JP2000310466A - 気化冷却装置 - Google Patents
気化冷却装置Info
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Abstract
ことがなく、精度良く冷却温度を所定値に維持すること
のできる気化冷却装置を得ること。 【解決手段】 エゼクタ3とタンク4と循環ポンプ5で
吸引手段6を形成する。ジャケット部2と吸引手段6を
管路11で接続して、管路11に制御弁8を取り付け
る。制御弁8は、ジャケット部2に設けた圧力センサ1
2又は温度センサ13と接続する。制御弁8の弁開度を
制御して、ジャケット部2内の圧力又は温度を所定値に
維持することにより、ジャケット部2での冷却温度を時
間遅れなく変更し且つ精度良く維持することができる。
Description
段で吸引しながら、被冷却物を冷却流体の蒸発潜熱によ
り気化冷却するものに関し、具体的には、重合や縮合等
の各種反応を行う反応釜の冷却装置、食品や医療品等の
冷却装置等に関する。これらの被冷却物は、少しの温度
変化によって変質してしまう場合が多く、高精度の温度
制御が必要とされる。
開平10−2647号公報に示されたものがある。これ
は、エゼクタ3とタンク4と循環ポンプ5で構成した吸
引手段と、該吸引手段に連通した気化冷却室としてのジ
ャケット部2と、該ジャケット部2に冷却流体を注入す
る冷却流体供給通路9を設けて、ジャケット部2で冷却
流体の蒸発潜熱により被冷却物を気化冷却するものであ
り、タンク4内に熱交換手段7を取り付けて、タンク4
内の流体温度を熱交換手段7で熱交換して所定値に調節
することにより、エゼクタ3で生じる吸引力を調整して
冷却温度を時間遅れなく変更することができるものであ
る。
却温度を変更する場合に未だ尚、時間遅れを生じてしま
い、冷却温度を精度良く所定値に維持することができな
かったり、また、被冷却物が熱損傷してしまう問題があ
った。これは、タンク内の熱交換手段でタンク内の流体
温度を調節することによりエゼクタで生じる吸引力を調
整するために、タンク内の流体がエゼクタに達して所定
の吸引力を生じるまでに時間を要し遅れを生じてしまう
のである。
る場合に時間遅れを生じることがなく、精度良く冷却温
度を所定値に維持することのできる気化冷却装置を得る
ことである。
めの手段は、流体を吸引する吸引手段と、該吸引手段に
連通した気化冷却室と、該気化冷却室に冷却流体を注入
する冷却流体供給通路を設けて、気化冷却室で冷却流体
の蒸発潜熱により被冷却物を気化冷却するものにおい
て、気化冷却室と吸引手段の間に圧力又は温度を制御す
る制御弁を配置したものである。
又は温度を制御する制御弁を配置したことにより、制御
弁を操作することによって気化冷却室の圧力又は温度を
時間遅れなく瞬時に、且つ、制御弁の制御精度に応じた
精度でもって変更し維持することができる。通常、飽和
蒸気は圧力と温度の関係が一義的に定まっているため
に、圧力を制御することにより、温度も同時に制御する
ことができる。
量をコントロールすることにより、気化冷却室側の圧力
や温度を制御することができるものであれば良く、各種
自動調節弁や圧力調整弁や温度調整弁等を用いることが
できる。
に維持しながら、制御弁の弁開度を大きくなるように操
作すれば、吸引手段で吸引される流体量が増えて気化冷
却室の圧力は低下して減圧度が高まり、冷却温度をより
低くすることができる。一方、制御弁の弁開度を小さく
なるように操作すれば、吸引手段の吸引量が減少して気
化冷却室の圧力は上昇して減圧度が低くなり冷却温度を
より高くすることができる。
おいては、気化冷却室として反応釜1のジャケット部2
を用いた例を示す。気化冷却室としてのジャケット部2
を備えた反応釜1と、吸引手段6と、ジャケット部2に
冷却流体を供給する冷却流体供給通路7と、ジャケット
部2と吸引手段6の間に配置した制御弁8で気化冷却装
置を構成する。
部2を形成し、内部に図示しない被冷却物を収容すると
共に、被冷却物の温度を検出する温度センサー10を備
える。ジャケット部2にジャット部2内の圧力を検出す
る圧力センサ12と、同様に温度を検出する温度センサ
13を取り付けると共に、ジャケット部2の下部には、
管路11に制御弁8を取り付けて後述する吸引手段6の
エゼクタ3と接続する。
駆動されて弁開度を大きくしたりあるいは小さく制御す
ることのできる自動調節弁を用いる。自動調節弁8は、
ジャケット部2に取り付けた圧力センサ12と温度セン
サ13に、図示しないコントローラを介して電気的に接
続する。ジャケット部2内の圧力又は温度を、圧力セン
サ12又は温度センサ13で検出して、この圧力又は温
度の検出値に応じて制御弁8の弁開度を制御するもので
ある。
環ポンプ5とで形成し、循環ポンプ5の吸込み側をタン
ク4に接続し、吐出側をエゼクタ3のノズル部14に接
続し、エゼクタ3のディフューザ15をタンク4の上部
空間に接続したものである。タンク4には、冷却流体を
補給する冷却流体補給管18とオーバーフロー管19を
取り付ける。
てエゼクタ3へ供給されタンク4に戻ることにより、吸
引手段6内を循環する。循環流体の一部は分岐管26か
らコントロールバルブ28と冷却流体供給通路7を通っ
てジャケット部2へ供給されることにより、反応釜1内
の被冷却物を冷却するものである。
の間に、エゼクタ式のインラインヒータ9と温度センサ
25を配置する。インラインヒータ9にはコントロール
バルブ16と逆止弁17を介して熱交換流体供給管20
を接続する。熱交換流体供給管20から、吸引手段6を
循環する循環流体を加熱する場合は、例えば、加熱用の
蒸気を供給して、インラインヒータ9でこの蒸気と循環
流体を混合することによって、循環流体の温度を任意に
上昇させることができ、反対に循環流体の温度を低下さ
せる場合は、熱交換流体供給管20から、例えば冷却水
をインラインヒータ9に供給することにより、循環流体
の温度を任意に下げることができるものである。
路7の間に、エゼクタ式のインラインヒータ21と温度
センサ27を同様に配置する。このインラインヒータ2
1にもコントロールバルブ22と逆止弁23を介して熱
交換流体供給管24を接続する。このインラインヒータ
21は、ジャケット部2に冷却流体を供給する冷却流体
供給通路7の流体温度を、加熱用の蒸気又は冷却用の冷
却水をコントロールバルブ22の弁開度をコントロール
して供給することにより任意に温度制御できるものであ
る。
却流体による気化冷却のみならず、加熱用の蒸気を供給
して蒸気加熱を行うこともできるものである。即ち、ジ
ャケット部2に、加熱用蒸気供給管30を、減圧弁31
とコントロールバルブ32と気液分離器45と圧力セン
サ33をそれぞれ介して接続する。ジャケット部2の下
端部に加熱用蒸気が凝縮したドレンを排出するドレン排
出管34を接続する。ドレン排出管34は、開閉弁35
とスチームトラップ36を並行に配置して、加熱用の吸
引手段37と接続する。加熱用の吸引手段37は、エゼ
クタ38とタンク39と循環ポンプ40から構成して、
別途の吸引手段6と同様にエゼクタ38でジャケット部
2内のドレン及び凝縮しきれなかった一部の蒸気を吸引
するものである。
管路41により加熱用蒸気供給管30と接続する。管路
41には、ストレーナ42と開度調整弁43を取り付け
る。管路41から加熱用蒸気供給管30に、吸引手段3
7を循環する循環流体の一部を供給することによって、
加熱用蒸気供給管30内の蒸気の温度を適宜低下させる
ことができるものである。特に、加熱用蒸気が過熱蒸気
となった場合に、循環流体を供給することにより、飽和
温度蒸気とするのに適したものである。
ルバルブや制御弁やその他の弁、あるいは、ポンプ等は
コントローラや制御部と接続して集中制御できるように
する。
る場合は、分岐管26と冷却流体供給通路7から所定温
度の冷却流体をジャケット部2へ供給することにより、
冷却流体が反応釜1内の被冷却物の熱を奪って気化する
ことにより、その蒸発潜熱によって被冷却物を気化冷却
する。
度が61乃至62℃程度であり、この被冷却物の温度を
60℃に冷却する場合は、制御弁8の弁開度を調節して
ジャケット部2内の温度を58乃至59℃程度に制御す
るか、あるいは、ジャケット部2内の圧力を140乃至
150トール程度に制御することにより、被冷却物の温
度のバラツキ、オーバーシュートを防止して精度良く所
定値に維持することができる。この場合、吸引手段6の
吸引力は140乃至150トール以下の値に設定してお
く。
化した気化蒸気と、気化せずに残った冷却流体は、ジャ
ケット部2下部の管路11と制御弁8を通ってエゼクタ
3に吸引され、タンク4へ至る。
は、インラインヒータ9又は21で任意に調節すること
により、適宜制御することができる。また、エゼクタ3
の吸引力も通過する流体の温度低くすることにより高め
ることが、流体の温度を高くすることにより吸引力を低
くすることができる。
置したことにより、冷却温度を変更する場合に時間遅れ
を生じることがなく、精度良く冷却温度を所定値に維持
することのできる気化冷却装置を得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 流体を吸引する吸引手段と、該吸引手段
に連通した気化冷却室と、該気化冷却室に冷却流体を注
入する冷却流体供給通路を設けて、気化冷却室で冷却流
体の蒸発潜熱により被冷却物を気化冷却するものにおい
て、気化冷却室と吸引手段の間に圧力又は温度を制御す
る制御弁を配置したことを特徴とする気化冷却装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11990199A JP4249325B2 (ja) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | 気化冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11990199A JP4249325B2 (ja) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | 気化冷却装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2000310466A true JP2000310466A (ja) | 2000-11-07 |
JP4249325B2 JP4249325B2 (ja) | 2009-04-02 |
Family
ID=14773031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11990199A Expired - Fee Related JP4249325B2 (ja) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | 気化冷却装置 |
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Country | Link |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006112712A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Tlv Co Ltd | 減圧気化冷却装置 |
JP2009165936A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Tlv Co Ltd | 加熱冷却装置 |
JP2011226661A (ja) * | 2010-04-15 | 2011-11-10 | Tlv Co Ltd | 熱交換器 |
Citations (3)
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JPH04260439A (ja) * | 1991-02-15 | 1992-09-16 | Tlv Co Ltd | 加熱冷却装置 |
JPH04369302A (ja) * | 1991-06-14 | 1992-12-22 | Tlv Co Ltd | 真空蒸気発生装置 |
JPH102647A (ja) * | 1996-06-14 | 1998-01-06 | Tlv Co Ltd | 加熱冷却装置 |
-
1999
- 1999-04-27 JP JP11990199A patent/JP4249325B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2011226661A (ja) * | 2010-04-15 | 2011-11-10 | Tlv Co Ltd | 熱交換器 |
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---|---|
JP4249325B2 (ja) | 2009-04-02 |
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