JP2000277840A - パルスレーザ用の充放電回路 - Google Patents
パルスレーザ用の充放電回路Info
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
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- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
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- H02J—CIRCUIT ARRANGEMENTS OR SYSTEMS FOR SUPPLYING OR DISTRIBUTING ELECTRIC POWER; SYSTEMS FOR STORING ELECTRIC ENERGY
- H02J7/00—Circuit arrangements for charging or depolarising batteries or for supplying loads from batteries
- H02J7/007—Regulation of charging or discharging current or voltage
- H02J7/00711—Regulation of charging or discharging current or voltage with introduction of pulses during the charging process
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/134—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
Abstract
(57)【要約】
【課題】 パルスレーザの発振周波数を上げることが可
能なパルスレーザ用の充放電回路を提供する。 【解決手段】 両極間電圧ＶCが最終目標値ＶFに達する
までコンデンサＣ0に電荷を充電する高圧電源１８と、
この電荷を放電電極５，５間でパルス状に放電させてパ
ルスレーザ光１１を発振させる放電回路３と、パルスレ
ーザ光１１の１パルスごとのパルス発光量に基づき、次
に充電を行なう際の両極間電圧ＶCの最終目標値ＶFを算
出し、高圧電源１８に出力するレーザコントローラ４と
を備えたパルスレーザ用の充放電回路において、レーザ
コントローラ４が両極間電圧ＶCの最終目標値ＶFを算出
する以前から、所定の１次目標値Ｖ1に向けて電荷の充
電を開始し、最終目標値ＶFの算出後、最終目標値ＶFま
で充電を行なっている。
能なパルスレーザ用の充放電回路を提供する。 【解決手段】 両極間電圧ＶCが最終目標値ＶFに達する
までコンデンサＣ0に電荷を充電する高圧電源１８と、
この電荷を放電電極５，５間でパルス状に放電させてパ
ルスレーザ光１１を発振させる放電回路３と、パルスレ
ーザ光１１の１パルスごとのパルス発光量に基づき、次
に充電を行なう際の両極間電圧ＶCの最終目標値ＶFを算
出し、高圧電源１８に出力するレーザコントローラ４と
を備えたパルスレーザ用の充放電回路において、レーザ
コントローラ４が両極間電圧ＶCの最終目標値ＶFを算出
する以前から、所定の１次目標値Ｖ1に向けて電荷の充
電を開始し、最終目標値ＶFの算出後、最終目標値ＶFま
で充電を行なっている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、パルスレーザ用の
充放電回路に関する。
充放電回路に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、エキシマレーザのように、放
電電極間に所定の周期で放電を行なってレーザ媒質を励
起し、レーザ光をパルス状に発振させるパルスレーザが
知られている。図６に、従来技術に係るパルスレーザ用
の充放電回路のブロック図を示す。同図において充放電
回路は、第１のコンデンサＣ0と、第１のコンデンサＣ0
に高電圧の電荷を充電する高圧電源１８と、この電荷を
放電電極５，５間に印加する放電回路３とを備えてい
る。放電電極５，５間に印加された電荷は、放電電極
５，５間で放電を起こし、レーザ媒質を励起してパルス
レーザ光１１を発振させる。発振したパルスレーザ光１
１は、加工機１５に達して加工に供される。高圧電源１
８及び放電回路３は、レーザ発振を制御するレーザコン
トローラ４にそれぞれ接続されている。高圧電源１８
は、レーザコントローラ４からの充電指令信号Ｈ1の入
力に伴い、第１のコンデンサＣ0への充電を開始する。
また、放電回路３は、加工機１５からのトリガ信号Ｔr
の入力に伴い、第１のコンデンサＣ0に充電された電荷
を放電電極５，５に印加する。
電電極間に所定の周期で放電を行なってレーザ媒質を励
起し、レーザ光をパルス状に発振させるパルスレーザが
知られている。図６に、従来技術に係るパルスレーザ用
の充放電回路のブロック図を示す。同図において充放電
回路は、第１のコンデンサＣ0と、第１のコンデンサＣ0
に高電圧の電荷を充電する高圧電源１８と、この電荷を
放電電極５，５間に印加する放電回路３とを備えてい
る。放電電極５，５間に印加された電荷は、放電電極
５，５間で放電を起こし、レーザ媒質を励起してパルス
レーザ光１１を発振させる。発振したパルスレーザ光１
１は、加工機１５に達して加工に供される。高圧電源１
８及び放電回路３は、レーザ発振を制御するレーザコン
トローラ４にそれぞれ接続されている。高圧電源１８
は、レーザコントローラ４からの充電指令信号Ｈ1の入
力に伴い、第１のコンデンサＣ0への充電を開始する。
また、放電回路３は、加工機１５からのトリガ信号Ｔr
の入力に伴い、第１のコンデンサＣ0に充電された電荷
を放電電極５，５に印加する。
【０００３】このようなパルスレーザを、例えばレーザ
リソグラフィ等の精密加工に使用する場合には、１パル
スごとのパルスレーザ光１１のエネルギー（以下、パル
ス発光量と呼ぶ）を、精密に制御しなければならない。
そのためには、第１のコンデンサＣ0の両極間に充電さ
れる両極間電圧ＶCを１パルスごとに制御する必要があ
る。即ち、加工機１５は、パルスレーザ光１１の発振後
に発光モニタ１２によって前記パルス発光量を測定し、
次の発振の際のパルス発光量をレーザコントローラ４に
要求している。このパルス発光量をパルス発光要求量Ｐ
xと呼び、パルス発光量要求信号Ｐによりレーザコント
ローラ４に送られる。レーザコントローラ４は、このパ
ルス発光要求量Ｐxに基づいて所定の演算を行ない、両
極間電圧ＶCの最終目標値ＶFを算出し、これを目標値信
号ＶHにより高圧電源１８に送信する。
リソグラフィ等の精密加工に使用する場合には、１パル
スごとのパルスレーザ光１１のエネルギー（以下、パル
ス発光量と呼ぶ）を、精密に制御しなければならない。
そのためには、第１のコンデンサＣ0の両極間に充電さ
れる両極間電圧ＶCを１パルスごとに制御する必要があ
る。即ち、加工機１５は、パルスレーザ光１１の発振後
に発光モニタ１２によって前記パルス発光量を測定し、
次の発振の際のパルス発光量をレーザコントローラ４に
要求している。このパルス発光量をパルス発光要求量Ｐ
xと呼び、パルス発光量要求信号Ｐによりレーザコント
ローラ４に送られる。レーザコントローラ４は、このパ
ルス発光要求量Ｐxに基づいて所定の演算を行ない、両
極間電圧ＶCの最終目標値ＶFを算出し、これを目標値信
号ＶHにより高圧電源１８に送信する。
【０００４】図７に、従来技術に係る充放電のタイミン
グチャートを示す。同図において、時刻ｔ1におけるト
リガ信号Ｔrの入力に伴い、第１のコンデンサＣ0の両極
間に充電された電荷が放電電極５，５間に印加され、パ
ルスレーザ光１１が発振する。レーザコントローラ４
は、パルスレーザ光１１の発振終了後、時刻ｔ2におい
て発光モニタ１２からパルス発光要求量Ｐxを受信す
る。このパルス発光要求量Ｐxに基づき、レーザコント
ローラ４は時刻ｔ2から時刻ｔ3の間に、次のパルスレー
ザ発振時に第１のコンデンサＣ0に充電する両極間電圧
ＶCの最終目標値ＶFを算出するための演算を行なう。そ
して、時刻ｔ3において、レーザコントローラ４は算出
した最終目標値ＶFを目標値信号ＶHにより高圧電源１８
に送信すると共に、充電指令信号Ｈ1を高圧電源１８に
入力し、高圧電源１８は第１のコンデンサＣ0に充電を
開始する。そして、時刻ｔ4において、両極間電圧ＶCが
最終目標値ＶFとなると、高圧電源１８は充電を終了
し、時刻ｔ5においてトリガ信号Ｔrの入力に伴ってこの
電荷を放電電極５，５間に印加する。これにより、放電
が起き、パルスレーザ光１１が発振する。
グチャートを示す。同図において、時刻ｔ1におけるト
リガ信号Ｔrの入力に伴い、第１のコンデンサＣ0の両極
間に充電された電荷が放電電極５，５間に印加され、パ
ルスレーザ光１１が発振する。レーザコントローラ４
は、パルスレーザ光１１の発振終了後、時刻ｔ2におい
て発光モニタ１２からパルス発光要求量Ｐxを受信す
る。このパルス発光要求量Ｐxに基づき、レーザコント
ローラ４は時刻ｔ2から時刻ｔ3の間に、次のパルスレー
ザ発振時に第１のコンデンサＣ0に充電する両極間電圧
ＶCの最終目標値ＶFを算出するための演算を行なう。そ
して、時刻ｔ3において、レーザコントローラ４は算出
した最終目標値ＶFを目標値信号ＶHにより高圧電源１８
に送信すると共に、充電指令信号Ｈ1を高圧電源１８に
入力し、高圧電源１８は第１のコンデンサＣ0に充電を
開始する。そして、時刻ｔ4において、両極間電圧ＶCが
最終目標値ＶFとなると、高圧電源１８は充電を終了
し、時刻ｔ5においてトリガ信号Ｔrの入力に伴ってこの
電荷を放電電極５，５間に印加する。これにより、放電
が起き、パルスレーザ光１１が発振する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術には、次に述べるような問題点がある。
来技術には、次に述べるような問題点がある。
【０００６】即ち、パルスレーザ光１１のパルス発光量
が同じであれば、加工機１５でレーザ加工を行なう際の
単位時間当たりの加工量は、パルスレーザの発振周波数
に略比例する。パルス発光量を増大させるためにはパル
スレーザを大型化する必要があり、装置のコストアップ
に繋がるため、同じパルスレーザにおいてより大量の加
工を行なうために、パルスレーザの発振周波数を増すこ
とが求められている。特に、半導体の生産を行なうレー
ザリソグラフィ用の光源となるエキシマレーザや真空紫
外レーザにその要求が大きい。従来技術によれば、パル
スレーザの発振から次の発振までに要する時間は、(1)
レーザコントローラ４が最終目標値ＶFの演算を開始す
る時刻ｔ2から、レーザコントローラ４が演算を終了し
て高圧電源１８に最終目標値ＶFを指示する時刻ｔ3まで
の時間ｔsと、(2)充電を開始する時刻ｔ3から、第１の
コンデンサＣ0の充電を終了する時刻ｔ4までの時間ｔp
とが大半を占めている。即ち、発振周波数を増加させる
ためには、この時間ｔsと時間ｔpとを短くする必要があ
る。
が同じであれば、加工機１５でレーザ加工を行なう際の
単位時間当たりの加工量は、パルスレーザの発振周波数
に略比例する。パルス発光量を増大させるためにはパル
スレーザを大型化する必要があり、装置のコストアップ
に繋がるため、同じパルスレーザにおいてより大量の加
工を行なうために、パルスレーザの発振周波数を増すこ
とが求められている。特に、半導体の生産を行なうレー
ザリソグラフィ用の光源となるエキシマレーザや真空紫
外レーザにその要求が大きい。従来技術によれば、パル
スレーザの発振から次の発振までに要する時間は、(1)
レーザコントローラ４が最終目標値ＶFの演算を開始す
る時刻ｔ2から、レーザコントローラ４が演算を終了し
て高圧電源１８に最終目標値ＶFを指示する時刻ｔ3まで
の時間ｔsと、(2)充電を開始する時刻ｔ3から、第１の
コンデンサＣ0の充電を終了する時刻ｔ4までの時間ｔp
とが大半を占めている。即ち、発振周波数を増加させる
ためには、この時間ｔsと時間ｔpとを短くする必要があ
る。
【０００７】しかしながら、時間ｔsを短くするために
は、レーザコントローラ４の演算能力を上げなければな
らず、高価なコンピュータ等の演算装置が必要となる。
また、時間ｔpを短くするためには、高圧電源１８の充
電能力を上げなければならず、高圧電源１８が大型化す
るとともに高価になる。このように、従来技術によれ
ば、放電から次の充電を完了するまでの時間に長時間を
要し、パルスレーザ光１１の発振周波数を上げることが
困難であるという問題がある。
は、レーザコントローラ４の演算能力を上げなければな
らず、高価なコンピュータ等の演算装置が必要となる。
また、時間ｔpを短くするためには、高圧電源１８の充
電能力を上げなければならず、高圧電源１８が大型化す
るとともに高価になる。このように、従来技術によれ
ば、放電から次の充電を完了するまでの時間に長時間を
要し、パルスレーザ光１１の発振周波数を上げることが
困難であるという問題がある。
【０００８】本発明は、上記の問題点に着目してなされ
たものであり、パルスレーザの発振周波数を上げること
が可能なパルスレーザ用の充放電回路を提供することを
目的としている。
たものであり、パルスレーザの発振周波数を上げること
が可能なパルスレーザ用の充放電回路を提供することを
目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、第１発明は、コンデンサの両極間
電圧が最終目標値に達するまでコンデンサに電荷を充電
する高圧電源と、この電荷を放電電極間でパルス状に放
電させてレーザ媒質を励起し、パルスレーザ光を発振さ
せる放電回路と、このパルスレーザ光の１パルスごとの
パルス発光量を検出するパルスモニタと、レーザ発振後
に、パルス発光量に基づき、次にコンデンサの充電を行
なう際の両極間電圧の最終目標値を算出し、高圧電源に
出力するレーザコントローラとを備えたパルスレーザ用
の充放電回路において、前記レーザコントローラがコン
デンサの両極間電圧の最終目標値を算出する以前から、
所定の１次目標値に向けてコンデンサに電荷の充電を開
始し、最終目標値の算出後、算出した最終目標値まで充
電を行なうことを特徴とするパルスレーザ用の充放電回
路。
的を達成するために、第１発明は、コンデンサの両極間
電圧が最終目標値に達するまでコンデンサに電荷を充電
する高圧電源と、この電荷を放電電極間でパルス状に放
電させてレーザ媒質を励起し、パルスレーザ光を発振さ
せる放電回路と、このパルスレーザ光の１パルスごとの
パルス発光量を検出するパルスモニタと、レーザ発振後
に、パルス発光量に基づき、次にコンデンサの充電を行
なう際の両極間電圧の最終目標値を算出し、高圧電源に
出力するレーザコントローラとを備えたパルスレーザ用
の充放電回路において、前記レーザコントローラがコン
デンサの両極間電圧の最終目標値を算出する以前から、
所定の１次目標値に向けてコンデンサに電荷の充電を開
始し、最終目標値の算出後、算出した最終目標値まで充
電を行なうことを特徴とするパルスレーザ用の充放電回
路。
【００１０】第１発明によれば、レーザコントローラが
パルスレーザ光のパルス発光量に基づいて最終目標値を
算出する前に、コンデンサの両極間に充電を開始してい
る。これにより、レーザコントローラが両極間電圧の目
標値を演算している時間も充電を行なっているので、パ
ルスレーザ光が発振してからコンデンサの充電を終了す
るまでの時間が短縮され、パルスレーザ光の発振周波数
を上げることができる。
パルスレーザ光のパルス発光量に基づいて最終目標値を
算出する前に、コンデンサの両極間に充電を開始してい
る。これにより、レーザコントローラが両極間電圧の目
標値を演算している時間も充電を行なっているので、パ
ルスレーザ光が発振してからコンデンサの充電を終了す
るまでの時間が短縮され、パルスレーザ光の発振周波数
を上げることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図を参照しながら、本発明
に係る実施形態を詳細に説明する。尚、各実施形態にお
いて、前記従来技術の説明に使用した図と同一の要素に
は同一符号を付し、重複説明は省略する。
に係る実施形態を詳細に説明する。尚、各実施形態にお
いて、前記従来技術の説明に使用した図と同一の要素に
は同一符号を付し、重複説明は省略する。
【００１２】以下、図１〜図５に基づいて実施形態を説
明する。図１は、本実施形態に係るパルスレーザ用の充
放電回路のブロック図である。同図において充放電回路
は、第１のコンデンサＣ0と、第１のコンデンサＣ0に高
電圧の電荷を充電する高圧電源１８と、この電荷を放電
電極５，５間に印加する放電回路３とを備えている。放
電電極５，５間に印加された電荷は放電電極５，５間で
放電を起こし、レーザ媒質を励起してパルスレーザ光１
１を発振させる。パルス状に発振したパルスレーザ光１
１は、加工機１５に達して加工に供される。また、高圧
電源１８及び放電回路３は、レーザ発振を制御するレー
ザコントローラ４にそれぞれ接続されている。
明する。図１は、本実施形態に係るパルスレーザ用の充
放電回路のブロック図である。同図において充放電回路
は、第１のコンデンサＣ0と、第１のコンデンサＣ0に高
電圧の電荷を充電する高圧電源１８と、この電荷を放電
電極５，５間に印加する放電回路３とを備えている。放
電電極５，５間に印加された電荷は放電電極５，５間で
放電を起こし、レーザ媒質を励起してパルスレーザ光１
１を発振させる。パルス状に発振したパルスレーザ光１
１は、加工機１５に達して加工に供される。また、高圧
電源１８及び放電回路３は、レーザ発振を制御するレー
ザコントローラ４にそれぞれ接続されている。
【００１３】高圧電源１８は、レーザコントローラ４か
らの指示に基づいてコンデンサＣ0の両極間電圧ＶCを制
御する充電コントローラ６と、第１の整流回路７と、イ
ンバータ８と、昇圧トランス９と、第２の整流回路１０
とを備えている。第１の整流回路７は、例えば２００Ｖ
の３相交流を、約３００Ｖの脈流に整流する。インバー
タ８は、この脈流をチョッピングして、例えば約２０kH
zの高周波交流として出力する。この高周波交流は、昇
圧トランス９で昇圧され、約１０ｋＶの高圧高周波交流
となる。第２の整流回路１０は、高圧高周波交流を整流
してピーク値が略一定の高周波電流とする。図２に、第
２の整流回路１０から出力する電流の波形を示す。同図
において、縦軸が電流ｉ、横軸が時間ｔである。この高
周波電流により、第１のコンデンサＣ0が充電される。
このとき、高周波電流が流れる時間が長いほど、第１の
コンデンサＣ0の両極間に充電される両極間電圧ＶCは高
くなる。
らの指示に基づいてコンデンサＣ0の両極間電圧ＶCを制
御する充電コントローラ６と、第１の整流回路７と、イ
ンバータ８と、昇圧トランス９と、第２の整流回路１０
とを備えている。第１の整流回路７は、例えば２００Ｖ
の３相交流を、約３００Ｖの脈流に整流する。インバー
タ８は、この脈流をチョッピングして、例えば約２０kH
zの高周波交流として出力する。この高周波交流は、昇
圧トランス９で昇圧され、約１０ｋＶの高圧高周波交流
となる。第２の整流回路１０は、高圧高周波交流を整流
してピーク値が略一定の高周波電流とする。図２に、第
２の整流回路１０から出力する電流の波形を示す。同図
において、縦軸が電流ｉ、横軸が時間ｔである。この高
周波電流により、第１のコンデンサＣ0が充電される。
このとき、高周波電流が流れる時間が長いほど、第１の
コンデンサＣ0の両極間に充電される両極間電圧ＶCは高
くなる。
【００１４】また、放電回路３は、スイッチング素子Ｓ
Ｗと、第１の可飽和リアクトルＬ1と、第２のコンデン
サＣ1と、第２の可飽和リアクトルＬ2と、第３のコンデ
ンサＣ2とを備えている。第１、第２の可飽和リアクト
ルＬ1，Ｌ2は、いずれもそれらの両端に加えられた電圧
と電圧の印加時間との積が所定の値になると飽和して、
急激に低インピーダンスとなるようになっている。ま
た、サイラトロンやサイリスタ等からなるスイッチング
素子ＳＷは、レーザコントローラ４に接続されており、
レーザコントローラ４からのトリガ信号Ｔrの入力によ
り入出力間が短絡する。尚、本実施形態では、図１に示
すようにこのトリガ信号Ｔrは、加工機１５からレーザ
コントローラ４を介して送られてくるが、レーザコント
ローラ４から発生する場合もある。
Ｗと、第１の可飽和リアクトルＬ1と、第２のコンデン
サＣ1と、第２の可飽和リアクトルＬ2と、第３のコンデ
ンサＣ2とを備えている。第１、第２の可飽和リアクト
ルＬ1，Ｌ2は、いずれもそれらの両端に加えられた電圧
と電圧の印加時間との積が所定の値になると飽和して、
急激に低インピーダンスとなるようになっている。ま
た、サイラトロンやサイリスタ等からなるスイッチング
素子ＳＷは、レーザコントローラ４に接続されており、
レーザコントローラ４からのトリガ信号Ｔrの入力によ
り入出力間が短絡する。尚、本実施形態では、図１に示
すようにこのトリガ信号Ｔrは、加工機１５からレーザ
コントローラ４を介して送られてくるが、レーザコント
ローラ４から発生する場合もある。
【００１５】第１のコンデンサＣ0の両極間に両極間電
圧ＶCの電荷が充電されているとき、加工機１５からス
イッチング素子ＳＷにトリガ信号Ｔrが入力されると、
スイッチング素子ＳＷが短絡する。この短絡に伴い、第
１の可飽和リアクトルＬ1の両端に電圧が印加され、第
１の可飽和リアクトルＬ1は所定時間後に低インピーダ
ンスとなる。第１のコンデンサＣ0、第２のコンデンサ
Ｃ1、及び第１の可飽和リアクトルＬ1は、第１のＬＣ共
振回路を構成しており、この第１のＬＣ共振回路にパル
ス電流ｉ1が流れて、第１のコンデンサＣ0に充電されて
いた電荷が第２のコンデンサＣ1に移行する。
圧ＶCの電荷が充電されているとき、加工機１５からス
イッチング素子ＳＷにトリガ信号Ｔrが入力されると、
スイッチング素子ＳＷが短絡する。この短絡に伴い、第
１の可飽和リアクトルＬ1の両端に電圧が印加され、第
１の可飽和リアクトルＬ1は所定時間後に低インピーダ
ンスとなる。第１のコンデンサＣ0、第２のコンデンサ
Ｃ1、及び第１の可飽和リアクトルＬ1は、第１のＬＣ共
振回路を構成しており、この第１のＬＣ共振回路にパル
ス電流ｉ1が流れて、第１のコンデンサＣ0に充電されて
いた電荷が第２のコンデンサＣ1に移行する。
【００１６】第２のコンデンサＣ1の両極間に電荷が充
電されると、第２の可飽和リアクトルＬ2の両端に電圧
が印加され、第２の可飽和リアクトルＬ2は所定時間後
に低インピーダンスとなる。第２、第３のコンデンサＣ
1，Ｃ2及び第２の可飽和リアクトルＬ2は、第２のＬＣ
共振回路を構成しており、この第２のＬＣ共振回路にパ
ルス電流ｉ2が流れて、第２のコンデンサＣ1に充電され
ていた電荷が第３のコンデンサＣ2に移行する。
電されると、第２の可飽和リアクトルＬ2の両端に電圧
が印加され、第２の可飽和リアクトルＬ2は所定時間後
に低インピーダンスとなる。第２、第３のコンデンサＣ
1，Ｃ2及び第２の可飽和リアクトルＬ2は、第２のＬＣ
共振回路を構成しており、この第２のＬＣ共振回路にパ
ルス電流ｉ2が流れて、第２のコンデンサＣ1に充電され
ていた電荷が第３のコンデンサＣ2に移行する。
【００１７】このとき、パルス電流ｉ2が流れる第２の
ＬＣ共振回路のインダクタンスが、パルス電流ｉ1が流
れる第１のＬＣ共振回路のインダクタンスよりも小さく
なるようにしているため、パルス電流ｉ2はパルス電流
ｉ1よりもパルス幅が小さく、尖頭値が大きなパルス電
流となっている。即ち、パルスの圧縮が行なわれる。
尚、このようなパルスの圧縮率をさらに高めると放電電
極５，５間でさらに良好な放電が行なわれるため、第
２、第３のコンデンサＣ1，Ｃ2及び第２の可飽和リアク
トルＬ2が構成するＬＣ共振回路を多段に構成する場合
もある。
ＬＣ共振回路のインダクタンスが、パルス電流ｉ1が流
れる第１のＬＣ共振回路のインダクタンスよりも小さく
なるようにしているため、パルス電流ｉ2はパルス電流
ｉ1よりもパルス幅が小さく、尖頭値が大きなパルス電
流となっている。即ち、パルスの圧縮が行なわれる。
尚、このようなパルスの圧縮率をさらに高めると放電電
極５，５間でさらに良好な放電が行なわれるため、第
２、第３のコンデンサＣ1，Ｃ2及び第２の可飽和リアク
トルＬ2が構成するＬＣ共振回路を多段に構成する場合
もある。
【００１８】そして、第３のコンデンサＣ2の両極間の
電圧が所定の値に達すると、放電電極５，５間にパルス
放電が生じ、レーザ媒質が励起されてパルスレーザ光１
１が発振する。
電圧が所定の値に達すると、放電電極５，５間にパルス
放電が生じ、レーザ媒質が励起されてパルスレーザ光１
１が発振する。
【００１９】また、第２の整流回路１０は、両極間電圧
ＶCをモニタリングするモニタ機能を備えており、この
モニタリングした両極間電圧ＶCを充電コントローラ６
に送信する。充電コントローラ６は、レーザコントロー
ラ４から目標値信号ＶH及び充電指令信号Ｈ1を受信す
る。そして、充電指令信号Ｈ1の受信に伴い、目標値信
号ＶHに含まれた目標値と両極間電圧ＶCとを逐次比較
し、両極間電圧ＶC＞目標値である間は、インバータ８
に充電許可信号Ｈ2を送信する。インバータ８は、この
充電許可信号Ｈ2を受信している間、第１のコンデンサ
Ｃ0の充電を行ない、充電許可信号Ｈ2が受信されなくな
ると、第１のコンデンサＣ0の充電を停止する。即ち、
充電コントローラ６は、レーザコントローラ４から送信
された目標値まで第１のコンデンサＣ0を充電する。ま
た、加工機１５には、発振したパルスレーザ光１１のパ
ルス発光量を測定する発光モニタ１２が設けられてい
る。加工機１５は、この測定したパルス発光量に基づ
き、次に発振するパルスレーザ光１１に必要なパルス発
光要求量Ｐxを、パルス発光量要求信号Ｐによりレーザ
コントローラ４に要求する。レーザコントローラ４は、
このパルス発光要求量Ｐxに基づいて、次の充電時に第
１のコンデンサＣ0に充電する両極間電圧ＶCの最終目標
値ＶFを演算する。
ＶCをモニタリングするモニタ機能を備えており、この
モニタリングした両極間電圧ＶCを充電コントローラ６
に送信する。充電コントローラ６は、レーザコントロー
ラ４から目標値信号ＶH及び充電指令信号Ｈ1を受信す
る。そして、充電指令信号Ｈ1の受信に伴い、目標値信
号ＶHに含まれた目標値と両極間電圧ＶCとを逐次比較
し、両極間電圧ＶC＞目標値である間は、インバータ８
に充電許可信号Ｈ2を送信する。インバータ８は、この
充電許可信号Ｈ2を受信している間、第１のコンデンサ
Ｃ0の充電を行ない、充電許可信号Ｈ2が受信されなくな
ると、第１のコンデンサＣ0の充電を停止する。即ち、
充電コントローラ６は、レーザコントローラ４から送信
された目標値まで第１のコンデンサＣ0を充電する。ま
た、加工機１５には、発振したパルスレーザ光１１のパ
ルス発光量を測定する発光モニタ１２が設けられてい
る。加工機１５は、この測定したパルス発光量に基づ
き、次に発振するパルスレーザ光１１に必要なパルス発
光要求量Ｐxを、パルス発光量要求信号Ｐによりレーザ
コントローラ４に要求する。レーザコントローラ４は、
このパルス発光要求量Ｐxに基づいて、次の充電時に第
１のコンデンサＣ0に充電する両極間電圧ＶCの最終目標
値ＶFを演算する。
【００２０】図３に、実施形態に係る充放電のタイミン
グチャートを示す。同図において、時刻ｔ1におけるト
リガ信号Ｔrの放電回路３への入力に伴い、第１のコン
デンサＣ0の両極間に充電された電荷が放電電極５，５
間に印加され、パルスレーザ光１１が発振する。
グチャートを示す。同図において、時刻ｔ1におけるト
リガ信号Ｔrの放電回路３への入力に伴い、第１のコン
デンサＣ0の両極間に充電された電荷が放電電極５，５
間に印加され、パルスレーザ光１１が発振する。
【００２１】このとき、放電電極５，５間での放電によ
って、充放電回路にはキックバック電流と呼ばれる逆起
電力が生じ、所定の充電禁止時間ｔkにわたって高圧電
源１８が不安定状態になっている。そのため、レーザコ
ントローラ４は、時刻ｔ2からこの充電禁止時間ｔkが経
過した時刻ｔ11に至ってから、充電指令信号Ｈ1を充電
コントローラ６に入力する。同時にレーザコントローラ
４は、次の充電における両極間電圧ＶCの目標値とし
て、予め定められた１次目標値Ｖ1を目標値信号ＶHによ
り高圧電源１８に出力する。充電コントローラ６は、充
電指令信号Ｈ1に基づき、充電許可信号Ｈ2をインバータ
８に出力する。これにより、高圧電源１８は、時刻ｔ11
に１次目標値Ｖ1に向けて第１のコンデンサＣ0の充電を
開始する。この充電を１次充電と呼ぶ。また、レーザコ
ントローラ４は、パルスレーザ光１１の発振終了後、時
刻ｔ2において発光モニタ１２からのパルス発光量要求
信号Ｐにより、パルス発光要求量Ｐxを受信している。
このパルス発光要求量Ｐxに基づき、レーザコントロー
ラ４は時刻ｔ2から時刻ｔ3の間に、次のパルスレーザ発
振時に第１のコンデンサＣ0に充電する両極間電圧ＶCの
最終目標値ＶFを算出するための演算を行なっている。
そして、充電コントローラ６は、前述したようにモニタ
リングした両極間電圧ＶCと１次目標値Ｖ1とを逐次比較
している。両極間電圧ＶCは、時刻ｔ12において１次目
標値Ｖ1に達するが、第１のコンデンサＣ0では電荷が自
然放電されるので、この電荷を補充するために、充電コ
ントローラ６は時刻ｔ3まで１次充電を継続する。
って、充放電回路にはキックバック電流と呼ばれる逆起
電力が生じ、所定の充電禁止時間ｔkにわたって高圧電
源１８が不安定状態になっている。そのため、レーザコ
ントローラ４は、時刻ｔ2からこの充電禁止時間ｔkが経
過した時刻ｔ11に至ってから、充電指令信号Ｈ1を充電
コントローラ６に入力する。同時にレーザコントローラ
４は、次の充電における両極間電圧ＶCの目標値とし
て、予め定められた１次目標値Ｖ1を目標値信号ＶHによ
り高圧電源１８に出力する。充電コントローラ６は、充
電指令信号Ｈ1に基づき、充電許可信号Ｈ2をインバータ
８に出力する。これにより、高圧電源１８は、時刻ｔ11
に１次目標値Ｖ1に向けて第１のコンデンサＣ0の充電を
開始する。この充電を１次充電と呼ぶ。また、レーザコ
ントローラ４は、パルスレーザ光１１の発振終了後、時
刻ｔ2において発光モニタ１２からのパルス発光量要求
信号Ｐにより、パルス発光要求量Ｐxを受信している。
このパルス発光要求量Ｐxに基づき、レーザコントロー
ラ４は時刻ｔ2から時刻ｔ3の間に、次のパルスレーザ発
振時に第１のコンデンサＣ0に充電する両極間電圧ＶCの
最終目標値ＶFを算出するための演算を行なっている。
そして、充電コントローラ６は、前述したようにモニタ
リングした両極間電圧ＶCと１次目標値Ｖ1とを逐次比較
している。両極間電圧ＶCは、時刻ｔ12において１次目
標値Ｖ1に達するが、第１のコンデンサＣ0では電荷が自
然放電されるので、この電荷を補充するために、充電コ
ントローラ６は時刻ｔ3まで１次充電を継続する。
【００２２】時刻ｔ3において最終目標値ＶFを算出した
レーザコントローラ４は、目標値信号ＶHにより最終目
標値ＶFを高圧電源１８に送信する。これにより、高圧
電源１８は、最終目標値ＶFに向けて第１のコンデンサ
Ｃ0に充電を行なう。この充電を最終充電と呼ぶ。これ
に伴い、充電コントローラ６は、モニタリングした両極
間電圧ＶCと最終目標値ＶFとを比較する。両極間電圧Ｖ
Cは、時刻ｔ4において最終目標値ＶFに達するが、第１
のコンデンサＣ0では電荷が自然放電されるので、この
電荷を補充するために、充電コントローラ６は時刻ｔ5
まで最終充電を継続する。そして、時刻ｔ5においてト
リガ信号Ｔrがレーザコントローラ４からＳＷに入力さ
れ、第１のコンデンサＣ0に蓄えられた電荷を放電電極
５，５間に印加する。これにより、放電電極５，５間に
次の放電が起き、パルスレーザ光１１が発振する。
レーザコントローラ４は、目標値信号ＶHにより最終目
標値ＶFを高圧電源１８に送信する。これにより、高圧
電源１８は、最終目標値ＶFに向けて第１のコンデンサ
Ｃ0に充電を行なう。この充電を最終充電と呼ぶ。これ
に伴い、充電コントローラ６は、モニタリングした両極
間電圧ＶCと最終目標値ＶFとを比較する。両極間電圧Ｖ
Cは、時刻ｔ4において最終目標値ＶFに達するが、第１
のコンデンサＣ0では電荷が自然放電されるので、この
電荷を補充するために、充電コントローラ６は時刻ｔ5
まで最終充電を継続する。そして、時刻ｔ5においてト
リガ信号Ｔrがレーザコントローラ４からＳＷに入力さ
れ、第１のコンデンサＣ0に蓄えられた電荷を放電電極
５，５間に印加する。これにより、放電電極５，５間に
次の放電が起き、パルスレーザ光１１が発振する。
【００２３】このように、充放電回路はレーザコントロ
ーラ４が最終目標値ＶFを算出するまでに１次充電を開
始し、最終目標値ＶFが算出されたときに、両極間電圧
ＶCを１次目標値Ｖ1としている。即ち、最終目標値ＶF
が算出された後に、従来技術においては両極間電圧ＶC
が０の状態から充電を行なっているのに対し、本実施形
態では１次目標値Ｖ1から最終目標値ＶFとなるまでの最
終充電を行なっている。従って、最終目標値ＶFが算出
されてから、充電が終了するまでに要する時間が短縮さ
れる。
ーラ４が最終目標値ＶFを算出するまでに１次充電を開
始し、最終目標値ＶFが算出されたときに、両極間電圧
ＶCを１次目標値Ｖ1としている。即ち、最終目標値ＶF
が算出された後に、従来技術においては両極間電圧ＶC
が０の状態から充電を行なっているのに対し、本実施形
態では１次目標値Ｖ1から最終目標値ＶFとなるまでの最
終充電を行なっている。従って、最終目標値ＶFが算出
されてから、充電が終了するまでに要する時間が短縮さ
れる。
【００２４】図４に、本実施形態に係るタイミングチャ
ートの他の例を示す。同図において、時刻ｔ11より前の
時刻における動作は、図３に示したタイミングチャート
と同一であり、説明を省略する。時刻ｔ11において、高
圧電源１８は、レーザコントローラ４から受信した１次
目標値Ｖ1に基づいて、第１のコンデンサＣ0の充電を開
始する。
ートの他の例を示す。同図において、時刻ｔ11より前の
時刻における動作は、図３に示したタイミングチャート
と同一であり、説明を省略する。時刻ｔ11において、高
圧電源１８は、レーザコントローラ４から受信した１次
目標値Ｖ1に基づいて、第１のコンデンサＣ0の充電を開
始する。
【００２５】同図においては、レーザコントローラ４に
よる演算が終了して最終目標値ＶFが算出された時刻ｔ3
において、両極間電圧ＶCは１次目標値Ｖ1に達していな
い。このため、充電コントローラ６は、両極間電圧ＶC
と１次目標値Ｖ1とを比較し、充電許可信号Ｈ2をインバ
ータ８に送信し続けている。時刻ｔ3においてレーザコ
ントローラ４が最終目標値ＶFを充電コントローラ６に
送信すると、充電コントローラ６は、両極間電圧ＶCと
最終目標値ＶFとを比較する。そして、両極間電圧ＶCが
最終目標値ＶFに達するまで充電許可信号Ｈ2をインバー
タ８に送信する。その結果、時刻ｔ4において両極間電
圧ＶCが最終目標値ＶFに達し、充電が停止する。或いは
このとき、レーザコントローラ４は、両極間電圧ＶCが
１次電圧Ｖ1に到達したことを確認してから、目標値信
号ＶHを１次目標値Ｖ1から最終目標値ＶFに変えるよう
にしてもよい（図４における二点鎖線ＶH2）。
よる演算が終了して最終目標値ＶFが算出された時刻ｔ3
において、両極間電圧ＶCは１次目標値Ｖ1に達していな
い。このため、充電コントローラ６は、両極間電圧ＶC
と１次目標値Ｖ1とを比較し、充電許可信号Ｈ2をインバ
ータ８に送信し続けている。時刻ｔ3においてレーザコ
ントローラ４が最終目標値ＶFを充電コントローラ６に
送信すると、充電コントローラ６は、両極間電圧ＶCと
最終目標値ＶFとを比較する。そして、両極間電圧ＶCが
最終目標値ＶFに達するまで充電許可信号Ｈ2をインバー
タ８に送信する。その結果、時刻ｔ4において両極間電
圧ＶCが最終目標値ＶFに達し、充電が停止する。或いは
このとき、レーザコントローラ４は、両極間電圧ＶCが
１次電圧Ｖ1に到達したことを確認してから、目標値信
号ＶHを１次目標値Ｖ1から最終目標値ＶFに変えるよう
にしてもよい（図４における二点鎖線ＶH2）。
【００２６】そして、時刻ｔ5においてトリガ信号Ｔrが
レーザコントローラ４からＳＷに入力され、第１のコン
デンサＣ0に蓄えられた電荷を放電電極５，５間に印加
する。これにより、放電電極５，５間に次の放電が起
き、パルスレーザ光１１が発振する。このようなタイミ
ングチャートに従って充電を行なうように１次目標値Ｖ
1を設定すれば、充電を開始した時刻ｔ11から充電を終
了する時刻ｔ4に至るまで、常に一定の単位時間当たり
充電量（同図におけるＶCの傾きに相当する）で充電を
行なうことができる。即ち、高圧電源１８の充電能力
を、最も効率良く使用することが可能となる。
レーザコントローラ４からＳＷに入力され、第１のコン
デンサＣ0に蓄えられた電荷を放電電極５，５間に印加
する。これにより、放電電極５，５間に次の放電が起
き、パルスレーザ光１１が発振する。このようなタイミ
ングチャートに従って充電を行なうように１次目標値Ｖ
1を設定すれば、充電を開始した時刻ｔ11から充電を終
了する時刻ｔ4に至るまで、常に一定の単位時間当たり
充電量（同図におけるＶCの傾きに相当する）で充電を
行なうことができる。即ち、高圧電源１８の充電能力
を、最も効率良く使用することが可能となる。
【００２７】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、最終目標値ＶFが算出される前に予め定めた１次目
標値Ｖ1までの充電を開始し、その後、最終的な最終目
標値ＶFまで充電を行なっている。即ち、最終目標値ＶF
が算出されたときには、すでに第１のコンデンサＣ0の
両極間には電荷が最終目標値ＶFよりも低い所定電圧ま
で充電されている。そのため、高圧電源１８は最終目標
値ＶFの算出後に、両極間電圧ＶCがこの所定電圧から最
終目標値ＶFに達するまでの充電を行なうことになる。
従って、最終目標値ＶFを算出後に、充電に要する時間
が短くなり、より早く充電を終了して次の放電を行なう
ことができる。従って、放電と放電との間隔が短くな
り、パルスレーザの発振周波数を増加させることが可能
である。しかもこのとき、レーザコントローラ４の演算
能力や高圧電源１８の充電能力を増大させずに発振周波
数の増加が可能である。
ば、最終目標値ＶFが算出される前に予め定めた１次目
標値Ｖ1までの充電を開始し、その後、最終的な最終目
標値ＶFまで充電を行なっている。即ち、最終目標値ＶF
が算出されたときには、すでに第１のコンデンサＣ0の
両極間には電荷が最終目標値ＶFよりも低い所定電圧ま
で充電されている。そのため、高圧電源１８は最終目標
値ＶFの算出後に、両極間電圧ＶCがこの所定電圧から最
終目標値ＶFに達するまでの充電を行なうことになる。
従って、最終目標値ＶFを算出後に、充電に要する時間
が短くなり、より早く充電を終了して次の放電を行なう
ことができる。従って、放電と放電との間隔が短くな
り、パルスレーザの発振周波数を増加させることが可能
である。しかもこのとき、レーザコントローラ４の演算
能力や高圧電源１８の充電能力を増大させずに発振周波
数の増加が可能である。
【００２８】また、充電禁止時間ｔkが経過した時刻ｔ1
1から、第１のコンデンサＣ0に充電を開始しているの
で、最終目標値ＶFの充電が終了する時刻ｔ4まで、長い
時間をかけて充電を行なっている。これにより、単位時
間当たりの充電能力が小さな高圧電源１８を用いても、
同等かそれ以上の発振周波数でパルスレーザを発振させ
ることが可能であり、高圧電源１８が小型化する。即
ち、レーザ装置の小型化が可能である。
1から、第１のコンデンサＣ0に充電を開始しているの
で、最終目標値ＶFの充電が終了する時刻ｔ4まで、長い
時間をかけて充電を行なっている。これにより、単位時
間当たりの充電能力が小さな高圧電源１８を用いても、
同等かそれ以上の発振周波数でパルスレーザを発振させ
ることが可能であり、高圧電源１８が小型化する。即
ち、レーザ装置の小型化が可能である。
【００２９】尚、前記１次目標値Ｖ1としては、所定の
最低充電電圧Ｖm以下の値を選ぶのがよい。即ち、パル
スレーザにおいて、第１のコンデンサＣ0に充電される
最終目標値ＶFは、必ず所定の最低充電電圧Ｖm以上とな
っている。これは、最終目標値ＶFが最低充電電圧Ｖm未
満であれば、放電が不安定になり、レーザの出力が不安
定になるためである。従って、１次目標値Ｖ1の値を最
低充電電圧Ｖm以下とすることにより、最終目標値ＶFが
１次目標値Ｖ1以下となることを避けることができる。
即ち、加工機１５から要求されたパルス発光量よりも多
いパルス発光量のパルスレーザ光１１が発振されるのを
防止することができる。
最低充電電圧Ｖm以下の値を選ぶのがよい。即ち、パル
スレーザにおいて、第１のコンデンサＣ0に充電される
最終目標値ＶFは、必ず所定の最低充電電圧Ｖm以上とな
っている。これは、最終目標値ＶFが最低充電電圧Ｖm未
満であれば、放電が不安定になり、レーザの出力が不安
定になるためである。従って、１次目標値Ｖ1の値を最
低充電電圧Ｖm以下とすることにより、最終目標値ＶFが
１次目標値Ｖ1以下となることを避けることができる。
即ち、加工機１５から要求されたパルス発光量よりも多
いパルス発光量のパルスレーザ光１１が発振されるのを
防止することができる。
【００３０】また、以上のタイミングチャートの説明に
用いた図においては、１次充電時と最終充電時におい
て、単位時間当たり充電量が常に等しくなるように作図
したが、これに限られるものではない。例えば、図５に
実線で示したように、１次充電の際には急速に（ＶCの
傾きが大きくなるように）充電し、最終充電の際にはゆ
っくり充電するようにしてもよい。即ち、時刻ｔ12にお
ける両極間電圧ＶCは、パルス発光量に関わりがないの
で、精度良く１次目標値Ｖ1になっている必要はない。
そのため、１次充電を急速に行なうことにより、１次充
電に要する時間を短縮できる。また、最終充電時にはゆ
っくり充電することにより、両極間電圧ＶCを正確に最
終目標値ＶFとすることが可能であり、これによってパ
ルスレーザ光１１のパルス発光量を正確に制御できる。
用いた図においては、１次充電時と最終充電時におい
て、単位時間当たり充電量が常に等しくなるように作図
したが、これに限られるものではない。例えば、図５に
実線で示したように、１次充電の際には急速に（ＶCの
傾きが大きくなるように）充電し、最終充電の際にはゆ
っくり充電するようにしてもよい。即ち、時刻ｔ12にお
ける両極間電圧ＶCは、パルス発光量に関わりがないの
で、精度良く１次目標値Ｖ1になっている必要はない。
そのため、１次充電を急速に行なうことにより、１次充
電に要する時間を短縮できる。また、最終充電時にはゆ
っくり充電することにより、両極間電圧ＶCを正確に最
終目標値ＶFとすることが可能であり、これによってパ
ルスレーザ光１１のパルス発光量を正確に制御できる。
【００３１】また、実施形態では、発光モニタ１２を加
工機１５に備えるように説明したが、これは例えばパル
スレーザに備えるようにしてもよい。
工機１５に備えるように説明したが、これは例えばパル
スレーザに備えるようにしてもよい。
【図１】実施形態に係る充放電回路のブロック図。
【図２】第２の整流回路から出力する電流の波形図。
【図３】実施形態に係る充放電のタイミングチャート。
【図４】実施形態に係る充放電のタイミングチャート。
【図５】実施形態に係る充放電のタイミングチャート。
【図６】従来技術に係る充放電回路のブロック図。
【図７】従来技術に係る充放電のタイミングチャート。
３：放電回路、４：レーザコントローラ、５：放電電
極、６：充電コントローラ、７：第１の整流回路、８：
インバータ、９：昇圧トランス、１０：第２の整流回
路、１１：パルスレーザ光、１２：発光モニタ、１５：
加工機、１８：高圧電源。
極、６：充電コントローラ、７：第１の整流回路、８：
インバータ、９：昇圧トランス、１０：第２の整流回
路、１１：パルスレーザ光、１２：発光モニタ、１５：
加工機、１８：高圧電源。
Claims (1)
- 【請求項１】 コンデンサ(C0)の両極間電圧(VC)が最終
目標値(VF)に達するまでコンデンサ(C0)に電荷を充電す
る高圧電源(18)と、 この電荷を放電電極(5,5)間でパルス状に放電させてレ
ーザ媒質を励起し、パルスレーザ光(11)を発振させる放
電回路(3)と、 このパルスレーザ光(11)の１パルスごとのパルス発光量
を検出するパルスモニタ(12)と、 レーザ発振後に、パルス発光量に基づき、次にコンデン
サ(C0)の充電を行なう際の両極間電圧(VC)の最終目標値
(VF)を算出し、高圧電源(18)に出力するレーザコントロ
ーラ(4)とを備えたパルスレーザ用の充放電回路におい
て、 前記レーザコントローラ(4)がコンデンサ(C0)の両極間
電圧(VC)の最終目標値(VF)を算出する以前から、所定の
１次目標値(V1)に向けてコンデンサ(C0)に電荷の充電を
開始し、 最終目標値(VF)の算出後、算出した最終目標値(VF)まで
充電を行なうことを特徴とするパルスレーザ用の充放電
回路。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11076945A JP2000277840A (ja) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | パルスレーザ用の充放電回路 |
| US09/526,719 US6421362B1 (en) | 1999-03-19 | 2000-03-16 | Charging and discharging circuit for pulse laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11076945A JP2000277840A (ja) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | パルスレーザ用の充放電回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000277840A true JP2000277840A (ja) | 2000-10-06 |
Family
ID=13619902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11076945A Pending JP2000277840A (ja) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | パルスレーザ用の充放電回路 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6421362B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000277840A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3806025B2 (ja) * | 2001-11-29 | 2006-08-09 | 株式会社小松製作所 | ガスレーザ装置 |
| US7003007B2 (en) * | 2003-06-20 | 2006-02-21 | Maxim Integrated Products, Inc. | System and method for using an output transformer for packaged laser diode drivers |
| US7345430B2 (en) * | 2006-02-01 | 2008-03-18 | Ionatron, Inc. | Electrical energy discharge control |
| CN104008882B (zh) * | 2013-02-22 | 2018-03-27 | 王海 | 高压脉冲放电电容器及其制作方法 |
| EP2822113A3 (en) * | 2013-06-28 | 2015-03-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Pulse laser and photoacoustic apparatus |
| US11374676B2 (en) * | 2018-06-04 | 2022-06-28 | Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) | Optical device and hub node for an optical network |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100325995B1 (ko) * | 1994-06-16 | 2002-07-22 | 고마쯔 리미티드 | 방전여기형레이저장치에있어서의레이저가스의제어장치및충방전장치 |
-
1999
- 1999-03-19 JP JP11076945A patent/JP2000277840A/ja active Pending
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2000
- 2000-03-16 US US09/526,719 patent/US6421362B1/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6421362B1 (en) | 2002-07-16 |
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