JP2000294161A

JP2000294161A - ブラウン管用シャドウマスク

Info

Publication number: JP2000294161A
Application number: JP11200431A
Authority: JP
Inventors: Akira Makita; 明牧田; Takeshi Ikegami; 健池上; Yoshinori Hirobe; 吉紀広部
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1999-02-01
Filing date: 1999-07-14
Publication date: 2000-10-20
Also published as: DE10080397T1; CN1146949C; CN1296636A; KR20010042220A; WO2000046833A1

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】溶接歪み等によって発生したしわによるスリ
ットの変形を吸収することができ、さらに、スリットの
形成よりも簡単に、且つブラウン管の蛍光面を露光する
幅よりも小さい照射幅のエキストラスリットを得る。【解決手段】シャドウマスクの両端に設けたスリット
２の外側にエキストラスリット４を有し、エキストラス
リットは、シャドウマスク中心側のマスク２２の光源側
端部２３と外周側のマスク２９の蛍光面側端部２６とで
規定される貫通幅Ｗと、蛍光面側方向両側のマスク端面
エッジ２４、２８間で規定される開口幅Ｔと、光源側方
向両側のマスク端面エッジ２５、２７間で規定される開
口幅Ｓとで構成する断面形状を有し、開口幅Ｔの中心位
置Ｐが開口幅Ｓの中心位置Ｑよりもシャドウマスク中心
側にシフトし、開口幅Ｔと開口幅Ｓとを、スリット２の
光源側方向両側のマスク端面エッジ間で規定される貫通
幅Ｙ以上とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ブラウン管用シャ
ドウマスクに関し、更に詳しくは、エッチング加工によ
って形成された複数のスリットとマスクとからなり、そ
のマスクによって、ブラウン管の光源から蛍光面に照射
される光の照射幅が決定されるアパーチャーグリル（以
下「ＡＧ」という。）形のカラーブラウン管用シャドウ
マスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】図５は、ＡＧ形カラーブラウン管の構造
の一例を示す概略斜視図である。ＡＧ形カラーブラウン
管５１は、単電子銃５２内でインラインに配置された３
本の電子ビームを一つの主レンズの中心で交差させつつ
収束させ、次いで静電偏向によってシャドウマスク５３
に形成されたスリットを集中通過させ、縦縞状の蛍光面
５４の対応する蛍光体にランディングさせて発光するよ
うにしたブラウン管である。

【０００３】シャドウマスク５３は、電子ビームを所定
の幅で所定の位置にランディングさせて、ＡＧ形カラー
ブラウン管５１の色選別を行うために用いられる。この
シャドウマスク５３は、金属薄板にエッチング加工する
ことによって所望の形状に形成され、縦方向のスリット
とすだれ状のマスクとで構成されている。こうしたシャ
ドウマスク５３は、図６の（Ａ）（Ｂ）に示すように、
鋼枠６１に適当な張力で取り付けられ、すだれ状のマス
クが振動しないように位置精度よく固定される。シャド
ウマスク５３を鋼枠６１に取り付ける方法には、図６
（Ａ）に示すように、鋼枠６１の４カ所以上の部位を上
下から所定の圧力Ｆで加圧し、弾性限界内で鋼枠６１を
変形させた状態に保ちつつ、シャドウマスク５３の上辺
と下辺を抵抗加熱溶接やレーザービーム溶接等の溶接に
よって鋼枠６１に接合装着させる方法がある。この方法
で溶接されたシャドウマスク５３は、鋼枠６１に加えた
圧力Ｆを取り去ることによって、適当な張力で固定され
る。

【０００４】この際の溶接は、通常、鋼枠６１とシャド
ウマスク５３を合わせ、その一端から他端に向かって行
ったり、その中心付近から両端に向かって行う。このと
き、鋼枠６１に溶接されるシャドウマスク５３の上辺と
下辺には、溶接が進むにしたがって、溶接歪み等に基づ
くしわが発生して徐々に蓄積するようになる。その結
果、溶接が終了する側の端部付近には、蓄積したしわに
よってスリットの形状が変形するといった現象を生じる
ことがある。こうした現象は、シャドウマスク全域に渡
って所定のスリット幅を均一に維持することができない
といった問題を起こす。例えば、鋼枠６１の一方の端部
から他方の端部に向かってシャドウマスク５３を溶接し
ていく場合には、生じたしわの蓄積によって、溶接する
方向の端部のスリットが変形してスリット幅が小さくな
ったり、鋼枠６１の中心から両端部に向かってシャドウ
マスク５３を溶接していく場合には、シャドウマスク５
３の両側端部のスリットが変形してスリット幅が小さく
なるといった問題が生じるおそれがある。

【０００５】このような問題を解決するため、従来は、
特開平５−１５９７１６号公報や特開平５−３１４９２
０号公報に開示されているように、スリット幅よりも小
さい幅を有し、且つ蛍光面が露光しない程度に入射光を
遮光できるエキストラスリットを設けることによって、
端部のスリットの変形を防ぎ、シャドウマスク全域に渡
って所定のスリット幅を均一に維持させていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来のシャドウマスク
３１に設けられているエキストラスリット４４は、図４
に示すように、有効画面のスリットの貫通幅よりも小さ
い貫通幅Ｚで形成されている。そして、そのエキストラ
スリット４４は、スリットの断面形状と同様に、光源側
の開口幅が小さく、蛍光面側の開口幅が大きいすり鉢状
の断面形状を有し、エキストラスリット両側のマスクの
光源側の端部４５、４６間で規定される貫通幅Ｚを有す
るものである。こうしたエキストラスリット４４は、通
常のスリットを形成する場合よりも高いエッチング精度
が要求されるので、その形成が困難になるという製造上
の問題がある。特に高精細度が要求されるブラウン管に
使用されるシャドウマスクの場合にはその傾向が著し
い。

【０００７】このような従来のシャドウマスクによれ
ば、エキストラスリット４４の貫通幅Ｚが小さいのでそ
の形成が容易でない。さらに、溶接歪み等によって発生
したしわの蓄積が大きい場合には、そのしわを吸収する
ことができなくなり、端部のスリットの幅寸法を所定の
幅寸法に維持することができないおそれがある。

【０００８】本発明は、こうした問題を解決するため、
溶接歪み等によって発生したしわによるスリットの変形
を吸収することができ、さらに、スリットの形成よりも
簡単に、且つブラウン管の蛍光面を露光する幅よりも小
さい照射幅が得られるエキストラスリットを有するブラ
ウン管用シャドウマスクを提供する。

【０００９】

【課題を解決するための手段】以下、本発明について、
実施形態を示す図面に対応付けて説明する。但し、本発
明は図示の形態に限定されない。

【００１０】請求項１に記載のブラウン管用シャドウマ
スクは、エッチング加工によって形成された複数のスリ
ット２とマスク３とからなり、当該マスク３によってブ
ラウン管の光源から蛍光面５４に照射される光の照射幅
ｘが決定されるブラウン管用シャドウマスク１におい
て、前記シャドウマスク１の両端に設けられたスリット
２のうち、少なくとも一端のスリットのさらに外側にエ
キストラスリット４を有し、前記エキストラスリット４
は、前記シャドウマスク中心側のマスク２２の光源側端
部２３と当該シャドウマスク外周側のマスク２９の蛍光
面側端部２６とで規定される貫通幅Ｗと、蛍光面側方向
両側のマスク端面エッジ２４、２８間で規定される開口
幅Ｔと、光源側方向両側のマスク端面エッジ２５、２７
間で規定される開口幅Ｓとで構成される断面形状を有
し、さらに、前記蛍光面側方向両側のマスク端面エッジ
２４、２８間で規定される開口幅Ｔの中心位置Ｐが、前
記光源側方向両側のマスク端面エッジ２５、２７間で規
定される開口幅Ｓの中心位置Ｑよりもシャドウマスク中
心側にシフトしてなり、前記の開口幅Ｔと開口幅Ｓと
が、前記スリット２の光源側方向両側のマスク端面エッ
ジ間で規定される貫通幅Ｙ以上であることに特徴を有す
る。

【００１１】この発明によれば、エキストラスリット４
の断面形状を構成する開口幅Ｔと開口幅Ｓとが、スリッ
ト２の光源側方向両側のマスク端面エッジ間で規定され
る貫通幅Ｙ以上で形成されているので、スリット２の形
成よりも大きなマスクパターンで容易にエッチング加工
することができる。

【００１２】また、エキストラスリット４は、一端のス
リット２のさらに外側に設けられており、シャドウマス
ク１中心側のマスク２２の光源側の端部２３と、シャド
ウマスク１外周側のマスク２９の蛍光面側の端部２６と
で規定される貫通幅Ｗを有し、さらに、蛍光面側方向両
側のマスク端面エッジ２４、２８間で規定される開口幅
Ｔの中心位置Ｐが、前記光源側方向両側のマスク端面エ
ッジ２５、２７間で規定される開口幅Ｓの中心位置Ｑよ
りもシャドウマスク中心側にシフトしているので、上記
の光源側の端部２３と蛍光面側の端部２６とが、シャド
ウマスク面に直交する方向の座標位置において、異なる
位置に形成されている。その結果、溶接時に発生するし
わが吸収される際にシャドウマスク中心側のマスク２２
がシャドウマスク外周側のマスク２９に近づいていって
も、上記の光源側の端部２３と蛍光面側の端部２６と
は、貫通幅Ｗ以下の長さでは相対向する部位に突き当た
ることがない。こうして得られたエキストラスリット４
は、シャドウマスク１を鋼枠６１に溶接する際に発生す
るしわを吸収することができるので、少なくとも一端の
スリット２で起こるしわによる変形を防ぐことができ、
シャドウマスク１に形成された全てのスリット２の有効
幅を確保することができる。

【００１３】請求項２の発明は、請求項１に記載のブラ
ウン管用シャドウマスクにおいて、前記エキストラスリ
ット４を通過する光の照射幅ｘは、前記蛍光面５４の露
光幅よりも小さく、前記エキストラスリット４に対して
斜めに入射する光２１の一部が、シャドウマスク中心側
で光源側方向のマスク端面エッジ２５と、シャドウマス
ク外周側で蛍光面側方向のマスク端面エッジ２８とで遮
蔽されて決定されることに特徴を有する。

【００１４】この発明によれば、エキストラスリット４
を通過する光の照射幅ｘが、蛍光面５４の露光幅よりも
小さいので、シャドウマスク１の溶接の際にしわが発生
しない場合であっても、蛍光面５４を露光させることが
ない。また、エキストラスリット４は、上述のように、
開口幅Ｔの中心位置Ｐが開口幅Ｓの中心位置Ｑよりもシ
ャドウマスク中心側にシフトしており、そのエキストラ
スリット４に対して斜めに入射する光２１の一部が、シ
ャドウマスク中心側で光源側方向のマスク端面エッジ２
５と、シャドウマスク外周側で蛍光面側方向のマスク端
面エッジ２８とで遮蔽されて決定されるので、エキスト
ラスリット４は、シャドウマスク１の溶接時のしわを吸
収する際に照射幅ｘをより小さくするように作用して、
蛍光面の露光が起こらない。

【００１５】請求項３の発明は、請求項１または請求項
２に記載のブラウン管用シャドウマスクにおいて、前記
シャドウマスク中心側のマスクの光源側端部２３と、当
該シャドウマスク外周側のマスクの蛍光面側端部２６と
が、前記シャドウマスク面に直交する方向の座標位置と
して、５μｍ以上離れて形成されていることに特徴を有
する。

【００１６】この発明によれば、シャドウマスク中心側
のマスクの光源側端部２３と、シャドウマスク外周側の
マスクの蛍光面側端部２６とが、シャドウマスク面に直
交する方向の座標位置として、５μｍ以上離れて形成さ
れているので、溶接時に発生するしわが吸収される際に
シャドウマスク中心側のマスク２２がシャドウマスク外
周側のマスク２９に近づいていっても、上記の光源側端
部２３と蛍光面側端部２６とは、貫通幅Ｗ以下の長さで
は相対向する部位に突き当たることがない。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に基づいて説
明する。

【００１８】図１は、本発明のＡＧ形カラーブラウン管
用のシャドウマスクの一例を示す平面図である。シャド
ウマスク１は、複数のスリット２とマスク３とを有する
ものであり、略長方形の金属薄板をエッチング加工する
ことによって形成される。マスク３は、ブラウン管の光
源から照射される光のうち、余分な光を遮るように作用
する。ブラウン管の光源から照射される光のうち、蛍光
面に到達させるべき光は、所定幅にエッチング加工され
たスリット２を通過し、その照射幅は、マスク３の形状
や寸法によって決定される。シャドウマスク１の左右両
端のスリットのさらに外側には、エキストラスリット４
が設けられている。また、シャドウマスク１の上辺６と
下辺７には、シャドウマスク１が適当な張力で張り押さ
えられるように、別に用意される鋼枠６１（図６を参
照。）に溶接される溶接部を有している。なお、金属薄
板としては、通常、ニッケル−鉄合金等の熱膨張係数の
小さな材料や、クリープ特性を改善した鉄系材料等が用
いられる。

【００１９】図２は、本発明のシャドウマスクに形成さ
れたスリットとエキストラスリットの断面形状の一例を
示す拡大断面図である。図３は、本発明のシャドウマス
クに形成されたエキストラスリットの断面形状の他の一
例を示す拡大断面図である。図２に示したエキストラス
リットは、シャドウマスク中心側のマスク２２の光源側
端部２３とマスク端面エッジ２５とが共通し、さらにシ
ャドウマスク外周側のマスク２９の蛍光面側端部２６と
マスク端面エッジ２８とが共通する断面形状である。一
方、図３に示したエキストラスリットは、それらが共通
していない断面形状である。

【００２０】スリット２は、図５に示すように、シャド
ウマスク１がブラウン管５１に装着された際に、パネル
５５の内側の蛍光面５４を縦縞状に露光するための紫外
線を通過させるために作用したり、電子銃５２から照射
された３本の電子ビームを集中通過させる時にその照射
光の色選別を行うために作用する。そして、このスリッ
ト２を通過した照射光が、パネル５５の内側に配置され
た縦縞状の蛍光面５４の対応する位置の蛍光体にランデ
ィングすることによって、その蛍光体が発光する。こう
したスリット２は、図２に示すように、通常、光源側の
開口幅が小さく、蛍光面５４側の開口幅が大きいすり鉢
状であり、従来と同様のエッチング加工によって所定の
数、ピッチ、貫通幅Ｙおよび断面形状等で形成される。
特に、高精細度のカラーブラウン管に使用されるシャド
ウマスク１は、スリット２のピッチや貫通幅Ｙが小さ
く、より精密なエッチング加工が要求される。

【００２１】エキストラスリット４は、シャドウマスク
１を溶接する際の溶接歪み等によって発生するしわを吸
収して、両端部のスリット２形状の変形を防ぐように作
用する。エキストラスリット４は、左右両端のスリット
２のさらに外側の位置に形成され、スリット２の形成と
同じエッチング加工によって形成される。

【００２２】エキストラスリット４を左右両端に設ける
ことにより、シャドウマスク１の溶接を、その中央から
両端に向かって行うことができる。また、シャドウマス
クの一端から他の一端に向かって溶接する場合であって
も、溶接方向が特に決まっていないような場合には、予
め両端に設けておくことが便利である。溶接方向が決ま
っているような場合には、溶接が終了する側のみにエキ
ストラスリット４を設けることができる。溶接によって
発生するしわを十分に吸収するためには、エキストラス
リット４の長手方向の長さを、スリット２の長手方向の
長さと同程度の長さにすることが好ましい。

【００２３】エキストラスリット４の断面形状は、図２
や図３に示すように、シャドウマスク面に直交する方向
の断面形状において、シャドウマスク中心側のマスク２
２の光源側端部２３とシャドウマスク外周側のマスク２
９の蛍光面側端部２６とで規定される貫通幅Ｗと、蛍光
面側方向両側のマスク端面エッジ２４、２８間で規定さ
れる開口幅Ｔと、光源側方向両側のマスク端面エッジ２
５、２７間で規定される開口幅Ｓとで構成されてなるも
のである。さらに、蛍光面側方向両側のマスク端面エッ
ジ２４、２８間で規定される開口幅Ｔの中心位置Ｐが、
光源側方向両側のマスク端面エッジ２５、２７間で規定
される開口幅Ｓの中心位置Ｑよりもシャドウマスク中心
側にシフトしてなり、上記の開口幅Ｔと開口幅Ｓとが、
スリット２の光源側方向両側のマスク端面エッジ間で規
定される貫通幅Ｙ以上の断面形状で構成されている。こ
のとき、エキストラスリット４の貫通幅Ｗは、スリット
２の貫通幅Ｙよりも大きくても小さくてもよく、特に限
定されない。

【００２４】従って、開口幅Ｔと開口幅Ｓとが、スリッ
ト２の貫通幅Ｙ以上で形成されているので、スリット２
の形成よりも大きなエッチング加工用のマスクパターン
を使用することができる。そのため、高度なエッチング
加工が要求されることがなく、通常のエッチング工程で
容易にエキストラスリット４を形成できる。

【００２５】エキストラスリット４を構成する光源側端
部２３や蛍光面側端部２６は、図２に示すように、各々
のマスク表面に形成されたナイフエッジのような形状で
形成され、マスク端面エッジ２５、２８とそれぞれ共通
するものであってもよく、図３に示すように、各々のマ
スク表面から少し入り込んだ位置に形成された形状であ
ってもよい。こうしたエキストラスリット４の断面形状
は、エッチング加工の際のエッチング条件によって適宜
設定することができる。

【００２６】本発明においては、こうした光源側端部２
３と蛍光面側端部２６とが、シャドウマスク面に直交す
る方向の座標位置において、異なる位置に形成されてい
る。その結果、溶接時に発生するしわが吸収される際に
シャドウマスク中心側のマスク２２がシャドウマスク外
周側のマスク２９に近づいていっても、光源側の端部２
３と蛍光面側の端部２６とは、貫通幅Ｗ以下の長さでは
相対向する部位に突き当たることがない。こうして得ら
れたエキストラスリット４は、シャドウマスク１を鋼枠
６１に溶接する際に発生するしわを吸収することができ
るので、少なくとも一端のスリット２で起こるしわによ
る変形を防ぐことができ、シャドウマスク１に形成され
た全てのスリット２の有効幅を確保することができる。

【００２７】エキストラスリット４に対して斜めに入射
する光２１は、エキストラスリット４のシャドウマスク
中心側で光源側方向のマスク端面エッジ２５と、シャド
ウマスク外周側で蛍光面側方向のマスク端面エッジ２８
とでその一部が遮蔽され、所定の照射幅ｘでエキストラ
スリット４を通過して蛍光面５４に照射される。開口幅
Ｔの中心位置Ｐと開口幅Ｓの中心位置Ｑとのシフト量
は、照射幅ｘが蛍光面５４を露光する幅よりも小さくな
るように調節され、各々の端面エッジ２５、２８が所定
の位置関係となるようにシャドウマスクを形成する。こ
れにより、シャドウマスク１を溶接する際のしわ発生の
有無に関わらず、蛍光面５４を露光させることがなく、
また、しわの発生する場合であっても、照射幅ｘをより
小さくするようにエキストラスリット４が作用するの
で、蛍光面の露光が起こらない。

【００２８】各々のエッジ２５、２８の位置関係は、シ
ャドウマスク１が装着されるブラウン管の大きさの相違
に基づく光の入射角度の相違、シャドウマスク１に使用
される金属薄板の厚さの相違、エッチング加工条件の相
違、蛍光面の露光性（蛍光面材料や紫外線強度）の相違
等によって適宜設定されるが、開口幅Ｔの中心位置Ｐと
開口幅Ｓの中心位置Ｑとが、シャドウマスク面に直交す
る座標軸において３０μｍ以上の距離でシフトしている
ことが好ましい。

【００２９】光源側の開口幅Ｓと蛍光面側の開口幅Ｔの
大きさは、上述の位置関係を有することを条件として適
宜設定することができるが、通常は貫通幅Ｗ以上で形成
される。

【００３０】シャドウマスク中心側のマスクの光源側端
部２３と、シャドウマスク外周側のマスクの蛍光面側端
部２６とは、シャドウマスク面に直交する方向の座標位
置ΔＨとして、５μｍ以上離れて形成されていることが
好ましい。これにより、溶接時に発生するしわが吸収さ
れる際に、シャドウマスク中心側のマスク２２がシャド
ウマスク外周側のマスク２９に近づいていっても、光源
側端部２３と蛍光面側端部２６とは、貫通幅Ｗ以下の長
さでは相対向する部位に突き当たることがない。

【００３１】また、通常のブラウン管５１の蛍光面５４
は、５０μｍを超える幅で照射されることによって露光
する場合があるので、照射幅ｘを５０μｍ以下とするよ
うなエキストラスリット４であることが好ましい。蛍光
面５４の露光の程度は、蛍光面を形成する感光材料や、
露光のために使用する紫外線の強度等の露光条件によっ
て異なる場合があるので、特殊な態様の場合には露光条
件を考慮して照射幅ｘが適宜決定される。蛍光体の感度
や紫外線強度が高い場合には、蛍光面５４上の照射幅ｘ
をより小さくするようなエキストラスリットを形成する
ことが好ましい。

【００３２】なお、シャドウマスク１を鋼枠６１に溶接
する際の溶接加工が、シャドウマスク１の一端から他の
一端に向かって行われる場合には、エキストラスリット
を必ずしも両側に設ける必要はなく、少なくとも一方に
形成すればよい。

【００３３】以上説明したシャドウマスク１は、従来公
知の方法で製造することができる。通常、フォトエッチ
ング技術を用いた一連の工程で行われ、連続したインラ
イン装置またはオフライン装置で製造される。例えば、
先ず、金属薄板の両面に水溶性コロイド系フォトレジス
ト等が塗布される。乾燥後、その両面に露光用原板を密
着させて、高圧水銀等の紫外線に富んだ光によって露光
し、水で現像する。現像後、レジスト膜で周囲がカバー
された金属の露出部分は、エッチング加工される。その
結果、図２や図３に示すように、すり鉢状にエッチング
加工されたスリット２と、蛍光面側の開口中心Ｐと光源
側の開口中心Ｑとがオフセットし、且つ蛍光面側の開口
中心Ｐがシャドウマスク１の中心側にシフトした形状に
エッチング加工されたエキストラスリット４とを有する
シャドウマスク１が製造される。このとき、エキストラ
スリット４の形状が図２または図３に示す形状になるよ
うに、露光用原板のパターンおよびその密着位置が調整
される。なお、エッチング加工は、熱処理等がなされた
後、金属薄板の両面側から塩化第二鉄溶液をスプレー等
することによって行われ、その後、水洗い、剥離等の後
工程が連続的に行われる。

【００３４】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１のブラウ
ン管用シャドウマスクによれば、スリットの形成よりも
大きなマスクパターンで容易にエッチング加工すること
が可能となるので、シャドウマスクの製造を容易に行う
ことができる、さらに高精細度が要求されるブラウン管
に使用されるシャドウマスクに対しても好ましく適用す
ることができる。

【００３５】請求項２のブラウン管用シャドウマスクに
よれば、シャドウマスクの溶接時のしわの発生の有無に
関わらず、蛍光面を露光させることがない。

【００３６】請求項３のブラウン管用シャドウマスクに
よれば、溶接時に発生するしわが吸収される際にシャド
ウマスク中心側のマスクがシャドウマスク外周側のマス
クに近づいていっても、光源側端部と蛍光面側端部と
は、貫通幅Ｗ以下の長さでは相対向する部位に突き当た
ることがないので、発生するしわを十分に吸収すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のアパーチャーグリル形カラーブラウン
管用のシャドウマスクの一例を示す平面図である。

【図２】本発明のシャドウマスクに形成されたスリット
とエキストラスリットの断面形状の一例を示す拡大断面
図である。

【図３】本発明のシャドウマスクに形成されたエキスト
ラスリットの断面形状の他の一例を示す拡大断面図であ
る。

【図４】従来のシャドウマスクに形成されるエキストラ
スリットの拡大断面と入射光と蛍光面と関係を示す概略
図である。

【図５】アパーチャーグリル形カラーブラウン管の構造
を示す概略斜視図である。

【図６】鋼枠に張力を加えて溶接した状態を示す正面図
（Ａ）と縦断面図（Ｂ）である。

【符号の説明】

１シャドウマスク２スリット３マスク４エキストラスリット２１入射光２２シャドウマスク中心側のマスク２３シャドウマスク中心側のマスクの光源側端部２４、２８蛍光面側方向両側のマスク端面エッジ２５、２７光源側方向両側のマスク端面エッジ２６シャドウマスク外周側のマスクの蛍光面側端部２９シャドウマスク外周側のマスク５４蛍光面Ｗエキストラスリットの貫通幅Ｔ蛍光面側の開口幅Ｐ開口幅Ｔの中心位置Ｑ光源側の開口幅Ｓ開口幅Ｑの中心位置ｘ照射幅Ｙスリットの貫通幅

フロントページの続き (72)発明者広部吉紀東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 5C031 EE02 EF05 EF07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】エッチング加工によって形成された複数
のスリットとマスクとからなり、当該マスクによってブ
ラウン管の光源から蛍光面に照射される光の照射幅が決
定されるブラウン管用シャドウマスクにおいて、前記シャドウマスクの両端に設けられたスリットのう
ち、少なくとも一端のスリットのさらに外側にエキスト
ラスリットを有し、前記エキストラスリットは、前記シャドウマスク中心側
のマスクの光源側端部と当該シャドウマスク外周側のマ
スクの蛍光面側端部とで規定される貫通幅Ｗと、蛍光面
側方向両側のマスク端面エッジ間で規定される開口幅Ｔ
と、光源側方向両側のマスク端面エッジ間で規定される
開口幅Ｓとで構成される断面形状を有し、さらに、前記蛍光面側方向両側のマスク端面エッジ間で
規定される開口幅Ｔの中心位置Ｐが、前記光源側方向両
側のマスク端面エッジ間で規定される開口幅Ｓの中心位
置Ｑよりもシャドウマスク中心側にシフトしてなり、前記の開口幅Ｔと開口幅Ｓとが、前記スリットの光源側
方向両側のマスク端面エッジ間で規定される貫通幅Ｙ以
上であることを特徴とするブラウン管用シャドウマス
ク。
【請求項２】前記エキストラスリットを通過する光の
照射幅ｘは、前記蛍光面の露光幅よりも小さく、前記エ
キストラスリットに対して斜めに入射する光の一部が、
シャドウマスク中心側で光源側方向のマスク端面エッジ
と、シャドウマスク外周側で蛍光面側方向のマスク端面
エッジとで遮蔽されて決定されることを特徴とする請求
項１に記載のブラウン管用シャドウマスク。
【請求項３】前記シャドウマスク中心側のマスクの光
源側端部と、当該シャドウマスク外周側のマスクの蛍光
面側端部とが、前記シャドウマスク面に直交する方向の
座標位置として、５μｍ以上離れて形成されていること
を特徴とする請求項１または請求項２に記載のブラウン
管用シャドウマスク。