JP2000273392A - 光触媒機能性コーティング組成物 - Google Patents
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- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical class OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N tungsten disulfide Chemical compound S=[W]=S ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 1
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【課題】 作業性が容易で、密着性、耐熱性、耐久性に
優れた光触媒性酸化物微粒子を含有するコーティング組
成物、該組成物を塗布等することによって得られる硬化
膜、該硬化膜を有する物品、該物品の製造方法及び被膜
方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 ポリシラン及び光触媒性酸化物微粒子を
含有することを特徴とするコーティング組成物、該組成
物を塗布或いは塗布後に加熱処理又は光照射処理の少な
くとも一方を行うことによって得られる硬化膜、該硬化
膜を有する物品、該物品の製造方法及び被膜方法を提供
する。
優れた光触媒性酸化物微粒子を含有するコーティング組
成物、該組成物を塗布等することによって得られる硬化
膜、該硬化膜を有する物品、該物品の製造方法及び被膜
方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 ポリシラン及び光触媒性酸化物微粒子を
含有することを特徴とするコーティング組成物、該組成
物を塗布或いは塗布後に加熱処理又は光照射処理の少な
くとも一方を行うことによって得られる硬化膜、該硬化
膜を有する物品、該物品の製造方法及び被膜方法を提供
する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光触媒性酸化物微
粒子を含有するコーティング組成物、該コーティング組
成物を塗布することによって得られる硬化膜、基材上に
該硬化膜を有する物品、該物品の製造方法及び該硬化膜
を形成させる被膜方法に関する。
粒子を含有するコーティング組成物、該コーティング組
成物を塗布することによって得られる硬化膜、基材上に
該硬化膜を有する物品、該物品の製造方法及び該硬化膜
を形成させる被膜方法に関する。
【0002】
【従来の技術】酸化チタン等の光触媒性酸化物は、固体
材料の表面に高い触媒効果を付与させることが可能であ
る。このため、金属、ガラス、セラミックスなどの素材
の表面に光触媒効果を有する光触媒性酸化物皮膜を形成
させることにより、付着した汚れの分解、大気及び水質
の浄化、防錆、細菌及び藻類の繁殖防止などの各種用途
に有効である。
材料の表面に高い触媒効果を付与させることが可能であ
る。このため、金属、ガラス、セラミックスなどの素材
の表面に光触媒効果を有する光触媒性酸化物皮膜を形成
させることにより、付着した汚れの分解、大気及び水質
の浄化、防錆、細菌及び藻類の繁殖防止などの各種用途
に有効である。
【0003】各種材料表面を光触媒性酸化物によって被
覆する方法の中で、ゾル−ゲル法がもっとも一般的に行
われている。ゾル−ゲル法とは、ある種の溶液に微粒子
を分散させたゾルを作製し、これを何らかの方法でゲル
状態にした後、加熱焼結して皮膜を形成させる方法であ
る。
覆する方法の中で、ゾル−ゲル法がもっとも一般的に行
われている。ゾル−ゲル法とは、ある種の溶液に微粒子
を分散させたゾルを作製し、これを何らかの方法でゲル
状態にした後、加熱焼結して皮膜を形成させる方法であ
る。
【0004】例えば、酸化チタンの皮膜を生成させるた
めには、チタンのアルコキシドを加水分解してその生成
物を塗布する方法がある。この方法は、例えば、特開平
4-83537号、特開平7-100378号公報等に記載されてい
る。
めには、チタンのアルコキシドを加水分解してその生成
物を塗布する方法がある。この方法は、例えば、特開平
4-83537号、特開平7-100378号公報等に記載されてい
る。
【0005】しかしながら、上記のゾル−ゲル法におい
ては、塗料の粘度や塗装条件により形成される皮膜の厚
さが変化しやすいこと、また、皮膜の厚さを厚くする
と、乾燥の際に皮膜の収縮が大きいため、皮膜が基体本
体から剥離したり、密着性が低下するといった問題があ
る。このため、1μm以上の厚さを有する皮膜を形成す
ることが困難であり、光触媒性能や皮膜の耐久性に問題
がある。
ては、塗料の粘度や塗装条件により形成される皮膜の厚
さが変化しやすいこと、また、皮膜の厚さを厚くする
と、乾燥の際に皮膜の収縮が大きいため、皮膜が基体本
体から剥離したり、密着性が低下するといった問題があ
る。このため、1μm以上の厚さを有する皮膜を形成す
ることが困難であり、光触媒性能や皮膜の耐久性に問題
がある。
【0006】更に、有機樹脂をバインダーとした光触媒
性酸化物微粒子を含む塗料も知られているが、光触媒性
酸化物微粒子により生じる活性酸素によって、塗料に含
まれる有機樹脂自体が分解してしまい、塗膜の寿命が短
いという弊害がある。
性酸化物微粒子を含む塗料も知られているが、光触媒性
酸化物微粒子により生じる活性酸素によって、塗料に含
まれる有機樹脂自体が分解してしまい、塗膜の寿命が短
いという弊害がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、作業性が容
易で、密着性、耐熱性、耐久性等に優れた光触媒性酸化
物微粒子を含有するコーティング組成物、該組成物を塗
布することによって得られる硬化膜、該硬化膜を有する
物品、該物品の製造方法及び該硬化膜を形成させる被膜
方法を提供するものである。
易で、密着性、耐熱性、耐久性等に優れた光触媒性酸化
物微粒子を含有するコーティング組成物、該組成物を塗
布することによって得られる硬化膜、該硬化膜を有する
物品、該物品の製造方法及び該硬化膜を形成させる被膜
方法を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために従来技術の問題点に鑑みて、鋭意研究
を進めた結果、光触媒性酸化物微粒子を含有するコーテ
ィング組成物においてポリシランをバインダーとして用
いた場合には、その目的を達成しうることを見いだし
た。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたもの
である。
を解決するために従来技術の問題点に鑑みて、鋭意研究
を進めた結果、光触媒性酸化物微粒子を含有するコーテ
ィング組成物においてポリシランをバインダーとして用
いた場合には、その目的を達成しうることを見いだし
た。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたもの
である。
【0009】即ち、本発明は、下記に示す光触媒作用を
有し、作業性が容易で、形成される硬化膜が密着性、耐
熱性、耐久性に優れるコーティング組成物を提供するも
のである。
有し、作業性が容易で、形成される硬化膜が密着性、耐
熱性、耐久性に優れるコーティング組成物を提供するも
のである。
【0010】本発明は、以下のコーティング組成物、硬
化膜並びに該硬化膜を有する物品、その製造方法及び該
硬化膜を形成させる被膜方法を提供する。
化膜並びに該硬化膜を有する物品、その製造方法及び該
硬化膜を形成させる被膜方法を提供する。
【0011】即ち、ポリシラン及び光触媒性酸化物微粒
子を含有するコーティング組成物を提供する。該コーテ
ィング組成物は、更に、エポキシ樹脂及びシリコーン樹
脂の少なくとも1種を含有していてもよい。
子を含有するコーティング組成物を提供する。該コーテ
ィング組成物は、更に、エポキシ樹脂及びシリコーン樹
脂の少なくとも1種を含有していてもよい。
【0012】具体的には、光触媒性酸化物微粒子が、酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化銅、酸化銀、酸化スズ、酸化
鉄、酸化ビスマス、酸化タングステン、酸化インジウ
ム、酸化マンガン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、チタ
ン酸ストロンチウム及びチタン酸バリウムからなる群の
少なくとも1種である上記コーティング組成物を提供す
るものである。
化チタン、酸化亜鉛、酸化銅、酸化銀、酸化スズ、酸化
鉄、酸化ビスマス、酸化タングステン、酸化インジウ
ム、酸化マンガン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、チタ
ン酸ストロンチウム及びチタン酸バリウムからなる群の
少なくとも1種である上記コーティング組成物を提供す
るものである。
【0013】また、光触媒性酸化物微粒子の平均粒径
が、2μm以下の微粒子である上記コーティング組成物
も提供する。
が、2μm以下の微粒子である上記コーティング組成物
も提供する。
【0014】また、上記いずれかのコーティング組成物
を塗布、或いは塗布後に加熱処理又は光照射処理の少な
くとも一方の処理を行うすることによって得られる硬化
膜及び該硬化膜を有する物品も提供する。
を塗布、或いは塗布後に加熱処理又は光照射処理の少な
くとも一方の処理を行うすることによって得られる硬化
膜及び該硬化膜を有する物品も提供する。
【0015】更に、上記記載のコーティング組成物を、
物品の基材に塗布、或いは塗布後に加熱処理又は光照射
処理の少なくとも一方の処理を行うことによって得られ
る上記物品の製造方法及び上記物品の基材上に硬化膜を
形成させる被膜方法も提供するものである。
物品の基材に塗布、或いは塗布後に加熱処理又は光照射
処理の少なくとも一方の処理を行うことによって得られ
る上記物品の製造方法及び上記物品の基材上に硬化膜を
形成させる被膜方法も提供するものである。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明においては、ポリシランを
バインダーとした光触媒性酸化物微粒子を含有するコー
ティング組成物を基材上に塗布、或いは塗布後に加熱処
理又は光照射処理の少なくとも一方の処理を行うことに
よって物品の基材上に硬化膜を形成させることによっ
て、基材との密着性、耐熱性、耐久性等に優れた硬化膜
が形成された。
バインダーとした光触媒性酸化物微粒子を含有するコー
ティング組成物を基材上に塗布、或いは塗布後に加熱処
理又は光照射処理の少なくとも一方の処理を行うことに
よって物品の基材上に硬化膜を形成させることによっ
て、基材との密着性、耐熱性、耐久性等に優れた硬化膜
が形成された。
【0017】以下、本明細書中で用いられている用語に
ついて説明する。
ついて説明する。
【0018】本発明においてアルキル基、アリールアル
キル基のアルキル部分およびアルコキシ基のアルキル部
分とは、直鎖状または分岐状の炭素数1〜20、好まし
くは炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基であって、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、
オクチル、デシル、ドデシル等が挙げられる。
キル基のアルキル部分およびアルコキシ基のアルキル部
分とは、直鎖状または分岐状の炭素数1〜20、好まし
くは炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基であって、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、
オクチル、デシル、ドデシル等が挙げられる。
【0019】本発明においてアルケニル基とは、少なく
とも一つの炭素−炭素二重結合を有する一価の直鎖状ま
たは分岐状の炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜1
2の脂肪族炭化水素基であって、例えば、ビニル、アリ
ル等が挙げられる。
とも一つの炭素−炭素二重結合を有する一価の直鎖状ま
たは分岐状の炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜1
2の脂肪族炭化水素基であって、例えば、ビニル、アリ
ル等が挙げられる。
【0020】本発明においてアリール基およびアリール
アルキル基のアリール部分とは、少なくとも一つの置換
基を有していてもよい芳香族炭化水素であり、好ましく
は無置換又は1〜3の置換基を有する芳香族炭化水素基
であって、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げら
れる。アリール基およびアリールアルキル基のアリール
部分の置換基は、特には制限されないが、アルキル基、
アルコキシ基、アミノ基、水酸基およびシリル基からな
る群より選ばれる少なくとも一種が好ましい。
アルキル基のアリール部分とは、少なくとも一つの置換
基を有していてもよい芳香族炭化水素であり、好ましく
は無置換又は1〜3の置換基を有する芳香族炭化水素基
であって、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げら
れる。アリール基およびアリールアルキル基のアリール
部分の置換基は、特には制限されないが、アルキル基、
アルコキシ基、アミノ基、水酸基およびシリル基からな
る群より選ばれる少なくとも一種が好ましい。
【0021】フェノール性水酸基としては、フェノー
ル、クレゾール等が挙げられる。ポリシラン 本発明において用いられるポリシランとしては、Si−
Si結合を有する直鎖状、環状、ネットワーク状の化合
物であれば、特に限定されない。
ル、クレゾール等が挙げられる。ポリシラン 本発明において用いられるポリシランとしては、Si−
Si結合を有する直鎖状、環状、ネットワーク状の化合
物であれば、特に限定されない。
【0022】ここで、ポリシランとは、化学構造におい
て主となる骨格構造が、一般式: (R1 2Si)m (1) (式中、R1は、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
水酸基、フェノール性水酸基又はアミノ基を表す。R1
は、全てが同一でも或いは前記記載の置換基の任意の組
み合わせであってもよい。mは、2〜10000である。)
で示される、直鎖状ポリシラン及び環状ポリシラン、一
般式: (R2Si)n (2) (式中、R2は、同一又は相異なって、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、水酸基、フェノール性水酸基又はア
ミノ基を表す。nは、4〜10000である。)で示される
シリコンネットワークポリマー、並びに、一般式: (R3 2Si)x(R3Si)ySiz (3) (式中、R3は、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
水酸基、フェノール性水酸基又はアミノ基を表す。R3
は、全てが同一でも或いは前記記載の置換基の任意の組
み合わせであってもよい。x、y及びzは0以上の整数
で、x、y及びzの和は、5〜10000であって、x、y
及びzのいずれか2つが0である場合を除く。)で示さ
れる、Si−Si結合を骨格とするネットワーク状ポリ
マーからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリマー
である。
て主となる骨格構造が、一般式: (R1 2Si)m (1) (式中、R1は、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
水酸基、フェノール性水酸基又はアミノ基を表す。R1
は、全てが同一でも或いは前記記載の置換基の任意の組
み合わせであってもよい。mは、2〜10000である。)
で示される、直鎖状ポリシラン及び環状ポリシラン、一
般式: (R2Si)n (2) (式中、R2は、同一又は相異なって、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、水酸基、フェノール性水酸基又はア
ミノ基を表す。nは、4〜10000である。)で示される
シリコンネットワークポリマー、並びに、一般式: (R3 2Si)x(R3Si)ySiz (3) (式中、R3は、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
水酸基、フェノール性水酸基又はアミノ基を表す。R3
は、全てが同一でも或いは前記記載の置換基の任意の組
み合わせであってもよい。x、y及びzは0以上の整数
で、x、y及びzの和は、5〜10000であって、x、y
及びzのいずれか2つが0である場合を除く。)で示さ
れる、Si−Si結合を骨格とするネットワーク状ポリ
マーからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリマー
である。
【0023】これらのポリマーは、それぞれの構造単位
を有するモノマーを原料として以下の方法により製造す
ることができる。すなわち、アルカリ金属の存在下でハ
ロシラン類を脱ハロゲン縮重合させる方法(「キッピン
グ法」J.Am.Chem.Soc.,110,124(1988)、Macromolecule
s,23,3423(1990))、電極還元によりハロシラン類を脱
ハロゲン縮重合させる方法(J. Chem. Soc., Chem. Com
mun., 1161(1990)、J. Chem. Soc., Chem. Commun., 89
7(1992))、金属触媒の存在下にヒドロシラン類を脱水
素縮重合させる方法(特開平4−334551号公
報)、ビフェニルなどで架橋されたジシレンのアニオン
重合による方法(Macromolecules,23,4494(1990))、環
状シラン類の開環重合による方法などにより、製造する
ことができる。
を有するモノマーを原料として以下の方法により製造す
ることができる。すなわち、アルカリ金属の存在下でハ
ロシラン類を脱ハロゲン縮重合させる方法(「キッピン
グ法」J.Am.Chem.Soc.,110,124(1988)、Macromolecule
s,23,3423(1990))、電極還元によりハロシラン類を脱
ハロゲン縮重合させる方法(J. Chem. Soc., Chem. Com
mun., 1161(1990)、J. Chem. Soc., Chem. Commun., 89
7(1992))、金属触媒の存在下にヒドロシラン類を脱水
素縮重合させる方法(特開平4−334551号公
報)、ビフェニルなどで架橋されたジシレンのアニオン
重合による方法(Macromolecules,23,4494(1990))、環
状シラン類の開環重合による方法などにより、製造する
ことができる。
【0024】上記式中、耐熱性の点で、ポリシラン構造
として式(2)又は式(3)のものが好ましい。
として式(2)又は式(3)のものが好ましい。
【0025】式(1)で表される直鎖状ポリシラン及び
環状ポリシランとしては、R1が、同一又は相異なっ
て、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリールア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、水酸基が好まし
く、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、水酸基が特に好ましい。また、mは、2〜300が好
ましく、4〜150が特に好ましい。例えば、平均重合度
4〜150のメチルフェニルポリシランが好ましい。
環状ポリシランとしては、R1が、同一又は相異なっ
て、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリールア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、水酸基が好まし
く、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、水酸基が特に好ましい。また、mは、2〜300が好
ましく、4〜150が特に好ましい。例えば、平均重合度
4〜150のメチルフェニルポリシランが好ましい。
【0026】式(2)で表されるシリコンネットワーク
ポリマーとしては、R2は、同一又は相異なって、水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アリールアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、水酸基が好ましく、水
素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、水酸
基が特に好ましい。また、nは、4〜300が好ましく、
4〜150が特に好ましい。例えば、平均重合度が4〜150
のフェニルネットワークポリシランが好ましい。
ポリマーとしては、R2は、同一又は相異なって、水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アリールアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、水酸基が好ましく、水
素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、水酸
基が特に好ましい。また、nは、4〜300が好ましく、
4〜150が特に好ましい。例えば、平均重合度が4〜150
のフェニルネットワークポリシランが好ましい。
【0027】式(3)で表されるSi−Si結合を骨格
とするネットワーク状ポリマーとしては、R3は、同一
又は相異なって、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
水酸基が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、水酸基が特に好ましい。また、x、
y及びzは、各々1〜300、1〜300及び1〜50が好まし
い。
とするネットワーク状ポリマーとしては、R3は、同一
又は相異なって、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
水酸基が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、水酸基が特に好ましい。また、x、
y及びzは、各々1〜300、1〜300及び1〜50が好まし
い。
【0028】また、上記ポリシランを窒素、アルゴン等
の不活性ガス雰囲気下又は空気中で、300℃以上の熱処
理をして得られるSi−Si結合を含むケイ素系樹脂も
ポリシランとして用いることができる。
の不活性ガス雰囲気下又は空気中で、300℃以上の熱処
理をして得られるSi−Si結合を含むケイ素系樹脂も
ポリシランとして用いることができる。
【0029】本発明においては、上記ポリシランをそれ
ぞれ単独で使用してもよく、あるいは2種以上を併用し
てもよい。また、2種以上のポリシランを併用する場合
であっても、それらの混合割合は特に限定されず、任意
に選択することができる。光触媒性酸化物微粒子 一般に、光触媒性酸化物とは光触媒作用を有する酸化物
のことをいうが、光触媒性酸化物としては、物品に被覆
できるものであれば特に限定されないが、酸化チタン、
酸化亜鉛、酸化銅、酸化銀、酸化スズ、酸化鉄、酸化ビ
スマス、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化マン
ガン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、チタン酸ストロン
チウム、チタン酸バリウム等が挙げられる。
ぞれ単独で使用してもよく、あるいは2種以上を併用し
てもよい。また、2種以上のポリシランを併用する場合
であっても、それらの混合割合は特に限定されず、任意
に選択することができる。光触媒性酸化物微粒子 一般に、光触媒性酸化物とは光触媒作用を有する酸化物
のことをいうが、光触媒性酸化物としては、物品に被覆
できるものであれば特に限定されないが、酸化チタン、
酸化亜鉛、酸化銅、酸化銀、酸化スズ、酸化鉄、酸化ビ
スマス、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化マン
ガン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、チタン酸ストロン
チウム、チタン酸バリウム等が挙げられる。
【0030】本発明で使用する光触媒性酸化物は、いず
れも公知物質であり、その原料、製造方法などは特に限
定されない。
れも公知物質であり、その原料、製造方法などは特に限
定されない。
【0031】本発明においては、光触媒性酸化物をそれ
ぞれ単独で使用してもよく、あるいは2種以上を併用し
てもよい。
ぞれ単独で使用してもよく、あるいは2種以上を併用し
てもよい。
【0032】上記の光触媒性酸化物の中でも、酸化チタ
ン、酸化亜鉛が好ましい。
ン、酸化亜鉛が好ましい。
【0033】2種以上の光触媒性酸化物を併用する場合
であっても、それらの混合割合は特に限定されず、任意
に選択することができる。
であっても、それらの混合割合は特に限定されず、任意
に選択することができる。
【0034】これらの光触媒性酸化物が汚れなどの吸着
物質を分解する機構の一例としては、以下の機構が考え
られる。
物質を分解する機構の一例としては、以下の機構が考え
られる。
【0035】これらの光触媒性酸化物にそれらの価電子
帯と伝導帯との間のエネルギー差よりも大きなエネルギ
ーの光を照射すると、価電子帯の電子が励起され伝導電
子と正孔が生じる。この伝導電子が、空気中或いは水中
に存在している酸素の還元に消費され、還元された酸素
が活性酸素となる。この活性酸素が吸着物質(例えば汚
れ等)を酸化分解し、更に生じた正孔でも吸着物質から
電子を奪い取り、吸着物質を酸化分解する。また、正孔
において吸着水が酸化されたヒドロキシラジカルも吸着
物質を酸化する。
帯と伝導帯との間のエネルギー差よりも大きなエネルギ
ーの光を照射すると、価電子帯の電子が励起され伝導電
子と正孔が生じる。この伝導電子が、空気中或いは水中
に存在している酸素の還元に消費され、還元された酸素
が活性酸素となる。この活性酸素が吸着物質(例えば汚
れ等)を酸化分解し、更に生じた正孔でも吸着物質から
電子を奪い取り、吸着物質を酸化分解する。また、正孔
において吸着水が酸化されたヒドロキシラジカルも吸着
物質を酸化する。
【0036】光触媒の光励起に用いる光源としては、室
内照明や窓から差し込む太陽光が利用できる。また、各
種機器内部に照明を取り付ければ一層効果的である。
内照明や窓から差し込む太陽光が利用できる。また、各
種機器内部に照明を取り付ければ一層効果的である。
【0037】本発明において光触媒性酸化物の中で好ま
しいものの一つである二酸化チタンは、結晶構造によっ
て、ルチル型、アナターゼ型、ブルッカイト型の3つに
分類されるが、光触媒としてはアナターゼ型が適してい
るといわれている。アナターゼ型の価電子帯と伝導帯と
の間のエネルギー差(バンドギャップ)は3.2eV、ルチ
ル型では3.0eVであり、アナターゼ型の方が伝導帯の下
端が上にあり、還元力が強いためである。
しいものの一つである二酸化チタンは、結晶構造によっ
て、ルチル型、アナターゼ型、ブルッカイト型の3つに
分類されるが、光触媒としてはアナターゼ型が適してい
るといわれている。アナターゼ型の価電子帯と伝導帯と
の間のエネルギー差(バンドギャップ)は3.2eV、ルチ
ル型では3.0eVであり、アナターゼ型の方が伝導帯の下
端が上にあり、還元力が強いためである。
【0038】本発明によれば、これら光触媒性酸化物を
含有するコーティング組成物を基材上に塗布して、硬化
膜を形成させることにより、汚れが直接接する部分の汚
れを低減させるとともに、汚れが発生した場合にも、そ
の除去を容易に行うことができる。
含有するコーティング組成物を基材上に塗布して、硬化
膜を形成させることにより、汚れが直接接する部分の汚
れを低減させるとともに、汚れが発生した場合にも、そ
の除去を容易に行うことができる。
【0039】光触媒性酸化物微粒子は、硬化膜中できる
だけ均一に分散含有されていることが好ましく、従っ
て、コーティング組成物中において該微粒子が均一に分
散させた状態が好ましい。また、光触媒性酸化物微粒子
の粒径は、活性表面積を高めるために微粒子であること
が好ましく、通常平均2μm程度であり、平均1μm以
下のものがより好ましい。下限は特に限定されないが、
通常0.1μm程度である。より好ましくは、0.3〜1μm
の粒径がよい。
だけ均一に分散含有されていることが好ましく、従っ
て、コーティング組成物中において該微粒子が均一に分
散させた状態が好ましい。また、光触媒性酸化物微粒子
の粒径は、活性表面積を高めるために微粒子であること
が好ましく、通常平均2μm程度であり、平均1μm以
下のものがより好ましい。下限は特に限定されないが、
通常0.1μm程度である。より好ましくは、0.3〜1μm
の粒径がよい。
【0040】これまで光触媒性酸化物微粒子を含むコー
ティング組成物において、通常の有機樹脂バインダーを
用いたときには、光触媒性酸化物の酸化力によって有機
樹脂バインダーが分解され耐久性が劣っていたが、本発
明において、ポリシランをバインダーとして用いた結
果、光触媒性酸化物の酸化力によってポリシランのSi
−Si結合がSi−O−Siとなって分解が抑えられた
ため、耐久性が向上した。
ティング組成物において、通常の有機樹脂バインダーを
用いたときには、光触媒性酸化物の酸化力によって有機
樹脂バインダーが分解され耐久性が劣っていたが、本発
明において、ポリシランをバインダーとして用いた結
果、光触媒性酸化物の酸化力によってポリシランのSi
−Si結合がSi−O−Siとなって分解が抑えられた
ため、耐久性が向上した。
【0041】また、ゾル−ゲル法等で使用される、光触
媒性酸化物の酸化力に耐性を有する無機化合物バインダ
ーと比しても、光触媒性酸化物微粒子を含むコーティン
グ組成物にポリシランをバインダーを用いる方が、コー
ティングが良好で、基材との密着力等のコーティング性
も優れていた。
媒性酸化物の酸化力に耐性を有する無機化合物バインダ
ーと比しても、光触媒性酸化物微粒子を含むコーティン
グ組成物にポリシランをバインダーを用いる方が、コー
ティングが良好で、基材との密着力等のコーティング性
も優れていた。
【0042】更に、ポリシランを用いた結果、コーティ
ング時の熱処理、又は光照射処理によって、ポリシラン
のSi−Si結合の一部が切断し、反応活性種(ラジカ
ル)が生じ、その反応活性種(ラジカル)が、光触媒性
酸化物微粒子や基材を構成する化合物の水酸基等と結合
を形成し、密着性が向上した。
ング時の熱処理、又は光照射処理によって、ポリシラン
のSi−Si結合の一部が切断し、反応活性種(ラジカ
ル)が生じ、その反応活性種(ラジカル)が、光触媒性
酸化物微粒子や基材を構成する化合物の水酸基等と結合
を形成し、密着性が向上した。
【0043】本発明のコーティング組成物におけるポリ
シランと上記光触媒性酸化物微粒子との配合割合は、ポ
リシラン1重量部に対して、光触媒性酸化物微粒子0.01
〜10重量部であり、好ましくは0.05〜4重量部、より好
ましくは0.1〜2重量部である。
シランと上記光触媒性酸化物微粒子との配合割合は、ポ
リシラン1重量部に対して、光触媒性酸化物微粒子0.01
〜10重量部であり、好ましくは0.05〜4重量部、より好
ましくは0.1〜2重量部である。
【0044】本発明のおけるコーティング組成物におい
て、被覆性及び作業性を高めるために、エポキシ樹脂や
シリコーン樹脂を添加し得る。
て、被覆性及び作業性を高めるために、エポキシ樹脂や
シリコーン樹脂を添加し得る。
【0045】本発明で用いられるエポキシ樹脂をして
は、化学構造内に少なくとも2つのエポキシ基を有する
直鎖状、環状又は分枝状の樹脂であれば特に限定されな
い。このような化合物としては、例えば、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、1,2,3,4−
ジエポキシブタン、1,4−シクロヘキサンジメタノール
ジグリシジルエーテル、N,N−ジグリシジル−4−グ
リシジルオキシアニリン、1,2,5,6−ジエポキシシクロ
オクタン等のエポキシ樹脂を挙げることができる。
は、化学構造内に少なくとも2つのエポキシ基を有する
直鎖状、環状又は分枝状の樹脂であれば特に限定されな
い。このような化合物としては、例えば、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、1,2,3,4−
ジエポキシブタン、1,4−シクロヘキサンジメタノール
ジグリシジルエーテル、N,N−ジグリシジル−4−グ
リシジルオキシアニリン、1,2,5,6−ジエポキシシクロ
オクタン等のエポキシ樹脂を挙げることができる。
【0046】フェノールノボラック型エポキシ樹脂とし
ては、市販の樹脂、例えば、ARALDITE PY307-1、ARALDI
TE EPN1179、ARALDITE EPN1180、ARALDITE EPN1182(い
ずれも旭チバ製)等のものが使用できる。
ては、市販の樹脂、例えば、ARALDITE PY307-1、ARALDI
TE EPN1179、ARALDITE EPN1180、ARALDITE EPN1182(い
ずれも旭チバ製)等のものが使用できる。
【0047】クレゾールノボラック型エポキシ樹脂とし
ては、ARALDITE ECN1273、ARALDITEECN1280、ARALDITE
ECN1299(いずれも旭チバ製)等が挙げられる。
ては、ARALDITE ECN1273、ARALDITEECN1280、ARALDITE
ECN1299(いずれも旭チバ製)等が挙げられる。
【0048】ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、
例えば、市販のAER 6001、AER 6072、AER 6014、AER 60
54、AER 6007、AER 6009、AER 250、AER 2500、AER 250
1、AER 2502、AER 260、AER 2600、AER 280、AER 2400
(いずれも旭チバ製)が挙げられる。
例えば、市販のAER 6001、AER 6072、AER 6014、AER 60
54、AER 6007、AER 6009、AER 250、AER 2500、AER 250
1、AER 2502、AER 260、AER 2600、AER 280、AER 2400
(いずれも旭チバ製)が挙げられる。
【0049】これらのエポキシ樹脂は、いずれも公知物
質であり、その原料、製造方法などは特に限定されな
い。
質であり、その原料、製造方法などは特に限定されな
い。
【0050】本発明において用いられるシリコーン樹脂
としては、Si−O−Si結合を有する直鎖状、環状、
ネットワーク状の化合物であれば、特に限定されない。
としては、Si−O−Si結合を有する直鎖状、環状、
ネットワーク状の化合物であれば、特に限定されない。
【0051】ここで、シリコーン樹脂とは、化学構造に
おいて主となる骨格構造が、一般式: (R4 2SiO)f (4) (式中、R4は、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
水酸基、フェノール性水酸基又はアミノ基を表す。R4
は、全てが同一でも或いは前記記載の置換基の任意の組
み合わせであってもよい。fは、2〜10000である。)
で示される、直鎖状シリコーン樹脂及び環状シリコーン
樹脂、一般式: (R5SiO)g (5) (式中、R5は、同一又は相異なって、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、水酸基、フェノール性水酸基又はア
ミノ基を表す。gは、4〜10000である。)で示される
ネットワークシリコーン樹脂、並びに、一般式: (R6 2SiO)h(R6SiO)j(SiO)k (6) (式中、R6は、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
フェノール性水酸基、水酸基又はアミノ基を表す。R6
は、全てが同一でも或いは前記記載の置換基の任意の組
み合わせであってもよい。h、jおよびkは0以上の整
数で、h、j及びkの和は、5〜10000であって、h、
j及びkのいずれか2つが0である場合を除く。)で示
される、Si−O−Si結合を骨格とするネットワーク
状ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1種のポ
リマーである。
おいて主となる骨格構造が、一般式: (R4 2SiO)f (4) (式中、R4は、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
水酸基、フェノール性水酸基又はアミノ基を表す。R4
は、全てが同一でも或いは前記記載の置換基の任意の組
み合わせであってもよい。fは、2〜10000である。)
で示される、直鎖状シリコーン樹脂及び環状シリコーン
樹脂、一般式: (R5SiO)g (5) (式中、R5は、同一又は相異なって、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、水酸基、フェノール性水酸基又はア
ミノ基を表す。gは、4〜10000である。)で示される
ネットワークシリコーン樹脂、並びに、一般式: (R6 2SiO)h(R6SiO)j(SiO)k (6) (式中、R6は、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
フェノール性水酸基、水酸基又はアミノ基を表す。R6
は、全てが同一でも或いは前記記載の置換基の任意の組
み合わせであってもよい。h、jおよびkは0以上の整
数で、h、j及びkの和は、5〜10000であって、h、
j及びkのいずれか2つが0である場合を除く。)で示
される、Si−O−Si結合を骨格とするネットワーク
状ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1種のポ
リマーである。
【0052】好ましくは、式(4)のものが好ましい。
【0053】式(4)で表される直鎖状シリコーン樹脂
及び環状シリコーン樹脂としては、R4が、同一又は相
異なって、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、水酸基が好ましい。また、fは、2〜1000が好
ましく、5〜500が特に好ましい。
及び環状シリコーン樹脂としては、R4が、同一又は相
異なって、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、水酸基が好ましい。また、fは、2〜1000が好
ましく、5〜500が特に好ましい。
【0054】式(5)で表されるネットワークシリコー
ン樹脂としては、R5が、同一又は相異なって、水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、水酸基が
好ましい。また、gは、2〜1000が好ましく、5〜500
が特に好ましい。
ン樹脂としては、R5が、同一又は相異なって、水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、水酸基が
好ましい。また、gは、2〜1000が好ましく、5〜500
が特に好ましい。
【0055】式(6)で表されるSi−O−Si結合を
骨格とするネットワーク状ポリマーとしては、R6が、
同一又は相異なって、水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、水酸基が好ましい。また、h、j及
びkは、各々2〜500、2〜500及び1〜100が好まし
い。
骨格とするネットワーク状ポリマーとしては、R6が、
同一又は相異なって、水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、水酸基が好ましい。また、h、j及
びkは、各々2〜500、2〜500及び1〜100が好まし
い。
【0056】また、シリコーンエポキシ樹脂、シリコー
ンアクリル樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーン
ウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂等の変性シ
リコーン樹脂を用いてもよい。
ンアクリル樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーン
ウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂等の変性シ
リコーン樹脂を用いてもよい。
【0057】これらシリコーン樹脂の市販品としては、
以下のものが例示できる。フェニルメチルシロキサンホ
モポリマーとして、PMM-0011、PMM-0021、PMM-0025(い
ずれもチッソ製)等、また、シリコーン樹脂として、PD
V-0325、PDV-0331、PDV-0341、PDV-0346、HES-992、HDP
-111、HPM-502(チッソ製)等が挙げられる。シリコー
ンエポキシ樹脂の市販品としては、DMS-E01、DMS-E12、
DMS-E21(いずれもチッソ製)等が挙げられる。
以下のものが例示できる。フェニルメチルシロキサンホ
モポリマーとして、PMM-0011、PMM-0021、PMM-0025(い
ずれもチッソ製)等、また、シリコーン樹脂として、PD
V-0325、PDV-0331、PDV-0341、PDV-0346、HES-992、HDP
-111、HPM-502(チッソ製)等が挙げられる。シリコー
ンエポキシ樹脂の市販品としては、DMS-E01、DMS-E12、
DMS-E21(いずれもチッソ製)等が挙げられる。
【0058】また、既に溶剤で希釈されているシリコー
ン樹脂ワニスの市販品も使用できる。シリコーン樹脂ワ
ニスとして例えば、ストレートシリコーン{(KR271、K
R282、KR311、KR255、KR155(いずれも信越化学株式会
社製))、(TSR 116、TSR 117、TSR 144、TSR 145、YR
3187、TSR 160、TSR 165(いずれも東芝シリコーン
製))}、変性用シリコーン{KR211、KR212、KR216、K
R213、KR217、KR9218(いずれも信越化学株式会社
製)}、シリコーンアルキッド{(KR206、KR5206(い
ずれも信越化学株式会社製))、(TSR 180(東芝シリ
コーン製))}、固体レジン(YR 3168(東芝シリコー
ン製))、シリコーンエポキシ{(ES1001N、ES1002T、
ES1004(いずれも信越化学株式会社製))、(TSR 194
(東芝シリコーン製))}、シリコーンアクリル{(KR
9706(信越化学株式会社製))、(TSR 171(東芝シリ
コーン製))}、シリコーンウレタン(TSR 175(東芝
シリコーン製))、シリコーンポリエステル(TSR 187
(東芝シリコーン製))等が使用できる。
ン樹脂ワニスの市販品も使用できる。シリコーン樹脂ワ
ニスとして例えば、ストレートシリコーン{(KR271、K
R282、KR311、KR255、KR155(いずれも信越化学株式会
社製))、(TSR 116、TSR 117、TSR 144、TSR 145、YR
3187、TSR 160、TSR 165(いずれも東芝シリコーン
製))}、変性用シリコーン{KR211、KR212、KR216、K
R213、KR217、KR9218(いずれも信越化学株式会社
製)}、シリコーンアルキッド{(KR206、KR5206(い
ずれも信越化学株式会社製))、(TSR 180(東芝シリ
コーン製))}、固体レジン(YR 3168(東芝シリコー
ン製))、シリコーンエポキシ{(ES1001N、ES1002T、
ES1004(いずれも信越化学株式会社製))、(TSR 194
(東芝シリコーン製))}、シリコーンアクリル{(KR
9706(信越化学株式会社製))、(TSR 171(東芝シリ
コーン製))}、シリコーンウレタン(TSR 175(東芝
シリコーン製))、シリコーンポリエステル(TSR 187
(東芝シリコーン製))等が使用できる。
【0059】これらシリコーン樹脂は、いずれも公知物
質であり、その原料、製造方法などは特に限定されな
い。
質であり、その原料、製造方法などは特に限定されな
い。
【0060】本発明のコーティング組成物におけるポリ
シランに対するエポキシ樹脂或いはシリコーン樹脂及び
その併用物の混合割合は、ポリシラン1重量部に対して
エポキシ樹脂或いはシリコーン樹脂及びその併用物0.1
〜10重量部であり、好ましくは、0.5〜5重量部である。
シランに対するエポキシ樹脂或いはシリコーン樹脂及び
その併用物の混合割合は、ポリシラン1重量部に対して
エポキシ樹脂或いはシリコーン樹脂及びその併用物0.1
〜10重量部であり、好ましくは、0.5〜5重量部である。
【0061】また、エポキシ樹脂とシリコーン樹脂を併
用する場合は、その混合割合は、シリコーン樹脂1重量
部に対して、エポキシ樹脂0.05〜20重量部であり、好ま
しくは、0.1〜10重量部である。
用する場合は、その混合割合は、シリコーン樹脂1重量
部に対して、エポキシ樹脂0.05〜20重量部であり、好ま
しくは、0.1〜10重量部である。
【0062】本発明のコーティング組成物は、硬化膜の
膜強度、耐久性を一層高めるために、無機充填剤を含み
得る。無機充填剤としては、シリカ、アルミナ、ジルコ
ニア、マイカをはじめとする酸化物系無機物、炭化ケイ
素、窒化ケイ素などの非酸化物系無機物、アルミニウ
ム、ステンレス等の金属微粉等が挙げられる。
膜強度、耐久性を一層高めるために、無機充填剤を含み
得る。無機充填剤としては、シリカ、アルミナ、ジルコ
ニア、マイカをはじめとする酸化物系無機物、炭化ケイ
素、窒化ケイ素などの非酸化物系無機物、アルミニウ
ム、ステンレス等の金属微粉等が挙げられる。
【0063】さらに無機充填剤の例を詳しく述べれば、
ケイ砂、石英、ノバキュライト、ケイ藻土などのシリカ
系;合成無定形シリカ;カオリナイト、雲母、滑石、ウ
オラストナイト、アスベスト、ケイ酸カルシウム、ケイ
酸アルミニウムなどのケイ酸塩;ガラス粉末、ガラス
球、中空ガラス球、ガラスフレーク、泡ガラス球、フリ
ットなどのガラス体;窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化ア
ルミニウム、炭化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ
素、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタンなどの非酸
化物系無機物;炭酸カルシウム;アルミナ、マグネシ
ア、酸化ベリリウムなどの金属酸化物;硫酸バリウム、
二硫化モリブデン、二硫化タングステン、フッ化炭素そ
の他無機物;アルミニウム、ブロンズ、鉛、ステンレス
スチールなどの金属粉末;カーボンブラック、コーク
ス、黒鉛、熱分解炭素、中空カーボン球などのカーボン
体などの公知の無機充填材が挙げられる。
ケイ砂、石英、ノバキュライト、ケイ藻土などのシリカ
系;合成無定形シリカ;カオリナイト、雲母、滑石、ウ
オラストナイト、アスベスト、ケイ酸カルシウム、ケイ
酸アルミニウムなどのケイ酸塩;ガラス粉末、ガラス
球、中空ガラス球、ガラスフレーク、泡ガラス球、フリ
ットなどのガラス体;窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化ア
ルミニウム、炭化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ
素、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタンなどの非酸
化物系無機物;炭酸カルシウム;アルミナ、マグネシ
ア、酸化ベリリウムなどの金属酸化物;硫酸バリウム、
二硫化モリブデン、二硫化タングステン、フッ化炭素そ
の他無機物;アルミニウム、ブロンズ、鉛、ステンレス
スチールなどの金属粉末;カーボンブラック、コーク
ス、黒鉛、熱分解炭素、中空カーボン球などのカーボン
体などの公知の無機充填材が挙げられる。
【0064】これら無機充填剤は、繊維状、針状(ウィ
スカーを含む)、粒状、鱗片状など種々の形状のものを
単独または2種以上混合して用いることができる。
スカーを含む)、粒状、鱗片状など種々の形状のものを
単独または2種以上混合して用いることができる。
【0065】これら無機充填材はすべて公知物質であ
り、公知の方法によって製造することができる。本発明
のコーティング組成物におけるポリシランと上記無機充
填材との配合割合は、ポリシラン1重量部に対して、無
機充填材0.05〜20重量部であり、好ましくは0.5〜10重
量部である。
り、公知の方法によって製造することができる。本発明
のコーティング組成物におけるポリシランと上記無機充
填材との配合割合は、ポリシラン1重量部に対して、無
機充填材0.05〜20重量部であり、好ましくは0.5〜10重
量部である。
【0066】本発明のコーティング組成物における樹脂
成分(ポリシラン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂)と
無機化合物成分(光触媒性酸化物微粒子と無機充填材)
との配合割合は、樹脂成分1重量部に対して、無機化合
物成分0.01〜10重量部であり、好ましくは、0.05〜5重
量部、より好ましくは0.1〜4重量部である。
成分(ポリシラン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂)と
無機化合物成分(光触媒性酸化物微粒子と無機充填材)
との配合割合は、樹脂成分1重量部に対して、無機化合
物成分0.01〜10重量部であり、好ましくは、0.05〜5重
量部、より好ましくは0.1〜4重量部である。
【0067】本発明のコーティング組成物に無機充填材
を用いる場合の光触媒性酸化物微粒子と無機充填材の配
合割合は、光触媒性酸化物微粒子1重量部に対して無機
充填材0.05〜20重量部であり、好ましくは、0.1〜10重
量部である。
を用いる場合の光触媒性酸化物微粒子と無機充填材の配
合割合は、光触媒性酸化物微粒子1重量部に対して無機
充填材0.05〜20重量部であり、好ましくは、0.1〜10重
量部である。
【0068】本発明のコーティング組成物には、硬化促
進剤を添加することもできる。添加する硬化促進剤とし
ては、1,2−ジシリルエタン、エチルシリケートおよび
メチルシリケートなどのポリアルコキシシラン類などの
ケイ素化合物;テトラアルコキシチタンなどのチタン化
合物;フェニルジクロロボランなどのホウ素化合物;ベ
ンゾイルパーオキサイド、tert−ブチルパーオキサイ
ド、アゾイソブチロニトリルなどのラジカルを発生する
化合物;トリスメトキシアルミニウム、トリスフェノキ
シアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物;トリエ
チルアミン、ピリジン、ジエチレントリアミン、トリエ
チレンテトラミン、メタキシレンジアミン、ジアミノジ
フェニルメタン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェ
ノール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのアミ
ン化合物;ダイマー酸ポリアミドなどのアミド化合物;
無水フタル酸、テトラヒドロメチル無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水メチ
ルナジック酸などの酸無水物;フェノールノボラックな
どのフェノール類;ポリサルファイドなどのメルカプタ
ン化合物;3フッ化ホウ素・エチルアミン錯体などのル
イス酸錯体化合物;クロロホルム、ジクロロメタン、ト
リクロロメタンなどのハロゲン化物;ナトリウムエトキ
シドなどの塩基性化合物などを挙げることができる。
進剤を添加することもできる。添加する硬化促進剤とし
ては、1,2−ジシリルエタン、エチルシリケートおよび
メチルシリケートなどのポリアルコキシシラン類などの
ケイ素化合物;テトラアルコキシチタンなどのチタン化
合物;フェニルジクロロボランなどのホウ素化合物;ベ
ンゾイルパーオキサイド、tert−ブチルパーオキサイ
ド、アゾイソブチロニトリルなどのラジカルを発生する
化合物;トリスメトキシアルミニウム、トリスフェノキ
シアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物;トリエ
チルアミン、ピリジン、ジエチレントリアミン、トリエ
チレンテトラミン、メタキシレンジアミン、ジアミノジ
フェニルメタン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェ
ノール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのアミ
ン化合物;ダイマー酸ポリアミドなどのアミド化合物;
無水フタル酸、テトラヒドロメチル無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水メチ
ルナジック酸などの酸無水物;フェノールノボラックな
どのフェノール類;ポリサルファイドなどのメルカプタ
ン化合物;3フッ化ホウ素・エチルアミン錯体などのル
イス酸錯体化合物;クロロホルム、ジクロロメタン、ト
リクロロメタンなどのハロゲン化物;ナトリウムエトキ
シドなどの塩基性化合物などを挙げることができる。
【0069】上記硬化促進剤の量は、樹脂成分100重量
部に対して、0.1〜50重量部、好ましくは1重量部〜20
重量部である。
部に対して、0.1〜50重量部、好ましくは1重量部〜20
重量部である。
【0070】また、本発明のコーティング組成物に、三
酸化アンチモンなどの難燃助剤;カーボンブラックなど
の顔料;エステル類、ポリオール、ポリサルファイド、
ウレタンプレポリマーなどの可塑剤;カルボキシル基末
端ブタジエン−アクリロニトリル共重合ゴム、エチレン
−酢酸ビニル共重合体などの液状ゴム;シランカップリ
ング剤やチタン系カップリング剤などの表面改質剤;シ
リコーンオイル、シリコーンゴム、各種プラスチック粉
末、各種エンジニアリングプラスチック粉末、ABS樹
脂やMBS樹脂の粉末などの低応力化剤などを適宜添加
してもよい。
酸化アンチモンなどの難燃助剤;カーボンブラックなど
の顔料;エステル類、ポリオール、ポリサルファイド、
ウレタンプレポリマーなどの可塑剤;カルボキシル基末
端ブタジエン−アクリロニトリル共重合ゴム、エチレン
−酢酸ビニル共重合体などの液状ゴム;シランカップリ
ング剤やチタン系カップリング剤などの表面改質剤;シ
リコーンオイル、シリコーンゴム、各種プラスチック粉
末、各種エンジニアリングプラスチック粉末、ABS樹
脂やMBS樹脂の粉末などの低応力化剤などを適宜添加
してもよい。
【0071】さらに、本発明のコーティング組成物は、
必要に応じて流動調整剤、レベリング剤、消泡剤、帯電
防止剤、分散剤などを含み得る。
必要に応じて流動調整剤、レベリング剤、消泡剤、帯電
防止剤、分散剤などを含み得る。
【0072】上記添加剤の添加量は、本発明の効果を損
なわない範囲で適宜設定すれば良い。上記添加剤の添加
量は、ポリシラン1重量部に対して、通常1重量部以下
程度、好ましくは0.005〜0.2重量部以下程度である。
なわない範囲で適宜設定すれば良い。上記添加剤の添加
量は、ポリシラン1重量部に対して、通常1重量部以下
程度、好ましくは0.005〜0.2重量部以下程度である。
【0073】本発明における硬化膜は、本発明のコーテ
ィング組成物を基材に塗布、或いは塗布後に熱処理、光
照射又はその併用によって、光触媒性酸化物を含有する
硬化膜を形成することができる。好ましくは、塗布後に
熱処理、光照射又はその併用を行うのがよい。
ィング組成物を基材に塗布、或いは塗布後に熱処理、光
照射又はその併用によって、光触媒性酸化物を含有する
硬化膜を形成することができる。好ましくは、塗布後に
熱処理、光照射又はその併用を行うのがよい。
【0074】コーティング組成物の調製は以下のごとく
行う。ポリシラン及び光触媒性酸化物微粒子を必須成分
として、シリコーン樹脂、エポキシ化合物、硬化促進
剤、無機充填剤、その他の添加剤、溶剤を必要に応じて
配合し、撹拌または混練してコーティング組成物を調製
する。
行う。ポリシラン及び光触媒性酸化物微粒子を必須成分
として、シリコーン樹脂、エポキシ化合物、硬化促進
剤、無機充填剤、その他の添加剤、溶剤を必要に応じて
配合し、撹拌または混練してコーティング組成物を調製
する。
【0075】光触媒性酸化物微粒子のコーティング組成
物への配合については、上記粒径の該光触媒性酸化物微
粒子を他の成分と共に配合してコーティング組成物を調
製してもよいし、光触媒性粒子を他の成分と共に配合
後、ペイントシェーカー、ロールコータ、ニーダ等で粉
砕、混練して該光触媒性酸化物粒子を微粒子化して、コ
ーティング組成物を調製してもよい。
物への配合については、上記粒径の該光触媒性酸化物微
粒子を他の成分と共に配合してコーティング組成物を調
製してもよいし、光触媒性粒子を他の成分と共に配合
後、ペイントシェーカー、ロールコータ、ニーダ等で粉
砕、混練して該光触媒性酸化物粒子を微粒子化して、コ
ーティング組成物を調製してもよい。
【0076】溶剤としては、コーティング組成物が塗布
できる溶剤であれば特に限定されないが、トルエン、ベ
ンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトン等の
非水溶媒、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチ
レングリコール、エタノール等の水溶性溶媒、及びこれ
らの混合溶媒が例示される。
できる溶剤であれば特に限定されないが、トルエン、ベ
ンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトン等の
非水溶媒、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチ
レングリコール、エタノール等の水溶性溶媒、及びこれ
らの混合溶媒が例示される。
【0077】溶剤の量としては、コーティング組成物の
粘度が、1〜25000cP、好ましくは50〜2000cPとなるよ
うな量に調製するのがよい。
粘度が、1〜25000cP、好ましくは50〜2000cPとなるよ
うな量に調製するのがよい。
【0078】硬化膜の製造方法は、上記コーティング組
成物を塗布或いは塗布後に加熱処理又は光照射処理の少
なくとも一方の処理を行うすることによって得られる。
成物を塗布或いは塗布後に加熱処理又は光照射処理の少
なくとも一方の処理を行うすることによって得られる。
【0079】塗布方法としては、上記コーティング組成
物を、まず、スプレー、バーコート、フローコート、浸
漬、キャスティング等によって基材上に塗布する。
物を、まず、スプレー、バーコート、フローコート、浸
漬、キャスティング等によって基材上に塗布する。
【0080】本発明において使用する基材は特に限定さ
れないが、金属であれば、炭素鋼、ステンレス、鋳鋼等
を用いることができる。その他、プラスチック、セラミ
ックス、繊維、ガラス等を用いることができる。
れないが、金属であれば、炭素鋼、ステンレス、鋳鋼等
を用いることができる。その他、プラスチック、セラミ
ックス、繊維、ガラス等を用いることができる。
【0081】また、基材については、塗布の前に、基材
の種類に応じて、適宜、脱脂処理、脱せん処理、研磨処
理、ブラスト処理等の前処理を行ってもよい。
の種類に応じて、適宜、脱脂処理、脱せん処理、研磨処
理、ブラスト処理等の前処理を行ってもよい。
【0082】硬化膜形成のための塗布後の熱処理につい
て、温度範囲は50℃〜350℃、好ましくは100℃〜300℃
である。上記温度を保持する時間は、30秒〜48時間、好
ましくは1分間〜1時間である。上記温度にまで昇温す
る速度は特に限定されないが、0.1℃/分〜10℃/分が
好ましい。加熱は、空気中、又は窒素、アルゴン等の不
活性ガス雰囲気中で行い得る。また、物品の使用時の高
温運転を熱処理としてもよい。
て、温度範囲は50℃〜350℃、好ましくは100℃〜300℃
である。上記温度を保持する時間は、30秒〜48時間、好
ましくは1分間〜1時間である。上記温度にまで昇温す
る速度は特に限定されないが、0.1℃/分〜10℃/分が
好ましい。加熱は、空気中、又は窒素、アルゴン等の不
活性ガス雰囲気中で行い得る。また、物品の使用時の高
温運転を熱処理としてもよい。
【0083】本発明においては、光照射も有効であり、
光照射源としては、紫外線ランプ、電子線等が用いられ
る。光照射エネルギー量としては、50〜300mJ/cm2、好
ましくは80〜200mJ/cm2照射することによって、行うこ
とができる。
光照射源としては、紫外線ランプ、電子線等が用いられ
る。光照射エネルギー量としては、50〜300mJ/cm2、好
ましくは80〜200mJ/cm2照射することによって、行うこ
とができる。
【0084】本発明による硬化膜の厚さは、基材の材質
および形状、該基材を使用する各種器具の用途などによ
り異なるが、通常0.1〜200μm程度、好ましくは、0.5
〜50μmである。該硬化膜は、基材に硬化膜を形成後、
繰り返して塗布を行い、多層に硬化膜を形成してもよ
い。
および形状、該基材を使用する各種器具の用途などによ
り異なるが、通常0.1〜200μm程度、好ましくは、0.5
〜50μmである。該硬化膜は、基材に硬化膜を形成後、
繰り返して塗布を行い、多層に硬化膜を形成してもよ
い。
【0085】本発明の硬化膜を有する物品としては、例
えば、各種調理器具用部材、各種台所用品又は台所用部
材、洗面台、台所又は厨房用機器の本体部材、台所又は
厨房にある家具類の表面部材や機器の内部部材等が挙げ
られる。
えば、各種調理器具用部材、各種台所用品又は台所用部
材、洗面台、台所又は厨房用機器の本体部材、台所又は
厨房にある家具類の表面部材や機器の内部部材等が挙げ
られる。
【0086】調理器具用部材の具体例としては、ガスコ
ンロや電気コンロに使用する天板、コンロ汁受け皿、五
徳、グリル皿、焼き網;ガスオーブンレンジ、電気オー
ブンレンジに使用するオーブン皿;焼き肉器に使用する
焼き網用鉄板、焼き網、ロストル、ジンギスカン鍋;炊
飯器に使用する炊飯釜;電気(湯沸かし)ポットに使用
する内釜;自動給茶器に使用する給水タンク;ホットプ
レートに使用する鉄製又はカーボン製プレート、鉄製又
はカーボン製フライパン;電子レンジに使用する調理
皿;鍋;グリル鍋;オーブントースターに使用する調理
皿や調理網等が挙げられる。また、ガスコンロ、電気コ
ンロ、ガスオーブンレンジ、電気オーブンレンジ、電子
レンジ、バーベキューコンロ、焼き肉器、オーブントー
スター等の調理器具の内部壁用部材も物品に含まれる。
ンロや電気コンロに使用する天板、コンロ汁受け皿、五
徳、グリル皿、焼き網;ガスオーブンレンジ、電気オー
ブンレンジに使用するオーブン皿;焼き肉器に使用する
焼き網用鉄板、焼き網、ロストル、ジンギスカン鍋;炊
飯器に使用する炊飯釜;電気(湯沸かし)ポットに使用
する内釜;自動給茶器に使用する給水タンク;ホットプ
レートに使用する鉄製又はカーボン製プレート、鉄製又
はカーボン製フライパン;電子レンジに使用する調理
皿;鍋;グリル鍋;オーブントースターに使用する調理
皿や調理網等が挙げられる。また、ガスコンロ、電気コ
ンロ、ガスオーブンレンジ、電気オーブンレンジ、電子
レンジ、バーベキューコンロ、焼き肉器、オーブントー
スター等の調理器具の内部壁用部材も物品に含まれる。
【0087】台所や厨房においては、調理によっては、
台所用品が油で汚れたり、油煙乃至油蒸気や油等の汚れ
が飛散するため、周囲に配置されている機器、家具類、
壁面等の表面がそれらによって汚染される。本発明の物
品は、それら台所用品又は台所用部材、台所又は厨房用
機器の本体(表面)部材や家具類の表面部材や機器の内
部部材も含有する。
台所用品が油で汚れたり、油煙乃至油蒸気や油等の汚れ
が飛散するため、周囲に配置されている機器、家具類、
壁面等の表面がそれらによって汚染される。本発明の物
品は、それら台所用品又は台所用部材、台所又は厨房用
機器の本体(表面)部材や家具類の表面部材や機器の内
部部材も含有する。
【0088】各種台所用品又は台所用部材としては、キ
ッチンバック、レンジフード、換気扇の各部品(例え
ば、化粧カバー、羽根車、換気シャッター)、シンク、
バックボード、(金属、樹脂製等の)パネル壁材、タイ
ル壁面材、水道蛇口、温水蛇口、水道コック、温水コッ
ク、ガスコック、ガス配管、(茶かす、生ゴミ等を入れ
る)三角コーナーや排水口ゴミ受け、(プラスチック、
セラミックス、ガラス製等の)食器、ナイフ、フォー
ク、スプーン類(スプーン、こし器、網じゃくし等)、
計量器、ボール、水切りかご、おろし、カッター、包丁
(の刀身)等が挙げられる。
ッチンバック、レンジフード、換気扇の各部品(例え
ば、化粧カバー、羽根車、換気シャッター)、シンク、
バックボード、(金属、樹脂製等の)パネル壁材、タイ
ル壁面材、水道蛇口、温水蛇口、水道コック、温水コッ
ク、ガスコック、ガス配管、(茶かす、生ゴミ等を入れ
る)三角コーナーや排水口ゴミ受け、(プラスチック、
セラミックス、ガラス製等の)食器、ナイフ、フォー
ク、スプーン類(スプーン、こし器、網じゃくし等)、
計量器、ボール、水切りかご、おろし、カッター、包丁
(の刀身)等が挙げられる。
【0089】台所又は厨房用機器の本体部材としては、
台所や厨房にある各種機器、例えば、ガス又は電気食器
乾燥器、ガス又は電気食器洗浄器、ガス湯沸かし器、ガ
スオーブンレンジ、電気オーブンレンジ、電子レンジ、
ガス又は電気炊飯器、オーブントースター、電気(湯沸
かし)ポット、自動給茶器、冷蔵庫等の本体部材が例示
できる。
台所や厨房にある各種機器、例えば、ガス又は電気食器
乾燥器、ガス又は電気食器洗浄器、ガス湯沸かし器、ガ
スオーブンレンジ、電気オーブンレンジ、電子レンジ、
ガス又は電気炊飯器、オーブントースター、電気(湯沸
かし)ポット、自動給茶器、冷蔵庫等の本体部材が例示
できる。
【0090】更に、台所又は厨房用家具の表面部材や機
器の内部部材としては、食器棚の扉及びその表面部材、
お米収納器の本体、システムキッチンの扉及びその表面
部材、ガス又は電気食器乾燥器の内部壁用部材並びにガ
ス又は電気食器洗浄器の内部壁用部材も挙げられる。
器の内部部材としては、食器棚の扉及びその表面部材、
お米収納器の本体、システムキッチンの扉及びその表面
部材、ガス又は電気食器乾燥器の内部壁用部材並びにガ
ス又は電気食器洗浄器の内部壁用部材も挙げられる。
【0091】
【発明の効果】ポリシラン及び光触媒性酸化物微粒子を
含有するコーティング組成物を塗布することによって得
られる硬化膜は、非常に耐久性が高く、基材との密着性
もよく、塗布であるため複雑な形状部でも適用できる。
含有するコーティング組成物を塗布することによって得
られる硬化膜は、非常に耐久性が高く、基材との密着性
もよく、塗布であるため複雑な形状部でも適用できる。
【0092】
【実施例】以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特
徴とするところをより一層明確にする。
徴とするところをより一層明確にする。
【0093】尚、物性の特性は、下記の方法により行っ
た。
た。
【0094】(1)試験1(サラダ油分解テスト) 試験板にサラダ油(商標"日清サラダ油"、日清食品株式
会社製)1gを塗布し、100W水銀灯(光源と試験板の距
離30cm)で紫外線を72時間照射し、塗布油の分解率
(%)を紫外線照射前後の重量から算出した。
会社製)1gを塗布し、100W水銀灯(光源と試験板の距
離30cm)で紫外線を72時間照射し、塗布油の分解率
(%)を紫外線照射前後の重量から算出した。
【0095】(2)試験2(光触媒活性耐久テスト) 試験板に、400W水銀灯(光源と試験板の距離30cm)で
紫外線を96時間照射し、その後、試験1と同様のサラダ
油分解テストを行った。
紫外線を96時間照射し、その後、試験1と同様のサラダ
油分解テストを行った。
【0096】実施例1 特開平6-73180号公報に記載に従って電極還元法による
重合によって得られたフェニルネットワークポリシラン
(平均重合度12)40重量部、二酸化チタン(アナターゼ
型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)
65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイントシェー
カーで混練して、コーティング組成物を調製した。アセ
トンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理した
ステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm厚)
に、上記コーティング組成物を刷毛により塗布し、200
℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微粒子を含
有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
重合によって得られたフェニルネットワークポリシラン
(平均重合度12)40重量部、二酸化チタン(アナターゼ
型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)
65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイントシェー
カーで混練して、コーティング組成物を調製した。アセ
トンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理した
ステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm厚)
に、上記コーティング組成物を刷毛により塗布し、200
℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微粒子を含
有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
【0097】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0098】実施例2 実施例1で使用したフェニルネットワークポリシラン30
重量部、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(旭チバ
製、EPN1180)10重量部、二酸化チタン(アナターゼ
型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)
65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイントシェー
カーで混練して、コーティング組成物を調製した。アセ
トンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理した
ステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm
厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗布し、
200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微粒子
を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
重量部、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(旭チバ
製、EPN1180)10重量部、二酸化チタン(アナターゼ
型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)
65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイントシェー
カーで混練して、コーティング組成物を調製した。アセ
トンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理した
ステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm
厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗布し、
200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微粒子
を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
【0099】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0100】実施例3 実施例1で使用したフェニルネットワークポリシラン30
重量部、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(旭チバ
製、EPN1180)10重量部、二酸化チタン(アナターゼ
型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)
65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイントシェー
カーで混練して、コーティング組成物を調製した。アセ
トンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理した
ステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm
厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗布し、
高圧水銀ランプを用いて、100mJ/cm2の紫外線照射し
て、光触媒性酸化物微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10
μm)を形成した。
重量部、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(旭チバ
製、EPN1180)10重量部、二酸化チタン(アナターゼ
型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)
65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイントシェー
カーで混練して、コーティング組成物を調製した。アセ
トンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理した
ステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm
厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗布し、
高圧水銀ランプを用いて、100mJ/cm2の紫外線照射し
て、光触媒性酸化物微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10
μm)を形成した。
【0101】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0102】実施例4 実施例1と同様のフェニルネットワークポリシラン30重
量部、メチルフェニルシリコーン樹脂(チッソ製、PMM-
0025)10重量部、二酸化チタン(アナターゼ型、平均粒
子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)65重量部及
びキシレン45重量部を加えてペイントシェーカーで混練
して、コーティング組成物を調製した。アセトンで脱
脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理したステンレ
ス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm厚)に、上
記コーティング組成物を刷毛により塗布し、200℃で30
分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微粒子を含有する
硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
量部、メチルフェニルシリコーン樹脂(チッソ製、PMM-
0025)10重量部、二酸化チタン(アナターゼ型、平均粒
子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)65重量部及
びキシレン45重量部を加えてペイントシェーカーで混練
して、コーティング組成物を調製した。アセトンで脱
脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理したステンレ
ス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm厚)に、上
記コーティング組成物を刷毛により塗布し、200℃で30
分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微粒子を含有する
硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
【0103】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0104】実施例5 実施例1で使用したフェニルネットワークポリシラン30
重量部、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(旭チバ
製、EPN1180)5重量部、メチルフェニルシリコーン樹脂
(チッソ製、PMM-0025)5重量部、二酸化チタン(アナ
ターゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究
所製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイント
シェーカーで混練して、コーティング組成物を調製し
た。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト
処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm
×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗
布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物
微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
重量部、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(旭チバ
製、EPN1180)5重量部、メチルフェニルシリコーン樹脂
(チッソ製、PMM-0025)5重量部、二酸化チタン(アナ
ターゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究
所製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイント
シェーカーで混練して、コーティング組成物を調製し
た。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト
処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm
×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗
布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物
微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
【0105】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0106】実施例6 電極還元法による重合によって得られたメチルフェニル
ポリシラン(平均重合度50)40重量部、二酸化チタン
(アナターゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化
学研究所製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペ
イントシェーカーで混練して、コーティング組成物を調
製した。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラ
スト処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×7
0mm×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛によ
り塗布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸
化物微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成し
た。
ポリシラン(平均重合度50)40重量部、二酸化チタン
(アナターゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化
学研究所製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペ
イントシェーカーで混練して、コーティング組成物を調
製した。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラ
スト処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×7
0mm×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛によ
り塗布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸
化物微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成し
た。
【0107】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0108】実施例7 電極還元法による重合によって得られたメチルフェニル
ポリシラン(平均重合度5)40重量部、二酸化チタン
(アナターゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化
学研究所製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペ
イントシェーカーで混練して、コーティング組成物を調
製した。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラ
スト処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×7
0mm×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛によ
り塗布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸
化物微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成し
た。
ポリシラン(平均重合度5)40重量部、二酸化チタン
(アナターゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化
学研究所製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペ
イントシェーカーで混練して、コーティング組成物を調
製した。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラ
スト処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×7
0mm×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛によ
り塗布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸
化物微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成し
た。
【0109】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0110】実施例8 実施例6で使用したメチルフェニルポリシラン(平均重
合度50)30重量部、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂(旭チバ製、EPN1180)10重量部、二酸化チタン(ア
ナターゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研
究所製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイン
トシェーカーで混練して、コーティング組成物を調製し
た。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト
処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm
×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗
布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物
微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
合度50)30重量部、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂(旭チバ製、EPN1180)10重量部、二酸化チタン(ア
ナターゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研
究所製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイン
トシェーカーで混練して、コーティング組成物を調製し
た。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト
処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm
×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗
布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物
微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
【0111】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0112】実施例9 実施例7で使用したメチルフェニルポリシラン(平均重
合度5)30重量部、メチルフェニルシリコーン樹脂(チ
ッソ製、PMM-0025)10重量部、二酸化チタン(アナター
ゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究所
製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイントシ
ェーカーで混練して、コーティング組成物を調製した。
アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理
したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1m
m厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗布
し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微
粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
合度5)30重量部、メチルフェニルシリコーン樹脂(チ
ッソ製、PMM-0025)10重量部、二酸化チタン(アナター
ゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究所
製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイントシ
ェーカーで混練して、コーティング組成物を調製した。
アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理
したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1m
m厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗布
し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微
粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
【0113】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0114】実施例10 実施例7で使用したメチルフェニルポリシラン(平均重
合度5)30重量部、電極還元法による重合によって得ら
れたフェニルネットワークポリシラン(平均重合度12)
5重量部、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(旭チ
バ製、EPN1180)5重量部、メチルフェニルシリコーン樹
脂(チッソ製、PMM-0025)10重量部、二酸化チタン(ア
ナターゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研
究所製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイン
トシェーカーで混練して、コーティング組成物を調製し
た。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト
処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm
×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗
布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物
微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
合度5)30重量部、電極還元法による重合によって得ら
れたフェニルネットワークポリシラン(平均重合度12)
5重量部、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(旭チ
バ製、EPN1180)5重量部、メチルフェニルシリコーン樹
脂(チッソ製、PMM-0025)10重量部、二酸化チタン(ア
ナターゼ型、平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研
究所製)65重量部及びキシレン45重量部を加えてペイン
トシェーカーで混練して、コーティング組成物を調製し
た。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト
処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm
×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛により塗
布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物
微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
【0115】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0116】実施例11 実施例10で使用したメチルフェニルポリシラン(平均
重合度5)15重量部、フェニルネットワークポリシラン
(平均重合度12)15重量部、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂(旭チバ製、EPN1180)5重量部、メチルフェ
ニルシリコーン樹脂(チッソ製、PMM-0025)5重量部、
二酸化チタン(アナターゼ型、平均粒子径1μm、株式
会社高純度化学研究所製)60重量部、シリカゲル粒子
(平均粒子径1μm、株式会社アドマテックス製)5重
量部及びキシレン60重量部を加えてペイントシェーカー
で混練して、コーティング組成物を調製した。アセトン
で脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理したステ
ンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm厚)
に、上記コーティング組成物を刷毛により塗布し、200
℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微粒子を含
有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
重合度5)15重量部、フェニルネットワークポリシラン
(平均重合度12)15重量部、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂(旭チバ製、EPN1180)5重量部、メチルフェ
ニルシリコーン樹脂(チッソ製、PMM-0025)5重量部、
二酸化チタン(アナターゼ型、平均粒子径1μm、株式
会社高純度化学研究所製)60重量部、シリカゲル粒子
(平均粒子径1μm、株式会社アドマテックス製)5重
量部及びキシレン60重量部を加えてペイントシェーカー
で混練して、コーティング組成物を調製した。アセトン
で脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理したステ
ンレス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm厚)
に、上記コーティング組成物を刷毛により塗布し、200
℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微粒子を含
有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
【0117】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0118】実施例12 電極還元法による重合によって得られたフェニルネット
ワークポリシラン(平均重合度12)30重量部、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂(旭チバ製、EPN1180)5重
量部、メチルフェニルシリコーン樹脂(チッソ製、PMM-
0025)5重量部、二酸化チタン(アナターゼ型、平均粒
子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)50重量部、
炭化ケイ素粒子(平均粒子径1μm、株式会社高純度化
学研究所製)15重量部及びキシレン60重量部を加えてペ
イントシェーカーで混練して、コーティング組成物を調
製した。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラ
スト処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×7
0mm×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛によ
り塗布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸
化物微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成し
た。
ワークポリシラン(平均重合度12)30重量部、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂(旭チバ製、EPN1180)5重
量部、メチルフェニルシリコーン樹脂(チッソ製、PMM-
0025)5重量部、二酸化チタン(アナターゼ型、平均粒
子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)50重量部、
炭化ケイ素粒子(平均粒子径1μm、株式会社高純度化
学研究所製)15重量部及びキシレン60重量部を加えてペ
イントシェーカーで混練して、コーティング組成物を調
製した。アセトンで脱脂、アルミナを研磨剤としてブラ
スト処理したステンレス試験板(材質SUS304、150mm×7
0mm×1mm厚)に、上記コーティング組成物を刷毛によ
り塗布し、200℃で30分間熱処理を行って、光触媒性酸
化物微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10μm)を形成し
た。
【0119】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0120】実施例13 電極還元法による重合によって得られたメチルフェニル
ポリシラン(平均重合度5)30重量部、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂(旭チバ製、EPN1180)5重量部、
メチルフェニルシリコーン樹脂(チッソ製、PMM-0025)
5重量部、二酸化チタン(アナターゼ型、平均粒子径1
μm、株式会社高純度化学研究所製)50重量部、炭化ケ
イ素粒子(平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究
所製)10重量部、シリカゲル粒子(平均粒子径1μm、
株式会社アドマテックス製)5重量部及びキシレン60重
量部を加えてペイントシェーカーで混練して、コーティ
ング組成物を調製した。アセトンで脱脂、アルミナを研
磨剤としてブラスト処理したステンレス試験板(材質SU
S304、150mm×70mm×1mm厚)に、上記コーティング組
成物を刷毛により塗布し、200℃で30分間熱処理を行っ
て、光触媒性酸化物微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10
μm)を形成した。
ポリシラン(平均重合度5)30重量部、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂(旭チバ製、EPN1180)5重量部、
メチルフェニルシリコーン樹脂(チッソ製、PMM-0025)
5重量部、二酸化チタン(アナターゼ型、平均粒子径1
μm、株式会社高純度化学研究所製)50重量部、炭化ケ
イ素粒子(平均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究
所製)10重量部、シリカゲル粒子(平均粒子径1μm、
株式会社アドマテックス製)5重量部及びキシレン60重
量部を加えてペイントシェーカーで混練して、コーティ
ング組成物を調製した。アセトンで脱脂、アルミナを研
磨剤としてブラスト処理したステンレス試験板(材質SU
S304、150mm×70mm×1mm厚)に、上記コーティング組
成物を刷毛により塗布し、200℃で30分間熱処理を行っ
て、光触媒性酸化物微粒子を含有する硬化膜(膜厚約10
μm)を形成した。
【0121】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0122】比較例1 フェノールノボラック型エポキシ樹脂(旭チバ製、EPN1
180)20重量部、エポキシ樹脂硬化剤としてメチルヒド
ロフタル酸無水物(油化シェルエポキシ製、エピキュア
YH300)20重量部、二酸化チタン(アナターゼ型、平
均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)65重量
部及びキシレン45重量部を加えてペイントシェーカーで
混練して、コーティング組成物を調製した。アセトンで
脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理したステン
レス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm厚)に、
上記コーティング組成物を刷毛により塗布し、200℃で3
0分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微粒子を含有す
る硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
180)20重量部、エポキシ樹脂硬化剤としてメチルヒド
ロフタル酸無水物(油化シェルエポキシ製、エピキュア
YH300)20重量部、二酸化チタン(アナターゼ型、平
均粒子径1μm、株式会社高純度化学研究所製)65重量
部及びキシレン45重量部を加えてペイントシェーカーで
混練して、コーティング組成物を調製した。アセトンで
脱脂、アルミナを研磨剤としてブラスト処理したステン
レス試験板(材質SUS304、150mm×70mm×1mm厚)に、
上記コーティング組成物を刷毛により塗布し、200℃で3
0分間熱処理を行って、光触媒性酸化物微粒子を含有す
る硬化膜(膜厚約10μm)を形成した。
【0123】この試験板について上記の試験1及び2を
行った。結果を表1に示す。
行った。結果を表1に示す。
【0124】
【表1】
【0125】表1に示す結果から、本発明のポリシラン
と光触媒性酸化物微粒子を含有するコーティング組成物
を塗布することによって得られる硬化膜が、優れた防汚
性及び耐久性を備えていることが明らかである。
と光触媒性酸化物微粒子を含有するコーティング組成物
を塗布することによって得られる硬化膜が、優れた防汚
性及び耐久性を備えていることが明らかである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 1/00 C09D 1/00 5/00 5/00 L 5/16 5/16 183/04 183/04 Fターム(参考) 4C080 AA07 BB02 HH04 HH05 JJ09 KK08 LL20 MM02 NN22 NN29 QQ01 QQ03 4G069 AA03 AA05 AA08 BA02B BA04A BA04B BA13A BA14A BA17 BA18 BA22A BA22B BA48A BB04A BB06A BB15B BC12A BC13A BC18A BC22A BC25A BC31A BC32A BC35A BC50A BC54A BC55A BC60A BC62A BC66A BD05B BE05A BE05B BE32A BE32B BE38A BE38B CA01 CA10 CA11 EA07 EB14Y EB15Y EB18X EB18Y EC22Y FA03 FA06 FB23 FB24 FB29 FB58 4J002 CD02W CD05W CD06W CD13W CP01X CP03W CP06W CP09W CP14W DE096 DE106 DE116 DE136 DE186 FD206 GH02 GL00 GQ00 4J038 DL021 DL031 HA216 JC32 KA04 KA20 PA17 PA19
Claims (8)
- 【請求項1】 ポリシラン及び光触媒性酸化物微粒子を
含有するコーティング組成物。 - 【請求項2】 更に、エポキシ樹脂及びシリコーン樹脂
の少なくとも1種を含有する請求項1に記載のコーティ
ング組成物。 - 【請求項3】 光触媒性酸化物微粒子が、酸化チタン、
酸化亜鉛、酸化銅、酸化銀、酸化スズ、酸化鉄、酸化ビ
スマス、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化マン
ガン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、チタン酸ストロン
チウム及びチタン酸バリウムからなる群の少なくとも1
種である請求項1又は2に記載のコーティング組成物。 - 【請求項4】 光触媒性酸化物微粒子の平均粒径が、2
μm以下の微粒子である請求項1〜3のいずれかに記載
のコーティング組成物。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載のコーテ
ィング組成物を塗布、或いは塗布後に加熱処理又は光照
射処理の少なくとも一方の処理を行うすることによって
得られる硬化膜。 - 【請求項6】 請求項5に記載の硬化膜を有する物品。
- 【請求項7】 請求項1〜4のいずれかに記載のコーテ
ィング組成物を、物品の基材に塗布、或いは塗布後に加
熱処理又は光照射処理の少なくとも一方の処理を行うこ
とによって得られる請求項6に記載の物品の製造方法。 - 【請求項8】 請求項1〜4のいずれかに記載のコーテ
ィング組成物を、物品の基材に塗布、或いは塗布後に加
熱処理又は光照射処理の少なくとも一方の処理を行うこ
とによって得られる物品の基材上に硬化膜を形成させる
被膜方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11083869A JP2000273392A (ja) | 1999-03-26 | 1999-03-26 | 光触媒機能性コーティング組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11083869A JP2000273392A (ja) | 1999-03-26 | 1999-03-26 | 光触媒機能性コーティング組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000273392A true JP2000273392A (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13814682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11083869A Pending JP2000273392A (ja) | 1999-03-26 | 1999-03-26 | 光触媒機能性コーティング組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000273392A (ja) |
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---|---|---|---|---|
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-
1999
- 1999-03-26 JP JP11083869A patent/JP2000273392A/ja active Pending
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