JP2000234166A

JP2000234166A - 真空蒸着装置

Info

Publication number: JP2000234166A
Application number: JP11032001A
Authority: JP
Inventors: Takahiro Kubota; 隆弘窪田; Tsukasa Oshima; 司大嶋; Seiji Izeki; 清司伊関
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 1999-02-09
Filing date: 1999-02-09
Publication date: 2000-08-29
Anticipated expiration: 2019-02-09
Also published as: JP3630220B2

Abstract

(57)【要約】【課題】走行中のフィルム表面に異なる元素からな
り、所定の組成比及び目標厚みを有する混合膜を、連続
的、且つ均一に形成できる真空蒸着装置を提供する。【解決手段】真空槽内を走行するフィルム１７の表面
に異なる元素からなる混合膜を形成する蒸着装置であ
る。異なる元素に電子線を照射してフィルム表面に蒸着
させることによりフィルム１７表面に混合膜を形成する
加熱手段４と、フィルム１７上の混合膜にＸ線を照射す
るＸ線照射手段７と、Ｘ線照射手段７により励起された
特性Ｘ線の強度を測定して厚みに換算する厚み測定手段
と、測定された厚みデータを基に電子線の強度と電子線
の捜査時間と走行するフィルムの速度を制御する制御手
段と、を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、異なる元素からな
る混合膜が表面に形成された各種フィルム状製品の製造
に適する真空蒸着装置に関し、詳しくは、真空槽内を走
行するフィルム表面に異なる元素からなる混合膜を連続
的に且つ均一に形成するための真空蒸着装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】真空槽中を走行する高分子フィルムに薄
膜を蒸着・形成する方法として、例えば特開平２−２３
６２７３号公報に記載されている方法がある。この方法
は、移動する高分子フィルムと直交する方向に、高分子
フィルムの幅方向を越えて対向、配置された横長の蒸発
源に、無走査電子銃から電子線を照射して加熱し、高分
子フィルム上に薄膜を形成させる。そして、電子銃から
電子線を照射する際、電子線が蒸着源の各位置で同じ入
射角度になるように磁界を制御して行うようになってい
る。

【０００３】しかしながら、この方法では蒸着した膜厚
をモニタする手段が無いため、例えば、真空槽の真空度
が変化したり、蒸着材料の表面形状が変化するなどによ
り蒸着速度が変化した場合に、蒸着膜の厚みが変化して
一定しないという問題があった。又、この方法では、複
数の蒸着材料を同時に蒸着させて、これらの蒸着材料に
よる混合膜を高分子フィルム上に形成することはできな
い。

【０００４】かかる問題を解決するために提案された真
空蒸着装置として、例えば、真空槽内の蒸着源を電子銃
で加熱した際の蒸発量の一部を検出する検出器と、この
検出器での検出値に基づいて前記蒸着源の出力を制御す
る手段とを備えた構造のものがある。

【０００５】この方式の検出器は水晶振動子を備えてい
て、水晶振動子に蒸着膜が付着すると、膜厚に依存して
振動周波数が変動する原理を利用している。この真空蒸
着装置は、蒸着源からの蒸発量の一部を制御指標として
高分子フィルム上に製膜された薄膜の厚みを間接的に制
御する。

【０００６】しかしながら、上述した検出器は種類の異
なる複数の蒸着源を有する場合には、検出した信号を各
々の成分情報に分解することができず、その結果、化学
組成比及び厚みの制御の精度が著しく低下するという問
題があった。又、間接制御であるために、例えば蒸着時
の蒸発ビーム方向が変わった場合には検出器の測定値と
実測値が合わなくなることもあった。更に、上記検出器
は検出器への総蒸着量の制限から、長時間の連続計測を
行う場合に、計測途中で検出器を切り替える等の対策が
必要となり、計測の信頼性にも問題があった。

【０００７】かかる問題を解消した装置として、例えば
特開平１−２０８４６５号公報に記載の装置がある。こ
の装置は、蒸着後の基板上の蒸着膜に電子線を鋭角に入
射して特性Ｘ線を励起させるための電子銃と、この特性
Ｘ線の強度を測定する検出器と、この検出器での検出値
に基づいて各蒸着源の出力を制御する手段とを備える。
この装置では、蒸着薄膜の直接計測が可能であるため、
上述した装置に比べて製膜性は向上する。

【０００８】しかしながら、上記特性Ｘ線はＲＨＥＥＤ
（高エネルギー電子線）を蒸着膜に鋭角に入射すること
により励起されるため、蒸着薄膜のごく表層の情報しか
得ることができない。つまり、蒸着薄膜全体の情報が得
られるわけではないため、混合膜の組成比及び総厚みが
一定である蒸着膜を製膜する装置としては、十分な情報
が得られず問題であった。又、特性Ｘ線の励起源が高エ
ネルギー電子線であることから、照射された部分の蒸着
膜表面を破損するおそれもあった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来技術の有する問題点を解消し、走行中のフィルム表
面に異なる元素からなり、所定の組成比及び目標厚みを
有する混合膜を、連続的、且つ均一に形成できる真空蒸
着装置を提供することにある。

【００１０】尚、本発明において「フィルム」とは、幅
及び長さに対して厚みの薄い形状の材料を総称するもの
とし、本来のフィルムのみならずシート状材料を含む概
念として用いる。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記問題は、請求項１記
載の発明により達成される。すなわち、本発明に係わる
真空蒸着装置の特徴構成は、真空槽内を走行するフィル
ムの表面に異なる元素からなる混合膜を形成する蒸着装
置において、異なる元素に電子線を照射してフィルム表
面に蒸着させることにより該フィルム表面に混合膜を形
成する加熱手段と、該フィルム上の混合膜にＸ線を照射
するＸ線照射手段と、該Ｘ線照射手段により励起された
特性Ｘ線の強度を測定して厚みに換算する厚み測定手段
と、測定された厚みデータを基に電子線の強度および電
子線の捜査時間と、走行するフィルムの速度を制御する
制御手段と、を備えることを特徴とする。

【００１２】一実施態様において、前記制御手段は、測
定した混合膜の厚みと目標値との偏差値を基に、前記蒸
着材料に照射する電子線の強度と電子線の捜査時間を制
御し、電子線のエネルギーが予め設定された許容量を越
えた時に限って走行フィルムの速度を制御するように構
成されていることを特徴とする。

【００１３】この構成によれば、異なる種類の蒸着材料
から蒸発した蒸着成分により、走行フィルム表面に混合
膜が形成され、この混合膜から、直接、且つリアルタイ
ムで各成分毎の特性Ｘ線強度を測定できるので、かかる
測定値から各々の混合膜構成成分の厚みデータに換算・
出力でき、この厚みデータに基づいて制御手段により予
め設定された各成分の目標値と比較し、これらの偏差値
を求める等の処理が可能になり、かかる処理に基づいて
加熱手段をフィードバック制御することができ、所定の
化学組成を有し、且つ目標とする厚みの混合膜を高精度
にフィルム上に製膜できる。

【００１４】さらに、蒸着速度に応じた走行フィルムの
速度制御が可能であるため、仮に加熱手段の制御量が一
定にもかかわらず、真空槽内の圧力上昇により蒸着速度
が大きく低下して目標の混合膜厚みが得られなくなった
場合でも、蒸着を停止させることなく蒸着を継続させる
ことができる。

【００１５】しかも、蒸着された混合膜構成成分の厚み
データを検出するのにＸ線を照射するようにしているた
め、高エネルギー電子線の照射とは異なり、混合膜を破
損することがない。その結果、走行中のフィルム表面に
異なる元素の混合膜の組成比及び目標厚みを有する混合
膜を連続的、且つ均一に形成することができる。

【００１６】前記Ｘ線照射手段は厚みを測定する混合膜
に対して垂直に照射することが好ましい。こうすること
で、励起される特性Ｘ線は混合膜の厚み方向全体の情報
として得ることができる。

【００１７】前記Ｘ線照射手段、前記分光手段及び前記
測定手段を有する厚みモニタ装置は、測定する混合膜の
要求品質に応じてフィルム幅方向に等間隔で千鳥状に配
置させて測定するか、又は、フィルム幅方向に一列に等
間隔で配置させて測定することが好ましい。モニタ装置
を干鳥状に配置する方法は、モニタ装置の形状の制約を
受けないため、混合膜の全幅において多くの厚み情報を
同時に且つリアルタイムに計測できる。モニタ装置を一
列に等間隔で配置する方法は、装置が比較的安価であり
且つ混合膜の全幅を同時に且つリアルタイムに計測でき
る。又、測定された情報を基に測定点間の厚みを近似予
測することで制御性は向上する。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、図面を参
照して詳細に説明する。

【００１９】図１は、本実施形態における真空蒸着装置
の概略構造を示す。この真空蒸着装置は、フィルム状の
被蒸着材料として、例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）などの高分子フィルムが用いられる。その
他使用可能な高分子フィルムとしては、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロ
ン１２、ナイロン４、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン等があげられ、高分子フィルムとして特に材料に限
定されるものではない。

【００２０】真空槽６内に配設された巻き出しロール１
にセットされた高分子フィルム１７は冷却ロール３上を
走行し、測定ロール５を通り、巻き取りロール２で巻き
取られる。真空槽６内の真空度は油拡散ポンプ（図示
略）等からなる排気系１０により所定の真空度に維持さ
れる。

【００２１】真空槽６の底部に、蒸着材料１６を保持す
る保持手段の一例である坩堝９が配置されている。この
坩堝９は、加熱手段である電子銃４に向かって高分子フ
ィルム１７の被蒸着面と平衡関係を保ちながら低速で移
動するようになっている。

【００２２】つまり坩堝９は移動する高分子フィルム１
７に対して蒸着条件が一定に保たれるように、図１の電
子銃４に対して接近又は離間することにより（矢印Ｘ方
向）、坩堝９内に収納されている蒸着材料１６を照射す
る電子線の照射条件（電子銃と電子材料との距離など）
ができるだけ一定になるように配置されている。

【００２３】電子銃４は坩堝９に収納された蒸着材料１
６に対して電子線１８を照射する。電子線１８により加
熱・蒸発された蒸着材料の一部は冷却ロール３上を走行
する高分子フィルム１７の被蒸着面に蒸着される。尚、
図中８は遮蔽板、２０は冷却管である。

【００２４】次に、真空槽６の上部に配置され、高分子
フィルム１７の表面に蒸着された薄膜の厚みを測定する
ためのモニタ装置７について説明する。

【００２５】このモニタ装置７には、膜構成成分から特
性（蛍光）Ｘ線を励起させるためのＸ線発生装置７ａが
測定ロール５の周面に対して垂直に配置されている。Ｘ
線発生装置７ａから、測定ロール５上を走行する蒸着後
の高分子フィルム１７表面に対して略垂直に照射された
Ｘ線により励起された特性Ｘ線の一部は、測定ロール５
表面に対して３０度の角度に配置された分光結晶板７ｂ
に導かれ、この分光結晶板７ｂより波長が選択された
後、比例係数管７ｃに導かれる。比例計数管７ｃにより
一定間隔で連続的に計測された特性Ｘ線強度は、一定間
隔毎にアナログの電気信号に変換される。このアナログ
電気信号は、増幅器１１にて増幅された後、アナログ／
デジタル変換器１２にてデジタル信号に変換される。

【００２６】デジタル信号に変換された特性Ｘ線強度は
厚み演算器１３にて各々の元素での厚みに変換された
後、制御量演算器１４に入力される。ここに前記モニタ
装置７、増幅器１１、アナログ／デジタル変換器１２、
厚み演算器１３はオンライン制御手段を構成する。

【００２７】制御量演算器１４は、予め設定された各元
素の目標とする基準厚みデータと、入力された各々の測
定厚みデータとを比較して偏差値を求める。得られた偏
差値情報に基づいて、電子銃４を制御するために制御デ
ータが自動的に生成される。この制御データは、電子銃
制御装置１５に送られる。電子銃制御装置１５は、入力
された制御データに従って電子銃４の投入電力と電子線
の走査時間を制御する。電子線を制御する制御量が予め
設定された制御量上限値又は下限値のレベルを越えた場
合、制御量演算器１４は予め走行フィルム１７の走行速
度を変更させるための制御量を速度制御回路３４に送
る。速度制御回路３４は入力された速度データに従い、
モータ３３の駆動を制御して走行フィルムの速度を変更
する。ここに制御量演算器１４、電子銃制御装置１５及
び速度制御回路３４は制御手段を構成する。

【００２８】

【実施例】（実施例１）以下に実施例を示す。

【００２９】蒸着される高分子フィルム１７として、ポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡
績（株）製、Ｅ５１００：商品名）を用いた。

【００３０】蒸着材料（蒸着源）として３〜５ｍｍ程度
の大きさの粒子状をした酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃、
純度９９．５％）と酸化珪素（ＳｉＯ₂、純度９９．９
％）を用いた。これらの材料を保持する一個の坩堝は銅
製であり、底部に外形２０ｍｍΦの冷却用水冷管２０を
設けた構造とした。冷却水の流量は略４ｍ³である。

【００３１】図２及び図３に示すように、この坩堝９内
には、蒸着材料をフィルム幅方向に対向して交互１列に
配置させるために、２ｍｍ厚みのカーボン製しきり板１
９を幅方向１００ｍｍ間隔で配置させ、計８ブロックの
材料を収納できる構造とした。このしきり板１９は、後
述する電子銃４の電子線１８が各蒸着材料に入射される
角度と略等しい角度に傾斜して配置されている。しきり
板１９で確保された各ブロックには、前記２種類の蒸着
材料を交互に均一に収容した。

【００３２】図２および図３において、符号３０は各し
きり板１９を連結する連結板であり、一対の平行な連結
板３０、３０と複数のしきり板１９とで格子状部材３１
が形成され坩堝９の底に配置されている。そして隣接す
るしきり板１９間にて蒸着材料（Ａ1〜Ａ4、Ｓ1〜Ｓ4）
を収容するブロック３２が形成されている。中央側のし
きり板１９は鉛直方向を向いており、端部側へいくにつ
れてしきり板１９と鉛直線とのなす角度が増しており、
電子銃４から照射された電子線１８がしきり板１９で遮
蔽されるのを極力防いで各ブロック３２内の蒸着材料
（Ａ1〜Ａ4、Ｓ1〜Ｓ4）を加熱できるようになってい
る。

【００３３】電子銃４として、２５０ｋＷのものをフィ
ルム幅方向に平行に配置した坩堝９に対面するように配
置した。この電子銃４により、坩堝９内に交互配置され
たＳｉＯ₂が４ブロック、Ａｌ₂Ｏ₃が４ブロックの計８
ブロックの蒸着材料を蒸着させる仕様とした。この実施
例では１台の電子銃４を使用したが、坩堝９に投入する
総エネルギー量が一台で確保できない場合や広幅の高分
子フィルムを蒸着する場合などでは、複数の電子銃を使
用して、蒸着領域を分割する方法を採用してもよく、電
子銃の設置台数には特に限定されない。

【００３４】蒸着中の真空槽内圧力は４×１０^-4Ｐａ以
下を常時確保できるような排気系とした。具体的には、
５００００Ｌ／秒の油拡散ポンプを真空槽底部に直接接
続する構造にした。尚、蒸着後の混合膜層の厚みは、測
定ロール５の略真上で、且つ高分子フィルム１７の幅方
向の中央に配置されたモニタ装置７にて連続的に測定し
た。

【００３５】次に、モニタ装置７を詳細に説明する。

【００３６】まず、ロジュームのＸ線管７ａに４０ｋ
Ｖ、５０ｍＡの電流を流して、測定ロール５上を走行中
のフィルム１７に垂直に一次Ｘ線を照射した。この場
合、フィルム１７上の蒸着膜（混合膜）に照射されるＸ
線は、コリメートされたΦ３０ｍｍの光束である。この
Ｘ線により励起された特性（蛍光）Ｘ線の一部は、混合
膜の測定位置から略等距離にあり、且つ測定ロール面５
に対して略３０°の入射角度で配置された２個のフタル
酸水素タリウム分光結晶板７ｂに導かれる。２個の分光
結晶板７ｂはＳｉとＡｌの元素成分の特性Ｘ線波長に分
光する。これらの分光結晶板７ｂに導かれた特性Ｘ線
は、Ａｌの波長である８．３４Åと、Ｓｉの波長である
７．１３Åに各々分光される。これらの選択された波長
が各々独立の比例係数管７ｃに導かれて、一定時間毎に
特性Ｘ線強度が計測される。

【００３７】尚、Ｘ線強度を測定するセンサとして比例
計数管７ｃ以外に珪素単体結晶にリチウムを注入拡散さ
せた半導体検出器等があるが、検出器は特に限定するも
のではない。また、本実施例では分光結晶板を用いた波
長分散方式としたが、２元素のエネルギー分布が明らか
に異なる２元素の材料を使用する場合は分光結晶板を使
わない非波長分散方式で行ってもよい。

【００３８】ただし、ＡｌとＳｉのように、エネルギー
分布が近似している２元素の混合膜から各々の厚みを高
精度に測定できる点で実施例に示した波長分散方式が好
ましい。

【００３９】上記比例係数管７ｃにて計測された特性Ｘ
線強度は、以後の増幅器１１により処理可能なレベルの
０Ｖ〜５Ｖまで増幅された後、アナログ／デジタル変換
器１２にてデジタル信号に変換された。分解能は１２ビ
ット（ｂｉｔ）である。変換されたデジタル信号は、厚
み演算器１３により各元素毎の厚みデータに変換した。
変換法は厚みが既知である複数の蒸着サンプルでの蒸着
膜厚とＸ線強度の検量線を事前に作成しておき、この検
量線に基づいて厚みデータに変換する方法を採用した。

【００４０】厚みモニタ装置７はフィルム１７の幅方向
では各蒸着材料の略真上に配置できるように干鳥状に２
列に計８台を配置した。図６（ａ）にその配置例を示
す。各モニタ装置７の幅方向の間隔Ｌ１は１００ｍｍで
ある。尚、千鳥配置の間隔、配列数及び台数は蒸着フィ
ルム１７の幅寸法や蒸着薄膜の要求品質に基づいて決定
すれば良く特に限定するものではない。

【００４１】厚み演算器１３で演算されて出力された厚
みデータは制御量演算器１４に送られる。ここでは、厚
みデータに基づいて電子銃４の投入電力量と電子線の滞
在時間が計算される。これらの制御データは、実験にて
求められる各々の坩堝９での蒸発速度（蒸着厚みに相
当）と投入エネルギーとの関係式を基に計算した。

【００４２】図４は坩堝９での投入エネルギーとフィル
ム堆積厚みとの関係を表したグラフである。図中、Ａ
１、Ａ２、Ａ３、Ａ４は坩堝中のＡｌ₂Ｏ₃の各位置を示
し、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４は坩堝中のＳｉＯ₂の各位
置を示すもので、交互に異なる成分が隣接して、フィル
ムの幅方向に対向するように順次配置されている。

【００４３】図４からわかるように、現在の厚みと目標
値との偏差値に相当するエネルギー量を現在値に加算ま
たは減算して出力することにより、目的の厚み及び組成
比に制御できる。但し、こらの材料に投入されるエネル
ギーは、同じ電子銃４から照射される電子線１８が源で
あるために、実際は電子線の滞在時間を各々の坩堝に対
して変化させることにより各材料へ投入されるエネルギ
ーを分配できる。これらの関係式を次に示す。

【００４４】ｔａ_n＝Ｐａ_n／（ΣＰａ＋ΣＰｓ）×ｔ０ここにｔａ_n：酸化アルミニウム・ブロックｎでの電子線走査
時間Ｐａ_n：酸化アルミニウム・ブロックｎに投入するエネ
ルギー量 ΣＰａ：計４ブロックの酸化アルミニウムに投入する総
エネルギー量 ΣＰＳ：計４ブロックの酸化珪素に投入する総エネルギ
ー量ｔ０：ハードウェアーに依存する時間定数（ｍｓ）各蒸着ブロックから蒸発するガスの分布は坩堝９中の各
蒸着材料の蒸発特性を示す図５のａ（酸化珪素・ブロッ
クからの蒸発成分）、ｂ（酸化アルミニウム・ブロック
からの蒸発成分）に示すように、真上が最も強度が高
く、横に広がる程、強度が低下する分布を示す。この分
布強度及び形状は、電子ビームの強度、電子線が入射さ
れる角度、電子銃４と坩堝９までの距離および蒸発面積
に主に依存する。従って薄膜を形成するフィルムの幅方
向及び走行方向に組成比が同じで、且つ目標とする総厚
みが均一な膜を形成させるためには、蒸着材料の配置が
最も重要である。本実施例における材料の配置は、図
２、３に示す通りであり、電子銃４と最も近い坩堝９表
面までの距離を１０００ｍｍとした。尚、図中Ａ、Ｓは
それぞれＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂が収納されていることを示
す。また、図５中のｃは、Ａｌ₂Ｏ₃とＳｉＯ₂の混合膜
厚みであり、ｄは混合膜の組成比である。

【００４５】蒸着材料は図３に示す薄いしきり板１９で
材料を分割して配置した。

【００４６】前述した条件にて高分子フィルム１７の蒸
着を行った。フィルムの走行速度は３００ｍ／分で計２
０，０００ｍを蒸着した。坩堝は電子銃方向に向かって
２ｍｍ／分の速度で移動させた（駆動装置は図示略）。

【００４７】自動制御の効果を確認するために自動制御
を行った場合と、モニタ装置のみ動作状態として制御系
を切り離した場合とを比較した。尚、自動制御の制御周
期は３０秒とした。その結果を表１に示す。

【００４８】表１において、フィルム位置とは、フィル
ムの移動開始端部からの距離を示し、組成比とは、Ａｌ
₂Ｏ₃／ＳｉＯ₂(重量％)を示す。

【００４９】

【表１】

【００５０】自動制御を行わない場合にはフィルムの幅
および全長にわたる総厚み変動及び組成比変動が大きい
のに対して、自動制御を行うと、非常に安定な混合膜が
形成されることが判る。

【００５１】（実施例２）蒸着中の真空槽内圧力を故意
に変化させながら電子銃のみの制御を行った場合と、電
子銃の制御とフィルム走行速度制御を併用した場合とを
比較した。その他の蒸着条件は実施例１と同じである。
その結果を表２に示す。

【００５２】

【表２】

【００５３】電子銃のみの制御では真空槽内の圧力が上
昇すると電子線のフォーカスが弱まり、蒸着速度が低下
する（付着量が低下する）ため、投入エネルギー量をさ
らに強める制御が加えられるが、さらに圧力が上昇する
と投入エネルギー等を加えても蒸着速度が変化しない現
象が生じる。このような理由でフィルム表面の薄膜の総
厚みが変動していることがわかる。

【００５４】走行フィルムの速度制御を併用した制御で
は、圧力が変化しても上記電子銃のみの制御に比べて非
常に安定な厚みおよび組成比を有する膜が形成されるこ
とがわかる。

【００５５】尚、フィルムの走行速度によって薄膜の膜
厚等を制御する方法においては、蒸着材料の蒸着速度と
フィルム走行速度が反比例関係にあることを利用して、
電子銃の投入エネルギー量が予め設定されたレベルを越
えたときにのみ目標の総厚みと現在値との偏差値から速
度制御量を算出して行った。

【００５６】（別実施例の形態）（１）上記実施形態では、真空槽としていわゆる１チャ
ンバー式を用いた例を示したが、フィルム等の被蒸着材
料を走行する室と蒸着材料を加熱する室とを異なる減圧
状態にして真空蒸着を行う、いわゆる２チャンバー式の
装置にも本発明を適用できる。（２）上記実施形態では、被蒸着材料の巻き出しロール
及び巻き取りロールを真空槽内に配置した例を示した
が、巻き出しロール及び巻き取りロールを、蒸着する真
空槽外に配置し、蒸着を高真空槽内で行う連続方式の装
置にも適用できる。（３）上記実施形態では、フィルム状の被蒸着材料とし
て高分子フィルムを例に挙げたが、被蒸着材料としては
紙、布などでもよい。又、蒸着材料として、上記した酸
化アルミニウムと酸化珪素以外に、種々の元素、化合物
を使用することができ、更に２種以上の蒸着材料を用い
て２種以上の元素または成分からなる混合膜を形成する
ようにしても良い。（４）上記実施形態では加熱手段を電子銃としたが、坩
堝を誘導加熱コイルにより加熱する蒸着装置にも適用で
きる。（５）図６（ｂ）に示すように、厚みモニタ装置７はフ
ィルム幅方向に一列に等間隔に計４台を配置してもよ
い。各モニタ装置７の幅方向の間隔Ｌ２は例えば、２０
０ｍｍとすることができる。（６）単成分での蒸着を行う場合には、交互に配置する
坩堝のしきり板を除去して使用すればよい。

【００５７】

【発明の効果】上述したように、本発明によれば走行中
のフィルム表面に異なる元素の混合膜の組成比及び目標
厚みを有する混含膜を、フィルム幅方向および走行方向
に対して長時間連続的に、且つ均一に安定して形成でき
る真空蒸着装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係わる真空蒸着装置の概
略全体構成図である。

【図２】本発明の一実施形態に係わる真空蒸着装置に用
いる坩堝とその配置を説明する図である。

【図３】図２の坩堝の構造を説明する図である。

【図４】坩堝投入エネルギー量とフィルム蒸着速度との
関係を説明するグラフである。

【図５】各蒸着材料ブロックの蒸着特性を説明するグラ
フである。

【図６】モニタ装置の配置方法を説明する図である。

【符号の説明】

４加熱手段７ａＸ線発生装置７ｂ分光結晶板７ｃ検出器９保持手段（坩堝）１６蒸着材料１８電子線１９しきり板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者伊関清司滋賀県大津市堅田二丁目１番１号東洋紡績株式会社総合研究所内Ｆターム(参考） 4K029 AA11 AA25 BA64 DB05 DB12 DB13 DB14 DB21 EA00 EA01 JA10 KA03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】真空槽内を走行するフィルムの表面に異
なる元素からなる混合膜を形成する蒸着装置において、異なる元素に電子線を照射してフィルム表面に蒸着させ
ることにより該フィルム表面に混合膜を形成する加熱手
段と、該フィルム上の混合膜にＸ線を照射するＸ線照射手段
と、該Ｘ線照射手段により励起された特性Ｘ線の強度を
測定して厚みに換算する厚み測定手段と、測定された厚みデータを基に電子線の強度および電子線
の捜査時間と、走行するフィルムの速度を制御する制御
手段と、を備えることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】前記制御手段は、測定した混合膜の厚み
と目標値との偏差値を基に、前記蒸着材料に照射する電
子線の強度と電子線の捜査時間を制御し、電子線のエネ
ルギーが予め設定された許容量を越えた時に限って走行
フィルムの速度を制御するように構成されていることを
特徴とする請求項１に記載の真空蒸着装置。