JP2000232033A - コンデンサ及びその製造方法 - Google Patents

コンデンサ及びその製造方法

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JP2000232033A
JP2000232033A JP3403799A JP3403799A JP2000232033A JP 2000232033 A JP2000232033 A JP 2000232033A JP 3403799 A JP3403799 A JP 3403799A JP 3403799 A JP3403799 A JP 3403799A JP 2000232033 A JP2000232033 A JP 2000232033A
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foil
capacitor
forming
electrode
conductive layer
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JP3403799A
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English (en)
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Yasuo Kudo
康夫 工藤
Kenji Akami
研二 赤見
Yasue Matsuka
安恵 松家
Hiroki Kusayanagi
弘樹 草柳
Toshiharu Saito
俊晴 斎藤
Hiroki Takeoka
宏樹 竹岡
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 箔状金属電極を一方の電極として用い、高分
子層誘電体層を介在させた導電性高分子をもう一方の電
極として用いるコンデンサの構成並びに製造方法に関
し、高周波特性並びに漏れ電流特性の優れたコンデンサ
を容易に得ることを目的とする。 【解決手段】 箔状金属電極表裏に少なくても2列の粘
着テープを貼付し導電性高分子形成後、導電性高分子層
と隣接しない方の粘着テープを剥離除去し一方の電極を
形成することにより、導電性高分子層と金属電極との電
気的絶縁性が向上するため、優れた漏れ電流特性が実現
できる。また導電性高分子層として高電気伝導度のポリ
エチレンジオキシチオフェンを用いることにより、一層
高周波特性の優れたコンデンサを容易に実現することが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンデンサ及びそ
の製造方法に関し、特に、漏れ電流および周波数特性に
優れた小型大容量のコンデンサを容易に実現するための
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電気機器のデジタル化に伴って、
コンデンサについても、小型大容量で高周波領域でのイ
ンピーダンスの低いものが要求されている。
【0003】従来、高周波領域で使用されるコンデンサ
には、フィルムコンデンサ、マイカコンデンサ、積層セ
ラミックコンデンサがあるが、これらのコンデンサでは
形状が大きくなり大容量化が難しい。
【0004】一方、大容量のコンデンサとしては、アル
ミニウム乾式電解コンデンサ、またはアルミニウムもし
くはタンタル固体電解コンデンサ等の電解コンデンサが
存在する。
【0005】これらのコンデンサでは、誘電体となる酸
化皮膜が極めて薄いために、大容量化が実現できるので
あるが、一方酸化皮膜の損傷が起こり易いために、それ
を修復するための真の陰極を兼ねた電解質を設ける必要
がある。
【0006】例えば、アルミニウム乾式コンデンサで
は、エッチングを施した陽極、陰極アルミニウム箔を、
セパレータを介して巻取り、液状の電解質をセパレータ
に含浸して用いている。
【0007】この液状電解質は、イオン伝導性で比抵抗
が大きいため、損失が大きく、インピーダンスの周波数
特性、温度特性が著しく劣るという課題を有する。
【0008】さらに加えて、液漏れ、蒸発等が避けられ
ず、時間経過と共に容量の減少及び損失の増加が起こる
といった課題を抱えていた。
【0009】また、タンタル固体電解コンデンサでは、
マンガン酸化物を電解質として用いているため、温度特
性及び容量、損失等の経時変化についての課題は改善さ
れるが、マンガン酸化物の比抵抗が比較的高いため損
失、インピーダンスの周波数特性が、積層セラミックコ
ンデンサ、あるいはフィルムコンデンサと比較して劣っ
ていた。
【0010】一方、フィルムコンデンサは優れた周波数
特性を有するものの、単位体積当たりの収容容量が小さ
く、小型で大容量のものを実現することが困難であっ
た。
【0011】そこで、エッチドアルミ箔上に電着ポリイ
ミド薄膜からなる誘電体を形成した後、化学重合及び電
解重合により、順次導電性高分子層を形成して電極とす
る大容量フィルムコンデンサが提案されている(電気化
学会第58回大会講演要旨集251〜252頁(199
1年))。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように金属箔表面に高分子誘電体層を形成し、さらに固
体導電層を形成してなるコンデンサでは、一方の電極を
固体導電層からまた他方の電極を金属側から引き出す必
要があるが、後者金属部分に誘電体層が存在すると電気
的接合が妨げられるという課題を有していた。 さら
に、エッチングされた金属箔を電極に用いた場合特に顕
著であるが、電着法により高分子導電層を形成しようと
すると液浸漬部以外の部分にも液が滲み上がり誘電体層
が形成されるため、電極形成部を液浸漬部から相当に離
隔して設けないと電気接合が取れないため、デッドスペ
ースが避けられなく小型が難しいという課題があった。
【0013】さらにまた、誘電体層が形成されたエッチ
ド金属箔表面に湿式法により固体導電層を形成しようと
すると、液浸漬部以外の部分にも液が滲み上がり固体導
電層が形成されるため、容量のバラツキを小さく抑える
ことが難しいことに加えて漏れ電流を小さく抑えること
が難しいと課題も有していた。
【0014】本発明は、上記従来技術における各課題を
解決するもので、小型大容量でかつ高周波特性の優れた
フィルムコンデンサを簡便に得ることを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、金属箔表面に
設けられた高分子薄膜を誘電体としさらに固体導電層を
設けてなるフィルムコンデンサ及びその製造方法である
図1に示すように、金属箔1の両面に渡って少なくても
2列の粘着テープ2、3を貼付するようにしたものであ
る。
【0016】この後、金属箔電極露出部分に誘電体層4
及び固体導電層5を形成する。
【0017】この構成により、粘着テープ2により誘電
体層及び固体導電層形成部分の面積が限定され、さらに
粘着テープ3を除去した部分に一方の電極を電気的接合
よく形成することができる。
【0018】なお、二酸化マンガン層10は、導電性高
分子からなる固体導電層を電解重合法で形成する際の下
地導電層で、固体導電層を化学重合法または塗布法で形
成する場合は不必要で、必須要件ではない。
【0019】また、図2に示すように、金属箔電極1に
粘着テープ3を貼付後誘電体層を形成し、しかる後粘着
テープ2を貼付しその後に固体導電層5を形成すること
もできる。
【0020】粘着テープは、誘電体形成及び導電層形成
時剥離がないものであればどのような材質のものでも使
用できるが、高分子フィルムで構成されるものが望まし
く、さらに好適には耐熱性の高いポリイミド製が使用さ
れる。
【0021】エッチングした金属箔電極を用いる場合、
高分子誘電体層はその厚さを均一にするために電着で形
成することが望ましく、材質としてはアクリル酸とメタ
クリル酸とスチレンの共重合体もしくはポリイミドが好
適である。
【0022】なお、その他の電着可能な高分子材料を用
いることもでき、また電極がプレーン箔で構成される場
合には、スピンコート法により塗布することもできる。
固体導電層には、導電性高分子を用いることが望まし
く、さらに好適にはピロールまたはそれらの誘導体が用
いられる。
【0023】導電性高分子層形成のためには、電解重合
または化学重合によるその場重合による方法が好適に採
用される。
【0024】その他導電性高分子層形成には、導電性高
分子溶液または分散液の塗布法を用いることもでき、ま
た本法と化学重合並びに電解重合法を適宜組み合わせて
用いることもできる。
【0025】また電解重合法による場合には、下地層と
して適当な導電層を形成しておくことが望ましい。
【0026】この導電層は極めて薄い層で形成してもよ
く、例えば過マンガン酸塩の還元による二酸化マンガン
をその場で形成して用いることができ、また塗布により
形成された導電性高分子層または化学重合導電性導電性
高分子層を用いることもできる。
【0027】導電性高分子層形成後、粘着テープ3を除
去し電極リード8を取り付けるともにカーボン層6、銀
ペイント層7を設けさらにもう一方の電極9を取り付け
る。
【0028】以上の構成及び製造方法により、小型大容
量でかつまた高周波特性および漏れ電流特性の優れたフ
ィルムコンデンサを簡便に得ることができる。
【0029】さらに、導電性高分子層形成をポリエチレ
ンジオキシチオフェンを用いることができ、この構成に
より一層高周波特性の優れたフィルムコンデンサが実現
できる。
【0030】エチレンジオキシチオフェンモノマーは、
ドイツ国バイエル社から販売されており容易に入手で
き、ピロールモノマーと類似の条件で重合することが可
能である。
【0031】ポリエチレンジオキシチオフェンにより高
周波特性の一層優れたコンデンサが得られるのは、同じ
ドーパントがドープされた場合、ポリピロールより高い
電気伝導度が得られることに起因する。 発明者らは、
トリイソプロピルナフタレンスルホン酸イオンがドープ
された場合、ポリピロールで約15S/cmであるのに
対しポリエチレンジオキシチオフェンでは70S/cm
を越える電気伝導度を観察した。
【0032】ポリエチレンジオキシチオフェンは、化学
重合で得られたものを単独で固体導電層として用いる
他、適当な導電層例えば二酸化マンガン層を誘電体皮膜
上に予め形成しておき、それを介して電解重合により形
成することもできる。
【0033】また、ポリピロールとポリエチレンジオキ
シチオフェンとの複合層を用いた場合もポリピロール単
独の場合より固体導電層の電気伝導度を小さくできるた
めに、ポリピロール単独の場合より講中は特性の優れた
フィルムコンデンサが実現できる。
【0034】この導電性高分子の複合層は、例えば化学
重合ポリピロールを形成後これを介して電解重合ポリエ
チレンジオキシチオフェンを形成して容易に作ることが
でき、また逆に化学重合ポリエチレンジオキシチオフェ
ン上に電解重合ポリピロールを形成して作ることもでき
る。
【0035】
【発明の実施の形態】請求項1記載の本発明は、箔状金
属からなる電極の表面に誘電体層と固体導電層を順次配
してなるコンデンサにおいて、前記電極の両面に前記固
体導電層形成領域を区分けするための粘着テープを貼付
し、さらに前記固体導電層に接しない方の区分けされた
領域の一部または全部を被覆する粘着テープを貼付し、
固体導電層が形成された上に一方の電極リードを形成
し、さらに前記固体導電層と隣接してなる粘着テープを
残し他の粘着テープを一部または全部除去し、該除去部
分にもう一方の電極リードを形成してなるコンデンサで
ある。
【0036】ここで、請求項2記載のように、電極表面
積を大きくするために箔状金属電極にエッチド箔を用い
ることができる。
【0037】またここで、請求項3記載のように、誘電
体として高分子薄膜を用いることができる。
【0038】誘電体の高分子薄膜を請求項4のように、
アクリル酸とメタクリル酸とスチレンの共重合体で構成
することができる。
【0039】ここで、請求項5のように高分子誘電体と
してポリイミドを用いることができる。
【0040】固体導電層には、請求項6記載のように、
導電性高分子を用いることができる。
【0041】導電層高分子層を請求項7記載のように、
ポリピロールもしくはその誘導体で構成することができ
る。
【0042】請求項8記載の本発明は、箔状金属からな
る電極を用意する工程と前記電極表面に誘電体層を形成
する工程と前記電極の両面に固体導電層形成領域を区分
けするための粘着テープを貼付する工程と前記固体導電
層に接しない方の区分けされた領域の一部または全部を
被覆する粘着テープをさらに貼付する工程と前記電極表
面露出部分に誘電体層と固体導電層を順次配するととも
に一方の電極リードを取り出す工程と前記固体導電層と
隣接してなる粘着テープを残して前記粘着テープの一部
または全部を除去する工程と該除去部分にもう一方の電
極リードを形成する工程を含む固体電解コンデンサの製
造方法である。
【0043】ここで、請求項9記載のように、化学的ま
たは電気化学的エッチングにより箔状電極を拡面化する
工程を含んでもよい。
【0044】またここで、誘電体皮膜を請求項10記載
のように、高分子薄膜で形成する工程を含むことが好適
である。
【0045】高分子薄膜形成を、請求項11記載のよう
に、電着法によって行うことができる。
【0046】ここで請求項12記載のように、高分子薄
膜作製工程にはアクリル酸とメタクリル酸とスチレンの
共重合体もしくはポリイミドを電着によって形成する工
程を含むことができる。
【0047】固体導電層形成のため、請求項13記載の
ように、ポリピロールまたはその誘導体を形成する工程
を含むことが望ましい。
【0048】ここで、導電性高分子を請求項14記載の
よように、化学重合で形成しても良い。
【0049】ここでまた、導電性高分子を請求項15記
載のように、電解重合で形成することもできる。
【0050】請求項16記載の本発明は、箔状金属から
なる電極表面に高分子誘電体皮膜とポリエチレンジオキ
シチオフェンからなる固体導電層を順次形成してなるコ
ンデンサである。
【0051】ここで、請求項17記載のように箔状金属
にエッチド箔を用いることができる。
【0052】またここで、請求項18記載のように誘電
体がアクリル酸とメタクリル酸とスチレンの共重合体を
用いることができる。
【0053】請求項19記載の本発明は、箔状金属から
なる電極を用意する工程とその表面に高分子誘電体皮膜
とポリエチレンジオキシチオフェンを順次配する工程を
有するコンデンサの製造方法である。
【0054】ここで、請求項20記載のように箔状電極
を用意する工程に化学的または電気化学的エッチングに
より拡面化する工程を含んでもよい。
【0055】またここで、請求項21記載のように、ア
クリル酸とメタクリル酸とスチレンの共重合体を電着に
より誘電体を形成する工程を含むことが望ましい。
【0056】さらにここで、請求項22記載のように、
ポリエチレンジオキシチオフェンを形成する工程が化学
重合工程であってもよい。
【0057】請求項23記載の本発明は、箔状金属から
なる電極表面に高分子誘電体皮膜及び二酸化マンガンと
ポリエチレンジオキシチオフェンからなる固体導電層を
順次形成してなるコンデンサである。
【0058】ここで請求項24記載にように、箔状金属
にエッチド箔を用いることができる。
【0059】またここで、請求項25記載のように誘電
体がアクリル酸とメタクリル酸とスチレンの共重合体で
構成することができる。
【0060】請求項26記載の本発明は、箔状金属から
なる電極を用意する工程とその表面に高分子誘電体皮膜
と二酸化マンガンとポリエチレンジオキシチオフェンを
順次配する工程を有するコンデンサの製造方法である。
【0061】ここで、請求項27記載のように、箔状金
属からなる電極を用意する工程に化学的または電気化学
的エッチングにより拡面化する工程を含んでもよい。
【0062】またここで、請求項28記載のように、誘
電体形成工程にアクリル酸とメタクリル酸とスチレンの
共重合体を電着により誘電体を形成する工程を含んでも
よい。
【0063】さらにここで、請求項29記載のように還
元法により二酸化マンガンを形成することができる。
さらにここで、請求項30記載のようにポリエチレンジ
オキシチオフェン形成は電解重合により行うことができ
る。
【0064】請求項31記載の本発明は、箔状金属から
なる電極表面に高分子誘電体皮膜及びポリエチレンジオ
キシチオフェンとポリピロールからなる固体導電層を順
次形成してなるコンデンサである。
【0065】ここで、請求項32記載のように箔状金属
をエッチド箔で構成することができる。
【0066】またここで、請求項33記載のように、誘
電体をアクリル酸とメタクリル酸とスチレンの共重合体
で構成することが望ましい。
【0067】請求項34記載の本発明は、箔状金属から
なる電極を用意する工程とその表面に高分子誘電体皮膜
とポリエチレンジオキシチオフェンとポリピロールを形
成する工程を有するコンデンサの製造方法である。
【0068】ここで、請求項35記載のように、箔状金
属からなる電極を化学的または電気化学的エッチングに
より拡面化する工程を含んでもよい。
【0069】またここで、請求項36記載のように、ア
クリル酸とメタクリル酸とスチレンの共重合体の形成に
電着法を用いることができる。。
【0070】またここで、請求項37記載のように、導
電性高分子形成工程が化学重合ポリエチレンジオキシチ
オフェンと電解重合ポリピロールを順次形成する工程を
含むことが望ましい。
【0071】またここで請求項38記載のように、化学
重合ポリピロールと電解重合ポリエチレンジオキシチオ
フェンを順次形成する工程を含んでもよい。
【0072】またここで、請求項39記載のように、化
学重合ポリピロールと化学重合ポリエチレンジオキシチ
オフェンを形成する工程を含むものであってもよい。
【0073】本発明の各実施の形態について、以下詳細
に説明をする。
【0074】(実施の形態1)本実施の形態において
は、電極箔として厚さ約100μm、平均細孔径が約2
μm、表面積が約30倍の電気化学的にエッチングされ
たエッチドアルミニウム箔を用いた。
【0075】この箔を幅5mm長さ7mmの短冊状に成
形した。その後図1に示すように、幅1mmのポリイミ
ド粘着テープを2本貼付した。
【0076】この電極箔に電着によりアクリル酸系の誘
電体薄膜3を形成した。用いた電着液組成は、固形分が
10重量%、イオン交換水86重量%、ブチルセロソル
ブ4重量%である。
【0077】ここで固形分として、分子量約3万のアク
リル酸とメタクリル酸とスチレンの共重合体とベンゾグ
アナミン系樹脂が重量比で7:3で混合したものを用い
た。
【0078】この固形分を液中に分散させるため、カル
ボン酸基の50%をトリメチルアミンにより中和した。
【0079】上記電着液に、粘着テープを貼付した電極
箔を浸し、0.3mA/cm2の電流密度で10Vに達
するまで定電流電着を行い、さらに10Vで15分間定
電圧電着を行った。次に、アクリル酸系の高分子薄膜が
形成された電極箔を水洗後80℃で20分間、180℃
で30分間熱処理することにより、ベンゾグアナミン系
樹脂との間で架橋反応させた。
【0080】以上述べた一連の処理を3回繰り返した
後、過マンガン酸カリウム0.05M水溶液に浸漬風乾
しさらにピロールモノマー0.3Mとトリイソプロピル
ナフタレンスルホン酸ナトリウム0.1Mを含む水溶液
に浸漬して、還元二酸化マンガン薄層10を形成した。
【0081】ここで、二酸化マンガン層10は電解重合
で固体導電層を形成する際の便宜的に設けられた導電層
であり、本発明に必須の要件ではない。
【0082】例えば、化学的酸化重合または塗布法で固
体導電層を形成する際には省略することができる。
【0083】その後不図示のステンレス製の電解重合用
電極をポリイミドテープに接触させ、ピロールモノマー
0.3Mとトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナト
リウム0.1Mを含む水溶液に浸漬して、電解重合電極
と離隔して設けた不図示の第二の電極間に3Vの直流電
圧を印加して電解重合ポリピロールからなる固体導電層
5を形成させた。
【0084】電解重合電極と導電性高分子層と隣接しな
い粘着テープ3を除去し、水洗浄乾燥後ポリピロールか
らなる固体導電層5上にカーボン層6と銀ペイント層7
を形成するとともに一方の電極リード9をまた粘着テー
プを除去した電極箔にもう一方の電極リード8を取り付
けて10個のコンデンサ素子を完成させた。
【0085】このコンデンサ素子に極性を交互に変化さ
せて13Vを印加してエージングを行った。
【0086】これら10個の素子について、1kHzに
おける容量、損失係数、共振点におけるインピーダンス
及び10V印加2分後の漏れ電流を各々測定し、それら
の平均値を以下の(表1)に示した。
【0087】なお、共振点は7MHz付近に観測され
た。
【0088】
【表1】
【0089】(比較例1)次に、比較のため、比較例1
として、幅1mmの粘着テープ2列に替えて幅2mmの
粘着テープを電極箔の表裏にそれぞれ1列添付し、誘電
体薄膜及びポリピロール層形成後除去して該除去部分に
一方の電極リードを取り付けた以外実施の形態1と同様
の条件で10個のコンデンサを完成させた。
【0090】これら10個の素子についても、実施の形
態1と同様に1kHzにおける容量、損失係数、共振点
におけるインピーダンス及び10V印加2分後の漏れ電
流を各々測定し、それらの平均値を以下の(表1)に示
した。
【0091】実施の形態1と本比較例との結果を検討す
ると、容量、損失係数及びインピーダンスは同等である
が、漏れ電流は実施の形態1で得られたコンデンサの方
が優れていることが分かる。
【0092】つまり比較例1の場合は、導電性高分子層
に隣接して貼付した粘着テープを除去した部分に電極リ
ードが取り付けられたため、ポリピロール層との絶縁が
部分的に不十分な箇所が生じ、漏れ電流が大きくなった
ものと考えられる。
【0093】以上より、電極箔の表裏に複数列の粘着テ
ープを貼付し、導電性高分子からなる固体導電層を形成
後、該導電性高分子に隣接しない粘着テープを除去した
部分から一方の電極を取り出す帰途により、漏れ電流の
少ないコンデンサを製造することができることが判明し
た。
【0094】なお図2に示すように、高分子誘電体皮膜
を形成後に導電性高分子層に隣接する粘着テープ2を貼
付しても同様の効果が得られることは明らかである。
【0095】(実施の形態2)本実施の形態では、誘電
体としてアクリル酸とメタクリル酸とスチレンの共重合
体に替えてポリアミドを電着で形成した以外は、実施の
形態1と同様にして構成された10個のコンデンサ素子
を完成させた。
【0096】ポリイミド電着膜形成の1例を以下に示
す。
【0097】ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とp
―フェニレンジアミンをN−メチルピロリドン中で窒素
還流下で反応させてポリアミック酸を得た。
【0098】このポリアミック酸をN,N−ジメチルア
ミドに希釈し、トリエチルアミンを加えてポリアミック
酸塩溶液を得た。
【0099】上記溶液にメタノールを添加して最終的に
ポリアミック酸を0.15%含むように調整を電着液と
した。
【0100】この溶液にコンデンサ素子を浸し、これを
陽極として前記コンデンサ素子と離隔して設けた陰極間
に30Vの電圧を印可してポリアミック酸膜を析出させ
た。
【0101】その後、250℃で1時間加熱してポリア
ミック酸をポリイミド化した。
【0102】この電着並びに加熱を3回繰り返した後導
電性高分子層形成を行った。
【0103】これら10個の素子についても、実施の形
態1と同様に1kHzにおける容量、損失係数、共振点
におけるインピーダンス及び10V印加2分後の漏れ電
流を各々測定し、それらの平均値を以下の(表1)に示
した。
【0104】(比較例2)次に、比較のため、比較例2
として、幅1mmの粘着テープ2列に替えて幅2mmの
粘着テープを電極箔の表裏にそれぞれ1列添付し、誘電
体薄膜及びポリピロール層形成後除去して該除去部分に
一方の電極リードを取り付けた以外実施の形態2と同様
の条件で10個のコンデンサを完成させた。
【0105】これら10個の素子についても、実施の形
態1と同様に1kHzにおける容量、損失係数、共振点
におけるインピーダンス及び10V印加2分後の漏れ電
流を各々測定し、それらの平均値を以下の(表1)に示
した。
【0106】実施の形態2と本比較例との結果を検討す
ると、容量、損失係数及びインピーダンスは同等である
が、漏れ電流は実施の形態1で得られたコンデンサの方
が優れていることが分かる。
【0107】つまり比較例2の場合は、導電性高分子層
に隣接して貼付した粘着テープを除去した部分に電極リ
ードが取り付けられたため、ポリピロール層との絶縁が
部分的に不十分な箇所が生じ、漏れ電流が大きくなった
ものと考えられる。
【0108】以上より、電極箔の表裏に複数列の粘着テ
ープを貼付し、導電性高分子からなる固体導電層を形成
後、該導電性高分子に隣接しない粘着テープを除去した
部分から一方の電極を取り出す帰途により、漏れ電流の
少ないコンデンサを製造することができることが判明し
た。
【0109】(表1)より理解されるように、本実施の
形態においても、実施の形態1と同様の優れた漏れ電流
特性を実現できることがわかる。
【0110】(実施の形態3)本実施の形態では、固体
導電層を化学重合ポリピロールで形成した以外は、実施
の形態1と同様にして構成された10個のコンデンサ素
子を完成させた。
【0111】化学重合ポリピロール層の形成法は以下の
通りである。
【0112】2Mのピロールをエタノールに溶解したモ
ノマー溶液と0.5Mのトリイソプロピルナフタレンス
ルホン酸第二鉄をエタノールに溶解した酸化剤溶液を用
意した。
【0113】アクリル酸とメタクリル酸とスチレンの共
重合体を形成した電極箔を、モノマー溶液及び酸化剤溶
液に順次し、ポリピロール層を形成した後洗浄し重合残
滓を除去した。
【0114】上記の導電性高分子層形成処理を、誘電体
層を完全に被覆されるまで繰り返した。
【0115】これら10個の素子についても、実施の形
態1と同様に1kHzにおける容量、損失係数、共振点
におけるインピーダンス及び10V印加2分後の漏れ電
流を各々測定し、それらの平均値を以下の(表1)に示
した。
【0116】(表1)より理解されるように、本実施の
形態においても、実施の形態1と同様の優れた漏れ電流
特性を実現できることがわかる。 (実施の形態4)本実施の形態では、化学重合で得られ
たポリピロール/ポリN―メチルピロールで形成した以
外は、実施の形態1と同様にして構成された10個のコ
ンデンサ素子を完成させた。
【0117】化学重合ポリピロール/ポリN―メチルピ
ロール層の形成法は以下の通りである。
【0118】2Mのピロールと0.5MのN―メチルピ
ロールをエタノールに溶解したモノマー溶液と0.5M
のトリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄をエタ
ノールに溶解した酸化剤溶液を用意した。
【0119】アクリル酸とメタクリル酸とスチレンの共
重合体を形成した電極箔を、モノマー溶液及び酸化剤溶
液に順次し、ポリピロール/ポリN―ピロール層を形成
した後洗浄し重合残滓を除去した。
【0120】上記の導電性高分子層形成処理を誘電体層
を完全に被覆されるまで繰り返した。
【0121】これら10個の素子についても、実施の形
態1と同様に1kHzにおける容量、損失係数、共振点
におけるインピーダンス及び10V印加2分後の漏れ電
流を各々測定し、それらの平均値を以下の(表1)に示
した。
【0122】(表1)より理解されるように、本実施の
形態においても、実施の形態1と同様の優れた漏れ電流
特性を実現できることがわかる。 (実施の形態5)本実施の形態では、固体導電層を電解
重合ポリエチレンジオキシチオフェンで形成した以外
は、実施の形態1と同様にして構成された10個のコン
デンサ素子を完成させた。
【0123】電解重合ポリエチレンジオキシチオフェン
の形成のために、0.3Mのエチレンジオキシチオフェ
ンと0.15Mのp―トルエンスルホン酸テトラエチル
アンモニウムをアセトニトリルに溶解した重合溶液を用
意した。
【0124】重合に際しては、電極箔側を陽極として
3.5Vを印加した。
【0125】これら10個の素子についても、実施の形
態1と同様に1kHzにおける容量、損失係数、共振点
におけるインピーダンス及び10V印加2分後の漏れ電
流を各々測定し、それらの平均値を以下の(表1)に示
した。
【0126】(表1)より理解されるように、本実施の
形態においても、実施の形態1と同様の優れた漏れ電流
特性を実現できることがわかる。
【0127】さらに、実施の形態1との比較から明らか
なように、本実施の形態で得られたコンデンサは共振点
におけるインピーダンスが一層小さくなっていることが
分かる。
【0128】これは、ポリエチレンジオキシチオフェン
の電気伝導度がポリピロールより大きいことが反映され
た結果である。
【0129】(実施の形態6)本実施の形態では、固体
導電層を化学重合ポリエチレンジオキシチオフェンで形
成した以外は、実施の形態1と同様にして構成された1
0個のコンデンサ素子を完成させた。
【0130】化学重合ポリエチレンジオキシチオフェン
層の形成法は以下の通りである。
【0131】2Mのエチレンジオキシチオフェンをエタ
ノールに溶解したモノマー溶液と0.5Mのトリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸第二鉄をエタノールに溶解
した酸化剤溶液を用意した。
【0132】アクリル酸とメタクリル酸とスチレンの共
重合体を形成した電極箔を、モノマー溶液及び酸化剤溶
液に順次し、ポリエチレンジオキシチオフェン層を形成
した後洗浄し重合残滓を除去した。
【0133】上記の操作を誘電体層が被覆されるまで繰
り返した。
【0134】これら10個の素子についても、実施の形
態1と同様に1kHzにおける容量、損失係数、共振点
におけるインピーダンス及び10V印加2分後の漏れ電
流を各々測定し、それらの平均値を以下の(表1)に示
した。
【0135】(表1)より理解されるように、本実施の
形態においても、実施の形態5と同様の優れた漏れ電流
特性を実現できることがわかる。
【0136】(実施の形態7)本実施の形態では、固体
導電層として還元二酸化マンガンに替えて化学重合ポリ
エチレンジオキシチオフェンを形成した以外は、実施の
形態1と同様にして構成された10個のコンデンサ素子
を完成させた。
【0137】化学重合ポリピロール層の形成は、実施の
形態3に記載したとおりの方法で繰り返し処理をするこ
となく行った。
【0138】これら10個の素子についても、実施の形
態1と同様に1kHzにおける容量、損失係数、共振点
におけるインピーダンス及び10V印加2分後の漏れ電
流を各々測定し、それらの平均値を以下の(表1)に示
した。
【0139】(表1)より理解されるように、本実施の
形態においても、実施の形態5と同様の優れた漏れ電流
特性を実現できることがわかる。
【0140】(実施の形態8)本実施の形態では、固体
導電層として還元二酸化マンガンに替えて化学重合ポリ
ピロールを形成した以外は、実施の形態5と同様にして
構成された10個のコンデンサ素子を完成させた。
【0141】化学重合ポリピロール層の形成は、実施の
形態3に記載したとおりの方法で繰り返し処理をするこ
となく行った。
【0142】これら10個の素子についても、実施の形
態1と同様に1kHzにおける容量、損失係数、共振点
におけるインピーダンス及び10V印加2分後の漏れ電
流を各々測定し、それらの平均値を以下の(表1)に示
した。
【0143】(表1)より理解されるように、本実施の
形態においても、実施の形態5と同様の優れた漏れ電流
特性を実現できることがわかる。
【0144】(実施の形態9)本実施の形態では、固体
導電層として化学重合ポリピロールに替えて化学重合ポ
リピロールと化学重合ポリエチレンジオキシチオフェン
を形成した以外は、実施の形態3と同様にして構成され
た10個のコンデンサ素子を完成させた。
【0145】化学重合ポリピロール層の形成は、実施の
形態3に記載したとおりの方法で繰り返し処理をするこ
となく行った。
【0146】化学重合ポリエチレンジオキシチオフェン
層の形成は、誘電体皮膜が完全に被覆されるまで繰り返
した。
【0147】これら10個の素子についても、実施の形
態1と同様に1kHzにおける容量、損失係数、共振点
におけるインピーダンス及び10V印加2分後の漏れ電
流を各々測定し、それらの平均値を以下の(表1)に示
した。
【0148】(表1)より理解されるように、本実施の
形態においても、実施の形態5と同様の優れた漏れ電流
特性を実現できることがわかる。
【0149】なお、本実施の形態では電気化学的にエッ
チングされたアルミニウム電極箔を用いた場合について
のみ述べたが、化学的にエッチングされたものを用いる
ことでき、また他の機械的な手段によって拡面化された
箔を用いることも可能である。
【0150】なお、本実施の形態では誘電体としてアク
リル酸とメタクリル酸とスチレンの共重合体ならびにポ
リイミドを用いる場合についてのみ述べたが、本発明の
趣旨から金属箔電極上に薄膜を形成できる高分子であれ
ば他の共重合体または単独の重合体を用いることもでき
る。
【0151】粘着テープとしてポリイミドを用いた場合
についてのみ述べたが、コンデンサ作製工程中で有効に
粘着力を保持できるものであれば他の材質のものを使用
することもできる。
【0152】なお、本実施の形態では粘着テープとして
ポリイミドを用いた場合についてのみ述べたが、コンデ
ンサ作製工程中で有効に粘着力を保持できるものであれ
ば他の材質のものを使用することもできる。
【0153】なお、本実施の形態では誘電体皮膜形成前
に粘着テープを貼付する場合について述べたが、固体導
電層と隣接する粘着テープについては誘電体皮膜形成後
貼付することもできる。
【0154】なお、本実施の形態では誘電体として、ア
クリル酸とメタクリル酸とスチレンの共重合体もしくは
ポリイミドを用いた場合についてのみ述べたが、もちろ
ん他の絶縁性ポリマーを用いることも可能である。
【0155】なお、本実施の形態では電極金属としてエ
ッチドアルミニウム箔を用いた場合についてのみ述べた
が、他の金属を用いることもでき、使用する金属の種類
に限定されない。
【0156】なお、本実施の形態では電解重合のための
導電層として還元二酸化マンガン、化学重合ポリピロー
ル、化学重合ポリエチレンジオキシチオフェンを用いた
場合についてのみのべたが、電解重合導電性高分子層を
成長させることができるものであれば他のものを用いて
もよく、本発明はその種類に限定されない。
【0157】なお、本実施の形態では、導電性高分子層
としてポリピロールとその誘導体ならびにポリエチレン
ジオキシチオフェンを用いた場合についてのみ述べた
が、ポリアニリン等他の導電性高分子を用いることもで
き、本発明はその種類に限定されない。
【0158】
【発明の効果】本発明の構成により、小型大容量で高周
波特性に優れ、漏れ電流の小さなフィルムコンデンサを
容易に得ることができる。
【0159】さらに、高導電性の導電性高分子ポリエチ
レンジオキシチオフェンを固体導電層をして用いること
により、ポリピロール及びその誘導体が用いられたより
一層高周波特性の優れたフィルムコンデンサが実現でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態におけるフィルムコ
ンデンサの構成を示す断面図
【図2】本発明の他の実施の形態におけるフィルムコン
デンサの構成の断面図関係図
【符号の説明】
1 箔状電極 2、3 粘着テープ 4 高分子誘電体皮膜 5 導電性高分子固体導電層 6 カーボン層 7 銀ペイント層 8、9 電極リード 10 二酸化マンガン層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01G 4/33 H01G 4/06 102 (72)発明者 松家 安恵 神奈川県川崎市多摩区東三田3丁目10番1 号 松下技研株式会社内 (72)発明者 草柳 弘樹 神奈川県川崎市多摩区東三田3丁目10番1 号 松下技研株式会社内 (72)発明者 斎藤 俊晴 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 竹岡 宏樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E082 AB01 BC39 BC40 EE03 EE04 EE15 EE24 EE30 EE31 EE50 FF05 FG03 FG34 FG37 FG38 FG54 FG60 GG10 GG28 MM24

Claims (39)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 箔状金属からなる電極の表面に誘電体層
    と固体導電層を順次配してなるコンデンサにおいて、前
    記電極の両面に前記固体導電層形成領域を区分けするた
    めの粘着テープを貼付し、さらに前記固体導電層に接し
    ない方の区分けされた領域の一部または全部を被覆する
    粘着テープを貼付し、固体導電層が形成された上に一方
    の電極リードを形成し、さらに前記固体導電層と隣接し
    てなる粘着テープを残し他の粘着テープを一部または全
    部除去し、該除去部分にもう一方の電極リードを形成し
    てなるコンデンサ。
  2. 【請求項2】 箔状金属がエッチド箔である請求項1記
    載のコンデンサ。
  3. 【請求項3】 誘電体層が高分子薄膜である請求項1お
    よび2記載のコンデンサ。
  4. 【請求項4】 誘電体層がアクリル酸とメタクリル酸と
    スチレンの共重合体である請求項1から3記載のコンデ
    ンサ。
  5. 【請求項5】 誘電体層がポリイミドである請求項1か
    ら3記載のコンデンサ。
  6. 【請求項6】 固体導電層が導電性高分子である請求項
    1から5記載のコンデンサ。
  7. 【請求項7】 固体導電層がポリピロールもしくはその
    誘導体である請求項1から6記載のコンデンサ。
  8. 【請求項8】 箔状金属からなる電極を用意する工程と
    前記電極表面に誘電体層を形成する工程と前記電極の両
    面に固体導電層形成領域を区分けするための粘着テープ
    を貼付する工程と前記固体導電層に接しない方の区分け
    された領域の一部または全部を被覆する粘着テープをさ
    らに貼付する工程と前記電極表面露出部分に誘電体層と
    固体導電層を順次配するとともに一方の電極リードを取
    り出す工程と前記固体導電層と隣接してなる粘着テープ
    を残して前記粘着テープの一部または全部を除去する工
    程と該除去部分にもう一方の電極リードを形成する工程
    を含む固体電解コンデンサの製造方法。
  9. 【請求項9】 箔状金属電極表面を機械的、化学的ある
    いは電気化学的なエッチングにより拡面化する工程を含
    む請求項8記載の固体電解コンデンサの製造方法。
  10. 【請求項10】 誘電体皮膜を高分子皮膜で形成する工
    程を含む請求項8または9記載のコンデンサの製造方
    法。
  11. 【請求項11】 高分子薄膜形成に電着を用いる請求項
    8から10記載のコンデンサの製造方法。
  12. 【請求項12】 高分子薄膜としてアクリル酸とメタク
    リル酸とスチレンの共重合体もしくはポリイミドを電着
    により形成する工程を含む請求項8から11記載のコン
    デンサの製造方法。
  13. 【請求項13】 固体導電層としてポリピロールまたは
    その誘導体を形成する工程を含む請求項8から12記載
    のコンデンサの製造方法。
  14. 【請求項14】 化学重合で固体導電層を形成する工程
    を含む請求項13記載のコンデンサの製造方法。
  15. 【請求項15】 電解重合で固体導電層を形成する工程
    を含む請求項13記載のコンデンサの製造方法。
  16. 【請求項16】 箔状金属からなる電極表面に高分子誘
    電体皮膜とポリエチレンジオキシチオフェンからなる固
    体導電層を順次形成してなるコンデンサ。
  17. 【請求項17】 箔状金属がエッチド箔である請求項1
    6記載のコンデンサ。
  18. 【請求項18】 誘電体がアクリル酸とメタクリル酸と
    スチレンの共重合体である請求項16および17項記載
    のコンデンサ。
  19. 【請求項19】 箔状金属からなる電極を用意する工程
    とその表面に高分子誘電体皮膜とポリエチレンジオキシ
    チオフェンを順次配する工程を有するコンデンサの製造
    方法。
  20. 【請求項20】 箔状金属からなる電極を化学的または
    電気化学的エッチングにより拡面化する工程を有する請
    求項19記載のコンデンサの製造方法。
  21. 【請求項21】 アクリル酸とメタクリル酸とスチレン
    の共重合体を電着により誘電体を形成する工程を含む請
    求項20および21記載のコンデンサの製造方法。
  22. 【請求項22】 化学重合ポリエチレンジオキシチオフ
    ェンを形成する工程を含む請求項20から22記載のコ
    ンデンサの製造方法。
  23. 【請求項23】 箔状金属からなる電極表面に高分子誘
    電体皮膜及び二酸化マンガンとポリエチレンジオキシチ
    オフェンからなる固体導電層を順次形成してなるコンデ
    ンサ。
  24. 【請求項24】 箔状金属がエッチド箔である請求項2
    3記載のコンデンサ。
  25. 【請求項25】 誘電体がアクリル酸とメタクリル酸と
    スチレンの共重合体である請求項23および24項記載
    のコンデンサ。
  26. 【請求項26】 箔状金属からなる電極を用意する工程
    とその表面に高分子誘電体皮膜と二酸化マンガンとポリ
    エチレンジオキシチオフェンを順次配する工程を有する
    コンデンサの製造方法。
  27. 【請求項27】 箔状金属からなる電極を化学的または
    電気化学的エッチングにより拡面化する工程を有する請
    求項26記載のコンデンサの製造方法。
  28. 【請求項28】 アクリル酸とメタクリル酸とスチレン
    の共重合体を電着により誘電体を形成する工程を含む請
    求項26および27記載のコンデンサの製造方法。
  29. 【請求項29】 還元により二酸化マンガンを形成する
    工程を含む請求項26から28記載のコンデンサの製造
    方法。
  30. 【請求項30】 電解重合ポリエチレンジオキシチオフ
    ェンを形成する工程を含む請求項26から29記載のコ
    ンデンサの製造方法。
  31. 【請求項31】 箔状金属からなる電極表面に高分子誘
    電体皮膜及びポリエチレンジオキシチオフェンとポリピ
    ロールからなる固体導電層を順次形成してなるコンデン
    サ。
  32. 【請求項32】 箔状金属がエッチド箔である請求項3
    1記載のコンデンサ。
  33. 【請求項33】 誘電体がアクリル酸とメタクリル酸と
    スチレンの共重合体である請求項31および32項記載
    のコンデンサ。
  34. 【請求項34】 箔状金属からなる電極を用意する工程
    とその表面に高分子誘電体皮膜とポリエチレンジオキシ
    チオフェンとポリピロールを形成する工程を有するコン
    デンサの製造方法。
  35. 【請求項35】 箔状金属からなる電極を化学的または
    電気化学的エッチングにより拡面化する工程を有する請
    求項34記載のコンデンサの製造方法。
  36. 【請求項36】 アクリル酸とメタクリル酸とスチレン
    の共重合体もしくはポリイミドを電着により誘電体を形
    成する工程を含む請求項34および35記載のコンデン
    サの製造方法。
  37. 【請求項37】 化学重合ポリエチレンジオキシチオフ
    ェンと電解重合ポリピロールを順次形成する工程を含む
    請求項34から36記載のコンデンサの製造方法。
  38. 【請求項38】 化学重合ポリピロールと電解重合ポリ
    エチレンジオキシチオフェンを順次形成する工程を含む
    請求項34から36記載のコンデンサの製造方法。
  39. 【請求項39】 化学重合ポリピロールと化学重合ポリ
    エチレンジオキシチオフェンを形成する工程を含む請求
    項34から36記載のコンデンサの製造方法。
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WO2004070749A1 (ja) * 2003-02-07 2004-08-19 Showa Denko K.K. コンデンサおよび該コンデンサの製造方法

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WO2004070749A1 (ja) * 2003-02-07 2004-08-19 Showa Denko K.K. コンデンサおよび該コンデンサの製造方法

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