JP2000242209A - デジタルアナログ変換回路およびこれを搭載した液晶表示装置 - Google Patents

デジタルアナログ変換回路およびこれを搭載した液晶表示装置

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JP2000242209A JP11299188A JP29918899A JP2000242209A JP 2000242209 A JP2000242209 A JP 2000242209A JP 11299188 A JP11299188 A JP 11299188A JP 29918899 A JP29918899 A JP 29918899A JP 2000242209 A JP2000242209 A JP 2000242209A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 選択スイッチ、ラッチ回路およびデコード回
路からなる階調選択ユニットを各階調ごとに設けると、
回路素子数が非常に多くなり、非常に大きな回路面積が
必要となるため、LCDパネルの額縁が広くなる。 【解決手段】 駆動回路一体型液晶表示装置における基
準電圧選択型AD変換回路において、例えば3ビット
(b2,b1,b0)のデータ信号の各ビットの論理に
対応した極性の3個のアナログスイッチの各々を、各ビ
ットの論理に対応した導電型(Pチャネル/Nチャネ
ル)の1個のMOSトランジスタで形成するとともに、
これらを直列に接続して8階調分の階調選択ユニット3
0〜37を構成する。そして、これら階調選択ユニット
30〜37を8階調分の基準電圧線38-0〜38-7の各
々とコラム線25nとの間にそれぞれ接続する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、デジタルアナログ
変換回路およびこれを搭載した液晶表示装置(LCD;
Liquid Crystal Display)に関し、特に基準電圧選択型
のデジタルアナログ変換回路およびこのデジタルアナロ
グ変換回路を含む駆動回路が各画素のスイッチング素子
としてポリシリコンTFT(thin film transistor;薄
膜トランジスタ)がマトリクス状に配列された基板上に
一体形成してなるいわゆる駆動回路一体型液晶表示装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】デジタルインターフェース駆動回路を、
TFTで画素部と同一の基板上に一体形成してなる駆動
回路一体型液晶表示装置の従来例を図34に示す。同図
において、画素がマトリクス状に配列されてなる有効画
素領域701に対して、その上下に第1,第2の水平駆
動系702,703が配され、また例えば図の左側に垂
直駆動系704が配され、TFTで有効画素領域701
と共に同一基板(以下、LCDパネルと称す)上に一体
形成された構成となっている。
【0003】第1の水平駆動系702は、水平シフトレ
ジスタ721、サンプリング&第1ラッチ回路722、
第2ラッチ回路723およびDA(デジタルアナログ)
変換回路724によって構成されている。第2の水平駆
動系703も第1の水平駆動系702と同様に、水平シ
フトレジスタ731、サンプリング&第1ラッチ回路7
32、第2ラッチ回路733およびDA変換回路734
によって構成されている。垂直駆動系74は、垂直シフ
トレジスタ741によって構成されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ここで、上記構成の駆
動回路一体型液晶表示装置を作成したときに大きな問題
となるのが、LCDパネル上に駆動回路を一体形成する
領域面積、即ち有効画素領域701の周辺部の領域(以
下、これを額縁と称す)の大きさである。特に、DA変
換回路724,734の回路面積は、LCDパネルの額
縁の大きさを決める際の重要なポイントとなる。駆動回
路一体型液晶表示装置のDA変換回路としては、基準電
圧選択型が広く用いられる。その理由は、出力電位のば
らつきが小さいためである。
【0005】図35に、基準電圧選択型DA変換回路の
回路構成の一例を示す。この回路例では、3ビット8階
調のDA変換回路構成の場合を示している。このDA変
換回路は、図35から明らかなように、選択スイッチ7
05、ラッチ回路706およびデコード回路707から
なる階調選択ユニット708-0〜708-7を、各階調
(基準電圧Vref0〜Vref7)ごとに設けた構成
となっている。
【0006】しかしながら、かかる構成の基準電圧選択
型DA変換回路では、各階調ごとにラッチ回路706お
よびデコード回路707が設けられていることから、図
35の回路構成から明らかなように、回路を構成する素
子数が非常に多くなるため、多階調のDA変換回路をT
FTで一体形成しようとすると、非常に大きな回路面積
が必要となり、結果として、液晶表示装置に搭載する際
に、LCDパネルの額縁が大きくなり、デバイス全体の
小型化の妨げとなるという課題がある。
【0007】一方、回路面積の縮小化を図るために、基
準電圧選択型DA変換回路にスイッチド・キャパシタを
組み合わせた回路構成を採ることも考えられる。しか
し、この回路構成の場合には、バッファ回路を必要とす
るために、バッファ回路で消費する分だけシステム全体
の消費電力の増大を招くという課題がある。
【0008】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、回路を構成する素子
数が少なくて済み、しかも消費電力を増やすことなく、
LCDパネルの額縁の狭幅化に寄与できるDA変換回路
およびこれを搭載した液晶表示装置を提供することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明によるDA変換回
路は、nビット(nは2以上の整数)のデータ信号の各
ビットの論理に対応した極性のn個のアナログスイッチ
が互いに直列に接続されてなり、かつ2n 本の基準電圧
線の各々と出力線との間にそれぞれ接続された2n 個の
階調選択ユニットを有する構成となっている。そして、
この基準電圧選択型DA変換回路は、駆動回路一体型液
晶表示装置に、その駆動回路の一部を構成するDA変換
回路として搭載される。
【0010】上記構成のDA変換回路およびこれを搭載
した液晶表示装置において、データ信号の各ビットの論
理に対応した極性のn個のアナログスイッチが互いに直
列に接続された構成の階調選択ユニットが、基準電圧線
と画素部のコラム線との間に接続されることで、データ
信号をデコードするデコード回路と、そのデコード出力
に基づいて対応する基準電圧を選択する選択スイッチと
を同一トランジスタで形成可能となる。したがって、そ
の分だけ回路を構成する素子数が少なくて済むことにな
る。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一
実施形態に係る駆動回路一体型液晶表示装置のシステム
構成を示すブロック図である。図1において、画素がマ
トリクス状に配列されてなる有効画素領域11に対し
て、その上下に第1,第2の水平駆動系12,13が配
され、また例えば図の左側に垂直駆動系14が配されて
いる。
【0012】なお、水平駆動系については、必ずしも有
効画素領域11の上下に配置する必要はなく、上下の一
方側だけの配置であっても良い。また、垂直駆動系につ
いては、図の右側の配置であっても、また左右両側の配
置であっても良い。そして、第1,第2の水平駆動系1
2,13および垂直駆動系14は、TFT(薄膜トラン
ジスタ)で有効画素領域11と同一の基板(第1の基
板)上に一体形成されている。この基板に対して、第2
の基板(図示せず)が所定の間隔をもって対向配置され
ている。そして、両基板間には液晶層が保持されてい
る。
【0013】第1の水平駆動系12は、水平シフトレジ
スタ121、サンプリング&第1ラッチ回路122、第
2ラッチ回路123、レベルシフタ124およびDA変
換回路(DAC)125によって構成されている。第2
の水平駆動系13も第1の水平駆動系12と同様に、水
平シフトレジスタ131、サンプリング&第1ラッチ回
路132、第2ラッチ回路133、レベルシフタ134
およびDA変換回路135によって構成されている。垂
直駆動系14は、垂直シフトレジスタ141によって構
成されている。
【0014】図2に、有効画素領域11における各画素
20の構成の一例を示す。画素20は、スイッチング素
子であるTFT21と、このTFT21のドレイン電極
に画素電極が接続された液晶セル22と、TFT21の
ドレイン電極に一方の電極が接続された補助容量23と
から構成されている。この画素構造において、各画素2
0のTFT21は、そのゲート電極が垂直選択線である
ロー(行)線…,24m−1,24m,24m+1,…
に接続され、そのソース電極が信号線であるコラム
(列)線…,25n−1,25n,25n+1,…に接
続されている。
【0015】また、液晶セル22の対向電極は、コモン
電圧VCOMが与えられるコモン線26に接続されてい
る。ここで、液晶セル22の駆動法として、例えば、コ
モン電圧VCOMを1H(1水平期間)ごとに反転する
いわゆるコモン反転駆動法が採られる。このコモン反転
駆動法を用いることにより、コモン電圧VCOMの極性
が1Hごとに反転することから、第1,第2の水平駆動
系12,13の低電圧化が図れ、デバイス全体の消費電
力を低減できることになる。
【0016】次に、第1,第2の水平駆動系12,13
の各部の動作について説明する。なお、以下の説明で
は、第1の水平駆動系12を例に採って説明するが、第
2の水平駆動系13についても全く同様のことが言え
る。
【0017】第1の水平駆動系12において、水平シフ
トレジスタ121には、水平転送パルス1、即ち水平ス
タートパルスHST1および水平クロックパルスHCK
1が与えられる。すると、水平シフトレジスタ121
は、水平スタートパルスHST1に応答して水平クロッ
クパルスHCK1の周期で水平走査を行う。サンプリン
グ&第1ラッチ回路122は、水平シフトレジスタ12
1の水平走査に同期してデジタルデータを順次サンプリ
ングし、さらにサンプリングしたデータをコラム線…,
25n−1,25n,25n+1,…ごとにラッチす
る。
【0018】第2ラッチ回路123は、サンプリング&
第1ラッチ回路122でラッチされたコラム線に対応す
るラッチデータを、1H周期で与えられるラッチ信号に
応答して1Hごとに再ラッチする。レベルシフタ124
は、第2ラッチ回路123で再ラッチされたラッチデー
タについて、その信号レベル(振幅)を所定のレベルに
レベルシフトしてDA変換回路125に供給する。な
お、このレベルシフタ124においてシフトするレベル
については後述する。
【0019】一方、垂直駆動系14において、垂直シフ
トレジスタ141には、垂直転送パルス、即ち垂直スタ
ートパルスVSTおよび垂直クロックパルスVCKが与
えられる。すると、垂直シフトレジスタ141は、垂直
スタートパルスVSTに応答して垂直クロックパルスV
CKの周期で垂直走査を行うことで、有効画素領域11
に対して行単位で順次行選択信号を与える。
【0020】なお、第1,第2の水平駆動系12,13
のDA変換回路125,135としては、レベルシフタ
124,134でレベルシフトされたデータを受けて階
調数分の基準電圧から目的の基準電圧を選択して対応す
るコラム線へ出力する基準電圧選択型DA変換回路が用
いられる。この基準電圧選択型DA変換回路125,1
35の具体的な回路構成が、本発明の特徴とする部分で
ある。
【0021】図3に、基準電圧選択型DA変換回路の基
本構成を示す。なお、ここでは、3ビット(b2,b
1,b0)のデジタルデータに対して、8(=23 )階
調の基準電圧Vref0〜Vref7が用意されている
回路構成の場合を例に採って説明するものとする。ま
た、図3では、あるコラム線25nに対応したDA変換
回路の回路構成を示しているが、当該DA変換回路は各
コラム線ごとに設けられるものである。
【0022】図3において、8階調の基準電圧Vref
0〜Vref7に対して、8個の階調選択ユニット30
〜37が設けられている。これらの階調選択ユニット3
0〜37は、デジタルデータの各ビット(b2,b1,
b0)の論理に対応した極性(正極性/負極性)の3個
のアナログスイッチが互いに直列に接続された構成とな
っている。すなわち、
【0023】階調選択ユニット30は、Vref0の基
準電圧線38-0とコラム線25nとの間に接続され、デ
ータ“000”に対して3個の負極性のアナログスイッ
チ301,302,303が互いに直列に接続された構
成となっている。階調選択ユニット31は、Vref1
の基準電圧線38-1とコラム線25nとの間に接続さ
れ、データ“001”に対して2個の負極性のアナログ
スイッチ311,312と1個の正極性のアナログスイ
ッチ313が互いに直列に接続された構成となってい
る。
【0024】階調選択ユニット32は、Vref2の基
準電圧線38-2とコラム線25nとの間に接続され、デ
ータ“010”に対して負極性のアナログスイッチ32
1、正極性のアナログスイッチ322および負極性のア
ナログスイッチ323が互いに直列に接続された構成と
なっている。階調選択ユニット33は、Vref3の基
準電圧線38-3とコラム線25nとの間に接続され、デ
ータ“011”に対して1個の負極性のアナログスイッ
チ331と2個の正極性のアナログスイッチ332,3
33が互いに直列に接続された構成となっている。
【0025】階調選択ユニット34は、Vref4の基
準電圧線38-4とコラム線25nとの間に接続され、デ
ータ“100”に対して1個の正極性のアナログスイッ
チ341と2個の負極性のアナログスイッチ342,3
43が互いに直列に接続された構成となっている。階調
選択ユニット35は、Vref5の基準電圧線38-5と
コラム線25nとの間に接続され、データ“101”に
対して正極性のアナログスイッチ351、負極性のアナ
ログスイッチ352および正極性のアナログスイッチ3
53が互いに直列に接続された構成となっている。
【0026】階調選択ユニット36は、Vref6の基
準電圧線38-6とコラム線25nとの間に接続され、デ
ータ“110”に対して2個の正極性のアナログスイッ
チ361,362と1個の負極性のアナログスイッチ3
63が互いに直列に接続された構成となっている。階調
選択ユニット37は、Vref7の基準電圧線38-7と
コラム線25nとの間に接続され、データ“111”に
対して3個の正極性のアナログスイッチ371,37
2,373が互いに直列に接続された構成となってい
る。
【0027】図4は、図3に示した基本構成の基準電圧
選択型DA変換回路125を実現する具体的な回路構成
の一例を示す回路図であり、図3と同等部分には同一符
号を付して示してある。8階調分の階調選択ユニット3
0〜37の各3個のアナログスイッチとして、デジタル
データの各ビット(b2,b1,b0)の論理に対応し
た導電型(Nチャネル/Pチャネル)のMOSトランジ
スタを用いた構成となっている。
【0028】図4において、階調選択ユニット30は、
データ“000”に対応した共にPチャネルのMOS
(以下、PMOSと記す)トランジスタQp301,Q
p302,Qp303をアナログスイッチ301,30
2,303として用い、これらをシリーズに配置して作
成された構成となっている。階調選択ユニット31は、
データ“001”に対応したPMOSトランジスタQp
311,Qp312およびNチャネルのMOS(以下、
NMOSと記す)トランジスタQn313をアナログス
イッチ311,312,313として用い、これらをシ
リーズに配置して作成された構成となっている。
【0029】階調選択ユニット32は、データ“01
0”に対応したPMOSトランジスタQp321、NM
OSトランジスタQn322およびPMOSトランジス
タQp323をアナログスイッチ321,322,32
3として用い、これらをシリーズに配置して作成された
構成となっている。階調選択ユニット33は、データ
“011”に対応したPMOSトランジスタQp331
およびNMOSトランジスタQn332,Qn333を
アナログスイッチ331,332,333として用い、
これらをシリーズに配置して作成された構成となってい
る。
【0030】階調選択ユニット34は、データ“10
0”に対応したNMOSトランジスタQn341および
PMOSトランジスタQp342,Qp343をアナロ
グスイッチ341,342,343として用い、これら
をシリーズに配置して作成された構成となっている。階
調選択ユニット35は、データ“101”に対応したN
MOSトランジスタQn351、PMOSトランジスタ
Qp352およびNMOSトランジスタQn353をア
ナログスイッチ351,352,353として用い、こ
れらをシリーズに配置して作成された構成となってい
る。
【0031】階調選択ユニット36は、データ“11
0”に対応したNMOSトランジスタQn361,Qn
362およびPMOSトランジスタQp363をアナロ
グスイッチ361,362,363として用い、これら
をシリーズに配置して作成された構成となっている。階
調選択ユニット37は、データ“111”に対応した共
にNMOSトランジスタQn371,Qn372,Qn
373をアナログスイッチ371,372,373とし
て用い、これらをシリーズに配置して作成された構成と
なっている。
【0032】上記構成の基準電圧選択型DA変換回路1
25では、nビット(n≧2)のデジタルデータの各ビ
ットの論理に対応した極性のn個のアナログスイッチの
各々を、1個のPMOSトランジスタまたは1個のNM
OSトランジスタを用いて作成し、PMOSトランジス
タおよびNMOSトランジスタの組み合わせで、目的の
階調に対応する2n 個の階調選択ユニットを構成してい
るので、小面積で多階調のDA変換回路を実現でき、結
果として、非常に狭幅な額縁のLCDパネルを実現でき
る。これは、以下の理由による。
【0033】図35に示す従来回路における選択スイ
ッチ705とデコード回路707が、同一のトランジス
タで形成されることから、回路を構成する素子数が非常
に少なくて済むためである。 TFT回路には素子分離のためのウェルが存在しな
く、スイッチとなるPMOSトランジスタとNMOSト
ランジスタとを近接して連続形成できることから、回路
の占有面積が非常に小さくて済むためである。
【0034】上記理由について、単結晶シリコン・ト
ランジスタの構造と比較してさらに詳述する。ここで
は、1個のNMOSトランジスタと1個のPMOSトラ
ンジスタとをシリーズに配置して形成する場合を例に採
って考えるものとする。
【0035】先ず、単結晶シリコン・トランジスタの構
造を考えると、図5に示すように、P形シリコン基板4
1の基板表面側に、一定の間隔をもってN+ 拡散領域4
2,43が形成され、これらN+ 拡散領域42,43間
のチャネルの上方にゲート絶縁膜44を介してゲート電
極45が配されることで、NMOSトランジスタが形成
される。ここで、N+ 拡散領域42がドレイン/ソース
領域となり、N+ 拡散領域43がソース/ドレイン領域
となる。
【0036】一方、NMOSトランジスタに隣接してP
MOSトランジスタを形成するために、N形不純物の導
入による素子分離用のNウェル46が形成される。そし
て、このNウェル46内の基板表面側に、一定の間隔を
もってP+ 拡散領域47,48が形成され、これらP+
拡散領域47,48間のチャネルの上方にゲート絶縁膜
44を介してゲート電極49が配されることで、PMO
Sトランジスタが形成される。ここで、P+ 拡散領域4
7がソース/ドレイン領域となり、P+ 拡散領域48が
ドレイン/ソース領域となる。
【0037】そして、両トランジスタをシリーズに配置
するために、NMOSトランジスタのソース/ドレイン
領域となるN+ 拡散領域43とPMOSトランジスタの
ソース/ドレイン領域となるP+ 拡散領域47とが、層
間絶縁膜49を通してアルミニウム(Al)配線50に
よって接続される。また、NMOSトランジスタのドレ
イン/ソース領域となるN+ 拡散領域42にはAl電極
51が接続され、PMOSトランジスタのドレイン/ソ
ース領域となるP+ 拡散領域48にはAl電極52が接
続される。
【0038】続いて、例えばボトムゲート型のポリシリ
コン(多結晶シリコン)・TFTの構造を考えると、図
6に示すように、ガラス基板53上に一定の距離をおい
てゲート電極54,55が形成され、その上にゲート絶
縁膜56を介してポリシリコン層57が形成される。
【0039】そして、ゲート電極54,55の側方のシ
リコン酸化膜56上に、NMOSトランジスタのドレイ
ン/ソース領域となる拡散層58、NMOS,PMOS
トランジスタの双方のソース/ドレイン領域となる拡散
層59およびPMOSトランジスタのドレイン/ソース
領域となる拡散層60が形成される。拡散層58,60
には、層間絶縁膜61を通してAl電極62,63がそ
れぞれ接続される。
【0040】図5のトランジスタ構造と図6のトランジ
スタ構造との対比から明らかなように、ポリシリコン・
TFTの場合には、単結晶シリコン・トランジスタの場
合のような素子分離のためのウェル(46)が存在しな
いため、NMOSトランジスタとPMOSトランジスタ
とを近接して連続形成が可能となり、結果として、回路
の占有面積が非常に小さくて済むのである。
【0041】ところで、コモン(VCOM)反転駆動を
用いた液晶表示装置において、例えば0V〜5Vのレベ
ル範囲の基準電圧を選択するDA変換回路では、上述し
たように、アナログスイッチとしてMOSトランジスタ
を用いた場合に、選択される基準電圧のダイナミックレ
ンジを確保するためには、PMOSトランジスタの閾値
をVthp、NMOSトランジスタの閾値をVthnと
すると、選択データ信号の低レベル側は0V−Vthp
以下でなければならず、高レベル側は5V+Vthn以
上でなければならない。
【0042】このように、選択データ信号の振幅を、基
準電圧のレベル範囲に対してPMOSトランジスタの閾
値Vthpだけ低く、かつNMOSトランジスタの閾値
Vthnだけ高いレベル範囲(上記の例では、0V−V
thp〜5V+Vthn)以上に設定する必要があるこ
とから、図1のシステム構成において、本実施形態で
は、DA変換回路125,135の前段にレベルシフタ
(レベルシフト回路)124,134を配置し、これら
レベルシフタ124,134でのレベルシフトによって
選択データ信号の上記振幅を達成する構成を採ってい
る。
【0043】この構成によれば、サンプリング&第1ラ
ッチ回路122,132の電源電圧を高く設定すること
なく、小面積の基準電圧選択型DA変換回路を実現でき
ることになる。ただし、元々の選択データ信号の振幅が
上記の条件を満足するものである場合には、レベルシフ
タ124,134を設けなくても、選択される基準電圧
のダイナミックレンジを確保することができることは明
らかである。
【0044】ここで、レベルシフタ124,134とし
て用いるレベルシフト回路の具体的な回路構成について
説明する。
【0045】図7は、レベルシフト回路の第1実施例を
示す回路図である。この第1実施例に係るレベルシフト
回路は、各々のゲートおよびドレインがそれぞれ共通に
接続されたNMOSトランジスタQn11およびPMO
SトランジスタQp11からなるCMOSインバータ7
1と、各々のゲートおよびドレインがそれぞれ共通に接
続されたNMOSトランジスタQn12およびPMOS
トランジスタQp12からなるCMOSインバータ72
とが、電源VDDとグランドとの間に互いに並列に接続
されてなるCMOSラッチセル70を基本構成としてい
る。
【0046】このCMOSラッチセル70において、C
MOSインバータ71の入力端(即ち、MOSトランジ
スタQn11,Qp11のゲート共通接続点)と、CM
OSインバータ72の出力端(即ち、MOSトランジス
タQn12,Qp12のドレイン共通接続点)とが接続
され、さらにCMOSインバータ72の入力端(即ち、
MOSトランジスタQn12,Qp12のゲート共通接
続点)とCMOSインバータ71の出力端(即ち、MO
SトランジスタQn11,Qp11のドレイン共通接続
点)とが接続されている。
【0047】また、CMOSインバータ71の入力端と
第1回路入力端子73との間に抵抗素子R11が、CM
OSインバータ72の入力端と第2回路入力端子74と
の間に抵抗素子R12がそれぞれ接続されている。さら
に、CMOSインバータ71の入力端と電源VDDとの
間に抵抗素子R13が、CMOSインバータ72の入力
端と電源VDDとの間に抵抗素子R14がそれぞれ接続
されている。また、抵抗素子R12,R14の共通接続
点であるノードと第1回路出力端子75との間にイン
バータ77が、抵抗素子R11,R12の共通接続点で
あるノードと第2回路出力端子76との間にインバー
タ78がそれぞれ接続されている。
【0048】上記構成の第1実施例に係るレベルシフト
回路において、第1回路入力端子73には例えば3V程
度の振幅Vpの信号in1が入力され、第2回路入力端
子74には入力信号in1の反転の信号in2が入力さ
れるものとする。
【0049】ここで、例えば、入力信号in1が論理
“1”(=Vp)、入力信号in2が論理“0”(=0
V)の場合の回路動作を例にとって図8のタイミングを
用いて説明すると、CMOSラッチセル70において、
NMOSトランジスタQn11がオン状態となるため、
電源VDD→抵抗素子R14→ノード→NMOSトラ
ンジスタQn11→グランドの経路で電流が流れ、同時
にPMOSトランジスタQp12がオン状態となるた
め、電源VDD→PMOSトランジスタQp12→ノー
ド→抵抗素子R11→第2回路入力端子73の経路で
電流が流れる。
【0050】このとき、抵抗素子R11,R14で電圧
降下が生じ、その電圧降下分だけノード,の電位が
上昇する。すなわち、ノード,の電位は、DCシフ
トする。ここで、ノードの方がノードよりもシフト
量が大きいため、ノード,では入力信号in1,i
n2の振幅差よりも大きな振幅差が得られることにな
る。
【0051】また、抵抗素子R13,R14は、ノード
,をバイアスすることにより、CMOSインバータ
71,72の動作点をより明確にする作用をなす。そし
て、ノードの電位はインバータ77で反転されて第1
回路出力端子75からVDDの振幅の出力信号outと
して導出され、ノードの電位はインバータ78で反転
されて第2回路出力端子76から出力信号outの反転
信号xoutとして導出される。
【0052】上述した回路動作によって、振幅Vpが例
えば3Vの入力信号in1,in2が、電源電圧VDD
の振幅の出力信号out,xoutにレベルシフトされ
て導出されることになる。また、入力信号in1が論理
“0”、入力信号in2が論理“0”のときには、上述
した動作と全く逆の動作によってレベルシフト動作が行
われることになる。
【0053】このように、CMOSラッチセル70の2
つの入力部、即ちCMOSインバータ71,72の各入
力端と2つの入力信号源、即ち入力信号in1,in2
が入力される2つの回路入力端子73,74との間に抵
抗素子R11,R12を接続し、入力信号in1,in
2をDCシフトしてCMOSラッチセル70の2つの入
力部に与えるようにしたことにより、CMOSラッチセ
ル70を構成する各トランジスタをオンさせるのに十分
な電圧を得ることができるため、閾値Vthが大きいデ
バイス、例えばTFTを用いた回路であっても、安定し
たレベルシフト動作を高速にて実現できる。
【0054】しかも、CMOSラッチセル70の基本回
路に対して抵抗素子を付加するのみで良いため小面積で
実現できるとともに、電源電圧VDDを下げてもレベル
シフト動作を確実に行うことができるため低消費電力化
を図ることができる。さらには、CMOSラッチセル7
0の2つの入力部と電源VDDとの間にも抵抗素子R1
3,R14を接続し、ノード,をバイアスするよう
にしたことにより、CMOSインバータ71,72の動
作点をより明確にすることができるので、より安定した
レベルシフト動作を実現できる。
【0055】なお、第1実施例に係るレベルシフト回路
では、入力信号in2として、入力信号in1の反転信
号を入力とするとしたが、入力信号in1の論理を判別
することができれば良い訳であるから、必ずしも反転信
号である必要はなく、0Vから電源電圧VDDまでの範
囲内の任意の直流電圧を、その判別の基準電圧Vref
として用いるようにすることも可能である。図9に、入
力信号in2として基準電圧Vref(0≦Vref≦
VDD)を入力した場合のタイミングチャートを示す。
【0056】また、図7の回路例では、非反転と反転の
2つの出力信号out,xoutを導出する構成となっ
ているが、いずれか一方の出力信号のみを導出する構成
であっても良い。この場合には、2つのインバータ7
7,78のうちの一方が不要になる。
【0057】図10は、第1実施例に係るレベルシフト
回路の変形例を示す回路図であり、図中、図7と同等部
分には同一符号を付して示している。この変形例に係る
レベルシフト回路では、図7の抵抗素子R11,R12
として、各ゲートが電源VDDに接続されたNMOSト
ランジスタQn13,Qn14を用い、抵抗素子R1
3,R14として、各ゲートがグランドに接続されたP
MOSトランジスタQp13,Qp14を用いた構成と
なっている。
【0058】このように、抵抗素子R11〜R14をト
ランジスタで実現した場合にも、その回路の動作は図7
の回路の場合と同じである。また、タイミング例につい
ても図8および図9と同じである。なお、本変形例で
は、抵抗素子R11,R12をNMOSで、抵抗素子R
13,R14をPMOSで実現しているが、これら抵抗
素子と等価な形になるようにトランジスタを配置すれ
ば、各トランジスタの極性はどちらでも構わない。
【0059】図11は、第1実施例に係るレベルシフト
回路の他の変形例を示す回路図であり、図中、図10と
同等部分には同一符号を付して示している。この変形例
に係るレベルシフト回路では、図10の回路において、
NMOSトランジスタQn13,Qn14およびPMO
SトランジスタQp13,Qp14を、コントロール信
号CNTLによってスイッチングする構成となってい
る。すなわち、図示せぬ制御回路から制御端子79に入
力されるアクティブ“H”のコントロール信号CNTL
が、NMOSトランジスタQn13,Qn14の各ゲー
トに印加されるとともに、インバータ79で反転されて
PMOSトランジスタQp13,Qp14の各ゲートに
印加されるようになっている。
【0060】このように、CMOSラッチセル70の各
トランジスタQn13,Qn14,Qp13,Qp14
を、コントロール信号CNTLによってスイッチングす
る構成をとることで、本レベルシフト回路をレベルシフ
トの必要なときにのみアクティブにし、レベルシフトの
必要のないときにはデータ、即ち入力信号in1,1n
2の論理状態を保持する、いわゆるラッチ兼用型のレベ
ルシフト回路を実現できることになる。
【0061】なお、本例では、抵抗素子R11〜R14
をトランジスタで実現した場合において、これらトラン
ジスタをスイッチング制御するとしたが、抵抗素子R1
1〜R14として有限の抵抗値を持つスイッチを用い、
これらスイッチをスイッチング制御するようにしても、
同様の作用効果を得ることができる。
【0062】図12は、第1実施例に係るレベルシフト
回路のさらに他の変形例を示す回路図であり、図中、図
11と同等部分には同一符号を付して示している。この
変形例に係るレベルシフト回路では、図11の回路にさ
らにCMOSラッチセル70の初期値を決めるためのリ
セット回路81を付加した構成となっている。このリセ
ット回路81は、電源VDDとノードとの間に接続さ
れたPMOSトランジスタQp15によって構成され、
このPMOSトランジスタQp15のゲートがリセット
端子82に接続されている。
【0063】そして、リセット端子82には、リセット
信号Resetが与えられるようになっている。ここ
で、リセット信号Resetとしては、図13のタイミ
ングチャートに示すように、電源電圧VDDよりも遅れ
たタイミングで立ち上がる信号を用いるようにする。こ
のリセット信号Resetは、例えば図14に示すよう
に、電源電圧VDDをRC積分回路83で積分すること
によって簡単に生成することが可能である。
【0064】このように、図11の回路にさらにリセッ
ト回路81を付加し、このリセット回路81に対して電
源電圧VDDよりも遅れたタイミングで立ち上がるリセ
ット信号Resetを与えるようにすることにより、電
源立ち上げ時のCMOSラッチセル70内の初期値を決
定することができる。このリセット動作により、本例の
場合は、図13のタイミングチャートから明らかなよう
に、電源立ち上げ時の初期状態でノードの電位が
“H”レベルとなり、出力信号outが“L”レベルと
なる。
【0065】図15は、レベルシフト回路の第2実施例
を示す回路図である。この第2実施例に係るレベルシフ
ト回路は、各々のゲートおよびドレインが共通に接続さ
れたNMOSトランジスタQn21およびPMOSトラ
ンジスタQp21からなるCMOSインバータ85と、
各々のゲートおよびドレインが共通に接続されたNMO
SトランジスタQn22およびPMOSトランジスタQ
p22からなるCMOSインバータ86とが、電源VD
Dとグランドとの間に互いに並列に接続されてなるCM
OSラッチセル84を基本回路とした構成となってい
る。
【0066】このCMOSラッチセル84において、C
MOSインバータ85の入力端(即ち、MOSトランジ
スタQn21,Qp21のゲート共通接続点)と、CM
OSインバータ86の出力端(即ち、MOSトランジス
タQn22,Qp22のドレイン共通接続点)とが接続
され、さらにCMOSインバータ86の入力端(即ち、
MOSトランジスタQn22,Qp22のゲート共通接
続点)とCMOSインバータ85の出力端(即ち、MO
SトランジスタQn21,Qp21のドレイン共通接続
点)とが接続されている。
【0067】また、CMOSインバータ85の入力端と
第1回路入力端子87との間に抵抗素子R21が、CM
OSインバータ86の入力端と第2回路入力端子88と
の間に抵抗素子R22がそれぞれ接続されている。CM
OSインバータ86の入力端と第1回路出力端子89と
の間にインバータ91が、CMOSインバータ85の入
力端と第2回路出力端子90との間にインバータ92が
それぞれ接続されている。
【0068】上記構成の第2実施例に係るレベルシフト
回路において、第1回路入力端子87には例えば3V程
度の振幅Vpの信号in1が入力され、第2回路入力端
子88には入力信号in1の反転の信号in2が入力さ
れるものとする。
【0069】ここで、例えば、入力信号in1が論理
“1”、入力信号in2が論理“0”の場合の回路動作
を例にとると、CMOSラッチセル84において、NM
OSトランジスタQn21がオン状態となるため、電源
VDD→PMOSトランジスタQp21→NMOSトラ
ンジスタQn21→グランドの経路で電流が流れ、同時
にPMOSトランジスタQp22がオン状態となるた
め、電源VDD→PMOSトランジスタQp22→抵抗
素子R21→第2回路入力端子87の経路で電流が流れ
る。
【0070】このとき、抵抗素子R21で電圧降下が生
じ、その電圧降下分だけCMOSインバータ85の入力
端の電位が上昇する。すなわち、CMOSインバータ8
5の入力電位は、大きくDCシフトする。一方、CMO
Sインバータ86の入力電位は、PMOSトランジスタ
Qp21から流れ出る電流が少ないため、ほとんどDC
シフトしない。
【0071】これにより、CMOSインバータ85,8
6の各入力端では入力信号in1,in2の振幅差より
も大きな振幅差が得られることになる。そして、CMO
Sインバータ86の入力端の電位はインバータ91で反
転されて第1回路出力端子89からVDDの振幅の出力
信号outとして導出され、CMOSインバータ85の
入力端の電位はインバータ92で反転されて第2回路出
力端子90から出力信号outの反転信号xoutとし
て導出される。
【0072】上述した回路動作により、第1実施例に係
るレベルシフトレジスタ回路の回路動作の場合と同様
に、振幅Vpが例えば3Vの入力信号in1,in2が
電源電圧VDDの振幅の出力信号out,xoutにレ
ベルシフトされて導出されることになる。また、入力信
号in1が論理“0”、入力信号in2が論理“0”の
ときには、上述した動作と全く逆の動作によってレベル
シフトが行われることになる。
【0073】なお、第2実施例に係るレベルシフト回路
の場合にも、入力信号in2の代わりに、0Vから電源
電圧VDDまでの範囲内の任意の直流電圧を、その判別
の基準電圧Vrefとして用いることが可能であり、ま
た非反転と反転の2つの出力信号out,xoutのう
ちのいずれか一方のみを導出する構成とすることが可能
である。
【0074】図16は、第2実施例に係るレベルシフト
回路の変形例を示す回路図であり、図中、図15と同等
部分には同一符号を付して示している。この変形例に係
るレベルシフト回路では、図15の抵抗素子R21,R
22として、各ゲートが電源VDDに接続されたNMO
SトランジスタQn23,Qn24を用いた構成となっ
ている。このように、抵抗素子R21,R22をトラン
ジスタで実現した場合にも、その回路の動作は図15の
回路の場合と同じである。また、この図16の回路につ
いても、図11や図12の変形例と同様の変形が可能で
ある。
【0075】次に、水平シフトレジスタ121,131
の具体的な構成について説明する。図17は、水平シフ
トレジスタ121,131の構成の一例を示すブロック
図である。
【0076】ここでは、簡単のために、転送段が3段の
シフトレジスタの例を示している。すなわち、3個のD
‐FF(フリップフロップ)93-1,93-2,93-3が
縦続接続されている。そして、初段のD‐FF93-1の
D(データ)入力側にレベルシフト回路94が設けら
れ、また各段のD‐FF93-1,93-2,93-3の各C
K(クロック)入力側にそれぞれレベルシフト回路95
-1,95-2,95-3が設けられている。
【0077】レベルシフト回路94は、例えば3V程度
の振幅の互いに逆相のスタート信号ST,XSTを電源
電圧VDDの振幅の信号にレベルシフトし、これを初段
のD‐FF93-1のD入力として与えるためのものであ
る。レベルシフト回路95-1,95-2,95-3は、例え
ば3V程度の振幅の互いに逆相のクロック信号CK,X
CKを電源電圧VDDの振幅の信号にレベルシフトし、
これを各段のD‐FF93-1,93-2,93-3の各CK
入力として与えるためのものである。
【0078】上記構成の水平シフトレジスタ121,1
31において、レベルシフト回路94,95-1,95-
2,95-3として、例えば、図11に示した構成のレベ
ルシフト回路を用いている。そして、レベルシフト回路
94には、スタート信号ST,XSTが入力信号in
1,in2として入力され、電源電圧VDDがコントロ
ール信号CNTLとして入力される。すなわち、レベル
シフト回路94は、コントロール信号CNTLが電源電
圧VDDであることにより、当該回路は常時アクティブ
の状態にあるため、レベルシフタとしてのみ機能するこ
とになる。
【0079】一方、レベルシフト回路95-1,95-2,
95-3には、クロック信号CK,XCKが入力信号in
1,in2として入力され、自段のシフトパルス(Q出
力)と前段のシフトパルス(自段のD入力)を2入力と
するORゲート96-1,96-2,96-3の各出力がコン
トロール信号CNTLとして入力される。すなわち、レ
ベルシフト回路95-1,95-2,95-3は、自段のD‐
FF93-1,93-2,93-3がシフト動作を行うときに
のみ、即ち低電圧振幅のクロック信号CK,XCKを転
送に必要なときにのみレベルシフトを行い、それ以外の
ときにはクロック信号CK,XCKをラッチして転送さ
せないようにするラッチ兼用型として機能することにな
る。
【0080】このように、水平シフトレジスタ121,
131において、レベルシフト回路94,95-1,95
-2,95-3として、図11に示した構成のレベルシフト
回路を用いることにより、当該レベルシフト回路は低電
圧振幅のスタート信号ST,XSTやクロック信号C
K,XCKに対して安定したレベルシフト動作を高速に
て実現できるため、D‐FF93-1,93-2,93-3を
閾値Vthが大きいデバイス、例えばTFTを用いて構
成した場合であっても、安定した高速転送動作を実現で
きることになる。
【0081】なお、本例では、レベルシフト回路94,
95-1,95-2,95-3として、図11に示した構成の
レベルシフト回路を用いるとしたが、これに限られるも
のではなく、図7、図10、図12、図15または図1
6に示した構成のレベルシフト回路を用いることも可能
であり、上記の場合と同様の作用効果を得ることができ
る。
【0082】上述したように、駆動回路一体型液晶表示
装置において、水平駆動系12,13の水平シフトレジ
スタ121,131として上記構成のシフトレジスタ、
即ち小面積で実現でき、低消費電力のシフトレジスタを
用いることにより、水平シフトレジスタ121,131
を含む水平駆動系12,13や垂直駆動系14などの駆
動回路を、有効画素領域11と同一基板上に作成する際
に、当該駆動回路を配する有効画素領域11の周辺領域
(額縁)を狭くできるとともに、低消費電力の駆動回路
一体型液晶表示装置を実現できる。
【0083】しかも、上記構成のシフトレジスタの場合
には、先述したことから明らかなように、閾値Vthが
大きいデバイス、例えばTFTを用いた回路であって
も、安定した高速転送動作を実現できるという利点もあ
る。
【0084】次に、第1,第2の水平駆動系12,13
のサンプリング&第1ラッチ回路122,132として
用いるサンプリングラッチ回路の具体的な構成について
説明する。
【0085】図18は、サンプリングラッチ回路の第1
実施例を示す回路図である。この第1実施例に係るサン
プリングラッチ回路は、各々のゲートおよびドレインが
それぞれ共通に接続されたNMOSトランジスタQn3
1およびPMOSトランジスタQp31からなるCMO
Sインバータ101と、各々のゲートおよびドレインが
それぞれ共通に接続されたNMOSトランジスタQn3
2およびPMOSトランジスタQp32からなるCMO
Sインバータ102とが、電源電圧VDDの電源ライン
107とグランドとの間に互いに並列に接続されてなる
比較器構成のCMOSラッチセル100を基本構成とし
ている。
【0086】このCMOSラッチセル100において、
CMOSインバータ101の入力端(即ち、MOSトラ
ンジスタQn31,Qp31のゲート共通接続点)と、
CMOSインバータ102の出力端(即ち、MOSトラ
ンジスタQn32,Qp32のドレイン共通接続点)と
が接続され、さらにCMOSインバータ102の入力端
(即ち、MOSトランジスタQn32,Qp32のゲー
ト共通接続点)とCMOSインバータ101の出力端
(即ち、MOSトランジスタQn31,Qp31のドレ
イン共通接続点)とが接続されている。
【0087】また、CMOSインバータ101の入力端
と第1回路入力端子103との間にスイッチ105が、
CMOSインバータ102の入力端と第2回路入力端子
104との間にスイッチ106がそれぞれ接続されてい
る。さらに、CMOSラッチセル100の電源側、即ち
ノードAと電源ライン107との間にも、スイッチ10
8が接続されている。
【0088】スイッチ105,106はサンプリング端
子109から入力されるサンプリングパルスSPによっ
て直接スイッチング制御され、スイッチ108はインバ
ータ110を経たサンプリングパルスSPの反転パルス
によってスイッチング制御される。また、CMOSイン
バータ102の入力端であるノードと第1回路出力端
子111との間にインバータ113が、CMOSインバ
ータ101の入力端であるノードと第2回路出力端子
112との間にインバータ114がそれぞれ接続されて
いる。
【0089】上記構成の第1実施例に係るサンプリング
ラッチ回路において、第1回路入力端子103には例え
ば3V程度の振幅Vpの信号in1が入力され、第2回
路入力端子104には0V以上Vp以下の電圧範囲内の
任意の直流電圧(基準電圧Vref)が信号in2とし
て入力されるものとする。
【0090】ここで、図19のタイミングチャートを用
いて回路動作を説明するに、サンプリング端子109か
らアクティブ“H”のサンプリングパルスSPが入力さ
れると、スイッチ105,106がオン(閉)状態とな
り、これにより入力信号in1,in2は、CMOSラ
ッチセル100のノード,に伝達される。このとき
同時に、サンプリングパルスSPの反転パルスによって
スイッチ108がオフ(開)状態となるため、CMOS
ラッチセル100の電源側(ノードA)が電源ライン1
07と切り離される。
【0091】次に、サンプリングパルスSPが消滅する
と、CMOSラッチセル100のノード,が第1,
第2回路入力端子103,104と分断され、同時にC
MOSラッチセル100の電源側が電源ライン107に
接続される。この瞬間のノード,の電圧に応じた比
較処理がCMOSラッチセル100によって行われ、か
つラッチ動作が始まる。最終的に、ノードはサンプリ
ングパルスSPの消滅した瞬間の入力信号in1の極性
にしたがって電源電圧VDDもしくは0Vにラッチされ
ることになる。このときノードには、その逆極性の電
圧がラッチされる。
【0092】以上の回路動作により、振幅Vpが例えば
3V程度の入力信号in1のデータが、サンプリングパ
ルスSPに同期してサンプリングされ、かつノードに
電源電圧VDDの振幅のデータとしてラッチされる。そ
して、ノードのラッチデータは、インバータ113で
反転されて第1回路出力端子111から出力信号out
として導出され、ノードのラッチデータは、インバー
タ114で反転されて第2回路出力端子112から出力
信号outの反転信号xoutとして導出される。
【0093】上述したように、比較器構成のCMOSラ
ッチセル100を基本構成とし、このCMOSラッチセ
ル100の2つの入力部(ノード,)と、2つの入
力信号源(第1,第2回路入力端子103,104)と
の間にそれぞれスイッチ105,106を接続するとと
もに、CMOSラッチセル100の電源側(ノードA)
と電源ライン107との間にもスイッチ108を接続
し、スイッチ105,106とスイッチ108とを相補
的にスイッチング制御することにより、スイッチ10
5,106による入力信号in1,in2のサンプリン
グ期間にはCMOSラッチセル100に電流が流れず、
したがって動作時に流れる直流電流は極めて僅かである
ため、本サンプリングラッチ回路での消費電力を低減で
きる。
【0094】また、サンプリング期間が終了し、CMO
Sラッチセル100にスイッチ108を通して電源電圧
VDDが供給された瞬間には、振幅Vpが例えば3V程
度の入力信号in1のデータが電源電圧VDDの振幅の
データとしてラッチされることになるため、TFTのよ
うな閾値Vthの大きなデバイスを用いて構成した回路
の場合であっても、安定したサンプリング&ラッチ動作
を実現できる。しかも、CMOSラッチセル100の基
本回路に対してスイッチ105,106,108等を付
加するだけで構成できるため、非常に少ない素子数にて
小面積でレベルシフト機能を持つサンプリングラッチ回
路を実現できる。
【0095】なお、本実施例に係るサンプリングラッチ
回路においては、入力信号in2として、0≦Vref
≦Vpの範囲の直流電圧(基準電圧)Vrefを入力す
るとしたが、入力信号in1の論理を判別することがで
きれば良い訳であるから、必ずしも直流電圧である必要
はなく、図20のタイミングチャートに示すように、入
力信号in1の反転信号を、その判別の基準信号として
用いるようにすることも可能である。この場合には、0
≦Vref≦Vpの範囲の直流電圧を基準電圧とする場
合よりも、入力信号in1の論理判別のマージンを大き
くとれる利点がある。
【0096】また、図18の回路例では、非反転と反転
の2つの出力信号out,xoutを導出する構成とな
っているが、いずれか一方の出力信号のみを導出する構
成であっても良い。この場合には、2つのインバータ1
13,114のうちの一方が不要になる。
【0097】図21は、第1実施例に係るレベルシフト
回路の変形例を示す回路図であり、図中、図18と同等
部分には同一符号を付して示している。この変形例に係
るレベルシフト回路では、図18の信号入力側のスイッ
チ105,106としてNMOSトランジスタQn3
3,Qn34を用いるとともに、電源側のスイッチ10
8としてPMOSトランジスタQp33を用い、これら
トランジスタの各ゲートに対してサンプリングパルスS
Pを直接印加する構成となっている。
【0098】このように、スイッチ105,106,1
08をトランジスタで実現した場合にも、その回路の動
作は図18の回路の場合と同じである。また、タイミン
グ例についても図19および図20と同じである。な
お、本変形例では、スイッチ105,106をNMO
S、スイッチ108をPMOSで実現しているが、サン
プリングパルスSPがアクティブ“L”の場合には、そ
の極性は逆になることは明らかである。
【0099】図22は、サンプリングラッチ回路の第2
実施例を示す回路図である。この第2実施例に係るサン
プリングラッチ回路は、各々のゲートおよびドレインが
それぞれ共通に接続されたNMOSトランジスタQn4
1およびPMOSトランジスタQp41からなるCMO
Sインバータ151と、各々のゲートおよびドレインが
それぞれ共通に接続されたNMOSトランジスタQn4
2およびPMOSトランジスタQp42からなるCMO
Sインバータ152とが、電源ライン157とグランド
との間に互いに並列に接続されてなる比較器構成のCM
OSラッチセル150を基本構成としている。
【0100】このCMOSラッチセル150において、
CMOSインバータ151の入力端(即ち、MOSトラ
ンジスタQn41,Qp41のゲート共通接続点)と、
CMOSインバータ152の出力端(即ち、MOSトラ
ンジスタQn42,Qp42のドレイン共通接続点)と
が接続され、さらにCMOSインバータ152の入力端
(即ち、MOSトランジスタQn42,Qp42のゲー
ト共通接続点)とCMOSインバータ151の出力端
(即ち、MOSトランジスタQn41,Qp41のドレ
イン共通接続点)とが接続されている。
【0101】また、CMOSインバータ151の入力端
と第1回路入力端子153との間にスイッチ155が、
CMOSインバータ152の入力端と第2回路入力端子
154との間にスイッチ156がそれぞれ接続されてい
る。さらに、CMOSラッチセル150の電源側、即ち
ノードAと電源ライン157との間にも、スイッチ15
8が接続されている。スイッチ155,156はサンプ
リング端子159から入力されるサンプリングパルスS
Pによって直接スイッチング制御され、スイッチ158
はインバータ160を経たサンプリングパルスSPの反
転パルスによってスイッチング制御される。
【0102】また、CMOSインバータ152の入力端
であるノードと第1回路出力端子161との間にイン
バータ163が、CMOSインバータ151の入力端で
あるノードと第2回路出力端子162との間にインバ
ータ164がそれぞれ接続されている。インバータ16
3は、各ゲートおよびドレインがそれぞれ共通に接続さ
れ、かつノードAとグランドとの間に接続されたP,N
MOSトランジスタQp43,Qn43からなるCMO
Sインバータ構成となっている。インバータ154も同
様に、各ゲートおよびドレインがそれぞれ共通に接続さ
れ、かつノードAとグランドとの間に接続されたP,N
MOSトランジスタQp44,Qn44からなるCMO
Sインバータ構成となっている。
【0103】上記構成の第2実施例に係るサンプリング
ラッチ回路において、第1回路入力端子153には例え
ば3V程度の振幅Vpの信号in1が入力され、第2回
路入力端子154には0V以上Vp以下の範囲内の任意
の直流電圧が信号in2として入力されるものとする。
この第2実施例に係るサンプリングラッチ回路の回路動
作については、第1実施例に係るサンプリングラッチ回
路のそれと基本的に同じである。
【0104】すなわち、サンプリング端子159からア
クティブ“H”のサンプリングパルスSPが入力される
と、スイッチ155,156がオン(閉)状態となり、
これにより入力信号in1,in2は、CMOSラッチ
セル150のノード,に伝達される。このとき同時
に、サンプリングパルスSPの反転パルスによってスイ
ッチ158がオフ(開)状態となるため、CMOSラッ
チセル150の電源側が電源ライン157と切り離され
る。
【0105】次に、サンプリングパルスSPが消滅する
と、CMOSラッチセル150のノード,が第1,
第2回路入力端子153,154と分断され、同時にC
MOSラッチセル150の電源側が電源ライン157に
接続される。この瞬間のノード,の電圧に応じた比
較処理がCMOSラッチセル150によって行われ、か
つラッチ動作が始まる。最終的に、ノードはサンプリ
ングパルスSPの消滅した瞬間の入力信号in1の極性
にしたがって電源電圧VDDもしくは0Vにラッチされ
ることになる。このときノードには、その逆極性の電
圧がラッチされる。
【0106】以上の回路動作により、振幅Vpが例えば
3V程度の入力信号in1のデータが、サンプリングパ
ルスSPに同期してサンプリングされ、かつノードに
電源電圧VDDの振幅のデータとしてラッチされる。そ
して、ノードのラッチデータは、インバータ163で
反転されて第1回路出力端子161から出力信号out
として導出され、ノードのラッチデータは、インバー
タ164で反転されて第2回路出力端子162から出力
信号outの反転信号xoutとして導出される。
【0107】この第2実施例に係るサンプリングラッチ
回路の構成によれば、先述した第1実施例に係るサンプ
リングラッチ回路による作用効果に加えて、CMOSイ
ンバータ163,164に対する電源供給についてもC
MOSラッチセル150と同様にスイッチング制御する
ことにより、CMOSインバータ163,164に流れ
る不要な電流を削減できるため、本サンプリングラッチ
回路での消費電力をさらに低減できる。
【0108】なお、第2実施例に係るサンプリングラッ
チ回路の場合にも、図21に示した第1実施例の変形例
の場合のように、スイッチ155,156,158をト
ランジスタで実現可能であり、また入力信号in2とし
て入力信号in1の反転信号を用いたり、非反転と反転
の2つの出力信号out,xoutのうちのいずれか一
方のみを導出する構成とすることも可能である。
【0109】上述したように、駆動回路一体型液晶表示
装置において、第1,第2の水平駆動系12,13のサ
ンプリング&第1ラッチ回路122,132として上記
構成の第1,第2実施例に係るサンプリングラッチ回
路、即ち小面積で実現でき、低消費電力のサンプリング
ラッチ回路を用いることにより、当該サンプリングラッ
チ回路を含む第1,第2の水平駆動系12,13や垂直
駆動系14などの駆動回路を、有効画素領域11と同一
基板上に作成する際に、当該駆動回路を配する有効画素
領域11の額縁を狭くできるとともに、低消費電力の駆
動回路一体型液晶表示装置を実現できる。
【0110】しかも、上記構成のサンプリングラッチ回
路の場合には、先述したことから明らかなように、閾値
Vthが大きいデバイス、例えばTFTを用いた回路で
あっても、安定したサンプリング&ラッチ動作を実現で
きるという利点もある。
【0111】図23は、上記構成のサンプリングラッチ
回路を用いて構成されるサンプリング&第1ラッチ回路
の具体的な構成の一例を示すブロック図であり、例えば
3ビットのデジタルデータb0,b1,b2を入力とす
る場合を示す。ここでは、第1の水平駆動系12側のサ
ンプリング&第1ラッチ回路122を示すが、第2の水
平駆動系13側のサンプリング&第1ラッチ回路132
についても、その構成は全く同じである。
【0112】図23から明らかなように、デジタルデー
タb0,b1,b2の各ビットごとにサンプリングラッ
チ回路122-1,122-2,122-3が設けられてい
る。これらサンプリングラッチ回路122-1,122-
2,122-3には、入力信号in1としてデジタルデー
タb0,b1,b2の各ビットデータが入力され、入力
信号in2として基準電圧(直流電圧)Vrefが各回
路に共通に入力される。そして、水平シフトレジスタ1
21から出力されるサンプリングパルスSPにしたがっ
て、低電圧振幅のデータ信号b0,b1,b2のサンプ
リングを行うようになっている。
【0113】このサンプリングラッチ回路122-1,1
22-2,122-3の各々においてサンプリングされた信
号は、TFT回路に必要な高電圧振幅の信号にレベルシ
フトされかつラッチされる。そして、このラッチされた
高電圧振幅の信号は、サンプリングラッチ回路122-
1,122-2,122-3と同様にデジタルデータの各ビ
ットごとに設けられた次段の第2ラッチ回路123-1,
123-2,123-3により線順次処理され、図示せぬレ
ベルシフト124(図1参照)を経た後、DAコンバー
タ125を通して有効画素領域11の対応するコラム線
に出力される。
【0114】ここで、サンプリングラッチ回路122-
1,122-2,122-3は非常に小面積の中に納め得る
ことが要求される。1つのサンプリングラッチユニット
に割り当てられる水平方向の長さは、図1に示す駆動回
路一体型液晶表示装置の構成では、ドットピッチ/ビッ
ト数となり、極めて短い。したがって、この条件を満足
できるサンプリングラッチ回路122-1,122-2,1
22-3として、小面積で実現できる上記各実施例に係る
サンプリングラッチ回路が非常に有効なものとなる。
【0115】なお、図23の回路例では、入力信号in
2として基準電圧(直流電圧)Vrefを各回路に共通
に入力する構成となっているが、第1実施例に係るサン
プリングラッチ回路においても説明したように、図24
に示すように、各サンプリングラッチ回路122-1,1
22-2,122-3ごとに、データ信号b0,b1,b2
の反転信号xb0,xb1,xb2を入力することも可
能である。
【0116】図25は、図24の変形例を示すブロック
図であり、図中、図24と同等部分には同一符号を付し
て示している。この変形例では、各サンプリングラッチ
回路122-1,122-2,122-3の電源側のスイッチ
(図18のスイッチ108、図22のスイッチ158に
相当)を各回路122-1,122-2,122-3間で共用
し、このスイッチを例えばPMOSトランジスタQp4
5で実現した構成となっている。
【0117】上記の構成によれば、デジタルデータが例
えば3ビットの場合には、電源側のスイッチを2個削減
できることになるため、回路のさらなる小面積化が可能
となる。また、図23の回路例の場合と同様に、反転信
号xb0,xb1,xb2に代えて、直流電圧の基準電
圧Vrefを各サンプリングラッチ回路122-1,12
2-2,122-3に共通の入力信号in2としても良い。
【0118】次に、第1,第2の水平駆動系12,13
の第2ラッチ回路123,133として用いるラッチ回
路の具体的な構成について説明する。
【0119】図26は、ラッチ回路の第1実施例を示す
回路図である。この第1実施例に係るラッチ回路は、各
々のゲートおよびドレインがそれぞれ共通に接続された
NチャネルMOSトランジスタQn51およびPチャネ
ルMOSトランジスタQp51からなるCMOSインバ
ータ171と、各々のゲートおよびドレインがそれぞれ
共通に接続されたNMOSトランジスタQn52および
PMOSトランジスタQp52からなるCMOSインバ
ータ172とが、互いに並列に接続されてなるCMOS
ラッチセル170を基本構成としている。
【0120】このCMOSラッチセル170において、
CMOSインバータ171の入力端(即ち、MOSトラ
ンジスタQn51,Qp51のゲート共通接続点)と、
CMOSインバータ172の出力端(即ち、MOSトラ
ンジスタQn52,Qp52のドレイン共通接続点)と
が接続され、さらにCMOSインバータ172の入力端
(即ち、MOSトランジスタQn52,Qp52のゲー
ト共通接続点)とCMOSインバータ171の出力端
(即ち、MOSトランジスタQn51,Qp51のドレ
イン共通接続点)とが接続されている。
【0121】CMOSインバータ171の入力端と第1
回路入力端子173との間にスイッチ175が接続さ
れ、CMOSインバータ172の入力端と第2回路入力
端子174との間にスイッチ176が接続されている。
また、CMOSインバータ172の出力端は第1回路出
力端子177に、CMOSインバータ171の出力端は
第2回路出力端子178にそれぞれ接続されている。そ
して、これら回路出力端子177,178を通して互い
に逆極性(逆相)の2つの出力信号out1,out2
が導出される。
【0122】このCMOSラッチセル170の正電源
側、即ちノードAは正の電源電圧VDDの電源ライン1
79に直接接続されている。また、負電源側、即ちノー
ドBはスイッチ180を介して負電源側電圧(例えば、
グランドレベル)VSS1の電源ライン182に接続さ
れるとともに、スイッチ181を介して電源電圧VSS
1よりも低い電源電圧(負電源電圧)VSS2の電源ラ
イン183に接続されている。
【0123】スイッチ180はスイッチ175,176
と共に、図示せぬ制御回路から入力端子184に入力さ
れるアウトプットイネーブルパルスoe1によってスイ
ッチング制御される。一方、スイッチ181は、上記制
御回路から入力端子185に入力されるアウトプットイ
ネーブルパルスoe2によってスイッチング制御され
る。
【0124】上記構成の第1実施例に係るラッチ回路に
おいて、第1回路入力端子173にはVDD〜VSS1
の振幅を持つ信号in1が入力され、第2回路入力端子
174には入力信号in1の反転信号in2が入力され
るものとする。ここで、第1実施例に係るラッチ回路の
回路動作について、図27のタイミングチャートを用い
て説明する。
【0125】先ず、アクティブ“H”のアウトプットイ
ネーブルパルスoe1が入力端子174に入力される
と、これに応答してスイッチ175,176がオン
(閉)状態となって入力信号in1,in2をサンプリ
ングし、CMOSラッチセル170へ伝達する。これに
より、入力信号in1,in2は、VDD〜VSS1の
振幅で一旦CMOSラッチセル170にラッチされる。
【0126】このラッチ動作の期間では、スイッチ18
0がアウトプットイネーブルパルスoe1に応答してオ
ン状態にある一方、アウトプットイネーブルパルスoe
2がアウトプットイネーブルパルスoe1の逆極性
(“L”レベル)にあることから、スイッチ181がオ
フ(開)状態にあるため、CMOSラッチセル170の
負電源側は電源電圧VSS1の電源ライン172に接続
されることになる。
【0127】次に、アウトプットイネーブルパルスoe
1が“L”レベルに遷移するとともに、アウトプットイ
ネーブルパルスoe2が“H”レベルに遷移することに
よって出力動作の期間に移行する。この期間では、スイ
ッチ180がオフ状態、スイッチ181がオン状態とな
るため、CMOSラッチセル170の負電源側は電源電
圧VSS2の電源ライン183に接続されることにな
る。
【0128】これにより、CMOSラッチセル170に
おいて、それまでVDD〜VSS1の振幅でラッチされ
ていた信号が、VDD〜VSS2の振幅を持つことにな
る。そして、このVDD〜VSS2の振幅の信号が信号
out1,out2として出力されることになる。その
結果、VDD〜VSS1の振幅を持つ信号in1,in
2をサンプリングラッチし、VDD〜VSS2の振幅を
持つ信号out1,out2にレベル変換(レベルシフ
ト)することができる。
【0129】上述したように、第1実施形態に係るラッ
チ回路では、CMOSラッチセル170を基本構成と
し、レベルシフト機能を持つラッチ回路において、CM
OSラッチセル170の負電源側にVSS1電源とVS
S2電源を選択する2つのスイッチ180,181を設
け、これらスイッチ180,181をCMOSラッチセ
ル170のラッチ動作および出力動作の各期間に応じて
スイッチング制御することにより、CMOSラッチセル
170がラッチ動作の期間ではVSS1電源で動作し、
出力動作の期間ではVSS2電源で動作することにな
る。
【0130】これにより、VSS1/VSS2の電源に
流れる電流を抑制することができ、特に出力負荷を充電
するための充電電流の多くはVDD電源からVSS1電
源に向かって流れるため、VSS2電源に流れる電流が
非常に少ない。しかも、少ない回路素子数でラッチ動作
およびレベルシフト動作を実現できるとともに、低電圧
振幅の信号で強制的に高電圧振幅の信号用のラッチを書
き換える必要がなく、前段の信号バッファのサイズが小
さくて済むため、小面積化のレベルシフト機能付きラッ
チ回路を実現できる。
【0131】図28に、別のタイミング例を示す。図2
8のタイミング例では、アウトプットイネーブルパルス
oe2の立ち下がりがアウトプットイネーブルパルスo
e1の立ち上がりよりも若干早く、アウトプットイネー
ブルパルスoe2の立ち上がりがアウトプットイネーブ
ルパルスoe1の立ち下がりよりも若干遅くなってい
る。このようなタイミング関係にすることで、VSS2
電源へ流れ込む電流を確実に減らすことができる。
【0132】図29は、第1実施例に係るラッチ回路の
具体例を示す回路図であり、図中、図26と同等部分に
は同一符号を付して示している。この具体例に係るラッ
チ回路では、図26のスイッチ175,176,18
0,181として、NMOSトランジスタQn53,Q
n54,Qn55,Qn56を用い、トランジスタQn
53,Qn54,Qn55の各ゲートにアウトプットイ
ネーブルパルスoe1を、トランジスタQn56のゲー
トにアウトプットイネーブルパルスoe2をそれぞれ印
加する構成となっている。
【0133】このように、スイッチ175,176,1
80,181をトランジスタで実現した場合にも、その
回路の動作は図26の回路の場合と同じである。また、
タイミング例についても図27および図28と同じであ
る。なお、本具体例では、スイッチ175,176,1
80,181をNMOSで実現しているが、アウトプッ
トイネーブルパルスoe1,oe2がアクティブ“L”
の場合には、その極性は逆になることは明らかである。
【0134】図30は、ラッチ回路の第2実施例を示す
回路図である。この第2実施例に係るラッチ回路は、各
々のゲートおよびドレインがそれぞれ共通に接続された
NMOSトランジスタQn61およびPMOSトランジ
スタQp61からなるCMOSインバータ191と、各
々のゲートおよびドレインがそれぞれ共通に接続された
NMOSトランジスタQn62およびPMOSトランジ
スタQp62からなるCMOSインバータ192とが、
互いに並列に接続されてなるCMOSラッチセル190
を基本構成としている。
【0135】このCMOSラッチセル190において、
CMOSインバータ191の入力端(即ち、MOSトラ
ンジスタQn61,Qp61のゲート共通接続点)と、
CMOSインバータ192の出力端(即ち、MOSトラ
ンジスタQn62,Qp62のドレイン共通接続点)と
が接続され、さらにCMOSインバータ192の入力端
(即ち、MOSトランジスタQn62,Qp62のゲー
ト共通接続点)とCMOSインバータ191の出力端
(即ち、MOSトランジスタQn61,Qp61のドレ
イン共通接続点)とが接続されている。
【0136】CMOSインバータ191の入力端と第1
回路入力端子193との間にスイッチ195が接続さ
れ、CMOSインバータ192の入力端と第2回路入力
端子194との間にスイッチ196が接続されている。
また、CMOSインバータ192の出力端は第1回路出
力端子197に、CMOSインバータ191の出力端は
第2回路出力端子198にそれぞれ接続されている。そ
して、これら回路出力端子197,198を通して互い
に逆極性(逆相)の2つの出力信号out1,out2
が導出される。
【0137】このCMOSラッチセル190の正電源
側、即ちノードAはスイッチ199を介して正電源電圧
VDD1の電源ライン201に接続されるとともに、ス
イッチ200を介して電源電圧VDD1よりも高い電源
電圧VDD2の電源ライン202に接続されている。ま
た、負電源側、即ちノードBは負電源側電圧(例えば、
グランドレベル)VSSの電源ライン203に直接接続
されている。
【0138】スイッチ199はスイッチ195,196
と共に、図示せぬ制御回路から入力端子204に入力さ
れるアウトプットイネーブルパルスoe1によってスイ
ッチング制御される。一方、スイッチ200は、上記制
御回路から入力端子205に入力されるアウトプットイ
ネーブルパルスoe2によってスイッチング制御され
る。
【0139】上記構成の第2実施例に係るラッチ回路に
おいて、第1回路入力端子193にはVDD1〜VSS
の振幅を持つ信号in1が入力され、第2回路入力端子
194には入力信号in1の反転信号in2が入力され
るものとする。また、アウトプットイネーブルパルスo
e1,oe2としては、第1実施例に係るラッチ回路の
場合と同様に、図27または図28のタイミング関係に
あるパルスが入力される。
【0140】これにより、第2実施例に係るラッチ回路
では、基本的に、第1実施例に係るラッチ回路と同じ動
作が行われる。すなわち、アウトプットイネーブルパル
スoe1がアクティブのラッチ動作の期間では、VDD
1電源のもとで動作し、VDD1〜VSSの振幅を持つ
信号in1,in2がスイッチ195,196を通して
CMOSラッチセル190に同じ振幅で一旦ラッチされ
る。
【0141】次に、アウトプットイネーブルパルスoe
2がアクティブの出力動作の期間では、CMOSラッチ
セル190の正側の電源がVDD1電源からVDD2電
源に切り換わるため、VDD1〜VSSの振幅を持つ信
号がVDD2〜VSSの振幅の信号にレベルシフトさ
れ、これが出力信号out1,out2として導出され
ることになる。
【0142】上述したように、第2実施例に係るラッチ
回路では、CMOSラッチセル190の正電源側に電源
選択用の2つのスイッチ199,200を設け、これら
スイッチ199,200をCMOSラッチセル190の
ラッチ動作および出力動作の各期間に応じてスイッチン
グ制御することにより、ラッチ動作の期間ではVDD1
電源で動作し、出力動作の期間ではVDD2電源で動作
することになるため、第1実施例の場合と同様に、VD
D1/VDD2の電源に流れる電流を抑制することがで
き、しかも少ない回路素子数で構成できるとともに、低
電圧振幅の信号で強制的に高電圧振幅の信号用のラッチ
を書き換える必要がなく、前段の信号バッファのサイズ
が小さくて済むため、小面積化が可能となる。
【0143】図31は、ラッチ回路の第3実施例を示す
回路図である。この第3実施例に係るラッチ回路は、各
々のゲートおよびドレインがそれぞれ共通に接続された
NMOSトランジスタQn71およびPMOSトランジ
スタQp71からなるCMOSインバータ211と、各
々のゲートおよびドレインがそれぞれ共通に接続された
NMOSトランジスタQn72およびPMOSトランジ
スタQp72からなるCMOSインバータ212とが、
互いに並列に接続されてなるCMOSラッチセル210
を基本構成としている。
【0144】このCMOSラッチセル210において、
CMOSインバータ211の入力端(即ち、MOSトラ
ンジスタQn71,Qp71のゲート共通接続点)と、
CMOSインバータ212の出力端(即ち、MOSトラ
ンジスタQn72,Qp72のドレイン共通接続点)と
が接続され、さらにCMOSインバータ212の入力端
(即ち、MOSトランジスタQn72,Qp72のゲー
ト共通接続点)とCMOSインバータ211の出力端
(即ち、MOSトランジスタQn71,Qp71のドレ
イン共通接続点)とが接続されている。
【0145】CMOSインバータ211の入力端と第1
回路入力端子213との間にスイッチ215が接続さ
れ、CMOSインバータ212の入力端と第2回路入力
端子214との間にスイッチ216が接続されている。
また、CMOSインバータ212の出力端は第1回路出
力端子217に、CMOSインバータ211の出力端は
第2回路出力端子218にそれぞれ接続されている。そ
して、これら回路出力端子217,218を通して互い
に逆極性(逆相)の2つの出力信号out1,out2
が導出される。
【0146】このCMOSラッチセル210の正電源
側、即ちノードAはスイッチ219を介して正電源電圧
VDD1の電源ライン221に接続されるとともに、ス
イッチ220を介して電源電圧VDD1よりも高い電源
電圧VDD2の電源ライン222に接続されている。ま
た、負電源側、即ちノードBはスイッチ223を介して
負電源側電圧(例えば、グランドレベル)VSS1の電
源ライン225に接続されるとともに、スイッチ224
を介して電源電圧VSS1よりも低い電源電圧(負電源
電圧)VSS2の電源ライン226に接続されている。
【0147】スイッチ219,223はスイッチ21
5,216と共に、図示せぬ制御回路から入力端子22
7に入力されるアウトプットイネーブルパルスoe1に
よってスイッチング制御される。一方、スイッチ22
0,224は、上記制御回路から入力端子228に入力
されるアウトプットイネーブルパルスoe2によってス
イッチング制御される。
【0148】上記構成の第3実施例に係るラッチ回路に
おいて、第1回路入力端子213にはVDD1〜VSS
の振幅を持つ信号in1が入力され、第2回路入力端子
214には入力信号in1の反転信号in2が入力され
るものとする。また、アウトプットイネーブルパルスo
e1,oe2としては、第1,第2実施例に係るラッチ
回路の場合と同様に、図27または図28のタイミング
関係にあるパルスが入力される。
【0149】これにより、第3実施例に係るラッチ回路
では、基本的に、第1,第2実施例に係るラッチ回路と
同じ動作が行われる。すなわち、アウトプットイネーブ
ルパルスoe1がアクティブのラッチ動作の期間では、
VDD1,VSS1の各電源のもとで動作し、VDD1
〜VSS1の振幅を持つ信号in1,in2がスイッチ
215,216を通してCMOSラッチセル210に同
じ振幅で一旦ラッチされる。
【0150】次に、アウトプットイネーブルパルスoe
2がアクティブの出力動作の期間では、CMOSラッチ
セル210の正側の電源がVDD1電源からVDD2電
源に切り換わるとともに、負側の電源がVSS1電源か
らVSS2電源に切り換わるため、VDD1〜VSS1
の振幅を持つ信号がVDD2〜VSS2の振幅の信号に
レベルシフトされ、これが出力信号out1,out2
として導出されることになる。
【0151】上述したように、第3実施例に係るラッチ
回路では、CMOSラッチセル210の正電源側および
負電源側にそれぞれ2つのスイッチ219,220およ
びスイッチ223,224を電源選択用として設け、こ
れらスイッチ219,220およびスイッチ223,2
24をCMOSラッチセル210のラッチ動作および出
力動作の各期間に応じてスイッチング制御することによ
り、ラッチ動作の期間ではVDD1,VSS1の各電源
で動作し、出力動作の期間ではVDD2,VSS2の各
電源で動作することになるため、第1,第2実施例の場
合と同様に、各電源に流れる電流を抑制することができ
る。しかも、少ない回路素子数で構成できるとともに、
低電圧振幅の信号で強制的に高電圧振幅の信号用のラッ
チを書き換える必要がなく、前段の信号バッファのサイ
ズが小さくて済むため、小面積化が可能となる。
【0152】なお、上記第2,第3実施例に係るラッチ
回路についても、第1実施例の具体例(図29参照)と
同様に、図30におけるスイッチ195,196,19
9,200および図31におけるスイッチ215,21
6,219,220,223,224をトランジスタで
実現可能である。ただし、図30におけるスイッチ19
9,200および図31におけるスイッチ219,22
0としては、PMOSトランジスタが好ましく、この場
合はこれらをスイッチングする信号としてアウトプット
イネーブルパルスoe1,oe2の各反転信号を用いる
ことになる。
【0153】また、第1,第2,第3実施例に係るラッ
チ回路では、互いに反転信号である2つの出力信号ou
t1,out2を導出する構成としたが、いずれか一方
の出力信号のみを導出する構成であっても良い。
【0154】上述したように、駆動回路一体型液晶表示
装置において、第1,第2の水平駆動系12,13の第
2ラッチ回路123,133として上記構成のレベルシ
フト機能付きラッチ回路、即ち小面積で実現でき、低消
費電力のラッチ回路を用いることにより、当該ラッチ回
路を含む水平駆動系12,13や垂直駆動系14などの
駆動回路を、有効画素領域11と同一基板上に作成する
際に、当該駆動回路を配する有効画素領域11の額縁を
狭くできるとともに、低消費電力の駆動回路一体型液晶
表示装置を実現できる。
【0155】図32は、上述した各実施例のうち、第1
実施例に係るラッチ回路(図26参照)を第2ラッチ回
路123,133として用いた場合の具体的な構成の一
例を示すブロック図であり、例えば3ビットのデジタル
データb0,b1,b2を入力する場合の例を示してい
る。ここでは、第1の水平駆動系12側の第2ラッチ回
路123を示すが、第2の水平駆動系13側の第2ラッ
チ回路133についても、その構成は全く同じである。
【0156】図32から明らかなように、デジタルデー
タb0,b1,b2の各ビットごとにサンプリングラッ
チ回路122-1,122-2,122-3が、さらにその後
段にラッチ回路123-1,123-2,123-3がそれぞ
れ設けられている。サンプリングラッチ回路122-1,
122-2,122-3は、デジタルデータb0,b1,b
2の各ビットデータを入力とし、水平シフトレジスタ1
21(図1参照)から出力されるサンプリングパルスに
したがって、各入力データのサンプリングを行うように
なっている。
【0157】一方、ラッチ回路123-1,123-2,1
23-3には、サンプリングラッチ回路122-1,122
-2,122-3から各サンプリングデータが供給されると
ともに、外部から入力されるラッチパルスに基づいてバ
ッファ230から出力されるアウトプットイネーブルパ
ルスoe1,oe2がラッチパルスとして入力され、さ
らに第2の電源発生回路231からVSS2電源が負側
の第2の電源として供給される構成となっている。
【0158】これにより、ラッチ回路123-1,123
-2,123-3は、前段のサンプリングラッチ回路122
-1,122-2,122-3の各サンプリングデータをアウ
トプットイネーブルパルスoe1に応答してサンプリン
グラッチした後、データの同時化(線順次化)と次段の
DA変換に必要な信号振幅へのレベル変換をアウトプッ
トイネーブルパルスoe2のタイミングで行い、図示せ
ぬレベルシフタ124(図1参照)でレベルシフトした
後、DAコンバータ125を通して有効画素領域11の
対応するコラム線へ出力する。
【0159】このように、駆動回路一体型液晶表示装置
において、第2ラッチ回路123,133として上記各
実施例に係るラッチ回路を用いることにより、当該ラッ
チ回路ではラッチ動作/出力動作の各期間で電源を使い
分けるようにしているため、第2の電源発生回路231
に流れる電流を抑制できる。これにより、第2の電源発
生回路231の液晶パネルへの内蔵(一体形成)化が容
易になるとともに、第2ラッチ回路123,133を小
面積にて実現できるため、液晶パネルの狭額縁化が可能
となる。
【0160】図33は、図32の変形例を示すブロック
図であり、図中、図32と同等部分には同一符号を付し
て示しているいる。この変形例では、各ラッチ回路12
3-1,123-2,123-3の負電源側のスイッチ(図2
6のスイッチ180,181に相当)としてスイッチ2
32,233を設け、このスイッチ232,233を各
回路123-1,123-2,123-3間で共用した構成と
なっている。
【0161】この構成によれば、デジタルデータが例え
ば3ビットの例では、図26の回路をそのまま用いた場
合には、3ビットに対応した3個のラッチ回路の各々に
対して負電源側のスイッチが2個、計6個の電源切り換
え用のスイッチが必要であるのに対して、3個のラッチ
回路に対して2個のスイッチで済み、電源切り換え用の
スイッチを4個削減できることになるため、さらなる小
面積化が可能となり、よって液晶パネルのより狭額縁化
が実現できる。
【0162】なお、本例では、第2ラッチ回路123,
133として、第1実施例に係るラッチ回路を用いると
したが、第2,第3実施例に係るラッチ回路を用いるこ
とも可能であり、同様の作用効果を得ることができる。
【0163】以上、水平シフトレジスタ121,13
1、サンプリング&ラッチ回路122,132、第2ラ
ッチ回路123,133、レベルシフタ124,134
およびDA変換回路125,135の具体的な実施例に
ついて説明したが、これら各実施例に係る回路構成を液
晶表示装置の各回路が同時に採用する必要はなく、いず
れかの回路が上記各実施例に係る回路構成を採用した構
成とすることも可能であり、この場合であってもLCD
パネルの狭額縁化に寄与できる。
【0164】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基準電圧選択型DA変換回路およびこれを搭載した駆動
回路一体型液晶表示装置において、nビットのデータ信
号の各ビットの論理に対応した極性のn個のアナログス
イッチが互いに直列に接続されてなる2n 個の階調選択
ユニットを、2n 本の基準電圧線の各々と画素部のコラ
ム線との間にそれぞれ接続したことにより、データ信号
をデコードするデコード回路と、そのデコード出力に基
づいて対応する基準電圧を選択する選択スイッチとを同
一トランジスタで形成可能となり、回路を構成する素子
数が少なくて済むため、消費電力を増やすことなく、非
常に狭幅な額縁のLCDパネルを実現できることにな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る駆動回路一体型液晶
表示装置のシステム構成を示すブロック図である。
【図2】有効画素領域の構成の一例を示す回路図であ
る。
【図3】基準電圧選択型DA変換回路の基本構成図であ
る。
【図4】基準電圧選択型DA変換回路の具体的な回路構
成を示す回路図である。
【図5】単結晶シリコン・トランジスタの構造の一例を
示す断面図である。
【図6】ポリシリコンTFTの構造の一例を示す断面図
である。
【図7】レベルシフト回路の第1実施例を示す回路図で
ある。
【図8】第1実施例に係るレベルシフト回路の回路動作
を説明するためのタイミングチャートである。
【図9】直流電圧を基準電圧とした場合のタイミングチ
ャートである。
【図10】第1実施例に係るレベルシフト回路の変形例
を示す回路図である。
【図11】第1実施例に係るレベルシフト回路の他の変
形例を示す回路図である。
【図12】第1実施例に係るレベルシフト回路のさらに
他の変形例を示す回路図である。
【図13】リセット回路を付加した場合の回路動作を説
明するためのタイミングチャートである。
【図14】リセット信号を生成する回路例を示す回路図
である。
【図15】レベルシフト回路の第2実施例を示す回路図
である。
【図16】第2実施例に係るレベルシフト回路の変形例
を示す回路図である。
【図17】水平シフトレジスタの構成の一例を示すブロ
ック図である。
【図18】サンプリングホールド回路の第1実施例を示
す回路図である。
【図19】第1実施例に係るサンプリングホールド回路
の回路動作を説明するためのタイミングチャートであ
る。
【図20】入力信号in1の反転信号を入力信号in2
とした場合のタイミングチャートである。
【図21】第1実施形態に係るサンプリングホールド回
路の変形例を示す回路図である。
【図22】サンプリングホールド回路の第2実施例を示
す回路図である。
【図23】各実施例に係るサンプリングホールド回路を
サンプリング&第1ラッチ回路として用いた場合の具体
的な構成の一例を示すブロック図である。
【図24】デジタルデータの反転データを入力信号in
2とした場合の構成を示すブロック図である。
【図25】図24の変形例を示すブロック図である。
【図26】ラッチ回路の第1実施例を示す回路図であ
る。
【図27】第1実施形態に係るラッチ回路の回路動作を
説明するためのタイミングチャートである。
【図28】第1実施形態に係るラッチ回路の回路動作の
別のタイミング例を示すタイミングチャートである。
【図29】第1実施形態に係るラッチ回路の具体例を示
す回路図である。
【図30】ラッチ回路の第2実施例を示す回路図であ
る。
【図31】ラッチ回路の第3実施例を示す回路図であ
る。
【図32】各実施形態に係るラッチ回路を第2ラッチ回
路として用いた場合の具体的な構成の一例を示すブロッ
ク図である。
【図33】図32の変形例を示すブロック図である。
【図34】従来例のシステム構成を示すブロック図であ
る。
【図35】基準電圧選択型DA変換回路の一例を示す回
路図である。
【符号の説明】
11…有効画素領域、12,13…第1,第2の水平駆
動系、14…垂直駆動系、20…画素、21…TFT
(薄膜トランジスタ)、22…液晶セル、23…補助容
量、30〜37…階調選択ユニット、70,84,10
0,150,170,190…CMOSラッチセル、7
1,72,85,86,101,102,151,15
2,171,172,191,192…CMOSインバ
ータ、121,131…水平シフトレジスタ、122,
132…サンプリング&第1ラッチ回路(サンプリング
ラッチ回路)、123,133…第2ラッチ回路(ラッ
チ回路)、124,134…レベルシフタ(レベルシフ
ト回路)、125,135…DA変換回路、301〜3
03,311〜313,321〜323,331〜33
3,341〜343,351〜353,361〜36
3,371〜373…アナログスイッチ、Vref0〜
Vref7…基準電圧

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 nビット(nは2以上の整数)のデータ
    信号の各ビットの論理に対応した極性のn個のアナログ
    スイッチが互いに直列に接続されてなり、かつ2n 本の
    基準電圧線の各々と出力線との間にそれぞれ接続された
    n 個の階調選択ユニットを有することを特徴とするデ
    ジタルアナログ変換回路。
  2. 【請求項2】 前記n個のアナログスイッチは各々、前
    記データ信号の各ビットの論理に対応した導電型の1個
    のMOSトランジスタからなることを特徴とする請求項
    1記載のデジタルアナログ変換回路。
  3. 【請求項3】 前記データ信号の振幅は、基準電圧のレ
    ベル範囲に対してPチャネルMOSトランジスタの閾値
    だけ低く、かつNチャネルMOSトランジスタの閾値だ
    け高いレベル範囲以上であることを特徴とする請求項2
    記載のデジタルアナログ変換回路。
  4. 【請求項4】 複数の画素からなる有効画素領域とデジ
    タルアナログ変換回路を含む駆動回路とが形成された第
    1の基板と、前記第1の基板に対して所定の間隔をもっ
    て対向配置された第2の基板と、前記第1の基板と前記
    第2の基板との間に保持された液晶層とを具備する液晶
    表示装置であって、 前記デジタルアナログ変換回路は、nビット(nは2以
    上の整数)のデータ信号の各ビットの論理に対応した極
    性のn個のアナログスイッチが互いに直列に接続されて
    なり、かつ2n 本の基準電圧線と画素部のコラム線との
    間にそれぞれ接続された2n 個の階調選択ユニットを有
    することを特徴とする液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 前記有効画素領域の各画素は、液晶セル
    の対向電極に共通に印加されるコモン電圧を1水平期間
    ごとに反転させるコモン反転駆動によって駆動されるこ
    とを特徴とする請求項4記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項6】 前記駆動回路は、複数の転送段からな
    り、スタート信号に応答してシフト動作を行うことによ
    って各転送段から順にサンプリングパルスを出力するシ
    フトレジスタと、前記シフトレジスタの各転送段から出
    力されるサンプリングパルスに同期してデータ信号を順
    次サンプリングしてラッチする第1のラッチ回路と、前
    記第1のラッチ回路によってサンプリングされた信号を
    各コラム線に対応して1水平期間ごとにラッチし、その
    ラッチした信号を前記デジタルアナログ変換回路へ供給
    する第2のラッチ回路とを具備し、 前記シフトレジスタは、前記スタート信号をレベルシフ
    トして初段の転送段に供給する第1のレベルシフト回路
    と、クロック信号をレベルシフトして各段の転送段に供
    給する第2のレベルシフト回路とを有するとともに、前
    記第1,第2のレベルシフト回路が、CMOSラッチセ
    ルを基本構成とし、前記CMOSラッチセルの2つの入
    力部と2つの入力信号源との間にそれぞれ挿入された抵
    抗素子を有し、 前記第1のラッチ回路は、CMOSラッチセルを基本構
    成とし、前記CMOSラッチセルの2つの入力部と2つ
    の入力信号線との間にそれぞれ接続された第1のスイッ
    チと、前記CMOSラッチセルの電源側と電源ラインと
    の間に接続された第2のスイッチと、前記第1のスイッ
    チと前記第2のスイッチとを相補的にスイッチング制御
    する制御手段とを備えており、 前記第2のラッチ回路は、CMOSラッチセルを基本構
    成とし、前記CMOSラッチセルの正電源側および負電
    源側の少なくとも一方に設けられて、電源電圧が異なる
    第1,第2の電源をそれぞれ選択する第1,第2のスイ
    ッチと、前記CMOSラッチセルのラッチ動作および出
    力動作の各期間に応じて前記第1,第2のスイッチをス
    イッチング制御する制御手段とを備えていることを特徴
    とする請求項4記載の液晶表示装置。
  7. 【請求項7】 前記駆動回路は、前記第2のラッチ回路
    と前記デジタルアナログ変換回路との間に、前記第2の
    ラッチ回路でラッチされた信号をレベルシフトして前記
    デジタルアナログ変換回路に供給するレベルシフト回路
    を具備し、 前記レベルシフトは、CMOSラッチセルを基本構成と
    し、前記CMOSラッチセルの2つの入力部と2つの入
    力信号源との間にそれぞれ挿入された抵抗素子を有する
    ことを特徴とする請求項6記載の液晶表示装置。
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