JP2000241730A

JP2000241730A - 光走査装置

Info

Publication number: JP2000241730A
Application number: JP4326999A
Authority: JP
Inventors: Keiichi Sato; 敬一佐藤
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1999-02-22
Filing date: 1999-02-22
Publication date: 2000-09-08
Anticipated expiration: 2019-02-22
Also published as: JP3752873B2

Abstract

(57)【要約】【課題】複数ビームの相対的な間隔を調整することの
できる光走査装置を提供する。【解決手段】２本の光ビームＬＢＡ、ＬＢＢを平板ガ
ラス１１４に互いに異なる入射角度で入射させる。この
平板ガラス１１４を透過した光ビームＬＢＡ、ＬＢＢ
は、主、及び副走査方向にパワーを持つ光学部材を介さ
ずに、感光体ドラム１０８上を主走査する。このとき、
平板ガラス１１４を透過した光ビームＬＢＡ，ＬＢＢの
一部を、主、及び副走査方向にパワーを持つ光学部材を
介さずに、受光素子１１８により検知し、光ビームＬＢ
Ａ，ＬＢＢの相対的な副走査位置を検出する。検出結果
に従って、平板ガラス１１４を主走査方向を回転軸にし
て回転させ、２本の光ビームの入射角度を変化させるこ
とにより、感光体ドラム１０８上のビーム間隔が光ビー
ムのライン幅の整数倍となるように調整する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置に係
り、特に複数の光ビームにより被走査面上を走査する光
走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザプリンタ、デジタル複写機など、
光走査装置により光ビームを走査して画像を記録する画
像記録装置が普及している。

【０００３】このような光走査装置では、図１３に示す
ように、一つの光源３００から出射された光ビームを集
光レンズ群３０２を介して回転多面鏡３０４へ照射する
と共に、該回転多面鏡３０４に照射された光ビームを該
回転多面鏡３０４の回転に伴って移動する反射面３０４
Ａによって反射することにより、結像光学系３０６を介
して感光体ドラム３０８の軸方向に沿って走査露光して
いた。

【０００４】ここで、近年のネットワーク技術の進歩、
コンピュータの高性能化により、その出力装置である画
像記録装置においても高速かつ高解像度の画像出力が求
められている。高速、高解像度の要求を実現するために
は、単位時間当たり走査ライン数を上げる必要があり、
上記のような回転多面鏡を用いた光走査装置では、回転
多面鏡の回転数を増加させることにより、光ビームが感
光体ドラム上の１走査を行う時間を短縮させることが考
えられる。

【０００５】しかし、回転多面鏡を回転駆動させるスキ
ャナモータの回転速度はボールベアリングを使用した場
合は、現在、１５，０００ｒｐｍが限度である。また、
大幅なコストアップを招く空気軸受を使用したとしても
４０，０００ｒｐｍが限度である。従って、回転多面鏡
の回転数を増加させることによって高速化及び高解像度
化を図るには限界がある。

【０００６】次に、回転多面鏡の反射面の数を多くする
ことが考えられるが、反射面の数が増えると、回転多面
鏡が大径化する。このため、通常のスキャナモータで
は、消費電力の増大およびスキャナモータヘの負荷増大
による信頼性の低下という問題が発生する。また、反射
面の数が増えると、必然的に１つの反射面が光ビームを
走査する走査角が小さくなる。このため、回転多面鏡か
ら一定の距離の位置における走査幅は走査角の減少に伴
って短くなる。つまり、従来と同じ走査幅を確保するた
めには回転多面鏡から感光体ドラムまでの距離を大きく
する必要があり、光走査装置の大型化を招くという問題
があった。

【０００７】そこで、従来より、１つの光走査装置で複
数の光源を用いて、複数ビームで感光体ドラムを走査す
ることによって高速化及び高解像度化を図ることが提案
されている。例えば、図１４に示されるように、光３１
０Ａ、３１０Ｂから出射された光ビームＡ、Ｂを集光レ
ンズ群３０２Ａ、Ｂを介して、プリズム３１２で合成し
た後、回転多面鏡３０４で偏向し、結像光学系３０６を
介して、感光体ドラム３０８上を２本の走査ラインで同
時に走査する同時走査方式の光走査装置が提案されてい
る（特開平７−４６３８５号公報参照）。

【０００８】この同時走査方式の光走査装置では、被走
査媒体上で２本のビームを同時に走査するため、２ビー
ムの間隔がずれてしまうと、画像に濃度むらが生じてし
まうことがある。このため、２つのビームの少なくとも
一方の光路上に回転可能な平板ガラス３１４を配設し、
図１５に示されるように、平板ガラス３１４を主走査方
向／副走査方向に回転することで、２ビーム間隔や書き
出しタイミングを調整可能している。

【０００９】また、図１６に示されるように、複数の光
源３２０Ａ、３２０Ｂから射出された光ビームを回転多
面鏡３０４により偏向し、偏向された複数のビームで感
光体ドラム３０８の１本の走査ラインを分割して走査す
る分割走査方式の光走査装置が提案されている（特開平
１０−２３２３５７号公報参照）。

【００１０】この分割走査方式の光走査装置では、１本
の走査ラインを２本のビームで走査するため、２本のビ
ームＲａ、Ｒｂが接続するつなぎ目部分の主走査方向及
び副走査方向の位置精度が重要である。このため、走査
開始側及び終端側の少なくとも一方に設けた光ビームを
検知する検知手段３２２を設け、その検知信号をもとに
光ビームの照射タイミングを変更し、位置を調整してい
る。具体的には、主走査方向の位置は、光ビームの照射
タイミングを変化させることで調整し、副走査方向の位
置は、各光源に対して複数ライン分の画像データを記憶
する記憶手段を設け、照射するために読みこむ画像デー
タを１ライン単位で変更することにより、副走査位置を
１ライン単位で調整している。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような同時走査方式の光走査装置では、２ビーム間隔や
書き出しタイミングの調整手段（平板ガラス３１４）が
２つのビームの合成前に配置され、簡単な構成でとなっ
ている反面、この調整手段より後方に光学部品が多数介
在しているため、各光学部品の変動によって生じる光路
変動が大きく、精度の高い調整を行なうのは難しかっ
た。

【００１２】また、分割走査方式の光走査装置では、つ
なぎ目部分の副走査位置を１ライン単位で調整可能では
あるが、より一層の高画質化を目指すためには１ライン
以下の調整が必要であった。また、調整量を多くするた
めには、記憶手段に記憶する画像データのライン数を増
やす必要があり、イメージメモリの数や容量が増大し、
回路の複雑化やコストアップを招く。

【００１３】本発明は、以上の問題点を解決するために
なされたものであり、複数ビームの光走査装置に係り、
複数ビームの相対的な間隔を調整することができ、かつ
分割走査方式の光走査装置においては、被走査媒体上の
つなぎ目部の副走査方向の走査線位置を１ライン以下の
精度で合わせることができ、安価で容易な調整機構を提
供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の発明は、複数の光ビームにより被
走査面上を走査する光走査装置において、主走査方向お
よび副走査方向にパワーを持つ光学部材よりも前記光ビ
ームの進行方向下流側に配置され、前記複数の光ビーム
が互いに異なる入射角度で入射する透過部材と、前記透
過部材を移動させ、前記入射角度、或いは透過経路長を
変更することにより、前記複数の光ビームの副走査位置
を補正する補正手段と、を有することを特徴としてい
る。

【００１５】請求項１に記載の発明によれば、透過部材
に、被走査面を走査するための複数の光ビームが互いに
異なる入射角度で入射される。補正手段では、透過部材
を移動させて、光ビームの入射角度、又は透過経路長
（光ビームが透過する透過部材の厚さ）を変化させる。
これにより、透過部材からの光ビームの射出位置または
射出方向が変化し、副走査位置が調整される。このと
き、透過部材が、主走査方向及び副走査方向にパワーを
持つ光学部材の光ビームの進行方向後側に設けられてい
るので、他の光学部材によって、透過後の光ビームの光
路が変動されることがない。これにより、透過部材の移
動量演算が簡単に求めることができ、且つ精度の高い副
走査位置の補正を行なうことができる。

【００１６】なお、請求項２に記載されているように、
前記透過部材に、平板ガラスを用いて、前記補正手段
が、主走査方向を回転軸にして前記平板ガラスを回転さ
せて、前記複数の光ビームの副走査位置を補正するよう
にするとよい。

【００１７】また、請求項３に記載されているように、
前記透過部材に、断面形状が楔型のガラス板を用いて、
前記補正手段が、前記ガラス板を副走査方向に移動させ
て、前記複数の光ビームの副走査位置を補正するように
するとよい。

【００１８】また、請求項４に記載されているように、
前記補正手段が、前記被走査面上における前記複数の光
ビームの副走査位置の間隔が１走査ライン幅の整数倍に
なるように、前記複数の光ビームの副走査位置を補正す
るとよい。

【００１９】また、請求項５に記載されているように、
前記補正手段が、前記透過部材から透過した光ビームの
一部を検知して、前記被走査面上と同等となる位置で副
走査位置を検出する検出手段を有し、前記検出手段によ
る検出結果に基づいて、前記複数の光ビームの副走査位
置を補正するとよい。

【００２０】このとき、請求項６に記載されているよう
に、前記検出手段が、１走査ライン幅の整数倍の間隔
で、遮光部又は受光部が設けられているようにするとよ
い。

【００２１】また、請求項７に記載されているように、
前記複数の光ビームが被走査面上の１本の走査ラインを
分割して走査するようにしてもよい。

【００２２】

【発明の実施の形態】（第１の実施の形態）次に、図面
を参照して本発明に係る実施形態の例を詳細に説明す
る。

【００２３】（光走査装置の全体構成）図１には、本発
明が適用された同時走査方式の光走査装置が示されてい
る。図１に示されるように、光走査装置１００は、光源
として、レーザダイオード１０２ａ、１０２ｂを備えて
いる。このレーザダイオード１０２ａ、１０２ｂは、所
望の画像データに基づいて変調された光ビームを射出す
る。なお、レーザダイオード１０２ａから射出された光
ビームをＬＢＡといい、レーザダイオード１０２ｂから
射出された光ビームをＬＢＢという。

【００２４】レーザダイオード１０２ａ、１０２ｂから
射出された光ビームＬＢＡ、ＬＢＢの進行方向下流側に
は、それぞれ集光レンズ群１０４ａ、１０４ｂが配設さ
れ、続いて回転多面鏡１０６が配設されている。レーザ
ダイオード１０２ａ、１０２ｂから射出された光ビーム
ＬＢＡ、ＬＢＢは、集光レンズ群１０４ａ、１０４ｂに
より集光されるとともに平行光化され、回転多面鏡１０
６に入射する。

【００２５】回転多面鏡１０６は、側面に複数の反射面
１０６Ａが設けられた正多角形状（本実施の形態では正
六角形）に形成されており、入射された光ビームはこの
反射面１０６Ａに収束するようになっている。

【００２６】また、回転多面鏡１０６は、図示しない駆
動モータに軸着されており、この駆動モータにより、矢
印Ｃ方向に回転する。すなわち、各反射面１０６Ａに対
する光ビームの入射角度が連続的に変化して偏向され
る。これにより、感光体ドラム１０８表面を矢印Ｊ方向
（主走査方向）に走査して、光ビームが感光体ドラム１
０８に照射される。また、光ビームＬＢＡ、ＬＢＢは、
同一の反射面１０６Ａにより同一の偏向角度で偏向さ
れ、感光体ドラム１０８上を同時に偏向走査するように
なっている。これにより、感光体ドラム１０８上を２ラ
イン同時に走査して、画像を露光記録することができ
る。

【００２７】回転多面鏡１０６により反射された光ビー
ムの進行方向には、結像レンズ（ｆθレンズ）１１０が
配置されている。この結像レンズ１１０により、感光体
ドラム１０８に光ビームを照射するときの走査速度が等
速度になるとともに、感光体ドラム１０８の周面上に結
像点を結ぶ。

【００２８】結像レンズ１１０よりも光ビームの進行方
向下流側には、シリンドリカルミラー１１２が配設され
ている。シリンドリカルミラー１１２に反射されて、光
ビームが感光体ドラム１０８方向に案内される。

【００２９】シリンドリカルミラー１１２よりも光ビー
ムの進行方向下流側には、入射面と出射面とが平行に形
成されている平板ガラス１１４が配設されている。この
平板ガラス１１４は、シリンドリカルミラー１１２によ
って反射された光ビームＬＢＡ、ＬＢＢが異なる入射角
度で入射するように配置されている。

【００３０】また、この平板ガラス１１４は、主走査方
向を回転軸として矢印Ｅ方向に回転するようになってい
る。以下、この回転機構の一例について、図２を参照し
て説明する。

【００３１】平板ガラス１１４の短手方向（光ビームの
走査方向と直交する方向）の一端部で、且つ感光体ドラ
ム１０８方向には、雄ねじが形成されている調整ねじ１
２０が設けられている。また、光走査装置１００のケー
シング１２２のこの調整ねじ１２０に対応する位置に
は、内部に雌ねじが形成されている孔１２３が形成され
ている。この孔１２３に調整ねじ１２０は貫通してい
る。すなわち、平板ガラス１１４は、短手方向の一方の
端部を調整ねじ１２０により支持されている。従って、
この調整ねじ１２０の進退により、短手方向の他方の端
部を回転軸として、すなわち、主走査方向を回転軸とし
て矢印Ｅ方向に回転することができる。

【００３２】なお、光走査装置１００の出荷時には、平
板ガラスを矢印Ｅの両方向に回転させることができる予
め定められた位置（以下「基準位置」という）に調整ね
じ１２０がセットされるように、シリンドリカルミラー
１１２等の他の光学部材の位置が調整されている。ま
た、ケーシング１２２の平板ガラス１１４に対向する位
置は、開口されている。

【００３３】また、ケーシング１２２の内側で、且つ調
整ねじ１２０に対向する位置には、支持部材１２４が備
えられている。この支持部材１２４は、平板を長手方向
に略９０度に屈曲され、さらにもう１回９０度以上屈曲
されて階段状に形成されており、その一端部がケーシン
グ１２２に固定され、他端部は、平板ガラス１１４の調
整ねじ１２０の先端を押圧するように配置されている。
すなわち、この支持部材１２４は、平板ガラス１１４を
調整ねじ１２０の方向に抑えつけている。これにより、
調整ねじ１２０による一点支持によっても、平板ガラス
１１４が主走査方向に傾くことなく、安定して支持され
るようになっている。

【００３４】なお、この平板ガラス１１４の回転機構
は、一例として挙げたものであり、本発明はこれに限定
されるものではなく、平板ガラス１１４を主走査方向を
回転軸にして回転できればどのような回転機構でもよ
い。

【００３５】ところで、平板ガラス１１４に入射する光
ビームは、平板ガラス１１４の回転角度によりその入射
角度が変化し、該入射角度に応じて副走査位置が変化す
る。これにより、感光体ドラム１０８上の光ビームＬＢ
Ａ、ＬＢＢの副走査方向の走査位置が調整される。な
お、平板ガラス１１４の回転による光ビームの副走査方
向の走査位置調整については、後で詳しく述べる。

【００３６】平板ガラス１１４を透過した光ビームＬＢ
Ａ、ＬＢＢは、主走査方向及び副走査方向にパワーを持
つ光学部材を介さずに、そのまま感光体ドラム１０８上
に照射される。

【００３７】感光体ドラム１０８の表面は、図示しない
帯電器によって予め一様に帯電されている。感光体ドラ
ム１０８の表面に、上記の画像データに基づく光ビーム
が走査露光されることにより、静電潜像が形成される。
この感光体ドラム１０８の表面に形成された静電潜像
は、既知の電子写真プロセスによって可視像化されて記
録紙上に転写定着され、画像の記録が行われる。

【００３８】また、平板ガラス１１４と感光体ドラム１
０８の間で、且つ光ビームの主走査方向上流側（図１に
おける感光体ドラム１０８の左端方向）には、折り返し
ミラー１１６が配置されている。この折り返しミラー１
１６により、感光体ドラム１０８の各ライン走査の最初
の光ビームＬＢＡ、ＬＢＢが反射される。

【００３９】折り返しミラー１１６による光ビームの反
射方向で、且つ折り返しミラー１１６に対して感光体ド
ラム１０８と略等価な位置には、受光素子１１８が配置
されている。受光素子１１８には、主走査方向及び副走
査方向にパワーを持つ光学部材を介さずに、平板ガラス
１１４を透過した光ビームＬＢＡ、ＬＢＢが入射するよ
うになっている。また、受光素子１１８には、感光体ド
ラム１０８を走査するごとに、各ライン走査の最初の光
ビームＬＢＡ、ＬＢＢが、感光体ドラム１０８における
副走査間隔と同等の間隔を保って入射される。

【００４０】この受光素子１１８は、図示しない制御回
路に接続されており、受光素子１１８による検知結果に
基づいて、光ビームＬＢＡと光ビームＬＢＢの副走査方
向の間隔のずれが検出される。

【００４１】（受光素子の例）次に、受光素子１１８の
構成例について説明する。

【００４２】受光素子１１８は、光ビームＬＢＡ、ＬＢ
Ｂが矢印Ｆ方向に走査しながら入光し、光ビームＬＢ
Ａ、ＬＢＢの副走査方向の変動によって、光ビームＬＢ
Ａ、ＬＢＢの入光位置が矢印Ｇ方向に変動するように配
置されている。

【００４３】受光素子１１８には、図３（Ａ）に示され
るように、光ビームを遮光するマスク１２６が受光面に
取りつけられており、受光面中央部には、光ビームを検
知可能な複数の受光部１２８が副走査方向に並んで形成
されている。各受光部１２８は、副走査方向を短手方向
とした帯状で、且つその短手方向の長さ寸法が感光体ド
ラム１０８上の光ビームの１走査ライン幅（以下「ライ
ン幅」という）の整数倍となるように形成されている。
また受光部１２８間の間隔は、１ライン幅となってい
る。すなわち、受像素子１１８では、光ビームが受光部
１２８の領域に入射すると、設定値以上の出力ピークが
得られるようになっている。

【００４４】これにより、受光素子１１８により、入射
された光ビームＬＢＡ、ＬＢＢがマスク１２６によりと
もに遮光されて検知されなかったとき、すなわち図３
（Ｂ）に示されるように、予め設定された設定値以上の
出力値が得られなかったときに、光ビームＬＢＡと光ビ
ームＬＢＢの間隔がライン幅の整数倍になっていると判
別できる。

【００４５】なお、受光素子１１８は、図４（Ａ）に示
されるように、受光部１２８の短手方向の長さ寸法が１
ライン幅で、且つ受光部１２８間の間隔が１ライン幅の
整数倍となるようにしてもよい。この場合、光ビームが
受光部１２８に入射した場合のみ、図４（Ｂ）のように
予め決められている設定値以上の出力ピークが得られ
る。

【００４６】これにより、入射された光ビームＬＢＡ、
ＬＢＢがともに受光部１２８を通過して検知されたと
き、すなわち図４（Ｂ）に示されるように、予め設定さ
れた設定値（図３の設定値よりも高い値に設定される）
以上の出力ピークが２本得られたとき、光ビームＬＢＡ
と光ビームＬＢＢの間隔が整数倍になっていると判別で
いる。

【００４７】また、このとき、図５（Ａ）に示されるよ
うに、各受光部１２８の主走査方向の長さ寸法がそれぞ
れ異なるようにしてもよい。この場合、図５（Ｂ）に示
されるように、光ビームが入射した受光部１２８によっ
て設定値以上の出力ピークが得られる時間が異なるの
で、２本の出力ピークの時間差（Δｔ″-Δｔ´）によ
り、光ビームＬＢＡと光ビームＬＢＢとの副走査方向の
間隔が何ライン分であるかを判別することができる。

【００４８】なお、上記は受光素子１１８の一例を説明
したものであり、本発明はこれに限定されるものではな
い。

【００４９】（副走査方向の走査位置調整）次に、平板
ガラス１１４の回転による光ビームの副走査方向の走査
位置調整について説明する。まず、図６（Ａ）を用い
て、この副走査方向の走査位置調整の原理を説明する。

【００５０】一般に、入射面と出射面とが平行に形成さ
れている平板ガラスでは、屈折の法則（Snell's law）
より、（１）の関係が成り立つ。

【００５１】ｎ₁ｓｉｎθ₁＝ｎ₂ｓｉｎθ₂ ｎ₂ｓｉｎθ₂＝ｎ₁ｓｉｎθ₃ …（１）なお、ｎ₁、ｎ₂：屈折率 θ₁：平板ガラスに対するビームの入射角度 θ₂：平板ガラスに入射したビームの屈折角 θ₃：平板ガラスに対するビームの出射角である。

【００５２】従って、平板ガラスに対するビームの入射
角度と出射角には、（２）の関係が成り立つ。

【００５３】 θ₁＝θ₃ …（２）すなわち、平板ガラスを透過する光ビームの入射角度と
出射角が等しく、平板ガラスを入射する光ビームに対し
てθ₁だけ傾けて配設した場合、入射光ビームに対して
Δｘのずれが生じる。このΔｘは平板ガラスの厚さをｔ
として、（３）式のように表わされる。

【００５４】 Δｘ＝ｓｉｎ（θ₁−θ₂）／ｃｏｓθ₂×ｔ …（３）なお、θ₂は（１）式にも表されているようにθ₁により
決められるので、入射光ビームに対する出射光ビームの
ずれ量Δｘは、平面平板ガラスに対する入射角度θ₁と
平面平板ガラスの厚さｔとに依存する。

【００５５】この原理を利用することにより、すなわ
ち、光ビームＬＢＡの入射角度α、ビームビームＬＢＢ
の入射角度β、平板ガラスの厚さｔの少なくとも１つを
変化させることにより、光ビームの副走査方向の走査位
置を調整することができる（図６（Ｂ）参照）。本実施
の形態では、前述の平板ガラス１１４を主走査方向を回
転軸に回転させることにより、入射角度α、βを変化さ
せている。以下に、この場合の感光体ドラム１０８上の
光ビームＬＢＡ、ＬＢＢの間隔の変動量Ｄについて、具
体的に数値をあげて説明する。

【００５６】図７（Ａ）に、平板ガラス１１４が基準位
置にセットされている場合の光ビームＬＢＡの入射角度
αを２０°、ビームビームＬＢＢの入射角度βを３５°
とし、且つ平板ガラスの厚さｔを３ｍｍとした場合の、
平板ガラス１１４の基準位置からの回転角度における被
走査面上の光ビームＬＢＡ、ＬＢＢの間隔Ｄ（感光体ド
ラムの接線上の距離、図６参照）の変動量を、横軸に平
板ガラスの回転角度、縦軸に２つのビーム間隔の変動量
を取って示している。また、表１にはこのときの計算結
果が示されている。

【００５７】なお、図７（Ａ）及び表１では、平板ガラ
ス１１４が基準位置にセットされているときよりも、光
ビームＬＢＡ、ＬＢＢのビーム間隔が広くなる場合を正
として、ビーム間隔の変動量を示している。また、各光
ビームＬＢＡ、ＬＢＢの感光体ドラム１０８上の走査位
置が、平板ガラス１１４が基準位置にセットされている
ときよりも感光体ドラム１０８の回転方向下流側（図６
（Ｂ）における右側）に移動する場合を正として、光ビ
ームＬＢＡ，ＬＢＢの変動量を示している。

【００５８】

【表１】

【００５９】表１からも分かるように、平板ガラス１１
４を基準位置から回転角度−３０°〜３０°まで回転す
ることにより、ビーム間隔を−３３〜１７４μｍの間で
調整することができる。すなわち、平板ガラス１１４が
基準位置にセットされているときよりも、感光体ドラム
１０８上の光ビームＬＢＡ、ＬＢＢの副走査方向の走査
間隔を最大で３３μｍ狭めることができ、また最大で１
７４μｍ広げることができる。

【００６０】また、図７（Ｂ）は光ビームＬＢＡの入射
角度が１５°、光ビームＬＢＢの入射角度が３５°、平
板ガラスの厚さが３ｍｍの場合の、平板ガラス１１４の
基準位置からの回転角度における被走査面上の光ビーム
ＬＢＡ、ＬＢＢの間隔Ｄの変動量が示されている。ま
た、表１にはこのときの計算結果が示されている。

【００６１】

【表２】

【００６２】表２からも分かるように、平板ガラス１１
４を基準位置から回転角度−３０°〜３０°まで回転す
ることにより、ビーム間隔を−４２〜２３８μｍの間で
調整することができる。すなわち、平板ガラス１１４が
基準位置にセットされているときよりも、感光体ドラム
１０８上の光ビームＬＢＡ、ＬＢＢの副走査方向の走査
間隔を最大で４２μｍ狭めることができ、また最大で２
３８μｍ広げることができる。

【００６３】（作用）次に第１の実施の形態の作用につ
いて説明する。

【００６４】光源１０２ａ、１０２ｂから射出された画
像データに基づいて変調された光ビームＬＢＡ、ＬＢＢ
は、それぞれ集光レンズ群１０４ａ、１０４ｂを介して
回転多面鏡１０６に入射する。回転多面鏡１０６は回転
することにより光ビームＬＢＡ、ＬＢＢを偏向し、この
光ビームＬＢＡ、ＬＢＢは結像レンズ１１０を通過し、
シリンドリカルミラー１１２により反射され、平板ガラ
ス１１４に互いに異なる入射角度α、βで入射する。平
板ガラス１１４を透過した光ビームＬＢＡ、ＬＢＢは、
副走査方向に並んで感光体ドラム１０８上を主走査す
る。

【００６５】また、平板ガラス１１４を通過した各ライ
ン走査の最初の光ビームＬＢＡ、ＬＢＢは、折り返しミ
ラー１１６で反射して受光素子１１８に入射する。この
受光素子１１８による光ビームＬＢＡ、ＬＢＢの検知結
果に従って、図示しない制御回路では、光ビームＬＢＡ
と光ビームＬＢＢの副走査方向の間隔が、光ビームのラ
イン幅の整数倍であるかを判断する。

【００６６】光ビームＬＢＡと光ビームＬＢＢの副走査
方向の間隔が、光ビームのライン幅の整数倍ではない場
合は、光ビームＬＢＡ、ＬＢＢが副走査方向にずれてい
ると判断し、平板ガラス１１４を矢印Ｅ方向に回転させ
る。これにより、平板ガラス１１４に対する光ビームＬ
ＢＡ、ＬＢＢの入射角度α、βが変化し、光ビームＬＢ
Ａ、ＬＢＢの感光体ドラム１０８上の副走査位置がそれ
ぞれ変化する。これにより、光ビームＬＢＡ、ＬＢＢの
副走査間隔の調整が行なわれる。

【００６７】上記のように、第１の実施の形態では、同
時走査方式の光走査装置において、２本の光ビームＬＢ
Ａ、ＬＢＢの副走査方向の間隔を検出し、平板ガラス１
１４を回転させることにより、感光体ドラム１０８上の
ビーム間隔が光ビームのライン幅の整数倍となるように
調整することができる。

【００６８】このとき、副走査方向の間隔を検出する検
出手段（受光素子１１８）には、主、及び副走査方向に
パワーを持つ光学部材を介さずに、平板ガラス１１４を
透過した光ビームＬＢＡ、ＬＢＢが入射し、この光ビー
ムＬＢＡ，ＬＢＢにより該間隔を検出する。また、感光
体ドラム１０８にも、主、及び副走査方向にパワーを持
つ光学部材を介さずに、平板ガラス１１４を透過した光
ビームＬＢＡ、ＬＢＢが照射される。これにより、検出
した副走査方向の間隔のずれ量から平板ガラス１１４の
回転量を容易に求めることができ、且つ複雑な制御（演
算）回路を必要とせずに、高精度の光ビームの間隔調整
を行なうことができる。

【００６９】なお、上記では、平板ガラス１１４を回転
させることにより、光ビームＬＢＡ、ＬＢＢの平板ガラ
ス１１４に対する入射角度を変化させ、副走査位置を調
整したが本発明はこれに限定されるものではない。光ビ
ームＬＢＡ、ＬＢＢの入射角度、あるいは光ビームが透
過するガラスの厚さ（透過経路長）を変化させることが
できれば、如何なる透過部材、如何なる移動機構でもよ
い。

【００７０】例えば、また、図８（Ａ）に示すように、
平板ガラス１１４の代わりに断面形状が模型のガラス柱
１３０を配置し、このガラス柱１３０を副走査方向（矢
印Ｈに示される方向）に移動することができる機構を設
けてもよい。この場合、図８（Ｂ）に示すように、ガラ
ス柱１３０の移動（矢印Ｉ参照）によっても光ビームの
ガラス柱１３０に対する入射角度は変わらないが、光ビ
ームが透過するガラス柱１３０の厚さがｔ₁からｔ₂に変
化するので、光ビームを副走査方向にΔｘ移動させるこ
とができ、同様な効果が得られる。この場合、ガラス柱
１３０によりケーシング１２２の開口部を常に塞ぐ状態
にできるため、防塵の効果も得られる。

【００７１】（第２の実施の形態）次に、分割走査方式
の光走査装置に対する本発明の実施形態の例を詳細に説
明する。なお、以下に説明する分割走査方式の光走査装
置では、２つのビームのつなぎ目における副走査位置ず
れを補正するために本発明を適用している。

【００７２】（光走査装置の全体構成）図９には、本発
明が適用された分割走査方式の光走査装置が示されてい
る。

【００７３】図９に示すように、光走査装置２００は、
光源としてレーザダイオード２０２ａ、２０２ｂを備え
ている。なお、レーザダイオード２０２ａから照射され
た光ビームを光ビームＬＢＣといい、レーザダイオード
２０２ｂから照射された光ビームを光ビームＬＢＤとい
うことにする。

【００７４】レーザダイオード２０２ａの光軸上には、
レーザダイオード２０２ａに近いほうから順に、集光レ
ンズ群２０４ａ、反射ミラー２０６ａが配置され、レー
ザダイオード２０２ｂの光軸上には、レーザダイオード
２０２ｂに近いほうから順に、集光レンズ群２０４ｂ、
反射ミラー２０６ｂが配置されている。

【００７５】レーザダイオード２０２ａ、２０２ｂの各
々の光軸上には更に、反射ミラー２０６ａ、反射ミラー
２０６ｂに近いほうから順に、ｆθレンズ２０８（第１
のレンズ２０８Ａ、第２のレンズ２０８Ｂ）、回転多面
鏡２１０が配置されている。なお、回転多面鏡２１０に
より反射（偏向）された光ビームＬＢＣ、ＬＢＤは再
度、ｆθレンズ２０８（第２のレンズ２０８Ｂ、第１の
レンズ２０８Ａ）を透過する。また、回転多面鏡２１０
の各偏向面の走査ライン方向の長さは、該偏向面に入射
する際の光ビームＬＢＣ、ＬＢＤの走査ライン方向のビ
ーム径の長さより短くなっている（所謂、オーバーフィ
ルド系）。なお、以下、走査ライン方向を主走査方向と
いい、走査ライン方向と直交する方向を副走査方向とい
う。

【００７６】レーザダイオード２０２ａ、２０２ｂの各
々の光軸上には更に、シリンドリカルミラー２１２ａ、
２１２ｂが配置されている。このシリンドリカルミラー
２１２ａ、２１２ｂにより、光ビームＬＢＣ、および光
ビームＬＢＤは感光体ドラム２１４に案内される。

【００７７】また、シリンドリカルミラー２１２ａ、２
１２ｂと感光体ドラム２１４の間には、第１の実施の形
態と同様に主走査方向を回転軸として回転可能な平板ガ
ラス２１６が配設されている。この平板ガラス２１６の
回転により、光ビームＬＢＣ、および光ビームＬＢＤの
副走査方向の走査位置を変化させ、副走査方向の走査位
置を調整することができるようになっている。

【００７８】また、平板ガラス２１６よりも光ビームＬ
ＢＣの進行方向下流側で、且つ光ビームＬＢＣによって
感光体ドラム２１４が走査される際に感光体ドラム２１
４の画像領域に最初に入射する位置以前の予め定められ
た位置には、ミラー２１８ａが配置されている。

【００７９】ミラー２１８ａによって反射された光ビー
ムＬＢＣの光軸上で、且つミラー２１８ａに対して感光
体ドラム２１４と略等価な位置には、検知手段としての
スタートオブスキャン（以下、ＳＯＳという）センサ２
２０ａが配置されている。これにより、ＳＯＳセンサ２
２０ａには、主走査方向及び副走査方向にパワーを持つ
光学部材を介さずに、平板ガラス２１６からの光ビーム
ＬＢＣが入射される。また、光ビームＬＢＤが、感光体
ドラム２１４上の主走査位置及び副走査位置の変動とほ
ぼ同等に変動して入射する。

【００８０】また、平板ガラス２１６よりも光ビームＬ
ＢＤの進行方向下流側で、且つ光ビームＬＢＤによって
感光体ドラム２１４が走査される際に感光体ドラム２１
４の画像領域に最後に光ビームＬＢＤが入射する位置以
後の予め定められた位置には、ミラー２１８ｂが配置さ
れている。

【００８１】ミラー２１８ｂによって反射された光ビー
ムＬＢＤの光軸上で、且つミラー２１８ｂに対して感光
体ドラム２１４と略等価な位置には、検知手段としての
エンドオブスキャン（以下、ＥＯＳという）センサ２２
０ｂが配置されている。これにより、ＥＯＳセンサ２２
０ｂには、主走査方向及び副走査方向にパワーを持つ光
学部材を介さずに、平板ガラス２１６からの光ビームＬ
ＢＤが入射される。また、光ビームＬＢＤが、感光体ド
ラム２１４上の主走査位置及び副走査位置の変動とほぼ
同等に変動して入射する。

【００８２】ＳＯＳセンサ２２０ａからは、主走査方向
の書き出しタイミングを規定するＳＯＳ信号が出力さ
れ、ＥＯＳセンサ２２０ｂからは、主走査方向の書き終
わりタイミングを規定するＥＯＳ信号が出力される。Ｓ
ＯＳセンサ２２０ａ、ＥＯＳセンサ２２０ｂは、図示し
ない制御回路に接続されており、このＳＯＳ信号、ＥＯ
Ｓ信号に基づいて光ビームＬＢＣと光ビームＬＢＤとの
主走査方向および副走査方向の走査位置を検出し、光ビ
ームＬＢＣ、ＬＢＤの主走査方向および副走査方向の走
査位置補正が行なわれる。

【００８３】（ＳＯＳセンサ、ＥＯＳセンサの構成例、
及び光ビームの走査位置検出）次に、ＳＯＳセンサ２２
０ａ、ＥＯＳセンサ２２０ｂの一例、及び光ビームの走
査位置検出方法の一例について説明する。なお、ここで
は、ＳＯＳセンサ２２０ａ及びＥＯＳセンサ２２０ｂを
同一の構成とし、以下、ＳＯＳセンサ２２０ａのみを説
明する。

【００８４】ＳＯＳセンサ２２０ａは、図１０に示すよ
うに、光ビームＬＢＣの走査ラインと直交する副走査方
向に複数（本形態では、２つ）配置され、かつ、ＳＯＳ
センサ２２０ａに入射する光ビームＬＢＣを受光する２
つの、受光手段としての受光素子（フォトダイオード）
２２２Ｎ１、２２２Ｎ２により構成されている。なお、
受光素子２２２Ｎ１、２２２Ｎ２は、光ビームを受光す
ると、受光量に比例した強度の信号を出力する。この出
力信号の強度に基づいて、光ビームＬＢＣの副走査方向
の走査位置を検出する。

【００８５】具体的には、光ビームＬＢＣ、ＬＢＤによ
る走査ラインが、イニシャル状態よりも、副走査方向又
は副走査方向と逆方向へ移動すると、受光素子２２２Ｎ
１、２２２Ｎ２の一方の受光量が大きくなり、他方の受
光量が小さくなる。即ち、走査ラインがイニシャル状態
（図１０（Ａ）参照）よりも副走査方向と逆方向に移動
すると、図１０（Ｂ）に示すように、受光素子２２２Ｎ
１の受光量が大きくなり、受光素子２２２Ｎ２が小さく
なる。一方、走査ラインがイニシャル状態よりも副走査
方向に移動すると、図１０（Ｃ）に示すように、受光素
子２２２Ｎ１の受光量が小さくなり、受光素子２２２Ｎ
２が大きくなる。光ビームＬＢＤの走査ラインの移動方
向及び移動量についても同様に認識することができる。

【００８６】なお、上記では、ＳＯＳセンサ２２０ａの
一例を説明したものであり、本発明はこれに限定される
ものではない。副走査位置に応じて出力を変化させるも
のであれば、どのような構成でもよい。

【００８７】一方、主走査方向の位置については、ＳＯ
Ｓセンサ２２０ａとＥＯＳセンサ２２０ｂによる光ビー
ムＬＢＣ、ＬＢＤの検知タイミングにより、光ビームＬ
ＢＣ、ＬＢＤの相対的な位置を検出する。

【００８８】具体的には、感光体ドラム２１４上の各主
走査ライン上のドット数（画素数）は一定であるので、
ＳＯＳ信号の発生から次のＳＯＳ信号の発生までのドッ
ト数は一定である。これを利用して、ＳＯＳセンサ２２
０ａにより光ビームＬＢＣを検知してＳＯＳ信号が発生
されてから、ＥＯＳセンサ２２０ｂにより光ビームＬＢ
Ｄを検知してＥＯＳ信号が発生されるまでの時間を、所
定周波数で発振される発振クロックＣＬＫ０をカウント
して計測する。この計測値と、イニシャル状態（光走査
装置の組立直後の正常状態であり、光ビームＬＢＣと光
ビームＬＢＤとが主走査方向及び複数走査方向に渡って
連続している状態）における計測値とを比較することに
より、光ビームＬＢＣと光ビームＬＢＤの相対的な位置
を検出することができる。

【００８９】（作用）次に第２の実施の形態の作用につ
いて説明する。

【００９０】レーザダイオード２０２ａ、２０２ｂより
発せられた光ビームＬＢＣ、ＬＢＤは、それぞれ集光レ
ンズ群２０４ａ、２０４ｂを通過した後、反射ミラー２
０６ａ、２０６ｂで反射し、ｆθレンズ２０８（第１の
レンズ２０８Ａ、第２のレンズ２０８Ｂの順）を通過し
て、回転多面鏡２１０に入射する。回転多面鏡２１０は
回転することにより光ビームＬＢＣ、ＬＢＤをそれぞれ
偏向し、光ビームＬＢＣ、ＬＢＤは、それぞれｆθレン
ズ２０８（第２のレンズ２０８Ｂ、第１のレンズ２０８
Ａの順）を再度通過し、シリンドリカルミラー２１２
ａ、２１２ｂにて反射され、平板ガラス２１６を透過し
て感光体ドラム２１４に照射する。これにより、光ビー
ムＬＢＣでは画像領域の前半部分Ｒa を走査し、光ビー
ムＬＢＤでは画像領域の後半部分Ｒｂを走査する。

【００９１】一方、画像領域走査前の光ビームＬＢＣは
ミラー２１８ａで反射して、ＳＯＳセンサ２２０ａに入
射する。これにより、ＳＯＳセンサ２２０ａは主走査方
向の書きだしタイミングの起点となるＳＯＳ信号を発生
する。また、画像領域走査前の光ビームＬＢＤがミラー
２１８ｂで反射して、ＥＯＳセンサ２２０ｂに入射す
る。ＥＯＳセンサ２２０ｂは主走査方向の書き終わりタ
イミングを規定するＥＯＳ信号を発生する。

【００９２】上記ＳＯＳ信号、およびＥＯＳ信号に基づ
いて、図示しない制御回路では光ビームＬＢＣ、光ビー
ムＬＢＤの主走査方向および副走査方向の相対的な位置
（すなわち、互いの位置ずれ）を検出する。また、この
位置検出結果に基づいて、光ビームＬＢＣ、ＬＢＤが主
走査方向及び複数走査方向に渡って連続するように、す
なわち、光ビームＬＢＣ、ＬＢＤのつなぎ目の位置ずれ
が補正されるように、光ビームＬＢＣ、ＬＢＤの照射位
置調整が行なわれる。

【００９３】主走査方向の調整は、本実施形態では、Ｓ
ＯＳ信号の位相と同期し、かつ、ＳＯＳ信号が入力され
た時から再度ＳＯＳ信号が入力されるまでの間、一定数
の発振クロックＣＬＫ０を発振し、発振された発振クロ
ックＣＬＫ０に基づいて、光ビームＬＢＣ、ＬＢＤを照
射するようにしており、検出された主走査方向の位置ず
れ分だけ、光ビームＬＢＣあるいは光ビームＬＢＤの射
出開始タイミングをずらすことで行なう。

【００９４】次に副走査方向の調整について、図１１を
用いて説明する。図１１（Ａ）は、感光体ドラム２１４
上の光ビームＬＢＣと光ビームＬＢＤとが、つなぎ目で
副走査方向に２ライン分ずれている状態である。ここ
で、第１の実施の形態と同様に、平板ガラス２１６の回
転によって、感光体ドラム２１４上の２ビーム間隔を変
化させ、図１１（Ｂ）に示すように１ライン以下の精度
で調整することができる。

【００９５】このように、第２の実施の形態では、分割
走査方式の光走査装置において、光ビームＬＢＣ、ＬＢ
Ｄのつなぎ目の副走査位置を１ライン以下の高精度で接
続することができる。

【００９６】また、感光体ドラム２１４、及び位置検出
を行なうセンサ（ＳＯＳセンサ２２０ａ、ＥＯＳセンサ
２２０ｂ）と、副走査方向の位置調整を行なう平板ガラ
ス２１６との間に、主、及び副走査方向にパワーを持つ
光学部材が介在しないので、簡単な構成で容易に副走査
位置の調整ができる。

【００９７】ところで、副走査位置の調整量が多量にな
ると、平板ガラスの厚さや入射角度の調整量が増大し、
走査線の湾曲やビーム径の悪化などが生じる恐れがあ
る。このため、多量の調整が必要なことが想定される場
合は、１ライン単位で副走査位置を調整する機構を付加
してもよい。

【００９８】１ライン単位での副走査方向の調整は、例
えば、図１２に示されているように、レーザダイオード
２０２ａにより露光形成される画像データを複数ライン
分格納するギャップメモリ３４６ａと、レーザダイオー
ド２０２ｂにより露光形成される画像データを複数ライ
ン分格納するギャップメモリ３４６ｂを設け、副走査方
向の走査位置ずれに応じて、露光走査時にギャップメモ
リ３４６ａ、ｂの読出位置をライン単位で互いに独立に
変更することで行なう、従来技術を用いることが考えら
れる（特開平１０−２３２３５７号公報参照）。

【００９９】これにより、単独で調整するときよりも、
両者の調整量を半減することが可能である。すなわち、
平板ガラスの厚さや入射角度の増大を防ぎ、且つ従来の
１ライン単位の調整に必要であったイメージメモリの数
や容量を減らすことができ、より安価に実現することが
可能となる。

【０１００】なお、上記第２の実施の形態では、平板ガ
ラス２１６を回転させることによって、副走査位置の調
整を行なったが、本発明はこれに限定されるものではな
い。光ビームＬＢＣ、ＬＢＤの入射角度または透過する
厚さを変化させ、副走査位置を変化させることができれ
ば、如何なる透過部材および移動機構でもよい。例え
ば、第１の実施の形態でも述べたように、楔型のガラス
板を副走査方向移動させて、副走査位置の調整を行なっ
てもよい。

【０１０１】また、主走査方向の書き出し位置の光ビー
ムＬＢＣと、書き終わり位置の光ビームＬＢＤを検知し
て、光ビームＬＢＣ、ＬＢＤの走査位置を検出したが、
本発明はこれに限定されるものではない。例えば、光ビ
ームＬＢＣ、ＬＢＤにより互いに重なり合って露光走査
されるオーバラップ領域を設け、このオーバラップ領域
を走査する光ビームＬＢＣ、ＬＢＤを検知するようにし
てもよい。この場合、光ビームＬＢＣ、ＬＢＤのつなぎ
目、あるいはつなぎ目近傍の光ビームを用いて、走査位
置検出が行なわれるので、より高精度な副走査位置の調
整を行うことができる。

【０１０２】また、光ビームＬＢＣ、ＬＢＤの射出開始
タイミング図るために従来より設けられているＳＯＳセ
ンサ、ＥＯＳセンサを用いて、副走査位置を検出した
が、本発明はこれに限定されるものではない。別途、副
走査位置検出用の検知手段を設けてもよい。また、第１
の実施の形態と同様に、１ライン幅の整数倍間隔で遮光
部または受光部が設けられた検知手段（受光素子）によ
り、光ビームＬＢＣ、ＬＢＤの副走査位置の間隔が、ラ
イン幅の整数倍であるか否かを検出できるようにしても
よい。

【０１０３】また、上記第１の実施の形態、第２の実施
の形態では、透過部材にガラス（平行平板ガラス１１
４、２１６、ガラス柱１３０）を用いて、副走査位置の
補正を行なったが本発明はこれに限定されるものではな
く、光ビームを屈折させて透過するものであればよい。

【０１０４】また、複数の透過部材を組み合わせ、光ビ
ームが該複数の透過部材を透過するようにしてもよい。
さらに、複数の透過部材を設け、光ビームごとに透過さ
せる透過部材を異なるようにしてもよい。このように複
数の透過部材を用いる場合は、該複数の透過部材を一括
して移動するようにしてもよいし、独立に移動させても
よいし、固定のものと移動可能なものに分けてもよい。

【０１０５】また、回転多面鏡を用いた例を説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、ガルバノ
メータミラー等を用いるようにしてもよい。

【０１０６】また、同時走査方式の光走査装置と、分割
走査方式の光走査装置とに分けて説明したが、本発明は
これに限定されるものではなく、同時走査方式で、且つ
分割走査方式の光走査装置にも適用してもよい。

【０１０７】

【発明の効果】上記に示したように、本発明では、２ビ
ームの光走査装置に係り２ビームの相対的な間隔を調整
することができ、かつ分割走査方式の光走査装置におい
ては、被走査媒体上のつなぎ目部の副走査方向の走査線
位置を１ライン以下の精度で合わせることができ、安価
で容易な調整機構を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施の形態における同時走査方式の光
走査装置の概略構成図である。

【図２】第１の実施の形態における同時走査方式の光
走査装置の平板ガラス周辺の詳細構成図である。

【図３】受光素子の一例を示す図であり、（Ａ）は構
成図、（Ｂ）は出力信号を示す図である。

【図４】受光素子の一例を示す図であり、（Ａ）は構
成図、（Ｂ）は出力信号を示す図である。

【図５】受光素子の一例を示す図であり、（Ａ）は構
成図、（Ｂ）は出力信号を示す図である。

【図６】（Ａ）は副走査位置補正の原理を示す概念図
であり、（Ｂ）は本実施の形態における副走査補正の原
理を示す概念図である。

【図７】具体的な平板ガラスの回転による副走査間隔
の変動量を示す図であり、（Ａ）は光ビームＬＢＡの入
射角度αを２０°、光ビームＬＢＢの入射角度βを３５
°、平板ガラスの厚さｔを３ｍｍとした場合の変動量を
示し、（Ｂ）は光ビームＬＢＡの入射角度αを１５°、
光ビームＬＢＢの入射角度βを３５°、平板ガラスの厚
さｔを３ｍｍとした場合の変動量を示す。

【図８】平板ガラスの変わりに楔型のガラス柱を用い
た場合の（Ａ）は光走査装置の構成図を示し、（Ｂ）は
副走査位置補正の原理を示す概念図である。

【図９】第２の実施の形態における分割走査方式の光
走査装置の概略構成図である。

【図１０】第２の実施の形態におけるＳＯＳセンサ、
ＥＯＳセンサの一例を示す図であり、（Ａ）は走査ライ
ンがイニシャル状態、（Ｂ）は副走査方向と逆方向に移
動した状態、（Ｃ）は副走査方向に移動した場合の光ビ
ームの入射位置を示す。

【図１１】第２の実施の形態における副走査位置補正
を説明する図であり、（Ａ）は補正前、（Ｂ）は補正後
の副走査位置を示す。

【図１２】１ライン単位での副走査位置補正方法の一
例を示す図である。

【図１３】従来の１光ビームによる光走査装置の概略
構成図である。

【図１４】従来の複数光ビームによる光走査装置（同
時走査方式）の概略構成図である。

【図１５】従来の同時走査方式の光走査装置における
副走査位置補正を説明する図である。

【図１６】従来の複数光ビームによる光走査装置（分
割走査方式）の概略構成図である。

【符号の説明】

１００光走査装置（同時走査方式）１０２ａ、１０２ｂレーザダイオード１０６回転多面鏡１０８感光体ドラム１１４平板ガラス１１８受光素子１２０調整ねじ１２６マスク１２８受光部１３０ガラス柱２００光走査装置（分割走査方式）２０２ａ、２０２ｂレーザダイオード２１０回転多面鏡２１４感光体ドラム２１６平板ガラス２２０ａＳＯＳセンサ２２０ｂＥＯＳセンサ３４６ａ、３４６ｂギャップメモリ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の光ビームにより被走査面上を走査
する光走査装置において、主走査方向および副走査方向にパワーを持つ光学部材よ
りも前記光ビームの進行方向下流側に配置され、前記複
数の光ビームが互いに異なる入射角度で入射する透過部
材と、前記透過部材を移動させ、前記入射角度、或いは透過経
路長を変更することにより、前記複数の光ビームの副走
査位置を補正する補正手段と、を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項２】前記透過部材が、平板ガラスであり、前記補正手段が、主走査方向を回転軸にして前記平板ガ
ラスを回転させて前記複数の光ビームの副走査位置を補
正する、ことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】前記透過部材が、断面形状が楔型のガラ
ス板であり、前記補正手段が、前記ガラス板を副走査方向に移動して
前記複数の光ビームの副走査位置を補正する、ことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項４】前記補正手段が、前記被走査面上におけ
る前記複数の光ビーム間の副走査間隔が１走査ライン幅
の整数倍になるように、前記複数の光ビームの副走査位
置を補正する、ことを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に
記載の光走査装置。
【請求項５】前記補正手段が、前記透過部材から透過
した光ビームの一部を検知して、前記被走査面上と同等
となる位置で副走査位置を検出する検出手段を有し、前記検出手段による検出結果に基づいて、前記複数の光
ビームの副走査位置を補正する、ことを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１項に
記載の光走査装置。
【請求項６】前記検出手段が、１走査ライン幅の整数
倍の間隔で、遮光部又は受光部が設けられている、ことを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項７】前記複数の光ビームが被走査面上の１本
の走査ラインを分割して走査する、ことを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか１項に
記載の光走査装置。