JP2006191143A - Semiconductor device - Google Patents

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健一 伊東
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秀一 尾方
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device, having improved contact strength between a die pad and sealing resin and improved resistance to moisture. <P>SOLUTION: A lead frame is worked, such that a plurality of protrusions 9 are made on the side of the die pad 1 and that the protrusions 9 are bent to the side of the mounting surface, where the semiconductor device 3 is mounted. Then, the semiconductor 3 is mounted on the mounting surface, the surface to be exposed of the die pad 1 is exposed, and then the semiconductor 3, the protrusions 9, inner leads (5a, 5b) are sealed with sealing resin 7. The protrusions 9 and their connected portions bite into the sealing resin 7, and the contact strength is increased. Deformation of the die pad 1 is reduced when the device is mounted, and proper resistance against moisture is kept, after the mounting of the device. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、モータドライバ用、音声増幅用などの発熱量の大きな半導体素子を搭載するのに適応した半導体装置に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor device adapted for mounting a semiconductor element having a large calorific value, such as a motor driver and a sound amplifier.

近年の電子機器の多機能化、小型・薄型化に伴い、半導体装置においては、薄型で良好な放熱性が要望されてきている。そこで、このような薄型の半導体装置として、特許文献1には、次のようなものが提案されている。   2. Description of the Related Art As electronic devices have become more multifunctional and smaller and thinner in recent years, semiconductor devices have been required to be thin and have good heat dissipation. Therefore, as such a thin semiconductor device, Patent Document 1 proposes the following.

以下、従来の半導体装置について説明する。図12は、従来の半導体装置を示す図であり、図12(a)は半導体装置の要部断面図であり、図12(b)はその背面図である。   A conventional semiconductor device will be described below. FIG. 12 is a view showing a conventional semiconductor device, FIG. 12 (a) is a cross-sectional view of an essential part of the semiconductor device, and FIG. 12 (b) is a rear view thereof.

図12に示すように、従来の半導体装置は、ダイパッド1に接着剤2を塗布して、その上に半導体素子3を固着している。その半導体素子3には金属細線4が接続され、ダイパッド1周辺にある複数本のインナーリード5aとそれぞれ電気的に接続されている。各インナーリード5aと一体的に連結された各アウターリード6は封止樹脂体7から導出され、ダイパッド1,接着剤2,半導体素子3,金属細線4およびインナーリード5aは封止樹脂体7で封止されている。また、封止樹脂体7は4辺形の平板状に成形されているとともに、アウターリード6は封止樹脂体7の4辺からそれぞれ引き出されている。そして、ダイパッド1の露出面(半導体素子3を搭載した面と反対側の面)は封止樹脂体7から露出している。   As shown in FIG. 12, in the conventional semiconductor device, an adhesive 2 is applied to a die pad 1 and a semiconductor element 3 is fixed thereon. The metal element 4 is connected to the semiconductor element 3 and is electrically connected to a plurality of inner leads 5a around the die pad 1 respectively. Each outer lead 6 integrally connected to each inner lead 5 a is led out from the sealing resin body 7, and the die pad 1, the adhesive 2, the semiconductor element 3, the metal thin wire 4 and the inner lead 5 a are the sealing resin body 7. It is sealed. The sealing resin body 7 is formed into a quadrilateral flat plate shape, and the outer leads 6 are drawn from the four sides of the sealing resin body 7. The exposed surface of the die pad 1 (the surface opposite to the surface on which the semiconductor element 3 is mounted) is exposed from the sealing resin body 7.

この半導体装置は、通常は、封止樹脂体7から露出したダイパッド1の露出面はプリント基板(図示せず)に接するように実装される。発熱源である半導体素子3を搭載したダイパッド1が封止樹脂体7より露出されているため、外気に直接放熱することができ、高い放熱性を保つことができる。
特開平9−199639号公報
This semiconductor device is usually mounted such that the exposed surface of the die pad 1 exposed from the sealing resin body 7 is in contact with a printed circuit board (not shown). Since the die pad 1 on which the semiconductor element 3 as a heat source is mounted is exposed from the sealing resin body 7, heat can be directly radiated to the outside air, and high heat dissipation can be maintained.
JP-A-9-199639

しかしながら、従来の半導体装置は、ダイパッド1と封止樹脂体7との密着力だけで耐湿性を確保しているので、プリント基板に半田付けする時、封止樹脂体7内に貯まった湿気が急激な熱膨張を起こし、ダイパッド1を変形させる。その為、ダイパッド1と封止樹脂体7との間に隙間が生じ易く、プリント基板に実装後の耐湿性を悪化しやすい。単に、プリント基板に接触させた状態よりも更に放熱性を高めるために、ダイパッド1の露出面をプリント基板に半田付けした場合、更に急激な湿気の熱膨張が起こり、ダイパッド1が封止樹脂体7から剥離して、耐湿性を損なうという問題があった。そのため、半導体装置単品の耐湿性だけでなく、プリント基板に実装後の耐湿性を確保する必要がある。   However, since the conventional semiconductor device ensures moisture resistance only by the adhesion between the die pad 1 and the sealing resin body 7, when the solder is soldered to the printed circuit board, moisture accumulated in the sealing resin body 7 is retained. The die pad 1 is deformed by causing rapid thermal expansion. Therefore, a gap is likely to be generated between the die pad 1 and the sealing resin body 7 and the moisture resistance after mounting on the printed board is likely to be deteriorated. If the exposed surface of the die pad 1 is soldered to the printed board in order to further improve the heat dissipation than the state where it is in contact with the printed board, further rapid thermal expansion of moisture occurs, and the die pad 1 becomes a sealing resin body. There was a problem that it peeled from 7 and impaired moisture resistance. Therefore, it is necessary to ensure not only the moisture resistance of a single semiconductor device but also moisture resistance after mounting on a printed circuit board.

また、ダイパッド1の裏面を封止金型(図示せず)に押し当てて樹脂封止する際、樹脂を注入する時の注入圧力によって、樹脂がダイパッド1と封止金型との間に流れ出し、ダイパッド1の裏面側に薄バリが発生する。この薄バリを放置すると、ダイパッド1の裏面からの放熱を妨げるため、薬品やウォータージェットなどで薄バリを除去する必要がある。しかし、上記の耐湿性に問題があることから、薬品やウォータージェットなどで薄バリを除去する際に、水分や薬品が封止樹脂体7内部に浸透して、信頼性に支障を来すという問題があった。   Further, when the resin pad is pressed by pressing the back surface of the die pad 1 against a sealing mold (not shown), the resin flows out between the die pad 1 and the sealing mold due to the injection pressure when the resin is injected. A thin burr is generated on the back side of the die pad 1. If this thin burr is left undisturbed, heat radiation from the back surface of the die pad 1 is hindered, so it is necessary to remove the thin burr with a chemical or a water jet. However, since there is a problem with the moisture resistance described above, when removing thin burrs with chemicals or water jets, moisture and chemicals penetrate into the sealing resin body 7 and impair reliability. There was a problem.

本発明の目的は、従来の上記問題点を解決するもので、プリント基板に実装後の耐湿性を確保できる放熱効果の高い半導体装置およびその製造方法を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-described conventional problems, and to provide a semiconductor device having a high heat dissipation effect that can secure moisture resistance after being mounted on a printed circuit board and a method for manufacturing the same.

本発明の半導体装置は、長方形のダイパッド上に搭載された半導体素子と、前記ダイパッドの側面に設けられ前記半導体素子の搭載面側に屈曲した複数の突起部と、前記ダイパッドの短辺に設けられ前記ダイパッドを支持する支持リードと、前記半導体素子に金属細線でそれぞれ電気的に接続された複数本のインナーリードと、各インナーリードにそれぞれ一体的に連結された各アウターリードと、前記搭載面、前記半導体素子、前記複数の突起部、前記金属細線、および前記インナーリード群を樹脂封止する長方形の平板状に成形された封止樹脂体とを備え、前記複数本のアウターリードを封止樹脂体の長辺からそれぞれ引き出し、前記ダイパッドの露出面を前記封止樹脂体から露出させた構成である。   A semiconductor device according to the present invention is provided on a semiconductor element mounted on a rectangular die pad, a plurality of protrusions provided on a side surface of the die pad and bent toward a mounting surface side of the semiconductor element, and provided on a short side of the die pad. A support lead that supports the die pad, a plurality of inner leads that are electrically connected to the semiconductor element by thin metal wires, outer leads that are integrally connected to the inner leads, and the mounting surface; A sealing resin body formed into a rectangular flat plate for resin-sealing the semiconductor element, the plurality of protrusions, the fine metal wires, and the inner lead group, and sealing the plurality of outer leads. It is the structure which pulled out from the long side of the body, respectively, and exposed the exposed surface of the die pad from the sealing resin body.

この構成により、半導体素子を搭載したダイパッドの露出部から直接外部に放熱されるため、放熱効果が極めて良い。また、ダイパッドの側面に複数の突起部を設けているため、封止樹脂体との噛み合いが良く密着性が改善される。また、封止樹脂体内に蓄積された湿気が半田付け時に熱膨張する際には、ほど良い通気性があって蒸気を逃がすことから、ダイパッドの変形が少なくなり、ダイパッドが封止樹脂体から剥離することを防止できる。   With this configuration, heat is radiated directly from the exposed portion of the die pad on which the semiconductor element is mounted, so that the heat radiation effect is extremely good. In addition, since the plurality of protrusions are provided on the side surface of the die pad, the engagement with the sealing resin body is good and the adhesion is improved. In addition, when the moisture accumulated in the sealing resin body thermally expands during soldering, it has adequate air permeability and escapes steam, so that the deformation of the die pad is reduced and the die pad is peeled off from the sealing resin body. Can be prevented.

更に、ダイパッド側面に設けられた複数の突起部の先端をT字型にすると、封止樹脂体と突起部との噛み合いが更に良くなり、密着性が更に改善される。また、隣同士の突起部を先端で互いに連結すると、封止樹脂体との噛み合いが更に良くなる。   Furthermore, if the tips of the plurality of protrusions provided on the side surface of the die pad are T-shaped, the engagement between the sealing resin body and the protrusions is further improved, and the adhesion is further improved. Further, when the adjacent protrusions are connected to each other at the tip, the engagement with the sealing resin body is further improved.

また、ダイパッドの裏面の周縁に沿ってリング状の溝を設けると、樹脂封止時に、封止金型とダイパッドの露出面との間に樹脂が回り込むのを溝で防止し、ダイパッドの露出面にできる薄バリの大きさを制約することができる。このリング状の溝を二重に設けると、より確実に薄バリを防止できる。   Also, if a ring-shaped groove is provided along the periphery of the back surface of the die pad, the resin prevents the resin from flowing between the sealing mold and the exposed surface of the die pad during resin sealing, and the exposed surface of the die pad The size of the thin burr that can be reduced can be restricted. If this ring-shaped groove is provided twice, thin burr can be prevented more reliably.

また、ダイパッドの長辺とインナーリードを接続した第2の支持リードが前記ダイパッドの長辺に付加されると、樹脂封止する際の封止金型への押さえ圧力を強くする一方、ダイパッドの面方向の変形が少なくなり、薄バリの発生が少なくなるだけでなく、この半導体装置を実装する際には、ダイパッドに接続されたインナーリードとダイパッドの露出面の双方からの放熱が可能になり、半田付けし難いダイパッド露出面を半田付けしなくてもかなりの放熱効果が期待できる。   Further, when the second support lead connecting the long side of the die pad and the inner lead is added to the long side of the die pad, the pressing pressure to the sealing mold when the resin is sealed is increased, while the die pad In addition to reducing the deformation in the surface direction and reducing the occurrence of thin burrs, it is possible to dissipate heat from both the inner leads connected to the die pad and the exposed surface of the die pad when mounting this semiconductor device. Even if the exposed surface of the die pad, which is difficult to solder, is not soldered, a considerable heat dissipation effect can be expected.

それに加えて、第1または第2の支持リードの幅をインナーリード幅の2倍以上に広くすると、樹脂封止時の押さえ圧力が強くなり、ダイパッドの露出面にできる薄バリを小さくできる。   In addition, if the width of the first or second support lead is made more than twice the width of the inner lead, the pressing pressure at the time of resin sealing is increased, and the thin burr formed on the exposed surface of the die pad can be reduced.

以上、本発明の半導体装置は、ダイパッドの各側面に複数の突起部を有し、その突起部が半導体素子の搭載面側に折り曲げ成形されたリードフレームを用いて半導体素子をパッケージングするから、この突起部が封止樹脂体との密着性を良好にし、耐湿性を改善できる。また、半田ディップ時にパッケージ内に貯まった湿気が熱膨張する際に、その湿気が逃げ易く、ダイパッドの変形や捲れを防止することができ、プリント基板に実装後も耐湿性を維持することができる。しかも、ダイパッドの露出面からプリント基板に直接放熱することができ、放熱性が良好であり、品質の優れた半導体装置である。   As described above, the semiconductor device of the present invention has a plurality of protrusions on each side surface of the die pad, and the protrusions package the semiconductor element using a lead frame that is bent on the mounting surface side of the semiconductor element. This protrusion can improve the adhesion to the sealing resin body and improve the moisture resistance. Also, when the moisture accumulated in the package during solder dipping thermally expands, the moisture can easily escape, can prevent deformation and dripping of the die pad, and can maintain moisture resistance even after mounting on a printed circuit board. . Moreover, it is possible to directly radiate heat from the exposed surface of the die pad to the printed circuit board, and the semiconductor device has excellent heat dissipation and excellent quality.

また、ダイパッドの周縁部に沿って溝を設けると、樹脂封止を行う時の封止圧力が溝に沿って逃がされ、もしも樹脂が回り込んだ時には、その樹脂を溝で止めることができ、樹脂バリを最小限にすることができる。   Also, if a groove is provided along the periphery of the die pad, the sealing pressure when resin sealing is performed is released along the groove, and if the resin wraps around, the resin can be stopped by the groove. Resin burr can be minimized.

以下、本発明による半導体装置の実施形態について説明する。図1は第1の実施形態の半導体装置に用いるリードフレームを示す平面図であり、封止樹脂体の形状を破線で示している。また、図2は第1の実施形態による半導体装置を説明するための図であり、図2(a)は半導体装置の要部断面構造を示す断面図、図2(b)は長手方向の断面図であり、図2(c)は背面図である。   Embodiments of a semiconductor device according to the present invention will be described below. FIG. 1 is a plan view showing a lead frame used in the semiconductor device of the first embodiment, and the shape of the sealing resin body is indicated by a broken line. FIG. 2 is a diagram for explaining the semiconductor device according to the first embodiment. FIG. 2A is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of a main part of the semiconductor device, and FIG. FIG. 2 (c) is a rear view.

図1および図2に示すように、第1の実施形態による半導体装置は、ダイパッド1に接着剤2を塗布して、その上に半導体素子3を固着している。その半導体素子3には金属細線4が接続され、ダイパッド1周辺にある複数本のインナーリード5aとそれぞれ電気的に接続されている。各インナーリード5aと一体的に連結された各アウターリード6は封止樹脂体7から導出され、ダイパッド1,接着剤2,半導体素子3,金属細線4およびインナーリード5aは封止樹脂体7で封止されている。また、封止樹脂体7は平面形状が略長方形となるように成形されているとともに、アウターリード6は封止樹脂体7の各長辺からそれぞれ引き出されている。そして、ダイパッド1の露出面は封止樹脂体7から露出されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, in the semiconductor device according to the first embodiment, an adhesive 2 is applied to a die pad 1 and a semiconductor element 3 is fixed thereon. The metal element 4 is connected to the semiconductor element 3 and is electrically connected to a plurality of inner leads 5a around the die pad 1 respectively. Each outer lead 6 integrally connected to each inner lead 5 a is led out from the sealing resin body 7, and the die pad 1, adhesive 2, semiconductor element 3, metal wire 4 and inner lead 5 a are sealed resin body 7. It is sealed. Further, the sealing resin body 7 is shaped so that the planar shape is substantially rectangular, and the outer leads 6 are drawn out from the respective long sides of the sealing resin body 7. The exposed surface of the die pad 1 is exposed from the sealing resin body 7.

平面形状が略長方形のダイパッド1の各短辺には、それぞれインナーリード5aのリード幅の2倍以上の幅広になる支持リード10が連結されている。その支持リード10は、1枚の金属板を型抜きしてリードフレームに成形した後、リードフレームが単独の時でもダイパッド1を支持して周辺のインナーリード5a等と共に一体化した状態を維持するものであるが、その他の機能もある。支持リード10は、ダイパッド1から離れた箇所はインナーリード5aの高さと同じ高さになっており、ダイパッド1に近い2カ所で屈曲させてあり、ダイパッド1をインナーリード5aより低い位置に固定している。言い換えるとダウンセットしている。これは、封止樹脂体7の成形時に樹脂封止金型(図示せず)の底部にダイパッド1を押さえ付ける力をダイパッド1に与えるためにも使われる。   A support lead 10 is connected to each short side of the die pad 1 having a substantially rectangular planar shape, which is wider than the lead width of the inner lead 5a. The support lead 10 supports the die pad 1 and maintains an integrated state with the peripheral inner leads 5a and the like even when the lead frame is alone after the metal plate is die-cut and formed into a lead frame. Although there are other functions. The support lead 10 is located at a position away from the die pad 1 at the same height as the inner lead 5a, and is bent at two places close to the die pad 1 to fix the die pad 1 at a position lower than the inner lead 5a. ing. In other words, it is downset. This is also used to give the die pad 1 a force for pressing the die pad 1 against the bottom of a resin sealing mold (not shown) when the sealing resin body 7 is molded.

なお、支持リード10のリード幅は、小信号用の半導体装置を製作する場合には0.3mm〜0.6mmのものを使用すれば良いし、大電力用の半導体装置を製作する場合には、支持リード10を放熱器に連結させる構成も考えられるが、この場合は必要に応じて更に幅広くすれば良い。   Note that the lead width of the support lead 10 may be 0.3 mm to 0.6 mm when manufacturing a small signal semiconductor device, and when manufacturing a high power semiconductor device. A configuration in which the support lead 10 is connected to a heatsink is also conceivable, but in this case, it may be made wider as necessary.

ダイパッド1の各側面には、先端がT字型に形成された複数の突起部8を有し、かつ、突起部8は半導体素子3の搭載面側に屈曲されている。その突起部8は、封止樹脂体7に埋設されるので、封止樹脂体7との噛み合いが良く、ダイパッド1と封止樹脂体7との密着性を向上し、半導体装置の耐湿性を確保できる。その一方で、封止樹脂体7内に蓄積した湿気が半田付け時に熱膨張する際には、複数の突起部8同士の間にほど良い通気性があり、内部の蒸気を容易に逃がすことができ、ダイパッド1の変形を小さくして、実装後の耐湿性を改善できる。   Each side surface of the die pad 1 has a plurality of protrusions 8 whose tips are formed in a T shape, and the protrusions 8 are bent toward the mounting surface side of the semiconductor element 3. Since the protrusion 8 is embedded in the sealing resin body 7, the protrusion 8 has good engagement with the sealing resin body 7, improves the adhesion between the die pad 1 and the sealing resin body 7, and improves the moisture resistance of the semiconductor device. It can be secured. On the other hand, when the moisture accumulated in the sealing resin body 7 thermally expands during soldering, there is a moderate air permeability between the plurality of protrusions 8, and the internal vapor can be easily released. In addition, the deformation of the die pad 1 can be reduced and the moisture resistance after mounting can be improved.

また、ダイパッド1の半導体素子3搭載面と反対側の露出面には、リング状の溝16を形成している。この溝16によって、樹脂封止時の樹脂注入圧力を逃がすと共に、樹脂の流れをせき止めることができ、薄バリを一定の範囲内に抑えることができる。従って、露出面の実効的な面積を確実に確保でき、露出面の半田付けを可能にして、さらに高い放熱効果を高めることができる。   A ring-shaped groove 16 is formed on the exposed surface of the die pad 1 opposite to the surface on which the semiconductor element 3 is mounted. The groove 16 can release the resin injection pressure at the time of resin sealing and can block the flow of the resin, and can suppress the thin burr within a certain range. Therefore, the effective area of the exposed surface can be ensured, the exposed surface can be soldered, and a higher heat dissipation effect can be enhanced.

次に、第2の実施形態による半導体装置について、図3を用いて説明する。図3は第2の実施形態による半導体装置を説明するための図であり、図3(a)は第2の実施形態に用いるリードフレームの平面図であり、図中の破線は樹脂封止体の形状を示しており、図3(b)は半導体装置の要部断面図である。   Next, the semiconductor device according to the second embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 3 is a view for explaining the semiconductor device according to the second embodiment. FIG. 3A is a plan view of a lead frame used in the second embodiment. FIG. 3B is a cross-sectional view of a main part of the semiconductor device.

図3に示すように、第2の実施形態による半導体装置は、ダイパッド1に接着剤2を塗布して、その上に半導体素子3を固着している。その半導体素子3には金属細線4が接続され、ダイパッド1周辺にある複数本のインナーリード5aとそれぞれ電気的に接続されている。各インナーリード5aと一体的に連結された各アウターリード6は封止樹脂体7から導出され、ダイパッド1,接着剤2,半導体素子3,金属細線4およびインナーリード5aは封止樹脂体7で封止されている。また、封止樹脂体7は平面形状が略長方形となるように成形されているとともに、アウターリード6は封止樹脂体7の各長辺からそれぞれ引き出されている。そして、ダイパッド1の露出面は封止樹脂体7から露出されている。   As shown in FIG. 3, in the semiconductor device according to the second embodiment, an adhesive 2 is applied to a die pad 1 and a semiconductor element 3 is fixed thereon. The metal element 4 is connected to the semiconductor element 3 and is electrically connected to a plurality of inner leads 5a around the die pad 1 respectively. Each outer lead 6 integrally connected to each inner lead 5 a is led out from the sealing resin body 7, and the die pad 1, adhesive 2, semiconductor element 3, metal wire 4 and inner lead 5 a are sealed resin body 7. It is sealed. Further, the sealing resin body 7 is shaped so that the planar shape is substantially rectangular, and the outer leads 6 are drawn out from the respective long sides of the sealing resin body 7. The exposed surface of the die pad 1 is exposed from the sealing resin body 7.

平面形状が略長方形のダイパッド1の各短辺に連結された支持リード10は、リドフレームを一体成形した後でも一体化した状態を維持するために、ダイパッド1を支持するものであるが、ダイパッド1に近い2カ所を屈曲させて、ダイパッド1をインナーリード5aより低い位置にダウンセットしている。このような構成のアウターリード6及び支持リード10を樹脂封止金型に型締めすると、支持リード10の剛性力によって、ダイパッド1は樹脂封止金型(図示せず)の底部に押し付けることができる。   The support lead 10 connected to each short side of the die pad 1 having a substantially rectangular plane shape supports the die pad 1 in order to maintain the integrated state even after the lid frame is integrally formed. The two parts close to 1 are bent, and the die pad 1 is set to a position lower than the inner lead 5a. When the outer lead 6 and the support lead 10 having such a structure are clamped to the resin-sealed mold, the die pad 1 can be pressed against the bottom of the resin-sealed mold (not shown) by the rigidity of the support lead 10. it can.

ダイパッド1の各側面には、複数の突起部9を有し、それら複数の突起部9の間には突起部9の先端を連結する部分(連結部分)を有しており、その突起部9は半導体素子3の搭載面側に屈曲されている。その複数の突起部9およびそれらの連結部分は、封止樹脂体7に埋設されるので、上記第1の実施形態よりも封止樹脂体7との噛み合いが良く、ダイパッド1と封止樹脂体7との密着性をより向上させ、より良い耐湿性を確保することができる。しかも、その連結部分とダイパッド1との間にダイパッド1の周縁に沿ったスリット状の穴が存在することになり、封止樹脂体7内に蓄積した湿気が半田付け時に熱膨張する際には、そのスリット状の穴がほど良い通気性を確保して、内部の蒸気を容易に逃がすことができ、ダイパッド1の変形を小さくして、実装後の耐湿性を改善できる。   Each side surface of the die pad 1 has a plurality of protrusions 9, and between the plurality of protrusions 9, there is a portion (connection portion) that connects the tips of the protrusions 9. Is bent toward the mounting surface side of the semiconductor element 3. Since the plurality of protrusions 9 and their connecting portions are embedded in the sealing resin body 7, the engagement with the sealing resin body 7 is better than in the first embodiment, and the die pad 1 and the sealing resin body 7 can be further improved, and better moisture resistance can be ensured. In addition, there is a slit-like hole along the periphery of the die pad 1 between the connecting portion and the die pad 1, and when moisture accumulated in the sealing resin body 7 is thermally expanded during soldering. The slit-shaped hole can ensure a good air permeability, and the internal vapor can be easily released, the deformation of the die pad 1 can be reduced, and the moisture resistance after mounting can be improved.

また、ダイパッド1の半導体素子3搭載面と反対側の露出面には、リング状の溝16を形成している。この溝16によって、樹脂封止時の樹脂注入圧力を逃がすと共に、樹脂の流れをせき止めることができ、薄バリを一定の範囲内に抑えることができる。従って、露出面の実効的な面積を確実に確保でき、露出面の半田付けを可能にして、さらに高い放熱効果を高めることができる。   A ring-shaped groove 16 is formed on the exposed surface of the die pad 1 opposite to the surface on which the semiconductor element 3 is mounted. The groove 16 can release the resin injection pressure at the time of resin sealing and can block the flow of the resin, and can suppress the thin burr within a certain range. Therefore, the effective area of the exposed surface can be ensured, the exposed surface can be soldered, and a higher heat dissipation effect can be enhanced.

次に、第3の実施形態による半導体装置について図4を用いて説明する。図4は第3の実施形態による半導体装置を説明するための図であり、図4(a)は第3の実施形態に用いるリードフレームの平面図であり、図中の破線は封止樹脂体の形状を示しており、図4(b)は要部断面図である。   Next, the semiconductor device according to the third embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 4 is a view for explaining the semiconductor device according to the third embodiment. FIG. 4A is a plan view of a lead frame used in the third embodiment. A broken line in the figure indicates a sealing resin body. FIG. 4B is a cross-sectional view of the main part.

図4に示す第3の実施形態は、前述の第2の実施形態と殆ど変わらないので、第2の実施形態との相違点を中心に説明する。   Since the third embodiment shown in FIG. 4 is almost the same as the second embodiment described above, the description will focus on the differences from the second embodiment.

ダイパッド1を支持する支持リード(短辺に設けられた第1の支持リード)10以外に、ダイパッド1の長辺の中央部近傍に在るインナーリード5aをダイパッド1に接続して、インナーリード5aを支持リード(第2の支持リード)として機能させることができる。このような構成にすると、ダイパッド1が四方から支持されるため、ダイパッド1の形状が変形したり、取り付け方向が変わったりし難くなり、ダイパッド1を封止金型に押し付ける際の力の配分が均一になって、安定に押し付けることができる。また、支持リード(10及び5a)による四方からの押し付けによって、ダイパッド1を封止金型に押し付ける力を強めることもでき、これらの相乗効果によって、ダイパッド1の露出面にでき易い封止樹脂の薄バリを更に少なくできる。なお、ダイパッド1の露出面を半田付けすると、放熱効果が良くなることは前述したが、露出面は配線基板に密着して実装されるのが一般的であり、露出面の周囲が封止樹脂で囲まれているため、半田付けすることが困難であるが、露出面を無理に直接半田付けしなくても、半田付けをしたアウターリードと、それに連設されたインナーリード5aとを通じて、ダイパッド1の熱を放熱することができ、ダイパッド1の露出面を直接半田付けした場合に及ばないもののかなりの放熱効果を期待できる。   In addition to the support lead (first support lead provided on the short side) 10 that supports the die pad 1, the inner lead 5 a near the center of the long side of the die pad 1 is connected to the die pad 1, and the inner lead 5 a Can function as a support lead (second support lead). With such a configuration, since the die pad 1 is supported from all sides, it is difficult for the shape of the die pad 1 to be deformed and the mounting direction to be changed, and the force distribution when pressing the die pad 1 against the sealing mold is reduced. It becomes uniform and can be pressed stably. Further, the pressing force from the four sides by the support leads (10 and 5a) can increase the force for pressing the die pad 1 against the sealing mold, and the synergistic effect of the sealing resin that can be easily formed on the exposed surface of the die pad 1 Thin burr can be further reduced. As described above, when the exposed surface of the die pad 1 is soldered, the heat dissipation effect is improved. However, the exposed surface is generally mounted in close contact with the wiring board, and the periphery of the exposed surface is a sealing resin. However, even if the exposed surface is not forcibly directly soldered, the die pad can be passed through the soldered outer lead and the inner lead 5a connected to the outer lead. 1 heat can be dissipated, and a considerable heat dissipating effect can be expected although it is not as good as when the exposed surface of the die pad 1 is directly soldered.

なお、インナーリード5bを支持リードとして活用する場合には、ダイパッド1に連結するインナーリード5bのリード幅をその他のインナーリード5aのリード幅の2倍〜5倍にして、本来の支持リード10の幅を細くしても良いし、インナーリード5bと支持リード10の両方を幅広にしても良い。   When the inner lead 5b is used as a support lead, the lead width of the inner lead 5b connected to the die pad 1 is set to be 2 to 5 times the lead width of the other inner leads 5a, so that the original support lead 10 The width may be narrowed, and both the inner lead 5b and the support lead 10 may be widened.

次に、図4に図示した半導体装置を製造する方法を一例にして、第4の実施形態としての半導体装置の製造方法を、図5〜図10に基づいて説明する。   Next, a method for manufacturing the semiconductor device as the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 10 by taking the method for manufacturing the semiconductor device shown in FIG. 4 as an example.

図5は、半導体装置の製造に使用するリードフレームを示す構成図であり、図5(a)はリードフレームの平面図、図5(b)は要部断面図であり、(c)は長手方向の断面図である。   5A and 5B are configuration diagrams showing a lead frame used for manufacturing a semiconductor device. FIG. 5A is a plan view of the lead frame, FIG. 5B is a cross-sectional view of the main part, and FIG. It is sectional drawing of a direction.

リードフレームの素材としては、熱伝導が良好で比較的機械強度の大きい鉄、鉄合金、銅または銅合金の薄板を使用する。そして、図5に示すように、その薄板をエッチング加工あるいはプレス加工により、ダイパッド1、インナーリード5a、インナーリード5b、アウターリード6、ダイパッド1の4つの側面に先端を連結した複数の突起部9、支持リード10、ダムバー11、外枠12、内枠13及び、ガイド孔14を一体成形する。図5に示すリードフレーム15は、外枠によって多連に構成されているリードフレーム15の一単位を図示したものである。   As the lead frame material, a thin plate of iron, iron alloy, copper or copper alloy having good heat conduction and relatively high mechanical strength is used. Then, as shown in FIG. 5, the thin plate is etched or pressed to form a plurality of protrusions 9 having tips connected to the four side surfaces of the die pad 1, inner lead 5a, inner lead 5b, outer lead 6, and die pad 1. The support lead 10, the dam bar 11, the outer frame 12, the inner frame 13, and the guide hole 14 are integrally formed. The lead frame 15 shown in FIG. 5 illustrates one unit of the lead frame 15 configured in multiples by an outer frame.

リードフレーム15の表面のワイヤーボンディング領域(図示せず)にAgめっき、あるいは全体にNi,Pd,Auの3層めっきを施す。この場合、最外層にAuフラッシュを施すことで、Agめっきを施したものより封止樹脂との密着性が向上し、良好な耐湿性を得ることができる。また、樹脂封止前に外装めっきが施されているので、樹脂封止時のダイパッド露出部に薄バリが発生しても、外装めっきの障害という問題が発生しないので、Ni,Pd,Auの3層めっきを施すことが望ましい。   Ag plating is performed on a wire bonding region (not shown) on the surface of the lead frame 15, or three layers of Ni, Pd, and Au are applied to the whole. In this case, by applying Au flash to the outermost layer, the adhesion with the sealing resin is improved as compared with the one subjected to Ag plating, and good moisture resistance can be obtained. Moreover, since exterior plating is performed before resin sealing, even if a thin burr is generated in the die pad exposed portion at the time of resin sealing, there is no problem of failure of exterior plating. Therefore, Ni, Pd, Au It is desirable to apply three-layer plating.

次に、樹脂封止時にダイパッド1の露出面に発生する樹脂の薄バリをせき止めるために、ダイパッド1の半導体素子3の搭載面と反対側になる露出面にリング状の溝16を形成する。   Next, a ring-shaped groove 16 is formed on the exposed surface of the die pad 1 opposite to the mounting surface of the semiconductor element 3 in order to stop resin thin burrs generated on the exposed surface of the die pad 1 during resin sealing.

この際、溝16の切削加工により、リードフレーム材料が伸びるため、ダイパッド1の溝16より外側の部分が半導体素子3搭載面側に数〜数十μm反り上がってしまうことがある。この場合は、ダイパッド1の半導体素子3の搭載面側にも溝16とほぼ同じ形の溝(図示せず)を施すことで、材料の伸びを相殺し、反り上がりを防止することができる。ダイパッド1の搭載面側に設ける溝(図示せず)は、溝16のように薄バリをせき止めるためのものではないので、リング状に閉じなくても良い。   At this time, since the lead frame material is stretched by cutting the groove 16, the portion outside the groove 16 of the die pad 1 may be warped several to several tens of μm toward the semiconductor element 3 mounting surface. In this case, by providing a groove (not shown) having substantially the same shape as the groove 16 on the mounting surface side of the semiconductor element 3 of the die pad 1, the elongation of the material can be offset and the warping can be prevented. Since the groove (not shown) provided on the mounting surface side of the die pad 1 is not intended to stop the thin burr unlike the groove 16, it does not have to be closed in a ring shape.

また、薄バリは樹脂が注入される部分に多く発生し易い。これは、ダイパッドを封止金型に押さえ付ける充填圧力が加わる前に、封止樹脂がダイパッド1と封止金型との間に回り込んでしまうためである。この場合、少なくとも封止樹脂が注入される方向に合致したダイパッド1の部分に溝を2重に形成することで、薄バリをせき止めることができる。   Further, many thin burrs are likely to occur in the portion where the resin is injected. This is because the sealing resin wraps around between the die pad 1 and the sealing mold before the filling pressure for pressing the die pad against the sealing mold is applied. In this case, at least a portion of the die pad 1 that matches the direction in which the sealing resin is injected is formed with a double groove so that thin burr can be prevented.

次に、支持リード10のダイパッド1に近い2箇所を折り曲げて、ダイパッド1をインナーリード5aより低い位置にダウンセットさせるダウンセット加工と、ダイパッド1の4つの側面に設けられた互いの先端が連結された突起部9を半導体素子3の搭載面側に折り曲げる突起部折り曲げ加工とを行う。   Next, two places near the die pad 1 of the support lead 10 are bent to downset the die pad 1 to a position lower than the inner lead 5a, and the tips provided on the four side surfaces of the die pad 1 are connected. The protruding portion 9 is bent so that the protruding portion 9 is bent toward the mounting surface side of the semiconductor element 3.

このようなダウンセット加工を行う際、屈曲用金型を1回だけ用いて行うのではなく、2つの折り曲げ箇所のちょうど中間位置で第1段階の屈曲成形を行い、第2段階では、第1段階で折り曲げた箇所を直線状に戻す成形を行いながら、最終的な所定の折り曲げ箇所で折り曲げ加工を行う。これは、折り曲げ加工の箇所では金属を引き延ばす応力が加えられるため、1回の折り曲げ加工で一気にダウンセットすると、金属疲労が大きくなり、支持リード10の屈曲部に亀裂が生じることから、第1段階と第2段階とに分けて、異なる位置を折り曲げ成形することによって、支持リード10の金属疲労を低減している。   When such a downset process is performed, the first-stage bending is performed at an intermediate position between the two bent portions, rather than using the bending die only once. In the second stage, Bending is performed at the final predetermined folding position while forming the portion bent at the stage into a straight line. This is because the stress that stretches the metal is applied at the location of the bending process, so that if the metal is downset at once, the metal fatigue increases and the bent portion of the support lead 10 is cracked. And the second stage, the metal fatigue of the support lead 10 is reduced by bending at different positions.

一例として、樹脂封止体の厚みが約1mm、平面形状が約6mm×17mmの面実装パッケージを0.15mm厚の銅合金板で作製する事例を説明する。この場合、ダイパッド1の平面形状は約3mm×6mm、複数の突起部9は長さ0.5mm程度で半導体素子3の搭載面側に45度程度の角度で折り曲げる。折り曲げた突起部9の先端は、金属細線に接触しないように、インナーリード5aよりも下に位置するように成形される。支持リード10を折り曲げてダイパッド1をインナーリード5aの位置より低く設定(ダウンセット)するが、そのダウンセット量(ダイパッド1とインナーリード5aとの段差)は0.47mm程度に設定する。結果として、封止金型による位置規制が無ければ封止金型の底部よりダイパッド1の位置が0.02〜0.2mmの範囲で下がるように、ダウンセット量を設定する。また、ダイパッド1の溝16の深さは0.01mm程度であれば、リードフレームを工程内で移動させる場合にひっかかりが生じるような問題は発生しない。   As an example, a case will be described in which a surface mount package having a resin sealing body thickness of about 1 mm and a planar shape of about 6 mm × 17 mm is made of a 0.15 mm thick copper alloy plate. In this case, the planar shape of the die pad 1 is about 3 mm × 6 mm, and the plurality of protrusions 9 are about 0.5 mm long and are bent at an angle of about 45 degrees toward the mounting surface side of the semiconductor element 3. The tip of the bent projection 9 is formed so as to be positioned below the inner lead 5a so as not to contact the fine metal wire. The support lead 10 is bent to set the die pad 1 lower than the position of the inner lead 5a (downset), but the amount of downset (step difference between the die pad 1 and the inner lead 5a) is set to about 0.47 mm. As a result, the amount of downset is set so that the position of the die pad 1 falls within the range of 0.02 to 0.2 mm from the bottom of the sealing mold if there is no position restriction by the sealing mold. Further, if the depth of the groove 16 of the die pad 1 is about 0.01 mm, there will be no problem that causes a catch when the lead frame is moved in the process.

このように構成されている多連リードフレーム15は、半導体素子3をダイパッド1に固着する半導体素子ボンディング工程および、半導体素子3とインナーリード5aを電気的に接続するワイヤーボンディング工程が、各単位リードフレーム毎に実施される。これらのボンディング作業は横方向にピッチ送りされることにより、各単位当たりのリードフレーム毎に順次実施される。   The multiple lead frame 15 configured as described above includes a semiconductor element bonding process for fixing the semiconductor element 3 to the die pad 1 and a wire bonding process for electrically connecting the semiconductor element 3 and the inner lead 5a. This is performed for each frame. These bonding operations are sequentially performed for each lead frame per unit by pitch-feeding in the horizontal direction.

次に、ダイボンディング工程およびワイヤーボンディング工程について説明する。図6はダイボンディングの前工程を説明するための工程断面図、図7はダイボンディング工程を説明するための工程断面図であり、図8はワイヤーボンディング工程を説明するための工程断面図である。   Next, the die bonding process and the wire bonding process will be described. 6 is a process cross-sectional view for explaining the pre-process of die bonding, FIG. 7 is a process cross-sectional view for explaining the die bonding process, and FIG. 8 is a process cross-sectional view for explaining the wire bonding process. .

まず、図6に示すように、半導体素子ボンディング装置(図示せず)のステージ17上において、ダイパッド1上に半導体素子3を固着するための接着剤2を塗布する。接着剤の塗布はディスペンサ18を用いて、接着剤2を滴下することにより行う。接着剤2は、一例として熱硬化性のエポキシ樹脂にAg粉を混合させた銀ペーストからなる。   First, as shown in FIG. 6, an adhesive 2 for fixing the semiconductor element 3 on the die pad 1 is applied on a stage 17 of a semiconductor element bonding apparatus (not shown). Application of the adhesive is performed by dropping the adhesive 2 using the dispenser 18. For example, the adhesive 2 is made of a silver paste in which Ag powder is mixed with a thermosetting epoxy resin.

次に、図7に示すように、接着剤2を塗布したダイパッド1上にコレット19を用いて半導体素子3を搭載した後、ヒートステージ(図示せず)上で加熱し、接着剤2を硬化させる。一例として、半導体素子3は、外形寸法は平面形状が2mm×3mm、厚さが0.3mm程度のシリコン単結晶である。また、加熱条件は200〜250℃、30秒から1分程度である。なお、接着剤2の硬化はオーブンを用いてもよい。   Next, as shown in FIG. 7, the semiconductor element 3 is mounted on the die pad 1 coated with the adhesive 2 using the collet 19, and then heated on a heat stage (not shown) to cure the adhesive 2. Let As an example, the semiconductor element 3 is a silicon single crystal whose outer dimensions are a planar shape of 2 mm × 3 mm and a thickness of about 0.3 mm. The heating conditions are 200 to 250 ° C. and about 30 seconds to 1 minute. The adhesive 2 may be cured using an oven.

次に、図8に示すように、ダイパッド1上に固着された半導体素子3のボンディングパッド21と、インナーリード5aとを金属細線4を用いて電気的に接続する。ワイヤーボンド装置のヒートステージ20には、ダイパッド1、支持リード10およびインナーリード5bの一部とダイパッド1を入れる逃がし部が形成されており、インナーリード5aのワイヤーボンド領域外周部を固定治具22によって固定しながら行う。一例として、金属細線は、直径20〜35μmのAuワイヤーを用いる。   Next, as shown in FIG. 8, the bonding pad 21 of the semiconductor element 3 fixed on the die pad 1 and the inner lead 5 a are electrically connected using the metal thin wire 4. In the heat stage 20 of the wire bonding apparatus, a part of the die pad 1, the support lead 10 and the inner lead 5b and a relief part for inserting the die pad 1 are formed, and the outer periphery of the wire bond region of the inner lead 5a is fixed to the fixing jig 22. While fixed by. As an example, an Au wire having a diameter of 20 to 35 μm is used as the metal thin wire.

このようにして、各単位リードフレーム毎にダイボンディング、ワイヤーボンディングが施された後、単位リードフレーム群を一括して樹脂封止して複数の封止樹脂体7を同時に成形する。   Thus, after die bonding and wire bonding are performed for each unit lead frame, the unit lead frame group is collectively resin-sealed to form a plurality of sealing resin bodies 7 simultaneously.

次に、樹脂封止工程を説明するための工程断面図である図9を参照しながら、樹脂封止工程について説明する。   Next, the resin sealing step will be described with reference to FIG. 9 which is a process cross-sectional view for explaining the resin sealing step.

図9は、トランスファ成形装置を示しており、シリンダ装置(図示せず)によって型締めされる一対の上型24と下型25とを備えており、上型24と下型25との合わせ面には上型キャビティー26aと下型キャビティー26bとで、キャビティー26を形成するように、それぞれ複数組み埋設されている。上型24の合わせ面にはポット27が開設されており、ポット27にはシリンダ装置(図示しない)により進退されるプランジャー28が成形材料としての樹脂を送給し得るように挿入されている。下型25の合わせ面にはカル29がポット27と対向位置に配されて埋設されているとともに、ランナー30がポット27とにそれぞれ接続されている。さらに各ランナー30の他端部は下型キャビティー26bにそれぞれ接続されており、その接続部にはゲート31が樹脂をキャビティー26内に注入し得るように形成されている。また、下型25の合わせ面には、逃がし部32がリードフレーム重合体23におけるリードフレーム15の厚み分を逃げ得るように、その外形よりも若干大きめの長方形で、その厚さよりも若干浅い深さに形成されている。このような構成のトランスファ成形装置を用いて、樹脂封止は以下の方法で行われる。   FIG. 9 shows a transfer molding apparatus, which includes a pair of an upper mold 24 and a lower mold 25 that are clamped by a cylinder device (not shown), and a mating surface between the upper mold 24 and the lower mold 25. Each of the upper mold cavity 26a and the lower mold cavity 26b is embedded in a plurality so as to form the cavity 26. A pot 27 is opened on the mating surface of the upper mold 24, and a plunger 28 that is advanced and retracted by a cylinder device (not shown) is inserted into the pot 27 so that resin as a molding material can be fed. . On the mating surface of the lower mold 25, a cull 29 is arranged and buried at a position facing the pot 27, and a runner 30 is connected to the pot 27. Further, the other end portion of each runner 30 is connected to the lower mold cavity 26 b, and a gate 31 is formed at the connecting portion so that the resin can be injected into the cavity 26. In addition, on the mating surface of the lower mold 25, a rectangular shape slightly larger than the outer shape and a depth slightly shallower than the thickness so that the escape portion 32 can escape the thickness of the lead frame 15 in the lead frame polymer 23. Is formed. Using the transfer molding apparatus having such a configuration, resin sealing is performed by the following method.

180℃程度に加熱された上記トランスファ装置の封止金型の逃がし部32に、リードフレーム重合体23を装着し封止金型を型締めする。次に、円錐形に打錠された樹脂(図示せず)をポット27に挿入し、プランジャー28により樹脂がカル29、ランナー30、ゲート31を通じて各キャビティー26に圧入される。注入後、樹脂が熱硬化されて封止樹脂体7が形成されると、上型24および下型25は型開きされるとともに、エジェクタ・ピン(図示しない)により封止樹脂体7群が離型され、樹脂成形されたリードフレーム重合体23はトランスファ成形装置から脱装される。   The lead frame polymer 23 is attached to the relief portion 32 of the sealing mold of the transfer device heated to about 180 ° C., and the sealing mold is clamped. Next, a resin (not shown) compressed in a conical shape is inserted into the pot 27, and the resin is press-fitted into the cavities 26 through the cull 29, the runner 30, and the gate 31 by the plunger 28. After the injection, when the resin is thermally cured to form the sealing resin body 7, the upper mold 24 and the lower mold 25 are opened, and the sealing resin body 7 group is separated by an ejector pin (not shown). The molded and resin-molded lead frame polymer 23 is detached from the transfer molding apparatus.

このようにして、樹脂成形された樹脂封止体の内部には、ダイパッド1、接着剤2、半導体素子3、金属細線4、インナーリード5a、インナーリード5b、突起部9、および支持リード10が樹脂封止されることになる。この際、下型25による位置規制が無ければ、下型25の底部の深さより0.02〜0.2mm低い位置に固定されるようにダウンセットされたダイパッド1を有したリードフレームを封止金型で型締めした時、半導体素子3の搭載面と反対側の露出面が下型25に押し付けられ、ダイパッド1の下側(露出面側)に樹脂が回り込むのを防止するため、ダイパッド1の露出面を封止樹脂体7より露出させるように樹脂封止することができる。   Thus, the die pad 1, the adhesive 2, the semiconductor element 3, the fine metal wire 4, the inner lead 5a, the inner lead 5b, the protruding portion 9, and the support lead 10 are formed inside the resin-molded resin sealing body. It will be resin-sealed. At this time, if there is no position restriction by the lower mold 25, the lead frame having the die pad 1 downset so as to be fixed at a position 0.02 to 0.2 mm lower than the depth of the bottom of the lower mold 25 is sealed. When the mold is clamped, the exposed surface opposite to the mounting surface of the semiconductor element 3 is pressed against the lower mold 25 to prevent the resin from flowing around to the lower side (exposed surface side) of the die pad 1. Can be resin-sealed so as to expose the exposed surface from the sealing resin body 7.

なお、通常に使用される封止金型のキャビティー部分は基板実装に認識し易いくするためにナシ地加工が施され表面が荒らされているが、少なくともダイパッドが当接する部分に鏡面加工を施す(図示せず)ことによって、ダイパッド1と封止金型との隙間を無くすことができるので、薄バリの発生をさらに抑制することができる。さらに、下型25のダイパッド1が当接する部分にダイパッド1を吸着する機構(図示せず)をもたせることによって、さらに薄バリの発生を抑制することができる。   Note that the cavity part of the normally used sealing mold is pear-finished and roughened to make it easier to recognize for board mounting, but at least the part where the die pad contacts is mirror-finished. By applying (not shown), the gap between the die pad 1 and the sealing mold can be eliminated, and the generation of thin burrs can be further suppressed. Furthermore, by providing a mechanism (not shown) for adsorbing the die pad 1 to the portion of the lower mold 25 where the die pad 1 abuts, the occurrence of thin burrs can be further suppressed.

図10は樹脂封止後の半導体装置の背面図であり、ダイパッドの露出面に形成される薄バリを説明するための図である。   FIG. 10 is a rear view of the semiconductor device after resin sealing, and is a view for explaining a thin burr formed on the exposed surface of the die pad.

図10に示すように、ダイパッド1の露出面は、ダイパッド1の外周部から樹脂注入圧力によって樹脂の薄バリ33が漏れだして付着するが、ダイパッド1に施されているリング状に形成された溝16で薄バリが止まり、溝16の内側に実効的な露出面を一定面積以上に確保することができ、ダイパッド1の露出面をプリント基板(図示せず)に半田付け実装することが可能になる。また、リング状の溝16は、図10に示すように一重で設けるより、二重に設ける方がより確実に薄バリの発生を防止できる。   As shown in FIG. 10, the exposed surface of the die pad 1 is formed in a ring shape applied to the die pad 1, although the resin thin burr 33 leaks from the outer peripheral portion of the die pad 1 due to the resin injection pressure and adheres. The thin burrs stop at the groove 16, an effective exposed surface inside the groove 16 can be secured over a certain area, and the exposed surface of the die pad 1 can be soldered and mounted on a printed circuit board (not shown). become. Further, the ring-shaped groove 16 can more reliably prevent the occurrence of thin burrs by providing double the ring-like groove 16 as shown in FIG.

次に、樹脂成形されたリードフレーム重合体23の、リードフレーム15のボンディング領域にAgめっきが施されたものの場合は、リードフレーム重合体23の封止樹脂体7以外の部分に、半田外装めっきを施す(図示せず)。リードフレーム15の少なくとも半導体装置の完成品となる部分にPdめっきが施されているものの場合は、半田外装めっきは必要としない。   Next, in the case where the resin-molded lead frame polymer 23 is subjected to Ag plating in the bonding region of the lead frame 15, solder exterior plating is applied to a portion other than the sealing resin body 7 of the lead frame polymer 23. (Not shown). In the case where Pd plating is applied to at least a portion of the lead frame 15 which is a finished product of the semiconductor device, solder exterior plating is not required.

次に、図11に示すように、半田外装めっきを経た後、あるいは半田外装めっきされる前の樹脂成形されたリードフレーム重合体23を、切断装置(図示せず)によって、各単位リードフレーム毎に順次、ダムバー11を切断する。   Next, as shown in FIG. 11, the resin-molded lead frame polymer 23 after the solder exterior plating or before the solder exterior plating is applied to each unit lead frame by a cutting device (not shown). The dam bar 11 is cut sequentially.

次に、リード成形装置(図示せず)によって、アウターリード6の先端と内枠13の一部を切断した後、アウターリード6をガルウイング形状に屈曲成形し、内枠13の一部を切断し、半導体装置を外枠12から切り離す。   Next, the tip of the outer lead 6 and a part of the inner frame 13 are cut by a lead forming device (not shown), and then the outer lead 6 is bent into a gull wing shape, and a part of the inner frame 13 is cut. Then, the semiconductor device is separated from the outer frame 12.

以上のようにして、図3に示す半導体装置を完成することができる。   As described above, the semiconductor device illustrated in FIG. 3 can be completed.

本発明の半導体装置は、電子機器の高放熱化を実現する手段として有用である。   The semiconductor device of the present invention is useful as a means for realizing high heat dissipation of electronic equipment.

本発明の第1の実施形態に係る半導体装置に用いるリードフレームの平面図1 is a plan view of a lead frame used in a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る半導体装置を示す図であり、(a)は半導体装置の要部断面図、(b)は半導体装置の長手方向の断面図、(c)は半導体装置の背面図BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the semiconductor device which concerns on the 1st Embodiment of this invention, (a) is principal part sectional drawing of a semiconductor device, (b) is sectional drawing of the longitudinal direction of a semiconductor device, (c) is a semiconductor device of FIG. Rear view 第2の実施形態の半導体装置を示す図であり、(a)は半導体装置に用いるリードフレームの平面図、(b)は半導体装置の要部断面図4A and 4B are diagrams illustrating a semiconductor device according to a second embodiment, in which FIG. 5A is a plan view of a lead frame used in the semiconductor device, and FIG. 第3の実施形態の半導体装置を示す図であり、(a)は半導体装置に用いるリードフレームの平面図、(b)は半導体装置の要部断面図4A and 4B are views showing a semiconductor device according to a third embodiment, wherein FIG. 5A is a plan view of a lead frame used in the semiconductor device, and FIG. 第4の実施形態に用いるリードフレームを示す図、(a)はリードフレームの平面図、(b)はリードフレームの要部断面図、(c)はリードフレームの長手方向の断面図The figure which shows the lead frame used for 4th Embodiment, (a) is a top view of a lead frame, (b) is principal part sectional drawing of a lead frame, (c) is sectional drawing of the longitudinal direction of a lead frame 第4の実施形態のダイボンディング工程の前工程を説明するための工程断面図Process sectional drawing for demonstrating the pre-process of the die-bonding process of 4th Embodiment 第4の実施形態のダイボンディング工程を説明するための工程断面図Process sectional drawing for demonstrating the die bonding process of 4th Embodiment 第4の実施形態のワイヤーボンディング工程を説明するための工程断面図Process sectional drawing for demonstrating the wire bonding process of 4th Embodiment 第4の実施形態の樹脂封止工程を説明するための工程断面図Process sectional drawing for demonstrating the resin sealing process of 4th Embodiment 樹脂封止後の半導体装置の背面図であり、ダイパッドの露出面に形成される薄バリを説明するための図It is a rear view of the semiconductor device after resin sealing, and is a diagram for explaining a thin burr formed on the exposed surface of the die pad ダムバー切断後の半導体装置を示す図The figure which shows the semiconductor device after dam bar cutting 従来の半導体装置を示す図であり、(a)は半導体装置の要部断面図、(b)は半導体装置の背面図It is a figure which shows the conventional semiconductor device, (a) is principal part sectional drawing of a semiconductor device, (b) is a rear view of a semiconductor device.

符号の説明Explanation of symbols

1 ダイパッド
2 接着剤
3 半導体素子
4 金属細線
5a インナーリード
5b インナーリード(第2の支持リード)
6 アウターリード
7 封止樹脂体
8 突起部
9 突起部
10 支持リード(第1の支持リード)
11 ダムバー
12 外枠
13 内枠
14 ガイド孔
15 リードフレーム
16 溝
17 ステージ
18 ディスペンサ
19 コレット
20 ヒートステージ
21 ボンディングパッド
22 固定治具
23 リードフレーム重合体
24 上型
25 下型
26a キャビティー上
26b キャビティー下
27 ポット
28 プランジャー
29 カル
30 ランナー
31 ゲート
32 逃がし部
33 薄バリ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Die pad 2 Adhesive 3 Semiconductor element 4 Metal thin wire 5a Inner lead 5b Inner lead (2nd support lead)
6 Outer lead 7 Sealing resin body 8 Protrusion 9 Protrusion 10 Support lead (first support lead)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Dam bar 12 Outer frame 13 Inner frame 14 Guide hole 15 Lead frame 16 Groove 17 Stage 18 Dispenser 19 Collet 20 Heat stage 21 Bonding pad 22 Fixing jig 23 Lead frame polymer 24 Upper mold 25 Lower mold 26a Cavity upper 26b Cavity Lower 27 Pot 28 Plunger 29 Cull 30 Runner 31 Gate 32 Relief part 33 Thin burr

Claims (9)

長方形のダイパッド上に搭載された半導体素子と、前記ダイパッドの側面に設けられ前記半導体素子の搭載面側に屈曲した複数の突起部と、前記ダイパッドの短辺に設けられ前記ダイパッドを支持する支持リードと、前記半導体素子に金属細線でそれぞれ電気的に接続された複数本のインナーリードと、各インナーリードにそれぞれ一体的に連結された各アウターリードと、前記搭載面、前記半導体素子、前記複数の突起部、前記金属細線、および前記インナーリード群を樹脂封止する長方形の平板状に成形された封止樹脂体とを備え、前記複数本のアウターリードを封止樹脂体の長辺からそれぞれ引き出し、前記ダイパッドの露出面を前記封止樹脂体から露出させ、前記ダイパッド側面に設けられた前記複数の突起部が先端をT字型にされていることを特徴とする半導体装置。 A semiconductor element mounted on a rectangular die pad; a plurality of protrusions provided on a side surface of the die pad and bent toward the mounting surface side of the semiconductor element; and a support lead provided on a short side of the die pad and supporting the die pad A plurality of inner leads electrically connected to the semiconductor element by thin metal wires, outer leads integrally connected to the inner leads, the mounting surface, the semiconductor element, and the plurality of the plurality of inner leads, respectively. A projection resin, a thin metal wire, and a sealing resin body molded into a rectangular flat plate for resin-sealing the inner lead group, and each of the plurality of outer leads is drawn out from the long side of the sealing resin body The exposed surface of the die pad is exposed from the sealing resin body, and the plurality of protrusions provided on the side surface of the die pad have a T-shaped tip. Wherein a it is. ダイパッドの一側面に設けられた複数の突起部が先端で連結されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of protrusions provided on one side surface of the die pad are connected at the tip. ダイパッドの露出面の周縁に沿ってリング状の溝を設けたことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a ring-shaped groove is provided along the periphery of the exposed surface of the die pad. ダイパッドの露出面に設けられた溝が2重に形成されていることを特徴とする請求項4記載の半導体装置。 5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the groove provided on the exposed surface of the die pad is formed in a double manner. リードフレームの表面にNi、Pd、Auの3層めっきを施したことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the surface of the lead frame is plated with three layers of Ni, Pd, and Au. 支持リードがインナーリードの高さからダウンセットされていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1, wherein the support lead is downset from the height of the inner lead. インナーリードと接続されない第1の支持リードをダイパッドの短辺にそれぞれ設け、ダイパッドの長辺とインナーリードを接続した第2の支持リードを前記ダイパッドの長辺にそれぞれ設けたことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 A first support lead that is not connected to the inner lead is provided on each short side of the die pad, and a second support lead that is connected to the long side of the die pad and the inner lead is provided on each long side of the die pad. Item 14. A semiconductor device according to Item 1. 第1または第2の支持リードを0.3mm〜0.6mmの幅で構成することを特徴とする請求項7記載の半導体装置。 8. The semiconductor device according to claim 7, wherein the first or second support lead is configured with a width of 0.3 mm to 0.6 mm. 第1または第2の支持リードの幅をインナーリード幅の2倍以上にしたことを特徴とする請求項7記載の半導体装置。 8. The semiconductor device according to claim 7, wherein the width of the first or second support lead is set to be twice or more the inner lead width.
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