JP2000279357A - 食器洗浄機 - Google Patents
食器洗浄機Info
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- JP2000279357A JP2000279357A JP11090265A JP9026599A JP2000279357A JP 2000279357 A JP2000279357 A JP 2000279357A JP 11090265 A JP11090265 A JP 11090265A JP 9026599 A JP9026599 A JP 9026599A JP 2000279357 A JP2000279357 A JP 2000279357A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 シンク槽による予備洗浄効果の高い食器洗浄
機を提供する。 【解決手段】 通常機能の食器洗浄機本体部の前段に設
けられたシンク槽２２と、このシンク槽へ予備洗浄液Ｒ
を供給する給水手段と、シンク槽内に形成された噴射ノ
ズル３４と、シンク槽内の予備洗浄液を噴射ノズル３４
に循環供給する噴射ポンプ３５とを具備する
機を提供する。 【解決手段】 通常機能の食器洗浄機本体部の前段に設
けられたシンク槽２２と、このシンク槽へ予備洗浄液Ｒ
を供給する給水手段と、シンク槽内に形成された噴射ノ
ズル３４と、シンク槽内の予備洗浄液を噴射ノズル３４
に循環供給する噴射ポンプ３５とを具備する
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、主にホテル、レ
ストラン等で用いられる業務用食器洗浄機の改良に関す
る。
ストラン等で用いられる業務用食器洗浄機の改良に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図３は、従来の食器洗浄機の例を示す図
である。この図において、符号１は箱状をなすケースで
あり、このケース１の上部に設けられた洗浄室２内には
食器３を搭載する籠状のラック４が設置可能とされ、か
つ洗浄室２の下方には主洗浄液Ｌを貯留する洗浄槽５が
設けられている。また、符号６ａは上部主洗浄ノズル、
６ｂは下部主洗浄ノズルであり、主洗浄液Ｌを上下方向
からから食器３へ向けて噴射する。符号７は、主洗浄ポ
ンプであり洗浄槽５内の主洗浄液Ｌを管路８を介して主
洗浄ノズル６ａ、６ｂへ供給する。これら洗浄槽５、主
洗浄ノズル６ａ，６ｂ、主洗浄ポンプ７、および管路８
により主洗浄部が構成されている。
である。この図において、符号１は箱状をなすケースで
あり、このケース１の上部に設けられた洗浄室２内には
食器３を搭載する籠状のラック４が設置可能とされ、か
つ洗浄室２の下方には主洗浄液Ｌを貯留する洗浄槽５が
設けられている。また、符号６ａは上部主洗浄ノズル、
６ｂは下部主洗浄ノズルであり、主洗浄液Ｌを上下方向
からから食器３へ向けて噴射する。符号７は、主洗浄ポ
ンプであり洗浄槽５内の主洗浄液Ｌを管路８を介して主
洗浄ノズル６ａ、６ｂへ供給する。これら洗浄槽５、主
洗浄ノズル６ａ，６ｂ、主洗浄ポンプ７、および管路８
により主洗浄部が構成されている。
【０００３】符号９は、ガスＧを燃料とする加熱手段を
内蔵するすすぎ湯槽であり、貯留した水道水Ｗを加熱
し、高温のすすぎ液を生成する。符号１０はすすぎポン
プであり、すすぎ湯槽９内のすすぎ湯Ｑを管路１１を介
して上部すすぎノズル１２ａ、下部１２ｂへ供給する。
すすぎノズル１２ａ、１２ｂは、すすぎ湯を上下から食
器３へ向けて噴射する。これら、すすぎ湯槽９、すすぎ
ポンプ１０、管路１１および、すすぎノズル１２ａ，１
２ｂによりすすぎ部が構成されている。
内蔵するすすぎ湯槽であり、貯留した水道水Ｗを加熱
し、高温のすすぎ液を生成する。符号１０はすすぎポン
プであり、すすぎ湯槽９内のすすぎ湯Ｑを管路１１を介
して上部すすぎノズル１２ａ、下部１２ｂへ供給する。
すすぎノズル１２ａ、１２ｂは、すすぎ湯を上下から食
器３へ向けて噴射する。これら、すすぎ湯槽９、すすぎ
ポンプ１０、管路１１および、すすぎノズル１２ａ，１
２ｂによりすすぎ部が構成されている。
【０００４】符号１３は、加熱ヒータであり、温度制御
により主洗浄液Ｌの液温を一定（約６０℃）に維持す
る。符号１４は、電極式の低水位センサであり、保温ヒ
ータ１３の取り付け位置より、やや上部に位置し、主洗
浄液Ｌの低水位を検知し、低水位を検知した場合、加熱
ヒータ１３をオフにするインターロック機能を有す。符
号１５は、電極式の中水位センサであり、低水位センサ
１４より上部に位置し、主洗浄液Ｌの水位を検知する。
により主洗浄液Ｌの液温を一定（約６０℃）に維持す
る。符号１４は、電極式の低水位センサであり、保温ヒ
ータ１３の取り付け位置より、やや上部に位置し、主洗
浄液Ｌの低水位を検知し、低水位を検知した場合、加熱
ヒータ１３をオフにするインターロック機能を有す。符
号１５は、電極式の中水位センサであり、低水位センサ
１４より上部に位置し、主洗浄液Ｌの水位を検知する。
【０００５】符号１６は、電極式の高水位センサあり、
洗浄槽５の満水ラインに位置し、主洗浄液Ｌの満水時の
水位を検知する。符号１７は、排水弁であり、洗浄作業
終了後、全開し主洗浄液Ｌを所定量排水する。符号１８
は、給水弁であり、管路１９を介して開閉し、すすぎ槽
９へ水道水Ｗの給水を行う。符号２０は、サーミスタを
使用した温度センサであり、洗浄槽５内の主洗浄液Ｌの
液温を検知する。符号２１はプログラマブルコントロー
ラから構成される制御部であり主洗浄液Ｌの温度制御を
含む食器洗浄機の各部を制御する。
洗浄槽５の満水ラインに位置し、主洗浄液Ｌの満水時の
水位を検知する。符号１７は、排水弁であり、洗浄作業
終了後、全開し主洗浄液Ｌを所定量排水する。符号１８
は、給水弁であり、管路１９を介して開閉し、すすぎ槽
９へ水道水Ｗの給水を行う。符号２０は、サーミスタを
使用した温度センサであり、洗浄槽５内の主洗浄液Ｌの
液温を検知する。符号２１はプログラマブルコントロー
ラから構成される制御部であり主洗浄液Ｌの温度制御を
含む食器洗浄機の各部を制御する。
【０００６】２２は上記説明の洗浄機本体部の前段に配
置されたシンク槽、２３は本体部での洗浄工程終了後に
ラック４を引き出して一時的に置く作業テーブルであ
る。シンク槽２２は、本体部の洗浄前に被洗浄食器を湯
又は水の予備洗浄液に浸漬させることにより汚れを落と
し易くし、本体部での洗浄効果を高めるための予備洗浄
として有効である。
置されたシンク槽、２３は本体部での洗浄工程終了後に
ラック４を引き出して一時的に置く作業テーブルであ
る。シンク槽２２は、本体部の洗浄前に被洗浄食器を湯
又は水の予備洗浄液に浸漬させることにより汚れを落と
し易くし、本体部での洗浄効果を高めるための予備洗浄
として有効である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このような従来構成の
シンク槽の問題点は、被洗浄食器の汚れが米飯や硬化し
た汚れの場合には予備洗浄作用が十分ではなく、本体部
での洗浄を経ても洗浄が不十分の場合がある。
シンク槽の問題点は、被洗浄食器の汚れが米飯や硬化し
た汚れの場合には予備洗浄作用が十分ではなく、本体部
での洗浄を経ても洗浄が不十分の場合がある。
【０００８】この発明は、従来シンク槽の上記問題を解
消した食器洗浄機を提供することを目的とするものであ
り、十分な予備洗浄効果を発揮できるシンク槽構造を具
備したる食器洗浄機を実現する。
消した食器洗浄機を提供することを目的とするものであ
り、十分な予備洗浄効果を発揮できるシンク槽構造を具
備したる食器洗浄機を実現する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述した問題点を解決す
るための本発明の構成上の特徴の第１は、洗浄室下部に
配置され主洗浄液を貯留する洗浄槽と、上記洗浄室上部
に設けられた上部主洗浄ノズル及び洗浄室下部に設けら
れた下部主洗浄ノズルと、上記主洗浄液を管路を介して
上記上部及び下部主洗浄ノズルに循環供給する主洗浄ポ
ンプと、高温のすすぎ液を生成するすすぎ湯槽と、この
すすぎ湯槽内のすすぎ湯を上記洗浄室上部に設けられた
上部すすぎノズル及び洗浄室下部に設けられた下部すす
ぎノズルに循環供給するすすぎポンプとよりなる食器洗
浄機本体部と、この本体部の前段に設けられたシンク槽
と、このシンク槽へ予備洗浄液を供給する給水手段と、
上記シンク槽内に形成された噴射ノズルと、上記シンク
槽内の予備洗浄液を上記噴射ノズルに循環供給する噴射
ポンプとを具備せしめた点にある。
るための本発明の構成上の特徴の第１は、洗浄室下部に
配置され主洗浄液を貯留する洗浄槽と、上記洗浄室上部
に設けられた上部主洗浄ノズル及び洗浄室下部に設けら
れた下部主洗浄ノズルと、上記主洗浄液を管路を介して
上記上部及び下部主洗浄ノズルに循環供給する主洗浄ポ
ンプと、高温のすすぎ液を生成するすすぎ湯槽と、この
すすぎ湯槽内のすすぎ湯を上記洗浄室上部に設けられた
上部すすぎノズル及び洗浄室下部に設けられた下部すす
ぎノズルに循環供給するすすぎポンプとよりなる食器洗
浄機本体部と、この本体部の前段に設けられたシンク槽
と、このシンク槽へ予備洗浄液を供給する給水手段と、
上記シンク槽内に形成された噴射ノズルと、上記シンク
槽内の予備洗浄液を上記噴射ノズルに循環供給する噴射
ポンプとを具備せしめた点にある。
【００１０】さらに本発明の構成上の特徴の第２は、シ
ンク槽内の予備洗浄液を一定温度に制御する加熱ヒータ
を具備せしめた点にあり、特徴の第３はシンク槽の空焚
き監視機能を具備せしめた点にある。
ンク槽内の予備洗浄液を一定温度に制御する加熱ヒータ
を具備せしめた点にあり、特徴の第３はシンク槽の空焚
き監視機能を具備せしめた点にある。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき、本発明の実
施の形態について詳しく説明する。なお、以下に説明す
る図面において、図３に示した上記従来の食器洗浄機と
同一の構成を有する部分については、同一の符号を付し
てその説明を省略する。
施の形態について詳しく説明する。なお、以下に説明す
る図面において、図３に示した上記従来の食器洗浄機と
同一の構成を有する部分については、同一の符号を付し
てその説明を省略する。
【００１２】本発明に係わる食器洗浄機の構成を図１に
示す。この食器洗浄機の本体部は基本的には図３で説明
した従来の食器洗浄機と同一の構成を有しているので説
明を省き、特徴部であるシンク槽２２の構成につき説明
する。
示す。この食器洗浄機の本体部は基本的には図３で説明
した従来の食器洗浄機と同一の構成を有しているので説
明を省き、特徴部であるシンク槽２２の構成につき説明
する。
【００１３】２３は予備洗浄液Ｒを収容するシンク槽本
体、２４は本体内にセットされるラック、２５はラック
上に置かれた予備洗浄対象食器である。２６はシンク槽
本体に予備洗浄液Ｒ（通常は湯又は水）を供給する管
路、２７はこの管路の途中に挿入された電磁弁である。
体、２４は本体内にセットされるラック、２５はラック
上に置かれた予備洗浄対象食器である。２６はシンク槽
本体に予備洗浄液Ｒ（通常は湯又は水）を供給する管
路、２７はこの管路の途中に挿入された電磁弁である。
【００１４】２８は予備洗浄液Ｒの低水位センサ、２９
は高水位センサであり、これらセンサーの水位検出信号
に基づいて、上記電磁弁２７が開閉制御され、シンク槽
本体内の予備洗浄液Ｒのレベルが所定値に制御される。
は高水位センサであり、これらセンサーの水位検出信号
に基づいて、上記電磁弁２７が開閉制御され、シンク槽
本体内の予備洗浄液Ｒのレベルが所定値に制御される。
【００１５】３０はシンク槽本体底部に設置された加熱
ヒータ、３１は予備洗浄液Ｐの温度センサであり、この
センサの温度検出信号に基づいて、上記加熱ヒータ３０
への電流供給がオンオフ制御され、シンク槽本体内の予
備洗浄液ｐの温度が所定値に制御される。３２は空焚き
センサであり、加熱ヒータ３０の異常温度上昇を検出
し、電流供給を遮断する。
ヒータ、３１は予備洗浄液Ｐの温度センサであり、この
センサの温度検出信号に基づいて、上記加熱ヒータ３０
への電流供給がオンオフ制御され、シンク槽本体内の予
備洗浄液ｐの温度が所定値に制御される。３２は空焚き
センサであり、加熱ヒータ３０の異常温度上昇を検出
し、電流供給を遮断する。
【００１６】３３は予備洗浄液Ｒのオーバーフロー及び
ドレイン管路である。３４ａ及び３４ｂはシンク槽本体
底部に形成された噴流ノズル、３５は噴流ポンプであ
り、シンク槽本体底部より入力管路３６，３７を介して
予備洗浄液Ｒを導入し、出力管路３８を介して上記噴流
ノズル３４ａ及び３４ｂよりジェット噴流３９を予備洗
浄対象食器２５に噴射する。
ドレイン管路である。３４ａ及び３４ｂはシンク槽本体
底部に形成された噴流ノズル、３５は噴流ポンプであ
り、シンク槽本体底部より入力管路３６，３７を介して
予備洗浄液Ｒを導入し、出力管路３８を介して上記噴流
ノズル３４ａ及び３４ｂよりジェット噴流３９を予備洗
浄対象食器２５に噴射する。
【００１７】次に、シンク槽各部の動作シーケンスを図
２のフローチャートにより説明する。シーケンスは、ス
タート４０以後同時並行して作動する給湯（水）系４
１、噴流ポンプ系４２、ヒータ系４３の３系統よりな
る。
２のフローチャートにより説明する。シーケンスは、ス
タート４０以後同時並行して作動する給湯（水）系４
１、噴流ポンプ系４２、ヒータ系４３の３系統よりな
る。
【００１８】給湯（水）系４１では、高水位センサ２９
により予備洗浄液Ｒの満水が監視される。満水レベル以
下では電磁弁２７が開で外部より管路２６を介して予備
洗浄液Ｒがシンク槽本体に供給され、満水を検出した時
は電磁弁２７は閉とされ、予備洗浄液Ｐの供給は遮断さ
れる。
により予備洗浄液Ｒの満水が監視される。満水レベル以
下では電磁弁２７が開で外部より管路２６を介して予備
洗浄液Ｒがシンク槽本体に供給され、満水を検出した時
は電磁弁２７は閉とされ、予備洗浄液Ｐの供給は遮断さ
れる。
【００１９】噴流ポンプ系４２では、同じく満水が監視
され、満水レベル以下では給湯（水）系４１に引き渡さ
れ、満水まで待機する。満水となれば噴流ポンプ３５が
オンとなりジェット噴流により予備洗浄が実行される。
この噴流シーケンスでは低水位センサ２８により安全水
位が監視され、低水位以下が検出されると噴流ポンプを
オフとして最初の満水監視のシーケンスに戻る。
され、満水レベル以下では給湯（水）系４１に引き渡さ
れ、満水まで待機する。満水となれば噴流ポンプ３５が
オンとなりジェット噴流により予備洗浄が実行される。
この噴流シーケンスでは低水位センサ２８により安全水
位が監視され、低水位以下が検出されると噴流ポンプを
オフとして最初の満水監視のシーケンスに戻る。
【００２０】ヒータ系４３では、まず空焚きセンサー３
２により空焚きが監視され、空焚きの場合は加熱ヒータ
３０は強制的にオフとされる。空焚きでない場合には、
予備洗浄液の低水位が監視され、低水位の場合には給湯
（水）系４１に引き渡されてさらに加熱ヒータはオフと
される。低水位以上であればさらに温度センサー３１に
より予備洗浄液Ｒの温度が監視され設定値（たとえば４
０℃）以下であれば加熱ヒータ３０への電流供給をオン
とし最初のシーケンスに戻り、設定値以上であれば加熱
ヒータ３０への電流供給をオフとして最初のシーケンス
に戻る。
２により空焚きが監視され、空焚きの場合は加熱ヒータ
３０は強制的にオフとされる。空焚きでない場合には、
予備洗浄液の低水位が監視され、低水位の場合には給湯
（水）系４１に引き渡されてさらに加熱ヒータはオフと
される。低水位以上であればさらに温度センサー３１に
より予備洗浄液Ｒの温度が監視され設定値（たとえば４
０℃）以下であれば加熱ヒータ３０への電流供給をオン
とし最初のシーケンスに戻り、設定値以上であれば加熱
ヒータ３０への電流供給をオフとして最初のシーケンス
に戻る。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明ではシンク
槽自体に予備洗浄液の循環噴流機能を持たせたため、従
来のシンク槽構造では落ちにくい米飯や硬化した汚れに
対して十分な予備洗浄を行うことが可能となり、洗浄機
本体部での洗浄効率を格段に向上せしめることが可能と
なる。また、予備洗浄能力向上に伴い洗浄機本体部の負
担が軽くなり、洗浄機自体ののコスト低減並びに全体の
ランニングコスト低減にも貢献できる。
槽自体に予備洗浄液の循環噴流機能を持たせたため、従
来のシンク槽構造では落ちにくい米飯や硬化した汚れに
対して十分な予備洗浄を行うことが可能となり、洗浄機
本体部での洗浄効率を格段に向上せしめることが可能と
なる。また、予備洗浄能力向上に伴い洗浄機本体部の負
担が軽くなり、洗浄機自体ののコスト低減並びに全体の
ランニングコスト低減にも貢献できる。
【図１】 本発明の一実施形態による食器洗浄機の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図２】 本発明におけるシンク槽各部の動作シーケン
スを説明するフローチャート図である。
スを説明するフローチャート図である。
【図３】 従来の食器洗浄機の構成を示す図である。
Ｌ 主洗浄液 Ｑ すすぎ湯 Ｗ 水道水 Ｒ 予備洗浄液 ２ 洗浄室 ３ 被洗浄食器 ５ 洗浄槽 ６ａ 上部主洗浄ノズル ６ｂ 下部主洗浄ノズル ７ 主洗浄ポンプ ８ 管路 ９ すすぎ湯槽 １０ すすぎポンプ ２２ シンク槽 ２３ 作業テーブル ２４ シンク槽本体 ２５ 予備洗浄対象食器 ２６ 予備洗浄液供給管路 ２７ 電磁弁 ２８ 低水位センサ ２９ 高水位センサ ３０ 加熱ヒータ ３１ 温度センサ ３２ 空焚きセンサ ３３ ドレイン管路 ３５ 噴流ポンプ ３９ ジェット噴流
Claims (3)
- 【請求項１】 洗浄室下部に配置され主洗浄液を貯留す
る洗浄槽と、上記洗浄室上部に設けられた上部主洗浄ノ
ズル及び洗浄室下部に設けられた下部主洗浄ノズルと、
上記主洗浄液を管路を介して上記上部及び下部主洗浄ノ
ズルに循環供給する主洗浄ポンプと、高温のすすぎ液を
生成するすすぎ湯槽と、このすすぎ湯槽内のすすぎ湯を
上記洗浄室上部に設けられた上部すすぎノズル及び洗浄
室下部に設けられた下部すすぎノズルに循環供給するす
すぎポンプとよりなる食器洗浄機本体部と、この本体部
の前段に設けられたシンク槽と、このシンク槽へ予備洗
浄液を供給する給水手段と、上記シンク槽内に形成され
た噴射ノズルと、上記シンク槽内の予備洗浄液を上記噴
射ノズルに循環供給する噴射ポンプとを具備することを
特徴とする食器洗浄機。 - 【請求項２】上記シンク槽内の予備洗浄液を一定温度に
制御する加熱ヒータを具備することを特徴とする請求項
１記載の食器洗浄機。 - 【請求項３】上記シンク槽の空焚き監視機能を具備する
ことを特徴とする請求項２記載の食器洗浄機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11090265A JP2000279357A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 食器洗浄機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11090265A JP2000279357A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 食器洗浄機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000279357A true JP2000279357A (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=13993687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11090265A Withdrawn JP2000279357A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 食器洗浄機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000279357A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011010663A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Hoshizaki Electric Co Ltd | 食器洗浄機用ガスブースター |
| JP2015231568A (ja) * | 2008-12-17 | 2015-12-24 | ウェクスシエディスク・エービーＷｅｘｉｏｅｄｉｓｋ Ａｂ | 食器の予備ゆすぎ |
| JP2020081616A (ja) * | 2018-11-29 | 2020-06-04 | 花王プロフェッショナル・サービス株式会社 | 食器洗浄システム |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP11090265A patent/JP2000279357A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015231568A (ja) * | 2008-12-17 | 2015-12-24 | ウェクスシエディスク・エービーＷｅｘｉｏｅｄｉｓｋ Ａｂ | 食器の予備ゆすぎ |
| EP2375957A4 (en) * | 2008-12-17 | 2017-07-26 | Wexiödisk Ab | Pre-rinsing of dishes |
| JP2011010663A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Hoshizaki Electric Co Ltd | 食器洗浄機用ガスブースター |
| JP2020081616A (ja) * | 2018-11-29 | 2020-06-04 | 花王プロフェッショナル・サービス株式会社 | 食器洗浄システム |
| JP7154976B2 (ja) | 2018-11-29 | 2022-10-18 | 花王プロフェッショナル・サービス株式会社 | 食器洗浄システム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060606 |