JP2000303200A - 感光層担体の電気化学式バフ磨き方法および装置 - Google Patents

感光層担体の電気化学式バフ磨き方法および装置

Info

Publication number
JP2000303200A
JP2000303200A JP2000057452A JP2000057452A JP2000303200A JP 2000303200 A JP2000303200 A JP 2000303200A JP 2000057452 A JP2000057452 A JP 2000057452A JP 2000057452 A JP2000057452 A JP 2000057452A JP 2000303200 A JP2000303200 A JP 2000303200A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carrier
electrode
phase
buffing
phase electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000057452A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000303200A5 (ja
Inventor
Georg Haby
ゲオルク、ハビー
Raimund Haas
ライムント、ハース
Uwe Gartmann
ウベ、ガルトマン
Guenter Hultzsch
ギュンター、フルツシュ
Klaus Joerg
クラウス、イエルク
Joerg Kaden
イエルク、カーデン
Hermann Idstein
ヘルマン、イドシュタイン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert AG
Original Assignee
Agfa Gevaert AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert AG filed Critical Agfa Gevaert AG
Publication of JP2000303200A publication Critical patent/JP2000303200A/ja
Publication of JP2000303200A5 publication Critical patent/JP2000303200A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/034Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/02Etching
    • C25F3/04Etching of light metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電解液浴(1)の中を貫通して搬送され、こ
の中で電気化学式にバフ磨きされる感光層担体2に、横
衝撃ないし電流衝撃が生ずることを防止ないし最小にす
る。 【解決手段】 最初の交流あるいは三相電極(10)と
担体(2)との間の電解液内における電流密度が、バフ
磨き領域のはじめにおける電流密度が、バフ磨き領域の
内部におけるより低い値を有するように調整される。最
初の交流あるいは三相電極の後ろで、もう1つの交流あ
るいは三相電極が担体(2)に作用する。最初の交流あ
るいは三相電極(10)は、湾曲した部分(C)とそれ
に続く直線部分(D)とから成る丸みがついた輪郭をし
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光層担体の表面
が、電気化学式あるいは機械式にバフ磨きされ、続いて
水溶性電解液浴の中で、感光層担体に交流あるいは三相
電流を印加することによって、電気化学式にバフ磨きさ
れ、感光層担体が連続して電解液浴の中を貫通して導か
れるような感光層担体の電気化学式バフ磨き方法及び装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】このような担体は、予め感応性を与えら
れたプリント板を製造するために利用される。その担体
は、板あるいはテープの形に加工されている。この担体
の材料は金属、特にアルミニウムである。例えばプリン
ト板を製造するためのアルミニウムテープのバフ磨き
は、機械式、化学式、あるいは電気化学式に行われ、あ
るいはこれらを組み合わせて行われる。その場合、水路
および感光層の付着のために利用されるアルミニウム表
面は、所定の組織および均一性を有するように努められ
ている。機械式バフ磨きされた場合、表面組織は角錐状
形をし、縦方向および横方向に種々の方向(異方性)を
有する。また、電気化学式にバフ磨きされたアルミニウ
ム表面の場合、表面組織はスポンジ状組織をし、縦方向
および横方向に同じ幾何学形状をした多数のカップ状凹
所および窪みを有している。
【0003】プリント板担体を、電解液浴内で交流電流
により連続法でバフ磨きした際、特に周波数が低く、そ
の搬送速度が大きい場合、横縞が生ずる。この横縞は横
衝撃とも呼ばれる。
【0004】この横衝撃は、プリント板担体が最初(第
1)の交流電極の作用範囲に入り込む際あるいはその直
前に生ずる。バフ磨きされていないプリント板担体の表
面は、電気的に非線形挙動を示す。この非線形挙動の理
由は、有機材料並びに無機材料から成る層にある。特
に、アルミニウムから成るプリント板担体の場合、表面
の酸化アルミニウム層は、完全にバフ磨きするまで非線
形に振る舞う層となっている。
【0005】表面の層が除去されたときにはじめて、電
流密度が電圧にしか関係せず、追加的に表面の性質に左
右されないような挙動が生ずる。
【0006】表面の一部を通して、まず、正の電流ある
いは負の電流が流れるか否かに関係して、プリント板担
体の表面の抵抗が低下する。表面の一部が小さな抵抗を
有するとき、電流は、特に、この表面部分を通って流
れ、大きな抵抗を有する表面部分を通って流れない。そ
して、大きな電流は抵抗を一層低下させる。この抵抗の
低下は、僅かな電流が流れる表面個所における抵抗の低
下より大きい。これによって、表面の抵抗における差異
が一層強められる。
【0007】断面積にわたる電流密度の種々の分布によ
って、および担体の表面抵抗に関係する電流密度の変化
によって、担体上に、縞の形に見える電気横衝撃が生ず
る。その縞は、入口電極の形状で与えられる電流分布に
相当する。電極に印加される交流あるいは三相電流のサ
イクルにおいて、即ち、はじめ、正の半波あるいは負の
半波が印加されるか否かに応じて横衝撃が生ずる。
【0008】縞の形で存在する横衝撃は、一般に横縞あ
るいは電流縞とも呼ばれる。これは見た目を悪くし、特
に際立っている場合には、製品の品質も低下する。この
横縞あるいは電流縞の形成は、電気化学式バフ磨きのは
じめに、電解液浴内の電流密度が上昇した際に増加す
る。プリント板担体および電解液の電気的挙動は、既に
延べたように、バフ磨きの始めに非線形をしており、バ
フ磨きの進行と共に変化する。見た目の均一性の低下お
よびプリント品質の低下は、特に横衝撃の形状が際立っ
ている場合、高分解ラスタを形成する際には非常に不利
である。
【0009】この横衝撃を防止するために、種々の方法
が知られている。プリント板担体の表面は、ドイツ特許
第3842454号明細書に記載されているように、補
助層で被覆される。この補助層によって、斑点を生じさ
せる材料における不均一性が補償される。これによっ
て、横縞の形成も弱められるが、横縞の原因、即ち担体
が交流電極の作用範囲に入り込む際の電流密度の急激な
上昇は除去されない。また一様に被覆した場合でも、は
じめ、交流電流の正の半波あるいは負の半波が流れるか
否かに応じて横縞が形成される。酸化層を設けるために
たいてい補助電解液が必要であるので、その技術装置は
高い経費がかかる。また、その経費を減少するために、
同一の電解液を利用することもできるが、バフ磨きに適
した電解液は、たいてい酸化に対してあるいは他の層の
設置に対して全く適用できないか条件つきでしか適用で
きない。
【0010】ドイツ特許第3910450号明細書に、
プリント板担体の製造方法が記載されている。その方法
の場合、プリント板担体の表面は、周波数が80〜12
0Hzで陽極時間と周期時間との比が0.25〜0.2
0の交流電流を利用して電気化学式にバフ磨きされる。
そのような方法は、大きな変換電流容量のために高価な
回路技術費を必要とし、個々の電極に電流を分配する際
に問題が生ずる。
【0011】ドイツ特許出願公開第3910213号明
細書に記載されているような大きな可変周波数の交流電
流によるバフ磨きは、横縞の強さを減少するが、高価な
電気装置を必要とし、また、プリント板担体の表面を最
良に形成するために利用される交流電流の周波数範囲は
狭い。
【0012】ヨーロッパ特許出願公開第0585586
号明細書で提案されているような、プリント板担体を所
定の搬送速度で搬送しながらバフ磨きする方式は、プリ
ント板担体の各部分に、交流電流を同じ大きさの正の半
波および負の半波で、一定して給電するが、交流バフ磨
きの領域に担体が入り込む際に、そこにかかっている半
波により横縞が形成されることは、考慮していない。
【0013】公知の方法および装置は、プリント板担体
が交流バフ磨き領域を完全に通過する間における横縞の
形成を考慮ないし減少しているが、交流あるいは三相電
極の作用範囲にプリント板担体が入り込む際に、早く
も、電流密度即ちプリント板担体の単位面積当たりの電
流が異なった大きさをしているために、横縞が生ずるこ
とを阻止しない。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、冒頭
に述べた形式の方法およびこの方法を実施するための装
置を横衝撃の形成が防止ないし最小にされるように改良
することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】この課題は、特許請求の
範囲請求項1の上位概念部分に記載の方法において、担
体のバフ磨き領域への入口個所において、最初の交流あ
るいは三相電極と担体との間における電解液浴内の電流
密度が、バフ磨きに対する最大電流密度より小さくさ
れ、その電流密度が、入口個所からの距離が増大するに
つれて、最初の交流あるいは三相電極の範囲の内部にお
いて、連続的に最大電流密度まで上昇されている、こと
によって解決される。
【0016】本発明の有利な実施態様において、交流あ
るいは三相電流の一サイクルの経過における電解液浴内
の電流密度の上昇は、最大電流密度の20%より小さ
い。
【0017】本発明の他の有利な実施態様は、従属請求
項3〜8に記載されている。
【0018】本発明に基づく方法を実施するための電気
化学式バフ磨き装置は、電解液浴内に配置された交流あ
るいは三相電極が、電解液浴内を貫通して搬送される担
体のバフ磨き領域への入口個所における担体と電極との
間隔が、バフ磨き領域の内部におけるそれより大きくな
るように丸みをつけられ、前記入口個所から所定距離だ
け離れた点から、電極と担体との距離が一定している、
ことを特徴としている。
【0019】本発明に基づく電気化学式バフ磨き装置の
有利な実施態様において、交流あるいは三相電極の丸み
のある輪郭は、放物線状部分を有し、この放物線状部分
に直線部分が続いている。
【0020】本発明に基づく電気化学式バフ磨き装置の
他の実施態様において、最初の交流あるいは三相電極が
部分電極に分けられ、これらの個々の部分電極が、異な
った導電率の材料から成っている。各部分電極間および
もう1つの交流あるいは三相電極との間に、絶縁板が配
置されていることが有利である。
【0021】本発明に基づく電気化学式バフ磨き装置の
他の実施態様は従属請求項13〜17に記載されてい
る。
【0022】本発明によれば、交流あるいは三相電極の
形状づけ、材料の選定、および又はオーム抵抗および又
は誘導抵抗および容量抵抗から成る異なった総抵抗によ
って、交流あるいは三相電流の一サイクルの経過におけ
る電流密度の上昇が、最大電流密度の20%以下にさ
れ、これによって、横衝撃が全く生じないか、横衝撃の
形成が極めて僅かでしかないという利点が得られる。
【0023】
【発明の実施の形態】以下図に示した実施の態様を参照
して本発明を詳細に説明する。
【0024】図7には、従来公知の装置が概略的に示さ
れている。この公知の装置は電解液浴1から成り、その
中をテープ状担体2が搬送方向Aに貫通して導かれる。
電解液浴1内の電解液は、例えば希薄水様性の硝酸、硫
酸あるいは塩化水素酸である。また2つあるいは3つの
酸を組み合わせて利用することもできる。勿論、電解液
浴1に対して、当該技術者において周知の別の酸浴も適
用される。電解液浴1は酸のほかに、例えば塩あるいは
テンサイド(Tenside)のような別の化学薬品を含むこと
ができる。一般に、担体2は、電気化学式にバフ磨きを
する前に、圧延油、不純物並びに空気に形成された「天
然」酸化物を除去するために、予め酸洗い処理あるいは
アルカリ洗い処理される。そのために利用される装置
は、ここでは図示されていない。担体2は、これが電解
液浴1の中に入り込む前に、適当な形状で機械式あるい
は化学式にバフ磨きされる。担体2の表面を機械式にバ
フ磨きする装置も、ここでは図示されていない。そのよ
うな設備ないし装置は、特にドイツ特許出願公開第19
62729号明細書およびドイツ特許出願公開第196
2728号明細書に記載されている。電解液浴1内自体
では、担体2の表面の電気化学式バフ磨きしか行われな
い。電解液浴1内において、担体2に対して間隔を隔て
て、電極3、4、5が配置されている。これらの電極
3、4、5は三相変圧器6の二次側の巻線(詳細に図示
せず)に接続されている。三相変圧器6の一次側におけ
る対応した3つの巻線は、配線L1、L2、L3を介し
て、可変比変圧器(図示せず)に接続されている。この
可変比変圧器は共通の三相電流用電力変圧器から給電さ
れる。なお、可変比変圧器を省いて、配線L1、L2、
L3を、電力変圧器に直接接続することもできる。担体
2の搬送速度が高い場合、特別な処置が講じられない
と、電流衝撃ないし電気横衝撃が生ずる。この衝撃は、
最初(第1)の三相電極3と担体2との間の電解液内に
おける大きな電流密度上昇に応じて引き起こされる。図
8における従来公知の装置の場合も同様に、電解液浴1
内に2つの交流電極7、8が存在している。これらの交
流電極7、8は交流変圧器9の二次側巻線U2に接続さ
れている。ここでも同様に、担体2の搬送速度が高い場
合に、特別な処置が講じられないと、最初の交流電極7
と担体2との間の電解液内における大きな電流密度上昇
によって、電流衝撃ないし電気横衝撃が生ずる。
【0025】この横衝撃を防止するために、図1から図
5に示されている本発明に基づく装置において、それぞ
れ最初の交流あるいは三相電極は、次のように形成され
ている。即ち、最初の交流あるいは三相電極は、形状づ
け、あるいは異なった導電率の材料の選択、および又は
異なった電気特性をした部分電極によって交流あるいは
三相電流のサイクルの経過における電流密度の上昇が、
最大電流密度の20%より小さいように形成されてい
る。なお、部分電極の異なった電気特性は、その部分電
極に接続されているオーム抵抗、誘導抵抗および容量抵
抗により生ずる。
【0026】交流あるいは三相電流の僅かな変化は、担
体の表面における僅かに異なった導電率のために全く認
識されない。もともと印加された交流あるいは三相電流
によって、全くあるいは小さな抵抗減少しか生じない担
体表面部分は、その抵抗減少が幾分大きな担体表面部分
と同じ電流密度で給電される。交流あるいは三相電流の
微々たる変化のために、種々の担体表面部分における導
電率の絶対値に微々たる差異しか生じない。詳しくは、
導電率が互いに異なっているが、僅かな電流変化のため
に、その差異ははっきり認められない。換言すれば、こ
れは、担体の種々の表面部分における導電率の増大ある
いはまた減少が、横衝撃を形成するには足りず、また横
衝撃の形成は、それが認識できないほどに小さいことを
意味する。
【0027】図1に示されている本発明に基づく装置の
実施例において、電解液浴1内における最初の交流ある
いは三相電極10だけが拡大して示されている。この最
初の交流あるいは三相電極10は、図7および図8に概
略的に示されているような担体2をバフ磨きするための
従来公知の装置における最初の三相あるいは交流電極3
ないし7と異なって、丸みをつけてないしは湾曲して形
成されている。図5および図8に示されている三相ある
いは交流電極は、一般に、細長い長方形断面をしてい
る。これは、既に延べたように、担体2がバフ磨き領域
に入り込む際に、それらの電極と担体2との間の電流密
度を非常に大きく増大し、これは、望ましくない横衝撃
を生じさせる。以後の説明において、交流あるいは三相
電極については、これらの電極が、図7および図8を参
照して延べたように、三相電流ないし交流電流が供給さ
れることを、理解されたい。
【0028】電解液浴1内に漬かっている交流あるいは
三相電極10は、次のように丸みをつけられている。即
ち、電解液浴1内を貫通して搬送される担体2と交流あ
るいは三相電極10との担体2の入口個所Bにおける間
隔d1が、バフ磨き領域の内部におけるその間隔よりも
大きいように丸みをつけられている。交流あるいは三相
電極10と担体2との間隔は、間隔d2、d3で理解で
きるように、担体2の搬送方向Aに徐々に減少してい
る。交流あるいは三相電極10と担体2が間隔d1だけ
離れている入口個所Bにおいて、その両者間に存在する
電解液で与えられる抵抗は、電極10と担体2との間が
間隔d2およびd3だけ離れている個所よりも大きい。
それに応じて、電流密度は、電極10と担体2との間の
間隔が間隔d2、d3と小さくなればなるほど上昇す
る。間隔d3の個所において、電流密度はその最大値に
達する。その個所からは、間隔d3が一定したままであ
るので、電流密度も一定している。交流あるいは三相電
極10の丸みのある輪郭は、放物線状部分Cと、それに
続く直線状部分Dとから成っている。勿論、交流あるい
は三相電極10の丸みは、放物線状経過と異なった曲線
経過にすることもできる。
【0029】交流あるいは三相電極10と担体2との間
の電解液内における電気抵抗の減少は、電流密度を徐々
に上昇させる。バフ磨き領域の始めにおける交流あるい
は三相電流10と担体2との大きな間隔d1を通して小
さな間隔d2、d3の個所におけるより僅かな電流が流
れる。電流密度の上昇が僅かであることによって、電流
密度が急に上昇する場合に比べて、小さな表面抵抗の個
所と大きな表面抵抗の個所は、あまりはっきり際立たな
くなる。
【0030】図2には、本発明に基づく装置の第2の実
施例が概略的に示されている。最初の交流あるいは三相
電極は部分電極21、22、23に分けらている。これ
らの部分電極は、例えば電解液浴1内に生じた気泡を迅
速に排出するために、担体2側の面18、19、20
が、平らな断面形状、あるいは矩形あるいは台形で形成
されたのこ歯状断面形状をしている。担体2は搬送方向
Aに電解液浴1内を貫通して搬送される。部分電極2
1、22、23にもう1つの交流あるいは三相電極4が
続いている。部分電極21、22、23は、それぞれ互
いに導電率が異なっている材料から成り、また、交流あ
るいは三相電極4に対して異なった導電率を有してい
る。
【0031】図3に示されている本発明に基づく装置の
第3の実施例は、最初の交流あるいは三相電極を有して
いる。この最初の交流あるいは三相電極は、部分電極3
1、32、33に分けられ、互いに電気絶縁されてい
る。担体2は搬送方向Aに電解液浴1内を貫通して搬送
される。部分電極31、32、33にもう1つの交流あ
るいは三相電極4が続いている。部分電極31、32、
33および電極4に三相電流が供給される場合、電解液
浴1内に更にもう1つの三相電極(図示せず)が存在し
ている。各部分電極31、32、33は、固定あるいは
可変オーム抵抗12、13、14に接続されている。こ
れらの抵抗12、13、14は(図示のように)直列接
続されているか、あるいは並列接続されている。交流電
極であるか三相電極であるかに応じて、抵抗12、1
3、14は、端子11を介して交流電源あるいは三相電
源(図示せず)に接続されている。
【0032】各部分電極31、32、33間および電極
4との間に、絶縁板15、16、17が配置されてい
る。これらの絶縁板15、16、17は、各部分電極間
において電解液を介して大きな電流が流れることを阻止
する。個々の部分電極31、32、33の単位面積当た
りの電流密度は、交流あるいは三相電極4の単位面積当
たりの電流密度より小さい。部分電極31、32、3
3、電解液および固定ないし可変抵抗12、13、14
のそれぞれの抵抗率は、電極面18、19、20と担体
2との間の電解液内における電流密度を決定する。それ
らの抵抗を適当に選定することによって、電流密度は、
担体2の表面の一部を通って流れる電流が、その個所に
おける担体2の表面抵抗にほとんど無関係であるように
設定される。固定抵抗12、13、14の選定ないし可
変抵抗12、13、14の調整によって横衝撃が最小に
される。
【0033】図4には、本発明に基づく装置の第4の実
施例が概略的に示されている。最初の交流あるいは三相
電極の形成は、第2および第3の実施例のそれに類似し
ている。この最初の交流あるいは三相電極は、部分電極
24、25、26に分けられている。これらの部分電極
24、25、26は、電解液浴1内に互いに絶縁して配
置されている。担体2の搬送方向Aにもう1つの交流あ
るいは三相電極27が続いている。各部分電極24、2
5、26間および電極27との間にそれぞれ絶縁板2
8、29、30が存在している。各部分電極24、2
5、26は電気部品34、35、36に接続されてい
る。これらの電気部品34、35、36はそれぞれオー
ム抵抗および又は誘導抵抗および容量抵抗を含んでい
る。部分電極24のオーム抵抗および又は誘導抵抗およ
び容量抵抗から成る電気部品34は、残りの部分電極2
5、26の電気部品35、36に直列接続あるいは並列
接続され、これらの電気部品と共に端子37を介して交
流あるいは三相電源に接続されている。電解液浴1内に
おける電流束を決定づける部分電極24、25、26の
抵抗は、図4に概略的に示されている電気部品34、3
5、36における誘導リアクタンス、容量リアクタン
ス、およびオーム抵抗から構成されている。公知のよう
に、交流電流抵抗は、オーム抵抗およびリアクタンスの
二乗の合計の平方根である。無効電流で引き起こされる
無効電力は熱に変換されない。担体2の表面抵抗は本質
的にオーム抵抗であり、この表面抵抗が変化した際、個
々の電気部品が純粋なオーム総抵抗をしている場合より
もそのリアクタンスの変化は小さい。
【0034】図5には、本発明に基づく装置の第5の実
施例が示されている。この実施例において、電解液浴1
内における最初の交流あるいは三相電極40は、単一部
品の形に形成され、細長い長方形断面形状をしている。
担体2は、搬送方向Aに電解液浴1内を貫通して孔開き
構成要素38、39、41、42、43、44の下側を
通して搬送される。これらの孔開き構成要素は、図6に
おいて、調整し易くする目的で、上下一対の対構造とし
て形成されている。これらの構成要素は、最初の交流あ
るいは三相電極40と担体2との間に存在している。こ
の対構造の構成要素は、図6に示されているように相対
移動できる。構成要素38、39、41、42、43、
44は、それぞれ例えば孔列47、48を有する板から
成っている。これらの構成要素の初期位置において、孔
列47、48は互いに一致している。上下一対の構成要
素のうち、交流あるいは三相電極40側の板38、41
ないし43が、担体2の搬送方向Aに対して垂直に移動
されると、孔列47、48は、孔列47の孔45および
図6に破線で示されている孔列48の孔46を参照して
理解できるように部分的にしかあるいは全く重なり合わ
ない。孔列47、48が部分的に重なり合うことによっ
て孔で開けられる開口の断面積は小さくなる。導電性電
解液に対する小さなった開口断面積は、大きなオーム抵
抗を生じさせ、これによって、電極40と担体2との間
における電解液浴1内に電流密度は小さくされる。運転
中において、その板の移動は、担体2の搬送方向Aにお
ける第1対の構成要素38、39が、次の対構造の構成
要素41、42より孔列47、48の小さな重なりを有
するように行われる。第3対の構成要素43、44にお
いて、例えば孔列47、48は完全に重なり合い、これ
によって、交流あるいは三相電極40と担体2との間に
おける電解液内における電流密度は最大とされている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に基づくバフ磨き装置の最初の実施例に
おける交流あるいは三相電極の概略構成図。
【図2】本発明に基づくバフ磨き装置の第2の実施例の
概略断面図であり、その交流あるいは三相電極は、種々
の導電性材料から成る部分電極を有している。
【図3】本発明に基づくバフ磨き装置の第3の実施例の
概略断面図であり、その交流あるいは三相電極は、固定
あるいは可変オーム抵抗に接続されている部分電極を有
している。
【図4】本発明に基づくバフ磨き装置の第4の実施例の
概略断面図であり、その交流あるいは三相電極は、オー
ム抵抗および又は誘導抵抗あるいは容量抵抗から成る総
抵抗をした部分電極を有している。
【図5】本発明に基づくバフ磨き装置の第5の実施例の
概略断面図であり、その交流あるいは三相電極は、対構
造の孔開き構成要素を備えている。
【図6】交流あるいは三相電極と担体との間に配置され
ている対構造の孔開き板の平面図。
【図7】従来の交流あるいは三相電流による電気化学式
バフ磨き装置の概略断面図。
【図8】従来の交流あるいは三相電流による電気化学式
バフ磨き装置の概略断面図。
【符号の説明】
1 電解液浴 2 担体 10 交流あるいは三相電極 21、22、23 部分電極 31、32、33 部分電極 38、39、40、41 孔開き構成要素(板) 47、48 孔列
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ライムント、ハース ドイツ連邦共和国ケルクハイム、ミュール ビーゼ、11アー (72)発明者 ウベ、ガルトマン ドイツ連邦共和国エルトビレ、ツァイルシ ュトラーセ、23 (72)発明者 ギュンター、フルツシュ ドイツ連邦共和国ビースバーデン、ボルカ ーシュトラーセ、42 (72)発明者 クラウス、イエルク ドイツ連邦共和国インゲルハイム、イン、 デル、ビーツ、ヌマー、5 (72)発明者 イエルク、カーデン ドイツ連邦共和国クリンゲルバッハ、ディ ーツァー、シュトラーセ、19 (72)発明者 ヘルマン、イドシュタイン ドイツ連邦共和国エストリッチ‐ビンケ ル、シラーシュトラーセ、39

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】感光層担体の表面が、電気化学式あるいは
    機械式にバフ磨きされ、続いて水様性電解液浴の中で、
    感光層担体に交流あるいは三相電流を印加することによ
    って、電気化学式にバフ磨きされ、感光層担体が連続し
    て電解液浴の中を貫通して導かれるような感光層担体の
    電気化学式バフ磨き方法において、担体のバフ磨き領域
    への入口個所において、最初の交流あるいは三相電極と
    担体との間における電解液浴内の電流密度が、バフ磨き
    に対する最大電流密度より小さくされ、その電流密度
    が、入口個所からの距離が増大するにつれて最初の交流
    あるいは三相電極の範囲の内部において、連続的に最大
    電流密度まで上昇されることを特徴とする感光層担体の
    電気化学式バフ磨き方法。
  2. 【請求項2】交流あるいは三相電流の一サイクルの経過
    における電解液浴内の電流密度の上昇が、最大電流密度
    の20%より小さいことを特徴とする請求項1記載の電
    気化学式バフ磨き方法。
  3. 【請求項3】最初の交流あるいは三相電極と担体との間
    隔が、バフ磨き領域への入口個所から、担体の搬送方向
    において、所定の一定間隔に到達するまで連続的に減少
    している、ことを特徴とする請求項1記載の電気化学式
    バフ磨き方法。
  4. 【請求項4】最初の交流あるいは三相電極が、種々の材
    料から成る部分電極に分けられ、その個々の部分電極の
    導電率が互いに異なっていることを特徴とする請求項1
    記載の電気化学式バフ磨き方法。
  5. 【請求項5】最初の交流あるいは三相電極が、部分電極
    に分けられ、その個々の部分電極が、固定あるいは可変
    オーム抵抗に接続され、それらの抵抗の大きさが、電解
    液浴内の電流密度が担体の搬送方法に増大するように選
    定されていることを特徴とする請求項1記載の電気化学
    式バフ磨き方法。
  6. 【請求項6】最初の交流あるいは三相電極が、部分電極
    に分けられ、その個々の部分電極が、オーム抵抗および
    又は誘導抵抗および容量抵抗に接続され、その個々の部
    分電極のオーム抵抗と誘導リアクタンスと容量リアクタ
    ンスとから成る総抵抗が、電解液浴内の電流密度が担体
    の搬送方法に増大するように選定されていることを特徴
    とする請求項1記載の電気化学式バフ磨き方法。
  7. 【請求項7】最初の電極あるいは三相電極と担体との間
    に、孔開き構成要素あるいは対構造の孔開き構成要素が
    存在し、これらの構成要素の導電率が、電解液浴の導電
    率より小さく選定されていることを特徴とする請求項1
    記載の電気化学式バフ磨き方法。
  8. 【請求項8】対構造の構成要素が、互いにずらせるよう
    に形成されていることを特徴とする請求項7記載の電気
    化学式バフ磨き方法。
  9. 【請求項9】電解液浴(1)内に配置された交流あるい
    は三相電極(10)が、電解液浴(1)内を貫通して搬
    送される担体(2)のバフ磨き領域への入口個所(B)
    における担体(2)と電極(10)との間隔(d1)
    が、バフ磨き領域の内部におけるそれより大きくなるよ
    うに丸みをつけられ、前記入口個所(B)から所定距離
    だけ離れた点から電極(10)と担体(2)との距離が
    一定している、ことを特徴とする請求項1ないし3のい
    ずれか1つに記載の方法を実施するための電気化学式バ
    フ磨き装置。
  10. 【請求項10】交流あるいは三相電極(10)の丸みの
    ある輪郭が、放物線状部分(C)を有し、この放物線状
    部分(C)に直線部分(D)が続いていることを特徴と
    する請求項9記載の電気化学式バフ磨き装置。
  11. 【請求項11】最初の交流あるいは三相電極が、部分電
    極(21、22、23)に分けられ、これらの個々の部
    分電極が、異なった導電率の材料から成っていることを
    特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の方
    法を実施するための電気化学式バフ磨き装置。
  12. 【請求項12】部分電極(21、22、23)およびも
    う1つの交流あるいは三相電極(4)が、互いに隣接し
    ていることを特徴とする請求項11記載の電気化学式バ
    フ磨き装置。
  13. 【請求項13】最初の交流あるいは三相電極が、部分電
    極(31、32、33)に分けられ、これらの個々の部
    分電極(31、32、33)が、それぞれ固定あるいは
    可変オーム抵抗(12、13、14)に接続され、これ
    らの抵抗(12、13、14)が交流あるいは三相電源
    に接続されていることを特徴とする請求項1、2、3、
    5のいずれか1つに記載の方法を実施するための電気化
    学式バフ磨き装置。
  14. 【請求項14】各部分電極(31、32、33)間およ
    びもう1つの交流あるいは三相電極(4)との間に絶縁
    板(15、16、17)が配置され、個々の部分電極
    (31、32、33)の単位面積当たりの電流密度が、
    前記交流あるいは三相電極(4)のそれより小さいこと
    を特徴とする請求項13記載の電気化学式バフ磨き装
    置。
  15. 【請求項15】最初の交流あるいは三相電極が、部分電
    極(24、25、26)に分けられ、これらの部分電極
    (24、25、26)が互いに絶縁され、電気部品(3
    4、35、36)に接続され、これらの各電気部品(3
    4、35、36)が、オーム抵抗および又は誘導および
    容量抵抗を有し、その場合、部分電極(24)のオーム
    抵抗および又は誘導抵抗および容量抵抗から成る電気部
    品(34)が、残りの部分電極(25、26)の電気部
    品(35、36)に直列あるいは並列に接続され、これ
    らと一緒に交流あるいは三相電源に接続されている、こ
    とを特徴とする請求項1、2、3、5、6のいずれか1
    つに記載の方法を実施するための電気化学式バフ磨き装
    置。
  16. 【請求項16】最初の交流あるいは三相電極(40)と
    担体(2)との間に、対構造の孔開き構成要素(38、
    39、41、42、43、44)が配置され、対構造の
    構成要素が互いに間隔を隔てられ、各対の構成要素が相
    対移動できることを特徴とする請求項1、2、3、7、
    8のいずれか1つに記載の方法を実施するための電気化
    学式バフ磨き装置。
  17. 【請求項17】対構造の各構成要素(38、39、4
    1、42、43、44)がそれぞれ孔列(47、48)
    を有し、これらの孔列(47、48)が初期位置におい
    て互いに一致しており、一方の構成要素(板)が他方の
    構成要素(板)に対して担体(2)の搬送方向(A)に
    対して垂直に、孔列(47、48)が一部あるいは全く
    重なり合わないように相対移動できることを特徴とする
    請求項16記載の電気化学式バフ磨き装置。
JP2000057452A 1999-03-02 2000-03-02 感光層担体の電気化学式バフ磨き方法および装置 Pending JP2000303200A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19908884.5 1999-03-02
DE19908884A DE19908884C1 (de) 1999-03-02 1999-03-02 Verfahren und Vorrichtung zum elektrochemischen Aufrauhen eines Trägers für lichtempfindliche Schichten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000303200A true JP2000303200A (ja) 2000-10-31
JP2000303200A5 JP2000303200A5 (ja) 2007-02-15

Family

ID=7899304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000057452A Pending JP2000303200A (ja) 1999-03-02 2000-03-02 感光層担体の電気化学式バフ磨き方法および装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6423206B1 (ja)
EP (1) EP1033420B1 (ja)
JP (1) JP2000303200A (ja)
DE (1) DE19908884C1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100412042B1 (ko) * 2001-06-05 2003-12-24 김찬배 인쇄 ps판 제조용 알루미늄판의 연마장치

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4038041B2 (ja) * 2001-12-05 2008-01-23 富士フイルム株式会社 電解処理装置
US8070933B2 (en) * 2005-05-06 2011-12-06 Thielenhaus Microfinishing Corp. Electrolytic microfinishing of metallic workpieces
US7981259B2 (en) * 2006-06-14 2011-07-19 Applied Materials, Inc. Electrolytic capacitor for electric field modulation
EP1884372B1 (en) * 2006-08-03 2009-10-21 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate support
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7017765A (ja) 1969-12-15 1971-06-17
US3851421A (en) 1969-12-15 1974-12-03 Hoechst Ag Apparatus for graining surfaces of planographic printing plates
DE1962729A1 (de) * 1969-12-15 1971-06-16 Kalle Ag Verfahren zum Koernen von Oberflaechen fuer Flachdruckplatten
JPS5629699A (en) * 1979-08-15 1981-03-25 Fuji Photo Film Co Ltd Surface roughening method by electrolysis
DE3142488A1 (de) * 1981-10-27 1983-05-05 Klein, Klaus, Ing.(grad.), 3360 Osterode Methode zur elektrolytischen aufrauhung von aluminiumplatten oder baendern mittels wechselstrom und konstantem kathodischem potential
JPH0812838B2 (ja) * 1987-04-27 1996-02-07 松下電器産業株式会社 アルミ電解コンデンサの電極製造法
JPH07119152B2 (ja) 1987-12-18 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化処理方法
JPH0798430B2 (ja) 1988-03-31 1995-10-25 富士写真フイルム株式会社 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
US5271818A (en) 1989-03-30 1993-12-21 Hoechst Aktiengesellschaft Apparatus for roughening a substrate for photosensitive layers
DE3910213A1 (de) 1989-03-30 1990-10-11 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zum aufrauhen eines traegers fuer lichtempfindliche schichten
EP0585586B1 (en) * 1992-07-20 1997-01-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for electrolytic treatment
US6080288A (en) * 1998-05-29 2000-06-27 Schwartz; Vladimir System for forming nickel stampers utilized in optical disc production

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100412042B1 (ko) * 2001-06-05 2003-12-24 김찬배 인쇄 ps판 제조용 알루미늄판의 연마장치

Also Published As

Publication number Publication date
US6423206B1 (en) 2002-07-23
DE19908884C1 (de) 2000-10-05
EP1033420A1 (de) 2000-09-06
EP1033420B1 (de) 2004-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20040232005A1 (en) Segmented counterelectrode for an electrolytic treatment system
US4214961A (en) Method and apparatus for continuous electrochemical treatment of a metal web
EP0076150A2 (en) Method for electrical discharge machining of a work in the form of a roll
JP2000303200A (ja) 感光層担体の電気化学式バフ磨き方法および装置
DE69231134T2 (de) Vorrichtung zur kontinuierlichen Behandlung von Aluminiumgegenständen
CA1337983C (en) Electrocoating system with multistage voltage application
EP0987351B1 (en) A steel strip descaling apparatus and a steel strip manufacturing apparatus using the descaling apparatus
KR101943399B1 (ko) 방향성 전자 강대의 연속 전해 에칭 방법 및 방향성 전자 강대의 연속 전해 에칭 장치
EP0545092B1 (en) An apparatus and method for controlling an electrolytic treatment of a subject material
EP0387750B1 (en) Electrolytic treatment apparatus
US20170298529A1 (en) Electroplating system
JPH03291166A (ja) 放電加工切断のためのワイヤ電極装置とその電極を製造するための方法
JP2000303200A5 (ja) 感光層担体の電気化学式バフ磨き方法
JP2011246790A (ja) 金属帯の連続電解エッチング方法及び連続電解エッチング装置
US2742417A (en) Apparatus for electroplating
US6966976B1 (en) Electroplating panel with plating thickness-compensation structures
CN220564760U (zh) 一种用于连续电镀生产线的导电机构
JP3891593B2 (ja) 送り設備において導体プレートや導体箔に金属層を精密に電解析出し、あるいはエッチングするための方法と装置
JP4890387B2 (ja) 方向性珪素鋼板の製造方法および製造装置
JP2004131841A (ja) 金属帯の間接通電式連続電解エッチング方法および間接通電式連続電解エッチング装置
JP2632235B2 (ja) アルミニウム製品の連続電解処理装置および方法
JPH0841699A (ja) 金属帯板の片面連続電解処理装置
JP4157442B2 (ja) 低鉄損一方向性珪素鋼板の直接通電式連続電解エッチング方法及び直接通電式連続電解エッチング装置
JPH09157897A (ja) 電気メッキ方法
JPH0670279B2 (ja) 水平型電気めつき装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061221

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061221

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090106

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090406

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090409

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090608

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090611

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090911