JP2000303200A5 - 感光層担体の電気化学式バフ磨き方法 - Google Patents

感光層担体の電気化学式バフ磨き方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2000303200A5
JP2000303200A5 JP2000057452A JP2000057452A JP2000303200A5 JP 2000303200 A5 JP2000303200 A5 JP 2000303200A5 JP 2000057452 A JP2000057452 A JP 2000057452A JP 2000057452 A JP2000057452 A JP 2000057452A JP 2000303200 A5 JP2000303200 A5 JP 2000303200A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive layer
layer carrier
carrier
buffing method
electrochemical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000057452A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000303200A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19908884A external-priority patent/DE19908884C1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2000303200A publication Critical patent/JP2000303200A/ja
Publication of JP2000303200A5 publication Critical patent/JP2000303200A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Description

【特許請求の範囲】
【請求項1】
感光層担体の表面が、電気化学式あるいは機械式にバフ磨きされ、続いて水様性電解液浴の中で、感光層担体に交流あるいは三相電流を印加することによって、電気化学式にバフ磨きされ、感光層担体が連続して電解液浴の中を貫通して導かれるような感光層担体の電気化学式バフ磨き方法において、担体のバフ磨き領域への入口個所において、最初の交流あるいは三相電極と担体との間における電解液浴内の電流密度が、バフ磨きに対する最大電流密度より小さくされ、その電流密度が、入口個所からの距離が増大するにつれて最初の交流あるいは三相電極の範囲の内部において、連続的に最大電流密度まで上昇されることを特徴とする感光層担体の電気化学式バフ磨き方法。
【請求項2】
交流あるいは三相電流の一サイクルの経過における電解液浴内の電流密度の上昇が、最大電流密度の20%より小さいことを特徴とする請求項1記載の電気化学式バフ磨き方法。
【請求項3】
最初の交流あるいは三相電極と担体との間隔が、バフ磨き領域への入口個所から、担体の搬送方向において、所定の一定間隔に到達するまで連続的に減少している、ことを特徴とする請求項1記載の電気化学式バフ磨き方法。
【請求項4】
最初の交流あるいは三相電極が、種々の材料から成る部分電極に分けられ、その個々の部分電極の導電率が互いに異なっていることを特徴とする請求項1記載の電気化学式バフ磨き方法。
【請求項5】
最初の交流あるいは三相電極が、部分電極に分けられ、その個々の部分電極が、固定あるいは可変オーム抵抗に接続され、それらの抵抗の大きさが、電解液浴内の電流密度が担体の搬送方法に増大するように選定されていることを特徴とする請求項1記載の電気化学式バフ磨き方法。
JP2000057452A 1999-03-02 2000-03-02 感光層担体の電気化学式バフ磨き方法および装置 Pending JP2000303200A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19908884.5 1999-03-02
DE19908884A DE19908884C1 (de) 1999-03-02 1999-03-02 Verfahren und Vorrichtung zum elektrochemischen Aufrauhen eines Trägers für lichtempfindliche Schichten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000303200A JP2000303200A (ja) 2000-10-31
JP2000303200A5 true JP2000303200A5 (ja) 2007-02-15

Family

ID=7899304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000057452A Pending JP2000303200A (ja) 1999-03-02 2000-03-02 感光層担体の電気化学式バフ磨き方法および装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6423206B1 (ja)
EP (1) EP1033420B1 (ja)
JP (1) JP2000303200A (ja)
DE (1) DE19908884C1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100412042B1 (ko) * 2001-06-05 2003-12-24 김찬배 인쇄 ps판 제조용 알루미늄판의 연마장치
JP4038041B2 (ja) * 2001-12-05 2008-01-23 富士フイルム株式会社 電解処理装置
US8070933B2 (en) * 2005-05-06 2011-12-06 Thielenhaus Microfinishing Corp. Electrolytic microfinishing of metallic workpieces
US7981259B2 (en) * 2006-06-14 2011-07-19 Applied Materials, Inc. Electrolytic capacitor for electric field modulation
DE602006009919D1 (de) * 2006-08-03 2009-12-03 Agfa Graphics Nv Flachdruckplattenträger
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1962729A1 (de) * 1969-12-15 1971-06-16 Kalle Ag Verfahren zum Koernen von Oberflaechen fuer Flachdruckplatten
US3851421A (en) 1969-12-15 1974-12-03 Hoechst Ag Apparatus for graining surfaces of planographic printing plates
NL7017765A (ja) 1969-12-15 1971-06-17
JPS5629699A (en) * 1979-08-15 1981-03-25 Fuji Photo Film Co Ltd Surface roughening method by electrolysis
DE3142488A1 (de) * 1981-10-27 1983-05-05 Klein, Klaus, Ing.(grad.), 3360 Osterode Methode zur elektrolytischen aufrauhung von aluminiumplatten oder baendern mittels wechselstrom und konstantem kathodischem potential
JPH0812838B2 (ja) * 1987-04-27 1996-02-07 松下電器産業株式会社 アルミ電解コンデンサの電極製造法
JPH07119152B2 (ja) 1987-12-18 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化処理方法
JPH0798430B2 (ja) * 1988-03-31 1995-10-25 富士写真フイルム株式会社 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
US5271818A (en) 1989-03-30 1993-12-21 Hoechst Aktiengesellschaft Apparatus for roughening a substrate for photosensitive layers
DE3910213A1 (de) * 1989-03-30 1990-10-11 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zum aufrauhen eines traegers fuer lichtempfindliche schichten
US5358610A (en) * 1992-07-20 1994-10-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for electrolytic treatment
US6080288A (en) * 1998-05-29 2000-06-27 Schwartz; Vladimir System for forming nickel stampers utilized in optical disc production

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU720246B2 (en) Electronic method for controlling charged particles to obtain optimum electrokinetic behavior
EP0806834A3 (en) Method and apparatus for balancing an electrostatic force produced by an electrostatic chuck
EP0970719A3 (en) Electrode structure
MY132965A (en) Method of and arrangement for eletrochemical machining
EP0920116A3 (en) Inverter apparatus for supplying drive power to an electric motor, and filter apparatus for use in the inverter apparatus
JP2004509374A5 (ja)
WO1997003781A3 (en) Method of electrochemical machining by bipolar pulses
JP2000303200A5 (ja) 感光層担体の電気化学式バフ磨き方法
EP0866149A3 (en) Zinciferous coated steel sheet and method for producing the same
JP3507678B2 (ja) 研磨スラリー、基板の研磨装置及び基板の研磨方法
JPH0896855A (ja) 2次電池の構成方法
EP1059369A1 (en) Method and apparatus for degreasing steel strip
PT84525A (fr) Connecteur de derivation monobloc notamment pour lignes electriques sous tension
JP2002538575A5 (ja)
FI118285B (fi) Varaamismenetelmä sulfatoituneiden lyijyakkujen ennalleenpalauttamiseksi
JP2000303200A (ja) 感光層担体の電気化学式バフ磨き方法および装置
CA2333509C (en) System and method for using multiple lead connections in an electropolishing process
US6261438B1 (en) Method and apparatus for roughening a support for radiation-sensitive coatings
JPS5757896A (en) Electrolyzing device for strip-like metallic plate
US5271818A (en) Apparatus for roughening a substrate for photosensitive layers
WO2000054834A1 (en) Sweat control system
JPS6434611A (en) Continuous polishing method for metal strip
JP2024532587A (ja) 電気化学処理装置
CN2091324U (zh) 电脱模器
JPH0119564Y2 (ja)