28 is as described above. Since it substantially depends on the flatness of the substrate suction plate 4 (FIG. 1) and the same type of substrate 28 has almost the same undulation, the substrate 28 before the application and drawing of the paste pattern is applied. Using the initial descent distance nh ′ obtained in step 502h in FIG. 7, the descent in step 502b in FIG. 7 is performed. Of course, the initial descent distance nh ′ used is
This corresponds to the drawing start position of the paste pattern to be applied and drawn, and uses the initial descent distance nh ′ corresponding to this from the XY-axis coordinate data of the nozzle tip stored in step 502g in FIG. Steps 502f to 5f in FIG.
02h, so that an initial descent distance nh ′ can be obtained for the substrate 28 on which the paste pattern is to be applied and drawn next.

【0055】なお、基板吸着盤4にもうねりがある場合
には、その最大うねりUKを用い、ノズル13aの初期
下降距離nhは、 nh=H0−(NH+UH+UK+ε) ……(3) で表わされる。図5のステップ350,355において
は、基板表面のうねり測定を行なっているが、前もって
基板28のうねりの最大値UHや基板吸着盤4のうねり
の最大値UKが判っているときには、これらステップ3
50,355を行なうことなく、これらのデータを用い
て図6のステップ502を実行させてもよい。
When the substrate suction disk 4 has undulation, the maximum undulation UK is used, and the initial descending distance nh of the nozzle 13a is represented by nh = H 0- (NH + UH + UK + ε) (3) . In steps 350 and 355 in FIG. 5, the undulation of the substrate surface is measured. However, if the maximum value UH of the undulation of the substrate 28 and the maximum value UK of the undulation of the substrate suction plate 4 are known in advance, these steps 3
Step 502 of FIG. 6 may be performed using these data without performing steps 50 and 355.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ペーストパターンの描画開始位置でのノズル先端の高さ
位置設定を短時間でかつ正確に行なうことができ、効率
良くノズルの位置(高さ)制御を行なうことができて、
塗布描画タクトを短縮し、塗布描画工程の生産性の向上
を実現できる。
As described above, according to the present invention,
The height position of the nozzle tip at the drawing start position of the paste pattern can be set quickly and accurately, and the nozzle position (height) can be efficiently controlled.
The coating and drawing tact can be shortened, and the productivity of the coating and drawing process can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるノズル位置決め方法を用いるペ−
スト塗布機の全体構成を示す斜視図である。
FIG. 1 shows a paper using a nozzle positioning method according to the present invention.
It is a perspective view which shows the whole structure of a strike coating machine.

【図2】図1におけるペ−スト収納筒と距離計との配置
関係を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an arrangement relationship between a paste storage cylinder and a distance meter in FIG. 1;

【図3】ペーストパターン塗布描画時のノズル高さ制御
の状態を示した図である。
FIG. 3 is a diagram showing a state of nozzle height control at the time of applying and drawing a paste pattern.

【図4】図1に示したペースト塗布機の制御系統を示す
ブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a control system of the paste applicator shown in FIG.

【図5】図1に示したペースト塗布機の全体動作を示す
フロ−チャ−トである。
FIG. 5 is a flowchart showing the entire operation of the paste applicator shown in FIG. 1;

【図6】図1に示したペースト塗布機のペーストパター
ン描画を示すフロ−チャ−トである。
FIG. 6 is a flowchart showing a paste pattern drawing of the paste applicator shown in FIG. 1;

【図7】本発明によるペースト塗布機のノズル高さ位置
決め方法の一実施形態を示すフロ−チャ−トである。
FIG. 7 is a flowchart showing one embodiment of a method for positioning a nozzle height of a paste coating machine according to the present invention.

【図8】図7で扱うノズル高さデータとノズル位置デー
タ格納データの構成の一具体例を示す図である。
8 is a diagram showing a specific example of a configuration of nozzle height data and nozzle position data storage data handled in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 架台 2a,2b 基板搬送コンベア 3 支持台 4 基板吸着盤 5 θ軸移動テ−ブル 6a,6b X軸移動テ−ブル 7 Y軸移動テ−ブル 8a,8b サ−ボモ−タ 9 Z軸移動テ−ブル 10,12 サ−ボモ−タ 13 ペ−スト収納筒 13a ノズル 16a,16b 画像認識カメラ 17 制御部 22a,22b 光源 23 画像処理装置 28 基板 29 ペーストパターン 30 サ−ボモ−タ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Stand 2a, 2b Board transfer conveyor 3 Support stand 4 Substrate suction board 5 θ axis movement table 6a, 6b X axis movement table 7 Y axis movement table 8a, 8b Servo motor 9 Z axis movement Table 10, 12 Servo motor 13 Paste storage cylinder 13a Nozzle 16a, 16b Image recognition camera 17 Control unit 22a, 22b Light source 23 Image processing device 28 Substrate 29 Paste pattern 30 Servo motor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川隅 幸宏 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社開発研究所 内 (72)発明者 五十嵐 省三 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社竜ヶ崎工場 内 Fターム(参考) 4D075 AC08 AC88 AC93 CA48 DA06 DB13 DC21 DC24 4F041 AA05 BA22 BA56 4F042 AA06 BA01 BA08 BA25 BA27 DD20 DF16  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yukihiro Kawasumi 5-2-2 Koyodai, Ryugasaki-shi, Ibaraki Pref. Hitachi Techno Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Shozo Igarashi 5-5-2 Koyodai, Ryugasaki-shi, Ibaraki No. F-term (reference) in the Ryugasaki Plant of Hitachi Techno Engineering Co., Ltd. 4D075 AC08 AC88 AC93 CA48 DA06 DB13 DC21 DC24 4F041 AA05 BA22 BA56 4F042 AA06 BA01 BA08 BA25 BA27 DD20 DF16

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ノズルの吐出口に対向するようにして基
板をテ−ブル上に載置し、ペースト収納筒に充填したペ
ーストを該吐出口から該基板上に吐出させながら該基板
と該ノズルとの相対位置関係を変化させることにより、
該基板上に所望形状のペーストパタ−ンを描画するペー
スト塗布機において、 該基板上に塗布描画するペーストパターンの塗布開始位
置毎に、該基板のうねりの最大値と該基板に塗布描画さ
れるペーストパターンの厚みに基づいて、初期下降距離
を算出する第1の工程と、 該ノズルを該初期下降距離だけ該基板の表面に向かって
下降させる第2の工程とを有することを特徴とするペー
スト塗布機のノズル高さ位置決め方法。
A substrate is placed on a table so as to face a discharge port of a nozzle, and the substrate and the nozzle are discharged while discharging a paste filled in a paste storage tube from the discharge port onto the substrate. By changing the relative positional relationship with
In a paste coating machine for drawing a paste pattern of a desired shape on the substrate, the maximum value of the waviness of the substrate and the drawing on the substrate are applied at each coating start position of the paste pattern to be coated and drawn on the substrate. A paste comprising: a first step of calculating an initial descent distance based on a thickness of a paste pattern; and a second step of lowering the nozzle by the initial descent distance toward the surface of the substrate. How to position nozzle height of coating machine.
【請求項2】 請求項1において、 前記第2の工程後、距離計によって前記ノズルの先端と
前記基板の表面までの距離を測定しながら、前記ノズル
を、前記ノズルの先端が前記基板の表面から前記ペース
トパターンの厚みにほぼ等しい高さになるように、微小
距離ずつ下降させる第3の工程を有することを特徴とす
るペースト塗布機のノズル高さ位置決め方法。
2. The method according to claim 1, wherein, after the second step, the distance between the tip of the nozzle and the surface of the substrate is measured by a distance meter, and the tip of the nozzle is positioned on the surface of the substrate. 3. A method of positioning a nozzle height of a paste applicator, comprising: a third step of lowering the paste pattern by a small distance so that the height becomes substantially equal to the thickness of the paste pattern.
【請求項3】請求項2において、 前記第3の工程後、前記ノズルの先端の基板平面方向の
位置データと前記基板の表面に対する前記ノズルの先端
の高さデータとをメモリに格納する第4の工程と、 該高さデータと前記基板のうねりの最大値とから前記第
2,第3の工程による前記ノズルの実際の下降距離を算
出し、該位置データに関連して前記メモリに格納する第
4の工程とを備え、該実際の下降距離を同じ種類の基板
での前記第1の工程での前記初期下降距離として使用可
能としたことを特徴とするペースト塗布機のノズル高さ
位置決め方法。
3. The method according to claim 2, wherein after the third step, position data of the tip of the nozzle in the plane direction of the substrate and height data of the tip of the nozzle with respect to the surface of the substrate are stored in a memory. Calculating the actual descent distance of the nozzle in the second and third steps from the height data and the maximum value of the waviness of the substrate, and storing the distance in the memory in association with the position data. And a fourth step, wherein the actual descending distance can be used as the initial descending distance in the first step on the same type of substrate. .
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