JP2000252070A - 有機el素子 - Google Patents

有機el素子

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JP2000252070A JP11055795A JP5579599A JP2000252070A JP 2000252070 A JP2000252070 A JP 2000252070A JP 11055795 A JP11055795 A JP 11055795A JP 5579599 A JP5579599 A JP 5579599A JP 2000252070 A JP2000252070 A JP 2000252070A
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Satoru Tanaka
哲 田中
Tatsuo Fukuda
辰男 福田
Daisuke Yoshizawa
大介 吉▲沢▼
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来よりも高い輝度を得ることができる有機
EL素子を提供する。 【解決手段】 少なくとも一方が透明である一対の電極
間に有機化合物からなる有機層が積層された有機EL素
子において、下記化1で示される化合物を有機層に含有
する。 【化1】 (上記化1中、R1 ,R2 ,R3 に示される基は、水素
原子、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ハロゲ
ン化フェニル基、アルキル基、アルキルフェニル基、ア
ルコキシ基、アルコキシフェニル基、ハロゲン化アルキ
ルフェニル基、アミノ基、アミノフェニル基、フェノキ
シフェニル基、アリール基、アリールフェニル基、シア
ノ基、ホルミル基、ニトロ基、2−(アルキリチオ)−
2−(アリールスルホニル)エテニル基、2−(アルキ
ルチオ)−2−(アルキルスルホニル)エテニル基、ま
たは2−(アリールチオ)−2−(アリールスルホニ
ル)エテニル基等の基である。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも一方が
透明である一対の電極間に有機化合物からなる有機層が
積層された有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、
有機EL素子という)に関する。
【0002】
【従来の技術】有機EL素子は、蛍光性有機化合物を含
む薄膜を一対の電極であるカソードとアノードの間に挟
んだ構造を有し、前記薄膜に電子および正孔を注入して
再結合させることにより励起子(エキシトン)を生成さ
せ、この励起子が失活する際の光の放出(蛍光・燐光)
を利用して表示を行う表示素子である。
【0003】図8はコダックのタンらが1987年のA
pplied・Phisics・Lettersに報告
した有機EL素子の基本構成を示す図である。
【0004】図8に示す有機EL素子21は、基板22
上のアノード23にITO(IndiumTin Oxide)を使用
し、正孔輸送層24にトリフェニルアミン誘導体である
下記化学式(化2)の構造式で示すDiamine を使用し、
有機発光層25に下記化学式(化3)の構造式で示すト
リス(8−キノリノラト)アルミニウム(III) (Alq
3 )を使用し、カソード26にマグネシウムと銀の合金
を使用している。この有機EL素子21の各層の厚みは
50nm程度であり、各層の成膜は真空蒸着で行ってい
る。
【0005】
【化2】
【0006】
【化3】
【0007】上記有機EL素子21において、アノード
23側にプラス、カソード26側にマイナスの直流電圧
10Vを印加すると、有機発光層25が発光し、100
0cd/m2 程度の緑色の発光が得られる。このときの
発光はITOのアノード23側から取り出される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、タンら
によって報告された図8に示す従来の有機EL素子21
の構成では、千数百cd/m2 の輝度を有する素子を実
用化するためには輝度が不十分であり、より高い輝度が
必要であった。
【0009】そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてな
されたものであり、従来よりも高い輝度を得ることがで
きる有機EL素子を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明は、少なくとも一方が透明である一
対の電極間に有機化合物からなる有機層が積層された有
機EL素子において、前記化1で示される化合物を前記
有機層に含有することを特徴とする。
【0011】請求項2の発明は、請求項1の有機EL素
子において、前記有機層はAlq3 に前記化1で示され
る化合物が含有された発光層を備えたことを特徴とす
る。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は本発明による有機EL素子
の構造を示す図である。
【0013】図1に示すように、有機EL素子1は、絶
縁性および透光性を有するガラス等の基板2の上にアノ
ード3としてのITOが成膜されている。アノード3の
上には有機層4が成膜されている。
【0014】有機層4は、アノード3の上に成膜される
正孔注入層4a、正孔注入層4aの上に成膜される正孔
輸送層4b、正孔輸送層4bの上に成膜される発光層4
cから構成される。
【0015】正孔注入層4aは、下記化学式(化4)の
構造式で示すスターバースト分子m−MTDATAから
なり、アノード3の上に成膜される。
【0016】
【化4】
【0017】正孔輸送層4bは、下記化学式(化5)の
構造式で示すα−NPD(N,N’−ビス−(1−ナフ
チル)−N,N’−ジフェニルベンジジン)からなり、
正孔注入層4aの上に成膜される。
【0018】
【化5】
【0019】発光層4cは、前記化学式(化3)の構造
式で示すホスト材料のAlq3 に前記化1で示す化合物
(ドーパント)が添加されたものであり、正孔輸送層4
bの上に成膜される。ホスト材料のAlq3 は、図2に
示すようにフォトルミネッセンスのピークが523nm
にある。
【0020】なお、有機層4は上記3層構造に限定され
るものではない。また、化1で示す化合物は、有機層を
構成する発光層以外の他の層に添加することができる。
【0021】有機層4(発光層4c)の上には、カソー
ド5としてのAl:Li合金が形成されている。
【0022】
【実施例】(実施例1)ガラスからなる基板2の上にI
TOをパターン形成してアノード3を形成し、このIT
O付き基板2を洗浄して乾燥する。その後、ITO付き
基板2を蒸着装置にセットし、チャンバー内を1×10
-6torrの真空にする。この状態で、基板2のアノー
ド3上に正孔注入層4aとしてスターバースト分子のm
−MTDATAを40nmの膜厚で真空蒸着により形成
し、この正孔注入層4aの上に正孔輸送層4bとしてα
−NPDを10nmの膜厚で真空蒸着により形成する。
さらに、Alq3 をホスト材料に用い、下記化学式(化
6)の構造式で示す化合物(チエニルアニリン誘導体)
をドーパントとして用い、正孔輸送層4bの上に発光層
4cを共蒸着する。このとき、化6の化合物はAlq3
に対して1mol%の割合とする。
【0023】
【化6】
【0024】ここで、上記化6の合成方法について説明
する。なお、図3は以下に説明する化6の合成方法にお
ける反応式を示している。
【0025】窒素雰囲気下、Thiophene (1.10m
L,20.0mmol)を無水テトラヒドロフラン20
mLに溶解させ、−78℃に冷却した。n−BuLi
(13.8mL,1.60Min hexanes,22.0m
mol)を5分かけて滴下して35分間攪拌後、B(O
−i−Pr)3 (13.9mL,60.0mmol)を
加えて同温で1時間攪拌し、さらに室温で19時間攪拌
した。0℃に冷却してから10%硫酸30mLを加え、
ジエチルエーテル(100mL×3)で抽出、有機層を
無水炭酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮し、茶白色固体の
crude 2-Thiopheneboronic acid (1.50g,59
%)を得た。
【0026】4-Iodoaniline (4.38g,20.0m
mol)、37%HCHO16mLをアセトニトリル8
0mLに溶解させた。さらにSodium cyanoborohydride
(3.78g,60.1mmol)を加え、酢酸4mL
を10分かけて滴下し、室温で11時間攪拌した。エー
テル100mLを加え、1N水酸化カリウム水溶液(1
00mL×3)、飽和食塩水100mLで洗浄、吸引濾
過で固形物を取り除いた後、減圧濃縮した。さらに水1
00mLを加え、クロロホルムで抽出、有機層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮し、灰色固体のcrude 4-
Iodo-N,N-dimethylaniline(4.85g,98%)を得
た。
【0027】上記のcrude 4-Iodo-N,N-dimethylaniline
(1.23g,5.00mmol)のトルエン溶液10
mLに上記のcrude 2-Thiopheneboronic acid (640
mg,5.01mmol)のエタノール溶液3mL、2
M炭酸ナトリウム水溶液10mLを加え、脱気をしなが
ら窒素置換した。さらにPd(PPh3 4 (290m
g,0.251mmol)を加えて80℃で12時間攪
拌した。水30mLを加え、トルエン(30mL×3)
で抽出、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮
した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエ
ン:ヘキサン=4:1)により、N,N-Dimetyl-4-(2-thi
enyl)aniline(463mg,1.98mmol,40
%)を得た。
【0028】続いて、窒素雰囲気下、N,N-Dimetyl-4-(2
-thienyl)aniline(242g,1.19mmol)無水
テトラヒドロフラン15mLに溶解させ、−78℃に冷
却した。n−BuLi(940μL,1.60Min h
exanes,1.50mmol)を加えて30分間攪拌後、
DMF(101μL,1.31mmol)を加えて同温
で30分間攪拌し、さらに室温で1時間攪拌した。飽和
塩化アンモニウム水溶液30mLを加えて、クロロホル
ム(30mL×3)で抽出、有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥、減圧濃縮した。カラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、クロロホルム:ヘキサン=2:1)によ
り、目的の化合物(化6)であるN,N-Dimethyl-4-(5-fo
rmyl-2-thienyl)aniline(254mg,1.10mmo
l,92%)を得た。
【0029】さらに発光層4cの上にカソード5として
AlとLiの合金を200nmの膜厚で蒸着する。この
素子のカソード5上に、露点−30℃以下のドライ窒素
雰囲気中で紫外線硬化樹脂を縁に塗布したガラス基板
(封止容器)6を固定し、紫外線で硬化させ、基板2と
ガラス基板との外周部分に封止を施す。
【0030】以上のようにして得られた有機EL素子1
において、アノード3側にプラス、カソード5側にマイ
ナスの直流電圧13Vを印加したところ、図4に示すよ
うな510nmにピークを持つ20000cd/m2
発光が得られた。ここで、Alq3 が発光する際のピー
ク波長は523nmであるから、上記実施例1では発光
層4cに添加した化6で示す化合物(ドーパント)が発
光していると考えられる。また、上記実施例1の有機E
L素子1では、10mA/cm2 時に280cd/m2
の発光が得られた。
【0031】(実施例2〜4)次に、下記化学式(化7
〜化9)の構造式で示される化合物(チエニルアニリン
誘導体)をドーパントとして用いたときの有機EL素子
(実施例2〜4)におけるフォトルミネッセンスのピー
ク波長と輝度を下記表1に示す。
【0032】なお、各実施例2〜4の有機EL素子は、
ドーパントとして化7〜化9で示される化合物を用いる
他は、実施例1と同様に作製される。
【0033】
【化7】
【0034】ここで、上記化7の合成方法について説明
する。なお、図5は以下に説明する化7の合成方法にお
ける反応式を示している。
【0035】窒素雰囲気下、(Methylthio)methyl p-tol
yl sulfone(260mg,1.20mmol)を無水テ
トラヒドロフラン30mLに溶解させ、−78℃に冷却
した。TMS−Cl(335μL,2.64mmol)
を加え、n−BuLi(1.65mL,1.60Min
hexanes,2.64mmol)を滴下して同温で35分
間攪拌した。さらに、N,N-Dimethyl-4-(5-formyl-2-thi
enyl)aniline(185mg,0.802mmol)の無
水テトラヒドロフラン溶液25mLを10分かけて滴下
して同温で30分間攪拌後、室温で4時間攪拌した。飽
和塩化アンモニウム溶液50mLを加え、クロロホルム
(50mL×3)で抽出、有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、減圧濃縮した。カラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、クロロホルム)、分取ふるい型ゲル透過
クロマトグラフィーより、目的の化合物(化7)である
N,N-Dimethyl-4-(5-(2-methylthio-2-(p-tolylsulfony
l)ethenyl)-2-thienyl)aniline (56.5mg,0.
132mmol,16%)を得た。
【0036】
【化8】
【0037】ここで、上記化8の合成方法について説明
する。なお、図6は以下に説明する化8の合成方法にお
ける反応式を示している。
【0038】窒素雰囲気下、Thiophene (2.20m
L,40.0mmol)を無水テトラヒドロフラン40
mLに溶解させ、−78℃に冷却した。n−BuLi
(27.5mL,1.60Min hexanes,44.0m
mol)を10分かけて滴下して40分攪拌後、0℃に
冷却したB(O−i−Pr)3 (13.9mL,60.
0mmol)の無水テトラヒドロフラン溶液20mLに
15分かけて滴下した。同温で1時間攪拌後、室温で1
7時間攪拌した。0℃に冷却してから10%硫酸10m
L、水100mLを加え、ジエチルエーテル(200m
L×1,100mL×2)で抽出、有機層を無水炭酸ナ
トリウムで乾燥、減圧濃縮し、白色固体のcrude 2-Thio
pheneboronic acid (4.02g,78%)を得た。
【0039】Triphenylamine(1.32g,5.37m
mol)をメタノール−クロロホルム(2:5)70m
Lに溶解させ、BTMAICl2 (1.87g,5.3
8mmol)、炭酸カルシウム(701mg,7.00
mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。濾過で固形
物を取り除いた後、減圧濃縮した。5%亜硫酸水素ナト
リウム20mLを加え、ジエチルエーテル(40mL×
3)で抽出、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮
した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロ
ホルム)により、灰色固体のcrude 4-Iodo-triphenylam
ine (1.77g,89%)を得た。
【0040】上記のcrude 4-Iodo-triphenylamine
(1.48g,4.00mmol)のトルエン溶液10
mLに上記のcrude 2-Thiopheneboronic acid (1.0
1g,7.92mmol)のエタノール溶液4mL、2
M炭酸ナトリウム水溶液3.6mLを加え、脱気をしな
がら窒素置換した。さらにPd(PPh3 4 (208
mg,0.180mmol)を加えて80℃で16時間
攪拌した。水50mLを加え、クロロホルム(50mL
×3)で抽出、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、減
圧濃縮した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、
クロロホルム:ヘキサン=1:6)により、N,N-Diphen
yl-4-(2-thienyl)aniline (891mg,2.72mm
ol,68%)を得た。
【0041】続いて、窒素雰囲気下、N,N-Diphenyl-4-
(2-thienyl)aniline (823mg,2.51mmo
l)無水テトラヒドロフラン50mLに溶解させ、−7
8℃に冷却した。n−BuLi(1.88mL,1.6
0Min hexanes,3.01mmol)を加えて35分
間攪拌後、DMF(232μL,3.01mmol)を
加えて同温で40分間攪拌し、さらに室温で17時間攪
拌した。水100mLを加え、クロロホルム(100m
L×3)で抽出、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥、減圧濃縮した。カラムフロマトグラフィー(シリカ
ゲル、クロロホルム:ヘキサン=1:2から2:1)、
分取ふるい型ゲル透過クロマトグラフィーにより、目的
の化合物(化8)であるN,N-Diphenyl-4-(5-formyl-2-t
hienyl)aniline(537mg,1.51mmol,60
%)を得た。
【0042】
【化9】
【0043】ここで、上記化9の合成方法について説明
する。なお、図7は以下に説明する化9の合成方法にお
ける反応式を示している。
【0044】窒素雰囲気下、(Methylthio)methyl p-tol
yl sulfone(131mg,0.603mmol)を無水
テトラヒドロフラン20mLに溶解させ、−78℃に冷
却した。TMS−Cl(168μL,1.32mmo
l)を加えて20分間攪拌後、n−BuLi(825μ
L,1.60Min hexanes,1.32mmol)を滴
下して同温で30分間攪拌した。さらに、N,N-Diphenyl
-4-(5-formyl-2-thienyl)aniline(143mg,0.4
02mmol)の無水テトラヒドロフラン溶液10mL
を10分かけて滴下し同温で30分間攪拌後、室温で1
7時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム溶液50mLを
加え、クロロホルム(50mL×3)で抽出、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮した。カラムク
ロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム:ヘキサ
ン=2:1)、分取ふるい型ゲル透過クロマトグラフィ
ーより、目的の化合物(化9)であるN,N-Diphenyl-4-
(5-(2-methylthio-2-(p-tolylsulfonyl)ethenyl)-2-thi
enyl)aniline (39.2mg,0.0708mmo
l,18%)を得た。
【0045】
【表1】
【0046】表1に示すように、ドーパントとして化7
で示される化合物を用いた実施例2の有機EL素子によ
れば、アノードとカソードの間に直流電圧13Vを印加
したところ、554nmにピークを持つ41000cd
/m2 の発光が得られた。また、10mA/cm2 時に
600cd/m2 の発光が得られた。
【0047】表1に示すように、ドーパントとして化8
で示される化合物を用いた実施例3の有機EL素子によ
れば、アノードとカソードの間に直流電圧13Vを印加
したところ、510nmにピークを持つ32000cd
/m2 の発光が得られた。また、10mA/cm2 時に
290cd/m2 の発光が得られた。
【0048】表1に示すように、ドーパントとして化9
で示される化合物を用いた実施例4の有機EL素子によ
れば、アノードとカソードの間に直流電圧14Vを印加
したところ、538nmにピークを持つ40000cd
/m2 の発光が得られた。また、10mA/cm2 時に
490cd/m2 の発光が得られた。
【0049】このように、各実施例の有機EL素子によ
れば、図8に示すタンらによって報告された従来の有機
EL素子に比べ、輝度を飛躍的に改善することができ
た。
【0050】ところで、上記各実施例において、ドーパ
ントとしてホスト材料であるAlq 3 に添加される化合
物(化7〜化9)の割合は、0.1〜10mol%(好
ましくは0.5〜5mol%)とすることができる。
【0051】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
有機EL素子によれば、タンらによって報告された従来
の有機EL素子に比べ、輝度を飛躍的に改善することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による有機EL素子の構造を示す図
【図2】ホスト材料であるAlq3 のELスペクトルを
示す図
【図3】化合物(化6)の合成方法における反応式を示
す図
【図4】実施例1の有機EL素子のELスペクトルを示
す図
【図5】化合物(化7)の合成方法における反応式を示
す図
【図6】化合物(化8)の合成方法における反応式を示
す図
【図7】化合物(化9)の合成方法における反応式を示
す図
【図8】従来の有機EL素子の基本構成を示す図
【符号の説明】
1…有機EL素子、2…基板、3…アノード、4…有機
層、4a…正孔注入層、4b…正孔輸送層、4c…発光
層、5…カソード、6…ガラス基板(封止容器)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB02 CA01 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 FA03

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一方が透明である一対の電極
    間に有機化合物からなる有機層が積層された有機EL素
    子において、 下記化学式(化1)で示される化合物を前記有機層に含
    有することを特徴とする有機EL素子。 【化1】 (上記化1中、R1 ,R2 ,R3 に示される基は、水素
    原子、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ハロゲ
    ン化フェニル基、アルキル基、アルキルフェニル基、ア
    ルコキシ基、アルコキシフェニル基、ハロゲン化アルキ
    ルフェニル基、アミノ基、アミノフェニル基、フェノキ
    シフェニル基、アリール基、アリールフェニル基、シア
    ノ基、ホルミル基、ニトロ基、2−(アルキリチオ)−
    2−(アリールスルホニル)エテニル基、2−(アルキ
    ルチオ)−2−(アルキルスルホニル)エテニル基、ま
    たは2−(アリールチオ)−2−(アリールスルホニ
    ル)エテニル基である。)
  2. 【請求項2】 前記有機層はAlq3 に前記化1で示さ
    れる化合物が含有された発光層を備えた請求項1記載の
    有機EL素子。
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