JP2000294995A - 平行度測定装置、測定方法、及び調整方法 - Google Patents

平行度測定装置、測定方法、及び調整方法

Info

Publication number
JP2000294995A
JP2000294995A JP11101908A JP10190899A JP2000294995A JP 2000294995 A JP2000294995 A JP 2000294995A JP 11101908 A JP11101908 A JP 11101908A JP 10190899 A JP10190899 A JP 10190899A JP 2000294995 A JP2000294995 A JP 2000294995A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
parallelism
stage
tool
pressure
measuring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11101908A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazunori Nitta
一法 新田
Hideo Kageyama
秀生 蔭山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Towa Corp
Original Assignee
Towa Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Towa Corp filed Critical Towa Corp
Priority to JP11101908A priority Critical patent/JP2000294995A/ja
Publication of JP2000294995A publication Critical patent/JP2000294995A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板を載置するためのステージと、基板に電
子部品を圧接するための圧接ツールとの間の平行度を、
定量的に測定して調整する。 【解決手段】 まず、各々基準治具8の下側基準面9A
に固定部7を載置し、上側基準面9Bに各接触部5を接
触させ、各表示部4が基準面同士の既知の間隔(8.0
00mm)と同等の値を表示するように、各表示部4を
校正する。次に、ステージ10上に測定部2を載置し、
圧接ツール11で各接触部5を押圧し、各接触部5にお
けるステージ10の上面を基準とした圧接ツール11の
下面の変位を測定する。次に、圧接ツール11が各接触
部5を押圧した状態で、4個の調整機構13により圧接
ツール11の4点の変位を、つまりステージ10の上面
に対する圧接ツール11の下面の傾きを調整する。これ
により、ステージ10と圧接ツール11との間の平行度
を、定量的に測定して調整する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平行度測定装置、
測定方法、及び調整方法であって、特に電子部品を組み
立てる際に使用されるステージとツールとの間の平行度
についての測定装置、測定方法、及び調整方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器に対する小型化の要請か
ら、半導体集積回路等の電子部品のパッケージについて
も、小型化及び薄型化の要求が強くなっている。そのた
め、例えば半導体チップをリードフレームやプリント基
板にワイヤボンディングする際に、ワイヤ高さをできる
だけ低くかつ均一にすることが要求されている。また、
ピン挿入タイプのパッケージに加えて、半導体チップを
プリント基板に固定し、半田バンプ等によりチップと基
板との電極同士を電気的に接続して、プリント基板に外
部電極を設ける、BGA( Ball Grid Array)等のパッ
ケージが使用されるようになってきた。ここで、ワイヤ
高さを低くかつ均一にし、あるいは半田バンプ等によっ
て電極同士を確実に接続するためには、リードフレーム
やプリント基板(以下、基板という。)に半導体チップ
を、平行度を保って圧接した後に固定する必要がある。
したがって、基板に半導体チップを圧接するための圧接
ツールと基板が載置されるステージとの間の平行度を良
好に保つことが、極めて重要になる。従来、圧接ツール
とステージとの間の平行度を調整するためには、次のよ
うな方法によっていた。まず、ステージ上に、受けた圧
力に応じた濃度で発色する感圧紙(例えば富士写真フイ
ルム株式会社製の「プレスケール」)を載せ、圧接ツー
ルによってステージに感圧紙を圧接する。次に、圧接を
解除した後に、発色した感圧紙の濃度分布に基づき圧接
ツールとステージとの間の平行度を判断して、調整機構
を使用して、ステージ上面に対する圧接ツール下面の傾
きを調整する。次に、再び圧接ツールによって感圧紙を
圧接した後に感圧紙の濃度分布を調べ、発色濃度が均一
になるまで調整を行っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の調整方法によれば、圧接ツールとステージとの間の
平行度を定量的に測定することができない。したがっ
て、圧接と調整とを繰り返す、いわゆるトライアル・ア
ンド・エラーによって平行度を管理することになるの
で、調整に時間を必要とするとともに、平行度の値を定
量的に管理して良好に維持することが困難であった。
【0004】本発明は、上述の課題を解決するために、
圧接ツールとステージとの間の平行度を定量的に測定す
ることができる測定装置及び測定方法と、平行度を短時
間に測定して調整することができる調整方法とを提供す
ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述の技術的課題を解決
するために、本発明に係る平行度測定装置は、基板が載
置されるステージと、載置された基板に電子部品を圧接
する圧接ツールとの間の平行度を測定する平行度測定装
置であって、ステージ上面を基準面として圧接ツール下
面の3点以上における変位を検出する検出手段と、各々
検出された変位を電気的信号に変換する変換手段と、各
々変換された電気的信号に基づいて変位を表示する表示
手段とを備えたことを特徴とするものである。
【0006】また、本発明に係る平行度測定装置は、上
述の測定装置において、検出手段と変換手段とは一体と
して構成されていることを特徴とするものである。
【0007】また、本発明に係る平行度測定方法は、基
板が載置されるステージと載置された基板に電子部品を
圧接する圧接ツールとの間の平行度を測定する平行度測
定方法であって、ステージ上面を基準面として圧接ツー
ル下面の3点以上における変位をそれぞれ検出する工程
と、各々検出された変位を電気的信号に変換する工程
と、各々変換された電気的信号に基づいて変位を表示す
る工程とを備えたことを特徴とするものである。
【0008】また、本発明に係る平行度調整方法は、基
板が載置されるステージと、載置された基板に電子部品
を圧接する圧接ツールとの間の平行度を調整する平行度
調整方法であって、基準治具を使用して、基準面に対す
る少なくとも3点の変位を同時に測定する平行度測定装
置を校正する工程と、ステージ上面に平行度測定装置を
載置しステージ上面を基準面として圧接ツール下面の変
位を測定する工程と、測定された変位に基づいてステー
ジ上面に対するツール下面の傾きを調整する工程とを備
えたことを特徴とするものである。
【0009】
【作用】本発明に係る平行度測定装置によれば、ステー
ジ上面を基準にして、各々ツール下面の3点以上におけ
る変位を同時に検出した後に電気的信号に変換し、かつ
それぞれの電気的信号に基づいて各測定値を表示するこ
とができる。また、本発明に係る平行度測定装置によれ
ば、上述の測定装置において、ツール下面の3点以上に
おける変位を検出する検出手段と、各変位を電気的信号
に変換する変換手段とが、一体として構成される。ま
た、本発明に係る平行度測定方法によれば、ステージ上
面を基準にしてツール下面の3点以上における変位を検
出して表示する。したがって、ステージ上面と圧接ツー
ル下面との間の平行度を、定量的に測定して、かつ表示
することができる。また、本発明に係る平行度調整方法
によれば、予め測定装置を校正した後に、ツール下面の
3点以上においてステージ上面を基準とした変位を同時
に測定し、その測定結果に基づき必要に応じてツール下
面におけるステージ上面に対する傾きを調整する。した
がって、ステージと圧接ツールとの間の平行度を定量的
に測定して、測定値に応じて調整することにより、平行
度を定量的に管理して良好に維持することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図1を参照して、本発明に
係る平行度測定装置を説明する。図1は、本発明の平行
度測定装置の概略を示す構成図である。図1において、
変位計1は、本発明に係る平行度測定装置であって、測
定部2と、出力ケーブル3と、表示部4とから構成され
ている。測定部2は、それぞれ4個の接触部5及び変換
部6(それぞれ3個のみ図示)と、1個の固定部7とか
ら構成されている。接触部5及び変換部6は、接触部5
が先端になるようにそれぞれ一体に設けられた板バネ状
の金属板からなり、直方体の形状を有する固定部7の各
側面からそれぞれ突出して設けられている。各接触部5
は、それぞれ押圧されない状態において、固定部7の下
面、つまり固定部7が載置された平面を基準面として、
初期位置がほぼ等しい高さになるようにして設けられて
いる。また、各接触部5は、測定対象である圧接ツール
の大きさと形状とに応じて、圧接ツールの下面に対して
適当に分布して接するように、互いに接近して設けられ
ている。そして、各接触部5が上方から押圧されると、
各接触部5が下方へと移動した移動量に応じて、変換部
6が変形する。変換部6は、それぞれ各接触部5の移動
量に応じた電気的信号を発生する変換手段である。各変
換部6には、それぞれ1個ずつ電気抵抗ひずみゲージ
(図示なし)が設けられている。各接触部5の移動量に
応じて各電気抵抗ひずみゲージにより得られた電気的抵
抗が、それぞれ電気抵抗ひずみゲージの端子間電圧に変
換される。各出力ケーブル3(2本のみ図示)は、それ
ぞれ変換された電圧を各表示部4(2個のみ図示)に供
給し、各表示部4は、受け取った電圧をA/D変換し
て、電圧の変化に基づき各接触部5について基準面から
の変位、つまり高さをデジタル表示する。また、各接触
部5が、既知である等しい高さにそれぞれ位置するよう
に治具によって押圧された状態で、各表示部4は、その
既知の値を表示するように予め校正されている。
【0011】ここで、本発明に係る平行度測定装置の特
徴は、一体に設けられた接触部5と変換部6とが1個の
固定部7に4組だけ取り付けられているとともに、固定
部7の下面を基準面とする各接触部5の高さに応じて、
各変換部6によって4個の電気的信号が同時に供給され
ることである。このことによって、各接触部5につい
て、固定部7が載置された平面を基準とした高さが同時
に測定され、かつ表示される。したがって、各接触部5
同士の間の領域と、固定部7の下面との間の平行度が測
定される。
【0012】以下、図2を参照して、本発明に係る平行
度調整方法を説明する。図2(1)〜(3)は、本発明
の調整方法を工程順にそれぞれ示す概略図である。
【0013】まず、図2(1)に示されるように、基準
治具8が有する面であって相対向する校正用基準面であ
る下側基準面9Aと上側基準面9Bとの間に、測定部2
を、固定部7が下側基準面9Aに載置され、各接触部5
が上側基準面9Bに接触するようにして載置する。そし
て、表示部4による表示が、既知の値である基準面同士
の間隔と比較して所定の範囲内の値になるように、各表
示部4を校正する。ここで、基準治具8は、次の仕様に
従って予め製作されている校正用治具である。すなわ
ち、下側基準面9Aと上側基準面9Bとの間の平行度が
極めて良好であって、かつ基準面同士の間隔(図2
(1)においては8.000mm)が変位計1の測定レ
ンジに含まれるように製作されている。
【0014】次に、図2(2)に示されるように、基板
を載置するためのステージ10の上面に測定部2を載置
した後に、基板に半導体チップ等の電子部品を圧接する
ための圧接ツール11によって、各接触部5を上方から
押圧する。そして、各変換部6によって、各接触部5の
下方への移動量を電圧に変換する。更に、各表示部4
(2個のみ図示)によって、変換された電圧に基づいて
ステージ10の上面を基準面とした各接触部5の変位、
つまり高さを表示する。ここで、圧接ツール11は、保
持機構12に保持されているとともに、4個の調整機構
13(2個のみ図示)によって、4点において上下方向
の変位が変えられるようになっている。すなわち、調整
機構13を使用して、圧接ツール11下面の4点におけ
る上下方向の変位を変えることによって、ステージ10
の上面に対する圧接ツール11の下面の傾きを調整する
ことができる。
【0015】次に、図2(3)に示されるように、圧接
ツール11が各接触部5を押圧している状態で、4個の
測定結果(2個のみ図示)に基づいて、圧接ツール11
の4点における上下方向の変位を調整する。つまり、ス
テージ10の上面を基準面とした各接触部5の高さの差
を0mmに近づけるように、各調整機構13を使用し
て、圧接ツール11の4点における上下方向の変位を調
整する。これにより、ステージ10の上面に対する圧接
ツール11の下面の傾きを0に近づけることになり、す
なわち、ステージ10の上面と圧接ツール11の下面と
の間の平行度を0に近づけるように調整することにな
る。そして、各接触部5の高さの差が、所定の基準値以
内、例えば20μm以内になれば、平行度の調整を完了
する。
【0016】ここで、本実施形態に係る平行度調整方法
の特徴は、同時に測定した4点の変位に基づき、圧接ツ
ール11が各接触部5を押圧している状態で、各表示部
4によって測定値を確認しながら、ステージ10の上面
と圧接ツール11の下面との間の平行度を調整すること
である。これによって、測定値に基づいて定量的に、か
つ測定値を確認しながら短時間に、ステージ10と圧接
ツール11との間の平行度を0に近づけるように調整す
ることができる。したがって、ステージ10と圧接ツー
ル11との間の平行度を、定量的に測定し、短時間に調
整して、良好に維持することができる。
【0017】なお、上述の説明においては、接触部5を
4個としたが、接触部5を3個使用して、又は5個以上
使用して平行度を測定することもできる。
【0018】また、調整機構13を4個としたが、調整
機構13を3個使用して、ステージ10の上面と圧接ツ
ール11の下面との間の平行度を調整することもでき
る。
【0019】更に、圧接ツール11の上面を4個所押圧
する調整機構13を使用したが、これに変えて、平面的
に見て四辺形の形状を有する保持機構12の隣り合う2
辺を軸として、それぞれの軸を中心に保持機構12を傾
ける調整機構を使用してもよい。
【0020】
【発明の効果】本発明に係る平行度測定装置によれば、
ステージ上面を基準にして、各々圧接ツール下面の3点
以上における変位を同時に検出した後に電気的信号に変
換し、かつそれぞれの電気的信号に基づいて各測定値を
表示することができる。したがって、ステージ上面を基
準とした圧接ツール下面の3点以上における変位を、同
時に測定して表示する平行度測定装置を提供できるとい
う、優れた実用的な効果を奏するものである。また、本
発明に係る平行度測定方法によれば、ステージと圧接ツ
ールとの間の平行度を定量的に測定して、表示すること
ができる。また、本発明に係る平行度調整方法によれ
ば、予め測定装置を校正した後に、圧接ツール下面の3
点以上においてステージ上面を基準とした変位を同時に
測定し、その測定結果に基づき必要に応じてステージ上
面に対する圧接ツール下面の傾きを調整する。これによ
り、平行度を定量的に測定して、測定値に応じて0に近
づけるように調整することができる。したがって、平行
度を、定量的かつ短時間に調整し、良好に維持すること
ができる平行度調整方法を提供できるという、優れた実
用的な効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る平行度測定装置の概略を示す構成
図である。
【図2】(1)〜(3)は、本発明に係る平行度調整方
法を工程順にそれぞれ示す概略図である。
【符号の説明】
1 変位計(平行度測定装置) 2 測定部 3 出力ケーブル 4 表示部(表示手段) 5 接触部(検出手段) 6 変換部(変換手段) 7 固定部 8 基準治具 9A 下側基準面 9B 上側基準面 10 ステージ 11 圧接ツール 12 保持機構 13 調整機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F069 AA78 BB01 BB40 DD19 GG01 GG06 GG13 GG58 GG59 HH02 HH30 LL04 MM04 NN00 QQ07 5E313 AA03 AA11 CC09 DD03 EE02 EE03 EE22 EE33 EE50 FF12 FG10

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板が載置されるステージと、前記載置
    された基板に電子部品を圧接する圧接ツールとの間の平
    行度を測定する平行度測定装置であって、 前記ステージ上面を基準面として前記圧接ツール下面の
    3点以上における変位をそれぞれ検出する検出手段と、 各々検出された前記変位を電気的信号に変換する変換手
    段と、 各々変換された前記電気的信号に基づいて前記変位を表
    示する表示手段とを備えたことを特徴とする平行度測定
    装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の平行度測定装置におい
    て、 前記検出手段と前記変換手段とは一体として構成されて
    いることを特徴とする平行度測定装置。
  3. 【請求項3】 基板が載置されるステージと、前記載置
    された基板に電子部品を圧接する圧接ツールとの間の平
    行度を測定する平行度測定方法であって、 前記ステージ上面を基準面として前記圧接ツール下面の
    3点以上における変位をそれぞれ検出する工程と、 各々検出された前記変位を電気的信号に変換する工程
    と、 各々変換された前記電気的信号に基づいて前記変位を表
    示する工程とを備えたことを特徴とする平行度測定方
    法。
  4. 【請求項4】 基板が載置されるステージと、前記載置
    された基板に電子部品を圧接する圧接ツールとの間の平
    行度を調整する平行度調整方法であって、 基準治具を使用して、基準面に対する少なくとも3点の
    変位を同時に測定する平行度測定装置を校正する工程
    と、 前記ステージ上面に前記平行度測定装置を載置し、前記
    ステージ上面を基準面として前記圧接ツール下面の変位
    を測定する工程と、 測定された前記変位に基づいて前記ステージ上面に対す
    る前記ツール下面の傾きを調整する工程とを備えたこと
    を特徴とする平行度調整方法。
JP11101908A 1999-04-09 1999-04-09 平行度測定装置、測定方法、及び調整方法 Pending JP2000294995A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11101908A JP2000294995A (ja) 1999-04-09 1999-04-09 平行度測定装置、測定方法、及び調整方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11101908A JP2000294995A (ja) 1999-04-09 1999-04-09 平行度測定装置、測定方法、及び調整方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000294995A true JP2000294995A (ja) 2000-10-20

Family

ID=14313019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11101908A Pending JP2000294995A (ja) 1999-04-09 1999-04-09 平行度測定装置、測定方法、及び調整方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000294995A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008304380A (ja) * 2007-06-08 2008-12-18 Toshiba Mach Co Ltd 測定装置、成型装置、転写装置および測定方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008304380A (ja) * 2007-06-08 2008-12-18 Toshiba Mach Co Ltd 測定装置、成型装置、転写装置および測定方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20020050832A1 (en) Probe contact system having planarity adjustment mechanism
US5089772A (en) Device for testing semiconductor integrated circuits and method of testing the same
JPH04234141A (ja) Tabフレームおよびその基板への接続方法
JP2681850B2 (ja) プローブボード
JP2000294995A (ja) 平行度測定装置、測定方法、及び調整方法
JP3828299B2 (ja) ウェーハテストシステムでのz軸の高さ設定装置及び方法
WO2007026563A1 (ja) 電子部品試験装置用のキャリブレーションボード
JPH0348171A (ja) 混成集積回路板の電気的特性検査を行う方法
JP3204146B2 (ja) コンタクトプローブおよびその製造方法、並びにコンタクトプローブを備えたプローブ装置
JPH09252031A (ja) ウェハテスタ
JPH03224246A (ja) プローブ装置
JPH09159694A (ja) Lsiテストプローブ装置
JPH1154881A (ja) 電子部品実装基板およびその接続検査方法
JP4334684B2 (ja) 基板検査用センサおよび基板検査装置
JP3390572B2 (ja) 電子デバイスの搬送コンタクト構造
JP2932999B2 (ja) 半導体チップ
JPH10189660A (ja) フリップチップ接続用回路素子
JPH06201750A (ja) 配線基板の検査装置
JPH11118878A (ja) Ic固定治具
JPH08254569A (ja) 電子基板用検査治具
JPS617640A (ja) 実装集積回路装置の特性試験装置
JP2851778B2 (ja) ソケット装置
JPH0212070A (ja) 検査装置の製造方法
JPH09243663A (ja) コンタクトプローブ
JP2005291847A (ja) Ic評価治具