JP2000236060A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2000236060A
JP2000236060A JP11036675A JP3667599A JP2000236060A JP 2000236060 A JP2000236060 A JP 2000236060A JP 11036675 A JP11036675 A JP 11036675A JP 3667599 A JP3667599 A JP 3667599A JP 2000236060 A JP2000236060 A JP 2000236060A
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Japan
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die pad
semiconductor device
lead
sealing
sealing resin
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Japanese (ja)
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Kenichi Ito
健一 伊東
Shuichi Ogata
秀一 尾方
Toshiyuki Fukuda
敏行 福田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device, having improved contact strength between a die pad and sealing resin and improved resistance to moisture. SOLUTION: A lead frame is fabricated, such that a plurality of protrusions 9 are made on the side of a die pad 1 and that the protrusions 9 are bent to the side of the mounting surface where a semiconductor device 3 is mounted. Then, the semiconductor 3 is mounted on the mounting surface, the surface to be exposed of the die pad 1 is exposed, and then the semiconductor 3, the protrusions 9, inner leads (5a, 5b) are sealed with sealing resin 7. The protrusions 9 and their connected portions bite into the sealing resin 7 to increase the contact strength between the die pad 1 and the sealing resin 7, which reduces the deformation of the die pad 1, when the device is mounted and hence can keep good resistance to moisture, after the device has been mounted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、モータドライバ
用、音声増幅用などの発熱量の大きな半導体素子を搭載
するのに適応した半導体装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device adapted to mount a semiconductor element having a large amount of heat, such as a motor driver or a sound amplifier.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の電子機器の多機能化、小型・薄型
化に伴い、半導体装置においては、薄型で良好な放熱性
が要望されてきている。そこで、このような薄型の半導
体装置として、特開平9−199639号公報には、次
のようなものが提案されている。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become more multifunctional and smaller and thinner, semiconductor devices have been demanded to be thin and have good heat dissipation. Therefore, as such a thin semiconductor device, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-199639 proposes the following.

【0003】以下、従来の半導体装置について説明す
る。図12は、従来の半導体装置を示す図であり、図1
2(a)は半導体装置の要部断面図であり、図12
(b)はその背面図である。
Hereinafter, a conventional semiconductor device will be described. FIG. 12 is a diagram showing a conventional semiconductor device, and FIG.
FIG. 2A is a sectional view of a main part of the semiconductor device, and FIG.
(B) is a rear view thereof.

【0004】図12に示すように、従来の半導体装置
は、ダイパッド1に接着剤2を塗布して、その上に半導
体素子3を固着している。その半導体素子3には金属細
線4が接続され、ダイパッド1周辺にある複数本のイン
ナーリード5aとそれぞれ電気的に接続されている。各
インナーリード5aと一体的に連結された各アウターリ
ード6は封止樹脂体7から導出され、ダイパッド1,接
着剤2,半導体素子3,金属細線4およびインナーリー
ド5aは封止樹脂体7で封止されている。また、封止樹
脂体7は4辺形の平板状に成形されているとともに、ア
ウターリード6は封止樹脂体7の4辺からそれぞれ引き
出されている。そして、ダイパッド1の露出面(半導体
素子3を搭載した面と反対側の面)は封止樹脂体7から
露出している。
As shown in FIG. 12, in a conventional semiconductor device, an adhesive 2 is applied to a die pad 1 and a semiconductor element 3 is fixed thereon. A thin metal wire 4 is connected to the semiconductor element 3 and is electrically connected to a plurality of inner leads 5 a around the die pad 1. Each of the outer leads 6 integrally connected to each of the inner leads 5a is led out of the sealing resin body 7, and the die pad 1, the adhesive 2, the semiconductor element 3, the thin metal wire 4, and the inner leads 5a are connected by the sealing resin body 7. It is sealed. The sealing resin body 7 is formed in a quadrilateral flat plate shape, and the outer leads 6 are drawn out from four sides of the sealing resin body 7, respectively. The exposed surface of the die pad 1 (the surface opposite to the surface on which the semiconductor element 3 is mounted) is exposed from the sealing resin body 7.

【0005】この半導体装置は、通常は、封止樹脂体7
から露出したダイパッド1の露出面はプリント基板(図
示せず)に接するように実装される。発熱源である半導
体素子3を搭載したダイパッド1が封止樹脂体7より露
出されているため、外気に直接放熱することができ、高
い放熱性を保つことができる。
[0005] This semiconductor device usually has a sealing resin body 7.
The exposed surface of the die pad 1 exposed from the substrate is mounted so as to be in contact with a printed circuit board (not shown). Since the die pad 1 on which the semiconductor element 3 as a heat source is mounted is exposed from the sealing resin body 7, heat can be directly radiated to the outside air, and high heat radiation can be maintained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体装置は、ダイパッド1と封止樹脂体7との密着力
だけで耐湿性を確保しているので、プリント基板に半田
付けする時、封止樹脂体7内に貯まった湿気が急激な熱
膨張を起こし、ダイパッド1を変形させる。その為、ダ
イパッド1と封止樹脂体7との間に隙間が生じ易く、プ
リント基板に実装後の耐湿性を悪化しやすい。単に、プ
リント基板に接触させた状態よりも更に放熱性を高める
ために、ダイパッド1の露出面をプリント基板に半田付
けした場合、更に急激な湿気の熱膨張が起こり、ダイパ
ッド1が封止樹脂体7から剥離して、耐湿性を損なうと
いう問題があった。そのため、半導体装置単品の耐湿性
だけでなく、プリント基板に実装後の耐湿性を確保する
必要がある。
However, in the conventional semiconductor device, since the moisture resistance is secured only by the adhesive force between the die pad 1 and the sealing resin body 7, when the semiconductor device is soldered to a printed circuit board, the sealing is not performed. Moisture stored in the resin body 7 causes rapid thermal expansion and deforms the die pad 1. Therefore, a gap is easily formed between the die pad 1 and the sealing resin body 7, and the moisture resistance after mounting on the printed board is easily deteriorated. When the exposed surface of the die pad 1 is soldered to the printed circuit board in order to further enhance the heat radiation property compared to the state in which the die pad 1 is in contact with the printed circuit board, the heat expansion of the moisture occurs more rapidly, and the die pad 1 becomes a sealing resin body. 7 to deteriorate the moisture resistance. Therefore, it is necessary to ensure not only the moisture resistance of a single semiconductor device but also the moisture resistance after mounting on a printed circuit board.

【0007】また、ダイパッド1の裏面を封止金型(図
示せず)に押し当てて樹脂封止する際、樹脂を注入する
時の注入圧力によって、樹脂がダイパッド1と封止金型
との間に流れ出し、ダイパッド1の裏面側に薄バリが発
生する。この薄バリを放置すると、ダイパッド1の裏面
からの放熱を妨げるため、薬品やウォータージェットな
どで薄バリを除去する必要がある。しかし、上記の耐湿
性に問題があることから、薬品やウォータージェットな
どで薄バリを除去する際に、水分や薬品が封止樹脂体7
内部に浸透して、信頼性に支障を来すという問題があっ
た。
When the back surface of the die pad 1 is pressed against a sealing mold (not shown) to seal the resin, the resin is pressed between the die pad 1 and the sealing mold by an injection pressure at the time of injecting the resin. It flows out in between, and thin burrs are generated on the back surface side of the die pad 1. If this thin burr is left, heat radiation from the back surface of the die pad 1 is hindered, so it is necessary to remove the thin burr with a chemical or a water jet. However, since there is a problem in the above-mentioned moisture resistance, when removing thin burrs with a chemical or a water jet, the moisture or the chemical is not sealed.
There was a problem that it penetrated inside and hindered reliability.

【0008】本発明の目的は、従来の上記問題点を解決
するもので、プリント基板に実装後の耐湿性を確保でき
る放熱効果の高い半導体装置およびその製造方法を提供
することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to provide a semiconductor device having a high heat radiation effect capable of securing moisture resistance after being mounted on a printed circuit board, and a method of manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
長方形のダイパッド上に搭載された半導体素子と、前記
ダイパッドの側面に設けられ前記半導体素子の搭載面側
に屈曲した複数の突起部と、前記ダイパッドの短辺に設
けられ前記ダイパッドを支持する支持リードと、前記半
導体素子に金属細線でそれぞれ電気的に接続された複数
本のインナーリードと、各インナーリードにそれぞれ一
体的に連結された各アウターリードと、前記搭載面、前
記半導体素子、前記複数の突起部、前記金属細線、およ
び前記インナーリード群を樹脂封止する長方形の平板状
に成形された封止樹脂体とを備え、前記複数本のアウタ
ーリードを封止樹脂体の長辺からそれぞれ引き出し、前
記ダイパッドの露出面を前記封止樹脂体から露出させた
構成である。
According to the present invention, there is provided a semiconductor device comprising:
A semiconductor element mounted on a rectangular die pad; a plurality of protrusions provided on side surfaces of the die pad and bent toward a mounting surface of the semiconductor element; and support leads provided on short sides of the die pad to support the die pad A plurality of inner leads each electrically connected to the semiconductor element by a thin metal wire, each outer lead integrally connected to each inner lead, the mounting surface, the semiconductor element, the plurality of A sealing resin body formed into a rectangular flat plate for resin-sealing the projections, the thin metal wires, and the inner lead group, and pulling out the plurality of outer leads from long sides of the sealing resin body, respectively. And an exposed surface of the die pad is exposed from the sealing resin body.

【0010】この構成により、半導体素子を搭載したダ
イパッドの露出部から直接外部に放熱されるため、放熱
効果が極めて良い。また、ダイパッドの側面に複数の突
起部を設けているため、封止樹脂体との噛み合いが良く
密着性が改善される。また、封止樹脂体内に蓄積された
湿気が半田付け時に熱膨張する際には、ほど良い通気性
があって蒸気を逃がすことから、ダイパッドの変形が少
なくなり、ダイパッドが封止樹脂体から剥離することを
防止できる。
With this configuration, heat is directly radiated to the outside from the exposed portion of the die pad on which the semiconductor element is mounted, so that the heat radiation effect is extremely good. Further, since a plurality of protrusions are provided on the side surface of the die pad, the engagement with the sealing resin body is good, and the adhesion is improved. Also, when the moisture accumulated in the sealing resin expands thermally during soldering, it has moderate air permeability and escapes vapor, so the deformation of the die pad is reduced, and the die pad separates from the sealing resin. Can be prevented.

【0011】更に、ダイパッド側面に設けられた複数の
突起部の先端をT字型にすると、封止樹脂体と突起部と
の噛み合いが更に良くなり、密着性が更に改善される。
また、隣同士の突起部を先端で互いに連結すると、封止
樹脂体との噛み合いが更に良くなる。
Further, when the tips of the plurality of projections provided on the side surfaces of the die pad are formed in a T-shape, the engagement between the sealing resin body and the projections is further improved, and the adhesion is further improved.
Further, when the adjacent protrusions are connected to each other at the tip, the engagement with the sealing resin body is further improved.

【0012】また、ダイパッドの裏面の周縁に沿ってリ
ング状の溝を設けると、樹脂封止時に、封止金型とダイ
パッドの露出面との間に樹脂が回り込むのを溝で防止
し、ダイパッドの露出面にできる薄バリの大きさを制約
することができる。このリング状の溝を二重に設ける
と、より確実に薄バリを防止できる。
When a ring-shaped groove is provided along the periphery of the back surface of the die pad, the resin prevents the resin from flowing around between the sealing die and the exposed surface of the die pad during resin sealing. The size of the thin burrs formed on the exposed surface can be restricted. When the ring-shaped groove is provided twice, thin burrs can be more reliably prevented.

【0013】また、ダイパッドの長辺とインナーリード
を接続した第2の支持リードが前記ダイパッドの長辺に
付加されると、樹脂封止する際の封止金型への押さえ圧
力を強くする一方、ダイパッドの面方向の変形が少なく
なり、薄バリの発生が少なくなるだけでなく、この半導
体装置を実装する際には、ダイパッドに接続されたイン
ナーリードとダイパッドの露出面の双方からの放熱が可
能になり、半田付けし難いダイパッド露出面を半田付け
しなくてもかなりの放熱効果が期待できる。
Further, when a second support lead connecting the long side of the die pad and the inner lead is added to the long side of the die pad, the pressing pressure on the sealing mold during resin sealing is increased. In addition, the deformation of the die pad in the surface direction is reduced, and not only the occurrence of thin burrs is reduced, but also when mounting this semiconductor device, heat is radiated from both the inner leads connected to the die pad and the exposed surface of the die pad. This makes it possible to expect a considerable heat dissipation effect without soldering the exposed surface of the die pad, which is difficult to solder.

【0014】それに加えて、第1または第2の支持リー
ドの幅をインナーリード幅の2倍以上に広くすると、樹
脂封止時の押さえ圧力が強くなり、ダイパッドの露出面
にできる薄バリを小さくできる。
In addition, when the width of the first or second support lead is set to be twice or more the width of the inner lead, the pressing pressure at the time of resin sealing is increased, and the thin burr formed on the exposed surface of the die pad is reduced. it can.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明による半導体装置の
実施形態について説明する。図1は第1の実施形態の半
導体装置に用いるリードフレームを示す平面図であり、
封止樹脂体の形状を破線で示している。また、図2は第
1の実施形態による半導体装置を説明するための図であ
り、図2(a)は半導体装置の要部断面構造を示す断面
図、図2(b)は長手方向の断面図であり、図2(c)
は背面図である。
Embodiments of a semiconductor device according to the present invention will be described below. FIG. 1 is a plan view showing a lead frame used in the semiconductor device of the first embodiment,
The shape of the sealing resin body is indicated by a broken line. 2A and 2B are views for explaining the semiconductor device according to the first embodiment. FIG. 2A is a cross-sectional view showing a main part cross-sectional structure of the semiconductor device, and FIG. FIG. 2C
Is a rear view.

【0016】図1および図2に示すように、第1の実施
形態による半導体装置は、ダイパッド1に接着剤2を塗
布して、その上に半導体素子3を固着している。その半
導体素子3には金属細線4が接続され、ダイパッド1周
辺にある複数本のインナーリード5aとそれぞれ電気的
に接続されている。各インナーリード5aと一体的に連
結された各アウターリード6は封止樹脂体7から導出さ
れ、ダイパッド1,接着剤2,半導体素子3,金属細線
4およびインナーリード5aは封止樹脂体7で封止され
ている。また、封止樹脂体7は平面形状が略長方形とな
るように成形されているとともに、アウターリード6は
封止樹脂体7の各長辺からそれぞれ引き出されている。
そして、ダイパッド1の露出面は封止樹脂体7から露出
されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, in the semiconductor device according to the first embodiment, an adhesive 2 is applied to a die pad 1 and a semiconductor element 3 is fixed thereon. A thin metal wire 4 is connected to the semiconductor element 3 and is electrically connected to a plurality of inner leads 5 a around the die pad 1. Each of the outer leads 6 integrally connected to each of the inner leads 5a is led out of the sealing resin body 7, and the die pad 1, the adhesive 2, the semiconductor element 3, the thin metal wire 4, and the inner leads 5a are connected by the sealing resin body 7. It is sealed. The sealing resin body 7 is formed so as to have a substantially rectangular planar shape, and the outer leads 6 are drawn out from the respective long sides of the sealing resin body 7.
The exposed surface of the die pad 1 is exposed from the sealing resin body 7.

【0017】平面形状が略長方形のダイパッド1の各短
辺には、それぞれインナーリード5aのリード幅の2倍
以上の幅広になる支持リード10が連結されている。そ
の支持リード10は、1枚の金属板を型抜きしてリード
フレームに成形した後、リードフレームが単独の時でも
ダイパッド1を支持して周辺のインナーリード5a等と
共に一体化した状態を維持するものであるが、その他の
機能もある。支持リード10は、ダイパッド1から離れ
た箇所はインナーリード5aの高さと同じ高さになって
おり、ダイパッド1に近い2カ所で屈曲させてあり、ダ
イパッド1をインナーリード5aより低い位置に固定し
ている。言い換えるとダウンセットしている。これは、
封止樹脂体7の成形時に樹脂封止金型(図示せず)の底
部にダイパッド1を押さえ付ける力をダイパッド1に与
えるためにも使われる。
Each of the short sides of the die pad 1 having a substantially rectangular planar shape is connected to a support lead 10 having a width which is at least twice the lead width of the inner lead 5a. After the support lead 10 has been punched out of a single metal plate and formed into a lead frame, the support lead 10 supports the die pad 1 and maintains an integrated state with the peripheral inner leads 5a and the like even when the lead frame is used alone. Although there are other features. The support lead 10 is located at a position separated from the die pad 1 at the same height as the inner lead 5a, and is bent at two positions close to the die pad 1 to fix the die pad 1 at a position lower than the inner lead 5a. ing. In other words, it is downset. this is,
It is also used to apply a force to the die pad 1 to press the die pad 1 against the bottom of the resin sealing mold (not shown) when molding the sealing resin body 7.

【0018】なお、支持リード10のリード幅は、小信
号用の半導体装置を製作する場合には0.3mm〜0.
6mmのものを使用すれば良いし、大電力用の半導体装
置を製作する場合には、支持リード10を放熱器に連結
させる構成も考えられるが、この場合は必要に応じて更
に幅広くすれば良い。
The lead width of the support lead 10 may be 0.3 mm to 0.3 mm when a semiconductor device for small signals is manufactured.
6 mm may be used, and when manufacturing a high power semiconductor device, a configuration in which the support lead 10 is connected to a radiator is also conceivable, but in this case, the width may be further increased as necessary. .

【0019】ダイパッド1の各側面には、先端がT字型
に形成された複数の突起部8を有し、かつ、突起部8は
半導体素子3の搭載面側に屈曲されている。その突起部
8は、封止樹脂体7に埋設されるので、封止樹脂体7と
の噛み合いが良く、ダイパッド1と封止樹脂体7との密
着性を向上し、半導体装置の耐湿性を確保できる。その
一方で、封止樹脂体7内に蓄積した湿気が半田付け時に
熱膨張する際には、複数の突起部8同士の間にほど良い
通気性があり、内部の蒸気を容易に逃がすことができ、
ダイパッド1の変形を小さくして、実装後の耐湿性を改
善できる。
Each side surface of the die pad 1 has a plurality of protrusions 8 each having a T-shaped tip, and the protrusions 8 are bent toward the mounting surface of the semiconductor element 3. Since the projections 8 are buried in the sealing resin body 7, the engagement with the sealing resin body 7 is good, the adhesion between the die pad 1 and the sealing resin body 7 is improved, and the moisture resistance of the semiconductor device is improved. Can be secured. On the other hand, when the moisture accumulated in the sealing resin body 7 thermally expands at the time of soldering, there is a good air permeability between the plurality of projections 8 and the vapor inside can be easily released. Can,
The deformation of the die pad 1 can be reduced, and the moisture resistance after mounting can be improved.

【0020】また、ダイパッド1の半導体素子3搭載面
と反対側の露出面には、リング状の溝16を形成してい
る。この溝16によって、樹脂封止時の樹脂注入圧力を
逃がすと共に、樹脂の流れをせき止めることができ、薄
バリを一定の範囲内に抑えることができる。従って、露
出面の実効的な面積を確実に確保でき、露出面の半田付
けを可能にして、さらに高い放熱効果を高めることがで
きる。
A ring-shaped groove 16 is formed on the exposed surface of the die pad 1 opposite to the surface on which the semiconductor element 3 is mounted. The groove 16 allows the resin injection pressure at the time of resin sealing to be released, and at the same time, restricts the flow of the resin, so that thin burrs can be suppressed within a certain range. Therefore, the effective area of the exposed surface can be reliably ensured, the exposed surface can be soldered, and the higher heat radiation effect can be enhanced.

【0021】次に、第2の実施形態による半導体装置に
ついて、図3を用いて説明する。図3は第2の実施形態
による半導体装置を説明するための図であり、図3
(a)は第2の実施形態に用いるリードフレームの平面
図であり、図中の破線は樹脂封止体の形状を示してお
り、図3(b)は半導体装置の要部断面図である。
Next, the semiconductor device according to the second embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram for explaining the semiconductor device according to the second embodiment.
FIG. 3A is a plan view of a lead frame used in the second embodiment, in which a broken line indicates a shape of a resin sealing body, and FIG. 3B is a cross-sectional view of a main part of a semiconductor device. .

【0022】図3に示すように、第2の実施形態による
半導体装置は、ダイパッド1に接着剤2を塗布して、そ
の上に半導体素子3を固着している。その半導体素子3
には金属細線4が接続され、ダイパッド1周辺にある複
数本のインナーリード5aとそれぞれ電気的に接続され
ている。各インナーリード5aと一体的に連結された各
アウターリード6は封止樹脂体7から導出され、ダイパ
ッド1,接着剤2,半導体素子3,金属細線4およびイ
ンナーリード5aは封止樹脂体7で封止されている。ま
た、封止樹脂体7は平面形状が略長方形となるように成
形されているとともに、アウターリード6は封止樹脂体
7の各長辺からそれぞれ引き出されている。そして、ダ
イパッド1の露出面は封止樹脂体7から露出されてい
る。
As shown in FIG. 3, in the semiconductor device according to the second embodiment, an adhesive 2 is applied to a die pad 1 and a semiconductor element 3 is fixed thereon. The semiconductor element 3
Is connected to a plurality of inner leads 5 a around the die pad 1. Each of the outer leads 6 integrally connected to each of the inner leads 5a is led out of the sealing resin body 7, and the die pad 1, the adhesive 2, the semiconductor element 3, the thin metal wire 4, and the inner leads 5a are connected by the sealing resin body 7. It is sealed. The sealing resin body 7 is formed so as to have a substantially rectangular planar shape, and the outer leads 6 are drawn out from the respective long sides of the sealing resin body 7. The exposed surface of the die pad 1 is exposed from the sealing resin body 7.

【0023】平面形状が略長方形のダイパッド1の各短
辺に連結された支持リード10は、リドフレームを一体
成形した後でも一体化した状態を維持するために、ダイ
パッド1を支持するものであるが、ダイパッド1に近い
2カ所を屈曲させて、ダイパッド1をインナーリード5
aより低い位置にダウンセットしている。このような構
成のアウターリード6及び支持リード10を樹脂封止金
型に型締めすると、支持リード10の剛性力によって、
ダイパッド1は樹脂封止金型(図示せず)の底部に押し
付けることができる。
The support leads 10 connected to each short side of the die pad 1 having a substantially rectangular planar shape support the die pad 1 so as to maintain the integrated state even after the lid frame is integrally formed. However, the two portions close to the die pad 1 are bent so that the die pad 1
It is down set to a position lower than a. When the outer lead 6 and the support lead 10 having such a configuration are clamped to a resin sealing mold, the rigidity of the support lead 10 causes
The die pad 1 can be pressed against the bottom of a resin sealing mold (not shown).

【0024】ダイパッド1の各側面には、複数の突起部
9を有し、それら複数の突起部9の間には突起部9の先
端を連結する部分(連結部分)を有しており、その突起
部9は半導体素子3の搭載面側に屈曲されている。その
複数の突起部9およびそれらの連結部分は、封止樹脂体
7に埋設されるので、上記第1の実施形態よりも封止樹
脂体7との噛み合いが良く、ダイパッド1と封止樹脂体
7との密着性をより向上させ、より良い耐湿性を確保す
ることができる。しかも、その連結部分とダイパッド1
との間にダイパッド1の周縁に沿ったスリット状の穴が
存在することになり、封止樹脂体7内に蓄積した湿気が
半田付け時に熱膨張する際には、そのスリット状の穴が
ほど良い通気性を確保して、内部の蒸気を容易に逃がす
ことができ、ダイパッド1の変形を小さくして、実装後
の耐湿性を改善できる。
Each side surface of the die pad 1 has a plurality of projections 9, and between the plurality of projections 9, a portion (connection portion) for connecting the tip of the projection 9 is provided. The protrusion 9 is bent toward the mounting surface of the semiconductor element 3. Since the plurality of projections 9 and their connection portions are embedded in the sealing resin body 7, the engagement with the sealing resin body 7 is better than in the first embodiment, and the die pad 1 and the sealing resin body 7 can be further improved, and better moisture resistance can be secured. Moreover, the connection portion and the die pad 1
When the moisture accumulated in the sealing resin body 7 thermally expands during soldering, the slit-shaped hole is Good air permeability can be ensured, the internal vapor can be easily released, the deformation of the die pad 1 can be reduced, and the moisture resistance after mounting can be improved.

【0025】また、ダイパッド1の半導体素子3搭載面
と反対側の露出面には、リング状の溝16を形成してい
る。この溝16によって、樹脂封止時の樹脂注入圧力を
逃がすと共に、樹脂の流れをせき止めることができ、薄
バリを一定の範囲内に抑えることができる。従って、露
出面の実効的な面積を確実に確保でき、露出面の半田付
けを可能にして、さらに高い放熱効果を高めることがで
きる。
A ring-shaped groove 16 is formed on the exposed surface of the die pad 1 opposite to the surface on which the semiconductor element 3 is mounted. The groove 16 allows the resin injection pressure at the time of resin sealing to be released, and at the same time, restricts the flow of the resin, so that thin burrs can be suppressed within a certain range. Therefore, the effective area of the exposed surface can be reliably ensured, the exposed surface can be soldered, and the higher heat radiation effect can be enhanced.

【0026】次に、第3の実施形態による半導体装置に
ついて図4を用いて説明する。図4は第3の実施形態に
よる半導体装置を説明するための図であり、図4(a)
は第3の実施形態に用いるリードフレームの平面図であ
り、図中の破線は封止樹脂体の形状を示しており、図4
(b)は要部断面図である。
Next, the semiconductor device according to the third embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 4 is a diagram for explaining the semiconductor device according to the third embodiment, and FIG.
FIG. 4 is a plan view of a lead frame used in the third embodiment, and a broken line in the figure indicates a shape of a sealing resin body;
(B) is a sectional view of a main part.

【0027】図4に示す第3の実施形態は、前述の第2
の実施形態と殆ど変わらないので、第2の実施形態との
相違点を中心に説明する。
The third embodiment shown in FIG.
Since this embodiment is almost the same as the second embodiment, a description will be given focusing on differences from the second embodiment.

【0028】ダイパッド1を支持する支持リード(短辺
に設けられた第1の支持リード)10以外に、ダイパッ
ド1の長辺の中央部近傍に在るインナーリード5aをダ
イパッド1に接続して、インナーリード5aを支持リー
ド(第2の支持リード)として機能させることができ
る。このような構成にすると、ダイパッド1が四方から
支持されるため、ダイパッド1の形状が変形したり、取
り付け方向が変わったりし難くなり、ダイパッド1を封
止金型に押し付ける際の力の配分が均一になって、安定
に押し付けることができる。また、支持リード(10及
び5a)による四方からの押し付けによって、ダイパッ
ド1を封止金型に押し付ける力が強めることもでき、こ
れらの相乗効果によって、ダイパッド1の露出面にでき
易い封止樹脂の薄バリを更に少なくできる。なお、ダイ
パッド1の露出面を半田付けすると、放熱効果が良くな
ることは前述したが、露出面は配線基板に密着して実装
されるのが一般的であり、露出面の周囲が封止樹脂で囲
まれているため、半田付けすることが困難であるが、露
出面を無理に直接半田付けしなくても、半田付けをした
アウターリードと、それに連設されたインナーリード5
aとを通じて、ダイパッド1の熱を放熱することがで
き、ダイパッド1の露出面を直接半田付けした場合に及
ばないもののかなりの放熱効果を期待できる。
In addition to a support lead (first support lead provided on the short side) 10 for supporting the die pad 1, an inner lead 5a near the center of the long side of the die pad 1 is connected to the die pad 1. The inner lead 5a can function as a support lead (second support lead). With such a configuration, since the die pad 1 is supported from all sides, it is difficult for the shape of the die pad 1 to be deformed or the mounting direction to be changed, and the distribution of force when the die pad 1 is pressed against the sealing mold is reduced. It becomes uniform and can be stably pressed. Further, the pressing force of the die pad 1 against the sealing die can be increased by pressing the support leads (10 and 5a) from all sides, and the synergistic effect of these forces makes it possible to form the sealing resin on the exposed surface of the die pad 1 easily. Thin burrs can be further reduced. As described above, when the exposed surface of the die pad 1 is soldered, the heat radiation effect is improved. However, the exposed surface is generally mounted in close contact with the wiring board. Although it is difficult to perform soldering because of the surrounding area, the soldered outer lead and the inner lead 5 connected thereto can be used without forcing the exposed surface directly.
a, the heat of the die pad 1 can be dissipated, and a considerable heat dissipating effect can be expected, though not as good as when the exposed surface of the die pad 1 is directly soldered.

【0029】なお、インナーリード5bを支持リードと
して活用する場合には、ダイパッド1に連結するインナ
ーリード5bのリード幅をその他のインナーリード5a
のリード幅の2倍〜5倍にして、本来の支持リード10
の幅を細くしても良いし、インナーリード5bと支持リ
ード10の両方を幅広にしても良い。
When the inner lead 5b is used as a support lead, the width of the inner lead 5b connected to the die pad 1 is changed to other inner leads 5a.
2 to 5 times the lead width of the original support lead 10
May be made narrower, or both the inner lead 5b and the support lead 10 may be made wider.

【0030】次に、図4に図示した半導体装置を製造す
る方法を一例にして、第4の実施形態としての半導体装
置の製造方法を、図5〜図10に基づいて説明する。
Next, a method of manufacturing a semiconductor device according to a fourth embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 10, using a method of manufacturing the semiconductor device shown in FIG. 4 as an example.

【0031】図5は、半導体装置の製造に使用するリー
ドフレームを示す構成図であり、図5(a)はリードフ
レームの平面図、図5(b)は要部断面図であり、
(c)は長手方向の断面図である。
FIG. 5 is a configuration diagram showing a lead frame used for manufacturing a semiconductor device. FIG. 5A is a plan view of the lead frame, FIG.
(C) is a longitudinal sectional view.

【0032】リードフレームの素材としては、熱伝導が
良好で比較的機械強度の大きい鉄、鉄合金、銅または銅
合金の薄板を使用する。そして、図5に示すように、そ
の薄板をエッチング加工あるいはプレス加工により、ダ
イパッド1、インナーリード5a、インナーリード5
b、アウターリード6、ダイパッド1の4つの側面に先
端を連結した複数の突起部9、支持リード10、ダムバ
ー11、外枠12、内枠13及び、ガイド孔14を一体
成形する。図5に示すリードフレーム15は、外枠によ
って多連に構成されているリードフレーム15の一単位
を図示したものである。
As the material of the lead frame, a thin plate of iron, iron alloy, copper or copper alloy having good heat conductivity and relatively high mechanical strength is used. Then, as shown in FIG. 5, the die plate 1, the inner lead 5a, and the inner lead 5 are formed by etching or pressing the thin plate.
b, a plurality of protrusions 9 having tips connected to four side surfaces of the outer lead 6 and the die pad 1, a support lead 10, a dam bar 11, an outer frame 12, an inner frame 13, and a guide hole 14 are integrally formed. The lead frame 15 shown in FIG. 5 illustrates one unit of the lead frame 15 that is formed in multiples by an outer frame.

【0033】リードフレーム15の表面のワイヤーボン
ディング領域(図示せず)にAgめっき、あるいは全体
にNi,Pd,Auの3層めっきを施す。この場合、最
外層にAuフラッシュを施すことで、Agめっきを施し
たものより封止樹脂との密着性が向上し、良好な耐湿性
を得ることができる。また、樹脂封止前に外装めっきが
施されているので、樹脂封止時のダイパッド露出部に薄
バリが発生しても、外装めっきの障害という問題が発生
しないので、Ni,Pd,Auの3層めっきを施すこと
が望ましい。
The wire bonding area (not shown) on the surface of the lead frame 15 is plated with Ag or the whole is plated with three layers of Ni, Pd and Au. In this case, by applying the Au flash to the outermost layer, the adhesion to the sealing resin is improved as compared with the case where the Ag plating is applied, and good moisture resistance can be obtained. Further, since the outer plating is applied before the resin sealing, even if a thin burr is generated on the exposed portion of the die pad at the time of the resin sealing, the problem of the obstacle of the outer plating does not occur, so that Ni, Pd, Au can be used. It is desirable to apply three-layer plating.

【0034】次に、樹脂封止時にダイパッド1の露出面
に発生する樹脂の薄バリをせき止めるために、ダイパッ
ド1の半導体素子3の搭載面と反対側になる露出面にリ
ング状の溝16を形成する。
Next, a ring-shaped groove 16 is formed in the exposed surface of the die pad 1 opposite to the surface on which the semiconductor element 3 is mounted, in order to suppress thin burrs of the resin generated on the exposed surface of the die pad 1 during resin sealing. Form.

【0035】この際、溝16の切削加工により、リード
フレーム材料が伸びるため、ダイパッド1の溝16より
外側の部分が半導体素子3搭載面側に数〜数十μm反り
上がってしまうことがある。この場合は、ダイパッド1
の半導体素子3の搭載面側にも溝16とほぼ同じ形の溝
(図示せず)を施すことで、材料の伸びを相殺し、反り
上がりを防止することができる。ダイパッド1の搭載面
側に設ける溝(図示せず)は、溝16のように薄バリを
せき止めるためのものではないので、リング状に閉じな
くても良い。
At this time, since the lead frame material is elongated by the cutting of the groove 16, the portion of the die pad 1 outside the groove 16 may be warped by several to several tens μm toward the semiconductor element 3 mounting surface. In this case, die pad 1
By providing a groove (not shown) having substantially the same shape as the groove 16 also on the mounting surface side of the semiconductor element 3, the elongation of the material can be canceled and the warpage can be prevented. The groove (not shown) provided on the mounting surface side of the die pad 1 does not need to be closed in a ring shape because it is not for damping thin burrs unlike the groove 16.

【0036】また、薄バリは樹脂が注入される部分に多
く発生し易い。これは、ダイパッドを封止金型に押さえ
付ける充填圧力が加わる前に、封止樹脂がダイパッド1
と封止金型との間に回り込んでしまうためである。この
場合、少なくとも封止樹脂が注入される方向に合致した
ダイパッド1の部分に溝を2重に形成することで、薄バ
リをせき止めることができる。
Further, thin burrs are likely to occur in a portion where the resin is injected. This is because the sealing resin is applied to the die pad 1 before the filling pressure for pressing the die pad against the sealing mold is applied.
This is because the wraparound occurs between the mold and the sealing mold. In this case, by forming a double groove at least in the portion of the die pad 1 that matches the direction in which the sealing resin is injected, thin burrs can be dammed.

【0037】次に、支持リード10のダイパッド1に近
い2箇所を折り曲げて、ダイパッド1をインナーリード
5aより低い位置にダウンセットさせるダウンセット加
工と、ダイパッド1の4つの側面に設けられた互いの先
端が連結された突起部9を半導体素子3の搭載面側に折
り曲げる突起部折り曲げ加工とを行う。
Next, two portions of the support lead 10 near the die pad 1 are bent to down-set the die pad 1 to a position lower than the inner lead 5a, and to each other provided on four side surfaces of the die pad 1. A projection bending process is performed to bend the projection 9 to which the tip is connected to the mounting surface side of the semiconductor element 3.

【0038】このようなダウンセット加工を行う際、屈
曲用金型を1回だけ用いて行うのではなく、2つの折り
曲げ箇所のちょうど中間位置で第1段階の屈曲成形を行
い、第2段階では、第1段階で折り曲げた箇所を直線状
に戻す成形を行いながら、最終的な所定の折り曲げ箇所
で折り曲げ加工を行う。これは、折り曲げ加工の箇所で
は金属を引き延ばす応力が加えられるため、1回の折り
曲げ加工で一気にダウンセットすると、金属疲労が大き
くなり、支持リード10の屈曲部に亀裂が生じることか
ら、第1段階と第2段階とに分けて、異なる位置を折り
曲げ成形することによって、支持リード10の金属疲労
を低減している。
When performing such a downset process, the first stage of bending is performed at a position exactly intermediate between the two bent portions, instead of using the bending mold only once. Then, the bending process is performed at the final predetermined bent portion while performing the forming to return the bent portion in the first stage to a linear shape. This is because a stress that stretches the metal is applied at the bending process, so that if the bending process is performed at once, the metal fatigue increases and a crack occurs at the bent portion of the support lead 10. The metal fatigue of the support lead 10 is reduced by bending and bending different positions in the second step and the second step.

【0039】一例として、樹脂封止体の厚みが約1m
m、平面形状が約6mm×17mmの面実装パッケージ
を0.15mm厚の銅合金板で作製する事例を説明す
る。この場合、ダイパッド1の平面形状は約3mm×6
mm、複数の突起部9は長さ0.5mm程度で半導体素
子3の搭載面側に45度程度の角度で折り曲げる。折り
曲げた突起部9の先端は、金属細線に接触しないよう
に、インナーリード5aよりも下に位置するように成形
される。支持リード10を折り曲げてダイパッド1をイ
ンナーリード5aの位置より低く設定(ダウンセット)
するが、そのダウンセット量(ダイパッド1とインナー
リード5aとの段差)は0.47mm程度に設定する。
結果として、封止金型による位置規制が無ければ封止金
型の底部よりダイパッド1の位置が0.02〜0.2m
mの範囲で下がるように、ダウンセット量を設定する。
また、ダイパッド1の溝16の深さは0.01mm程度
であれば、リードフレームを工程内で移動させる場合に
ひっかかりが生じるような問題は発生しない。
As an example, the thickness of the resin sealing body is about 1 m
An example in which a surface mount package having a plane shape of about 6 mm × 17 mm with a 0.15 mm thick copper alloy plate will be described. In this case, the plane shape of the die pad 1 is about 3 mm × 6.
mm, the plurality of protrusions 9 are about 0.5 mm in length, and are bent at an angle of about 45 degrees toward the mounting surface side of the semiconductor element 3. The tip of the bent projection 9 is formed so as to be located below the inner lead 5a so as not to contact the thin metal wire. The support lead 10 is bent so that the die pad 1 is set lower than the position of the inner lead 5a (down set).
However, the downset amount (the step between the die pad 1 and the inner lead 5a) is set to about 0.47 mm.
As a result, if the position is not regulated by the sealing die, the position of the die pad 1 is 0.02 to 0.2 m from the bottom of the sealing die.
The downset amount is set so as to fall within the range of m.
If the depth of the groove 16 of the die pad 1 is about 0.01 mm, there is no problem that the lead frame is caught when the lead frame is moved in the process.

【0040】このように構成されている多連リードフレ
ーム15は、半導体素子3をダイパッド1に固着する半
導体素子ボンディング工程および、半導体素子3とイン
ナーリード5aを電気的に接続するワイヤーボンディン
グ工程が、各単位リードフレーム毎に実施される。これ
らのボンディング作業は横方向にピッチ送りされること
により、各単位当たりのリードフレーム毎に順次実施さ
れる。
In the multiple lead frame 15 thus configured, the semiconductor element bonding step of fixing the semiconductor element 3 to the die pad 1 and the wire bonding step of electrically connecting the semiconductor element 3 and the inner lead 5a are performed by: This is performed for each unit lead frame. These bonding operations are sequentially performed for each lead frame per unit by being fed in a pitch in the horizontal direction.

【0041】次に、ダイボンディング工程およびワイヤ
ーボンディング工程について説明する。図6はダイボン
ディングの前工程を説明するための工程断面図、図7は
ダイボンディング工程を説明するための工程断面図であ
り、図8はワイヤーボンディング工程を説明するための
工程断面図である。
Next, the die bonding step and the wire bonding step will be described. 6 is a process cross-sectional view for explaining a pre-process of die bonding, FIG. 7 is a process cross-sectional view for explaining a die bonding process, and FIG. 8 is a process cross-sectional view for explaining a wire bonding process. .

【0042】まず、図6に示すように、半導体素子ボン
ディング装置(図示せず)のステージ17上において、
ダイパッド1上に半導体素子3を固着するための接着剤
2を塗布する。接着剤の塗布はディスペンサ18を用い
て、接着剤2を滴下することにより行う。接着剤2は、
一例として熱硬化性のエポキシ樹脂にAg粉を混合させ
た銀ペーストからなる。
First, as shown in FIG. 6, on a stage 17 of a semiconductor device bonding apparatus (not shown),
An adhesive 2 for fixing the semiconductor element 3 to the die pad 1 is applied. The application of the adhesive is performed by dropping the adhesive 2 using a dispenser 18. Adhesive 2
As an example, it is made of a silver paste in which Ag powder is mixed with a thermosetting epoxy resin.

【0043】次に、図7に示すように、接着剤2を塗布
したダイパッド1上にコレット19を用いて半導体素子
3を搭載した後、ヒートステージ(図示せず)上で加熱
し、接着剤2を硬化させる。一例として、半導体素子3
は、外形寸法は平面形状が2mm×3mm、厚さが0.
3mm程度のシリコン単結晶である。また、加熱条件は
200〜250℃、30秒から1分程度である。なお、
接着剤2の硬化はオーブンを用いてもよい。
Next, as shown in FIG. 7, the semiconductor element 3 is mounted on the die pad 1 to which the adhesive 2 has been applied by using a collet 19, and then heated on a heat stage (not shown). 2 is cured. As an example, the semiconductor device 3
Has an outer dimension of 2 mm x 3 mm in planar shape and a thickness of 0.
It is a silicon single crystal of about 3 mm. The heating conditions are 200 to 250 ° C. for about 30 seconds to about 1 minute. In addition,
The adhesive 2 may be cured using an oven.

【0044】次に、図8に示すように、ダイパッド1上
に固着された半導体素子3のボンディングパッド21
と、インナーリード5aとを金属細線4を用いて電気的
に接続する。ワイヤーボンド装置のヒートステージ20
には、ダイパッド1、支持リード10およびインナーリ
ード5bの一部とダイパッド1を入れる逃がし部が形成
されており、インナーリード5aのワイヤーボンド領域
外周部を固定治具22によって固定しながら行う。一例
として、金属細線は、直径20〜35μmのAuワイヤ
ーを用いる。
Next, as shown in FIG. 8, the bonding pads 21 of the semiconductor element 3 fixed on the die pad 1 are formed.
And the inner leads 5a are electrically connected using the thin metal wires 4. Heat stage 20 of wire bonding equipment
A relief portion for receiving the die pad 1, the support lead 10 and a part of the inner lead 5 b and the die pad 1 is formed, and the outer peripheral portion of the wire bond area of the inner lead 5 a is fixed by a fixing jig 22. As an example, as the thin metal wire, an Au wire having a diameter of 20 to 35 μm is used.

【0045】このようにして、各単位リードフレーム毎
にダイボンディング、ワイヤーボンディングが施された
後、単位リードフレーム群を一括して樹脂封止して複数
の封止樹脂体7を同時に成形する。
After die bonding and wire bonding are performed for each unit lead frame in this way, a plurality of sealing resin bodies 7 are simultaneously molded by resin sealing the unit lead frame group.

【0046】次に、樹脂封止工程を説明するための工程
断面図である図9を参照しながら、樹脂封止工程につい
て説明する。
Next, the resin sealing step will be described with reference to FIG. 9 which is a process sectional view for explaining the resin sealing step.

【0047】図9は、トランスファ成形装置を示してお
り、シリンダ装置(図示せず)によって型締めされる一
対の上型24と下型25とを備えており、上型24と下
型25との合わせ面には上型キャビティー26aと下型
キャビティー26bとで、キャビティー26を形成する
ように、それぞれ複数組み埋設されている。上型24の
合わせ面にはポット27が開設されており、ポット27
にはシリンダ装置(図示しない)により進退されるプラ
ンジャー28が成形材料としての樹脂を送給し得るよう
に挿入されている。下型25の合わせ面にはカル29が
ポット27と対向位置に配されて埋設されているととも
に、ランナー30がポット27とにそれぞれ接続されて
いる。さらに各ランナー30の他端部は下型キャビティ
ー26bにそれぞれ接続されており、その接続部にはゲ
ート31が樹脂をキャビティー26内に注入し得るよう
に形成されている。また、下型25の合わせ面には、逃
がし部32がリードフレーム重合体23におけるリード
フレーム15の厚み分を逃げ得るように、その外形より
も若干大きめの長方形で、その厚さよりも若干浅い深さ
に形成されている。このような構成のトランスファ成形
装置を用いて、樹脂封止は以下の方法で行われる。
FIG. 9 shows a transfer molding apparatus, which includes a pair of an upper mold 24 and a lower mold 25 which are clamped by a cylinder device (not shown). The upper mold cavity 26a and the lower mold cavity 26b are respectively buried in the mating surfaces so as to form the cavities 26. On the mating surface of the upper mold 24, a pot 27 is opened.
A plunger 28 which is advanced and retracted by a cylinder device (not shown) is inserted so that resin as a molding material can be fed. On the mating surface of the lower mold 25, a cull 29 is arranged and buried at a position facing the pot 27, and a runner 30 is connected to the pot 27, respectively. Further, the other end of each runner 30 is connected to the lower mold cavity 26b, and a gate 31 is formed at the connection portion so that resin can be injected into the cavity 26. The mating surface of the lower mold 25 is a rectangle slightly larger than its outer shape and slightly shallower than its thickness so that the escape portion 32 can escape the thickness of the lead frame 15 in the lead frame polymer 23. Is formed. Using the transfer molding apparatus having such a configuration, resin sealing is performed by the following method.

【0048】180℃程度に加熱された上記トランスフ
ァ装置の封止金型の逃がし部32に、リードフレーム重
合体23を装着し封止金型を型締めする。次に、円錐形
に打錠された樹脂(図示せず)をポット27に挿入し、
プランジャー28により樹脂がカル29、ランナー3
0、ゲート31を通じて各キャビティー26に圧入され
る。注入後、樹脂が熱硬化されて封止樹脂体7が形成さ
れると、上型24および下型25は型開きされるととも
に、エジェクタ・ピン(図示しない)により封止樹脂体
7群が離型され、樹脂成形されたリードフレーム重合体
23はトランスファ成形装置から脱装される。
The lead frame polymer 23 is mounted on the relief portion 32 of the sealing die of the transfer apparatus heated to about 180 ° C., and the sealing die is clamped. Next, a resin (not shown) compressed into a cone is inserted into the pot 27,
Resin is cull 29 and runner 3 by plunger 28
0, press-fit into each cavity 26 through gate 31. After the injection, the resin is thermally cured to form the sealing resin body 7, and the upper mold 24 and the lower mold 25 are opened, and the group of sealing resin bodies 7 is separated by ejector pins (not shown). The lead frame polymer 23 molded and resin-molded is removed from the transfer molding apparatus.

【0049】このようにして、樹脂成形された樹脂封止
体の内部には、ダイパッド1、接着剤2、半導体素子
3、金属細線4、インナーリード5a、インナーリード
5b、突起部9、および支持リード10が樹脂封止され
ることになる。この際、下型25による位置規制が無け
れば、下型25の底部の深さより0.02〜0.2mm
低い位置に固定されるようにダウンセットされたダイパ
ッド1を有したリードフレームを封止金型で型締めした
時、半導体素子3の搭載面と反対側の露出面が下型25
に押し付けられ、ダイパッド1の下側(露出面側)に樹
脂が回り込むのを防止するため、ダイパッド1の露出面
を封止樹脂体7より露出させるように樹脂封止すること
ができる。
The die pad 1, the adhesive 2, the semiconductor element 3, the fine metal wire 4, the inner lead 5a, the inner lead 5b, the projection 9, and the support The leads 10 are sealed with resin. At this time, if there is no position regulation by the lower mold 25, the depth of the bottom of the lower mold 25 is 0.02 to 0.2 mm.
When the lead frame having the die pad 1 set down so as to be fixed at a low position is clamped by a sealing mold, the exposed surface opposite to the mounting surface of the semiconductor element 3 is the lower die 25.
In order to prevent the resin from squeezing to the lower side (exposed surface side) of the die pad 1, resin sealing can be performed so that the exposed surface of the die pad 1 is exposed from the sealing resin body 7.

【0050】なお、通常に使用される封止金型のキャビ
ティー部分は基板実装に認識し易いくするためにナシ地
加工が施され表面が荒らされているが、少なくともダイ
パッドが当接する部分に鏡面加工を施す(図示せず)こ
とによって、ダイパッド1と封止金型との隙間を無くす
ことができるので、薄バリの発生をさらに抑制すること
ができる。さらに、下型25のダイパッド1が当接する
部分にダイパッド1を吸着する機構(図示せず)をもた
せることによって、さらに薄バリの発生を抑制すること
ができる。
The cavity portion of the normally used sealing mold is subjected to a pear finishing process to make it easy to recognize the substrate mounting, and the surface thereof is roughened. By performing the mirror finishing (not shown), the gap between the die pad 1 and the sealing mold can be eliminated, so that the generation of thin burrs can be further suppressed. Furthermore, by providing a mechanism (not shown) for adsorbing the die pad 1 at a portion of the lower mold 25 where the die pad 1 contacts, it is possible to further suppress the generation of thin burrs.

【0051】図10は樹脂封止後の半導体装置の背面図
であり、ダイパッドの露出面に形成される薄バリを説明
するための図である。
FIG. 10 is a rear view of the semiconductor device after resin sealing, and is a view for explaining thin burrs formed on the exposed surface of the die pad.

【0052】図10に示すように、ダイパッド1の露出
面は、ダイパッド1の外周部から樹脂注入圧力によって
樹脂の薄バリ33が漏れだして付着するが、ダイパッド
1に施されているリング状に形成された溝16で薄バリ
が止まり、溝16の内側に実効的な露出面を一定面積以
上に確保することができ、ダイパッド1の露出面をプリ
ント基板(図示せず)に半田付け実装することが可能に
なる。また、リング状の溝16は、図10に示すように
一重で設けるより、二重に設ける方がより確実に薄バリ
の発生を防止できる。
As shown in FIG. 10, the exposed surface of the die pad 1 leaks and adheres to the thin burr 33 of the resin from the outer periphery of the die pad 1 due to the resin injection pressure. The thin burr stops at the formed groove 16, an effective exposed surface inside the groove 16 can be secured to a certain area or more, and the exposed surface of the die pad 1 is mounted by soldering on a printed circuit board (not shown). It becomes possible. In addition, as shown in FIG. 10, the ring-shaped groove 16 can be more reliably provided by providing the ring-shaped groove 16 twice than by providing the ring-shaped groove 16 in a single manner.

【0053】次に、樹脂成形されたリードフレーム重合
体23の、リードフレーム15のボンディング領域にA
gめっきが施されたものの場合は、リードフレーム重合
体23の封止樹脂体7以外の部分に、半田外装めっきを
施す(図示せず)。リードフレーム15の少なくとも半
導体装置の完成品となる部分にPdめっきが施されてい
るものの場合は、半田外装めっきは必要としない。
Next, the resin-molded lead frame polymer 23
In the case of g-plated, a portion of the lead frame polymer 23 other than the sealing resin body 7 is plated with a solder exterior (not shown). In the case where at least a part of the lead frame 15 which is a completed product of the semiconductor device is plated with Pd, the solder outer plating is not required.

【0054】次に、図11に示すように、半田外装めっ
きを経た後、あるいは半田外装めっきされる前の樹脂成
形されたリードフレーム重合体23を、切断装置(図示
せず)によって、各単位リードフレーム毎に順次、ダム
バー11を切断する。
Next, as shown in FIG. 11, a resin-molded lead frame polymer 23 after solder plating or before solder plating is applied to each unit by a cutting device (not shown). The dam bar 11 is sequentially cut for each lead frame.

【0055】次に、リード成形装置(図示せず)によっ
て、アウターリード6の先端と内枠13の一部を切断し
た後、アウターリード6をガルウイング形状に屈曲成形
し、内枠13の一部を切断し、半導体装置を外枠12か
ら切り離す。
Next, after cutting the tip of the outer lead 6 and a part of the inner frame 13 by a lead forming device (not shown), the outer lead 6 is bent and formed into a gull wing shape, and a part of the inner frame 13 is formed. And the semiconductor device is separated from the outer frame 12.

【0056】以上のようにして、図3に示す半導体装置
を完成することができる。
As described above, the semiconductor device shown in FIG. 3 can be completed.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上、本発明の半導体装置は、ダイパッ
ドの各側面に複数の突起部を有し、その突起部が半導体
素子の搭載面側に折り曲げ成形されたリードフレームを
用いて半導体素子をパッケージングするから、この突起
部が封止樹脂体との密着性を良好にし、耐湿性を改善で
きる。また、半田ディップ時にパッケージ内に貯まった
湿気が熱膨張する際に、その湿気が逃げ易く、ダイパッ
ドの変形や捲れを防止することができ、プリント基板に
実装後も耐湿性を維持することができる。しかも、ダイ
パッドの露出面からプリント基板に直接放熱することが
でき、放熱性が良好であり、品質の優れた半導体装置で
ある。
As described above, the semiconductor device of the present invention has a plurality of projections on each side surface of the die pad, and the projections are formed on the mounting surface side of the semiconductor element by using a lead frame formed by bending. Because of the packaging, the protrusions can improve the adhesion to the sealing resin body and improve the moisture resistance. Further, when moisture stored in the package expands thermally during solder dip, the moisture easily escapes, deformation and curling of the die pad can be prevented, and moisture resistance can be maintained even after mounting on a printed circuit board. . Moreover, heat can be radiated directly from the exposed surface of the die pad to the printed circuit board, and the semiconductor device has good heat radiation and excellent quality.

【0058】また、ダイパッドの周縁部に沿って溝を設
けると、樹脂封止を行う時の封止圧力が溝に沿って逃が
され、もしも樹脂が回り込んだ時には、その樹脂を溝で
止めることができ、樹脂バリを最小限にすることができ
る。
Further, if a groove is provided along the periphery of the die pad, the sealing pressure at the time of performing resin sealing is released along the groove, and if the resin goes around, the resin is stopped by the groove. And resin burrs can be minimized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る半導体装置に用
いるリードフレームの平面図
FIG. 1 is a plan view of a lead frame used for a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態に係る半導体装置を示
す図であり、 (a)は半導体装置の要部断面図 (b)は半導体装置の長手方向の断面図 (c)は半導体装置の背面図
FIGS. 2A and 2B are views showing a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention; FIG. 2A is a cross-sectional view of a main part of the semiconductor device; FIG. Rear view of the device

【図3】第2の実施形態の半導体装置を示す図であり、 (a)は半導体装置に用いるリードフレームの平面図 (b)は半導体装置の要部断面図FIGS. 3A and 3B are views showing a semiconductor device according to a second embodiment; FIG. 3A is a plan view of a lead frame used in the semiconductor device; FIG.

【図4】第3の実施形態の半導体装置を示す図であり、 (a)は半導体装置に用いるリードフレームの平面図 (b)は半導体装置の要部断面図FIGS. 4A and 4B are diagrams showing a semiconductor device according to a third embodiment; FIG. 4A is a plan view of a lead frame used in the semiconductor device; FIG.

【図5】第4の実施形態に用いるリードフレームを示す
図 (a)はリードフレームの平面図 (b)はリードフレームの要部断面図 (c)はリードフレームの長手方向の断面図
5A and 5B show a lead frame used in a fourth embodiment. FIG. 5A is a plan view of the lead frame. FIG. 5B is a sectional view of a main part of the lead frame.

【図6】第4の実施形態のダイボンディング工程の前工
程を説明するための工程断面図
FIG. 6 is a process cross-sectional view for explaining a pre-process of a die bonding process of the fourth embodiment.

【図7】第4の実施形態のダイボンディング工程を説明
するための工程断面図
FIG. 7 is a process cross-sectional view for explaining a die bonding process according to a fourth embodiment.

【図8】第4の実施形態のワイヤーボンディング工程を
説明するための工程断面図
FIG. 8 is a process cross-sectional view illustrating a wire bonding process according to a fourth embodiment.

【図9】第4の実施形態の樹脂封止工程を説明するため
の工程断面図
FIG. 9 is a process cross-sectional view for explaining a resin sealing process of the fourth embodiment.

【図10】樹脂封止後の半導体装置の背面図であり、ダ
イパッドの露出面に形成される薄バリを説明するための
FIG. 10 is a rear view of the semiconductor device after resin sealing, and is a view for explaining thin burrs formed on an exposed surface of a die pad;

【図11】ダムバー切断後の半導体装置を示す図FIG. 11 shows a semiconductor device after dam bar cutting.

【図12】従来の半導体装置を示す図であり、 (a)は半導体装置の要部断面図 (b)は半導体装置の背面図12A and 12B are views showing a conventional semiconductor device, wherein FIG. 12A is a sectional view of a main part of the semiconductor device, and FIG. 12B is a rear view of the semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ダイパッド 2 接着剤 3 半導体素子 4 金属細線 5a インナーリード 5b インナーリード(第2の支持リード) 6 アウターリード 7 封止樹脂体 8 突起部 9 突起部 10 支持リード(第1の支持リード) 11 ダムバー 12 外枠 13 内枠 14 ガイド孔 15 リードフレーム 16 溝 17 ステージ 18 ディスペンサ 19 コレット 20 ヒートステージ 21 ボンディングパッド 22 固定治具 23 リードフレーム重合体 24 上型 25 下型 26a キャビティー上 26b キャビティー下 27 ポット 28 プランジャー 29 カル 30 ランナー 31 ゲート 32 逃がし部 33 薄バリ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Die pad 2 Adhesive 3 Semiconductor element 4 Thin metal wire 5a Inner lead 5b Inner lead (second support lead) 6 Outer lead 7 Sealing resin body 8 Projection 9 Projection 10 Support lead (first support lead) 11 Dam bar Reference Signs List 12 outer frame 13 inner frame 14 guide hole 15 lead frame 16 groove 17 stage 18 dispenser 19 collet 20 heat stage 21 bonding pad 22 fixing jig 23 lead frame polymer 24 upper mold 25 lower mold 26a above cavity 26b below cavity 27 Pot 28 plunger 29 cull 30 runner 31 gate 32 relief part 33 thin burr

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福田 敏行 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 Fターム(参考) 4M109 AA01 BA02 CA21 DA02 DA04 DB02 DB17 FA03 FA04 GA05 5F061 AA01 BA02 CA21 EA03 FA05 5F067 AA04 AA05 AA09 AB03 BD02 BD05 BE02 BE05 BE07 CA07 DA11 DA14 DA16 DC13 DC17 DC19 DF17 EA01 EA04  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Toshiyuki Fukuda 1-1, Komachi, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Co., Ltd. F-term (reference) 4M109 AA01 BA02 CA21 DA02 DA04 DB02 DB17 FA03 FA04 GA05 5F061 AA01 BA02 CA21 EA03 FA05 5F067 AA04 AA05 AA09 AB03 BD02 BD05 BE02 BE05 BE07 CA07 DA11 DA14 DA16 DC13 DC17 DC19 DF17 EA01 EA04

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 長方形のダイパッド上に搭載された半導
体素子と、前記ダイパッドの側面に設けられ前記半導体
素子の搭載面側に屈曲した複数の突起部と、前記ダイパ
ッドの短辺に設けられ前記ダイパッドを支持する支持リ
ードと、前記半導体素子に金属細線でそれぞれ電気的に
接続された複数本のインナーリードと、各インナーリー
ドにそれぞれ一体的に連結された各アウターリードと、
前記搭載面、前記半導体素子、前記複数の突起部、前記
金属細線、および前記インナーリード群を樹脂封止する
長方形の平板状に成形された封止樹脂体とを備え、前記
複数本のアウターリードを封止樹脂体の長辺からそれぞ
れ引き出し、前記ダイパッドの露出面を前記封止樹脂体
から露出させたことを特徴とする半導体装置。
A semiconductor device mounted on a rectangular die pad; a plurality of protrusions provided on a side surface of the die pad and bent toward a mounting surface of the semiconductor device; and a die pad provided on a short side of the die pad. And a plurality of inner leads each electrically connected to the semiconductor element by a thin metal wire, and each outer lead integrally connected to each inner lead,
The plurality of outer leads, comprising: a mounting plate, the semiconductor element, the plurality of protrusions, the thin metal wires, and a sealing resin body molded into a rectangular flat plate for resin-sealing the inner lead group. Wherein the exposed surface of the die pad is exposed from the sealing resin body.
【請求項2】 ダイパッド側面に設けられた複数の突起
部が先端をT字型にされていることを特徴とする請求項
1記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of protrusions provided on a side surface of the die pad have a T-shaped tip.
【請求項3】 ダイパッドの一側面に設けられた複数の
突起部が先端で連結されていることを特徴とする請求項
1記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of protrusions provided on one side surface of the die pad are connected at a tip.
【請求項4】 ダイパッドの露出面の周縁に沿ってリン
グ状の溝を設けたことを特徴とする請求項1記載の半導
体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein a ring-shaped groove is provided along a peripheral edge of the exposed surface of the die pad.
【請求項5】 ダイパッドの露出面に設けられた溝が2
重に形成されていることを特徴とする請求項4記載の半
導体装置。
5. A groove provided on an exposed surface of a die pad has two grooves.
5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the semiconductor device is formed to be doubly formed.
【請求項6】 リードフレームの表面にNi、Pd、A
uの3層めっきを施したことを特徴とする請求項1記載
の半導体装置。
6. Ni, Pd, A on the surface of the lead frame.
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein three layers of u are plated.
【請求項7】 支持リードがインナーリードの高さから
ダウンセットされていることを特徴とする請求項1記載
の半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein the support lead is set down from the height of the inner lead.
【請求項8】 インナーリードと接続されない第1の支
持リードをダイパッドの短辺にそれぞれ設け、ダイパッ
ドの長辺とインナーリードを接続した第2の支持リード
を前記ダイパッドの長辺にそれぞれ設けたことを特徴と
する請求項1記載の半導体装置。
8. A first support lead not connected to the inner lead is provided on each of the short sides of the die pad, and a second support lead connecting the long side of the die pad and the inner lead is provided on each of the long sides of the die pad. The semiconductor device according to claim 1, wherein:
【請求項9】 第1または第2の支持リードを0.3m
m〜0.6mmの幅で構成することを特徴とする請求項
8記載の半導体装置。
9. The first or second support lead is 0.3 m
9. The semiconductor device according to claim 8, wherein the semiconductor device has a width of m to 0.6 mm.
【請求項10】 第1または第2の支持リードの幅をイ
ンナーリード幅の2倍以上にしたことを特徴とする請求
項8記載の半導体装置。
10. The semiconductor device according to claim 8, wherein the width of the first or second support lead is at least twice the width of the inner lead.
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