JP2000231199A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JP2000231199A JP2000231199A JP11032850A JP3285099A JP2000231199A JP 2000231199 A JP2000231199 A JP 2000231199A JP 11032850 A JP11032850 A JP 11032850A JP 3285099 A JP3285099 A JP 3285099A JP 2000231199 A JP2000231199 A JP 2000231199A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rays
- filter
- heat ray
- heat
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光源から発せられた紫外線を含む光を被露光
体へ照射して被露光体を露光させる場合に、被露光体が
熱線を吸収して温度上昇することを防止し、被露光体に
焼き付けられる画像品質を向上させることができる装置
を提供する。 【手段】 ランプ１の発光管２を透明材料で形成し、ラ
ンプから被露光体へ至る光路上に、ランプから発せられ
た光の紫外線を通過させつつ熱線を遮断する熱線遮断フ
ィルタ３を配設した。
体へ照射して被露光体を露光させる場合に、被露光体が
熱線を吸収して温度上昇することを防止し、被露光体に
焼き付けられる画像品質を向上させることができる装置
を提供する。 【手段】 ランプ１の発光管２を透明材料で形成し、ラ
ンプから被露光体へ至る光路上に、ランプから発せられ
た光の紫外線を通過させつつ熱線を遮断する熱線遮断フ
ィルタ３を配設した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、カラー受像管用
のシャドウマスク、トリニトロン管（ソニー（株）の登
録商標）用等のアパーチャグリル、半導体素子用のリー
ドフレームなどを製造する場合の露光工程で使用され、
紫外線を含む光を被露光体の被露光面へ照射して、その
被露光面を露光させる露光装置に関する。
のシャドウマスク、トリニトロン管（ソニー（株）の登
録商標）用等のアパーチャグリル、半導体素子用のリー
ドフレームなどを製造する場合の露光工程で使用され、
紫外線を含む光を被露光体の被露光面へ照射して、その
被露光面を露光させる露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばシャドウマスクは、フォトエッチ
ング法を利用して金属薄板に対し各種の処理を施すこと
により製造される。その製造プロセスの１つである露光
工程においては、シャドウマスク素材である長尺状の金
属薄板の両主面にそれぞれ形成された感光性を有するレ
ジスト膜に、シャドウマスクの電子ビーム通過孔に対応
するそれぞれ所定のパターンが形成された原板をそれぞ
れ密着させた後、それぞれ原板を介してレジスト膜に光
を照射して、金属薄板の両主面上のレジスト膜にそれぞ
れ所定のパターンを焼き付ける。この露光工程で使用さ
れる露光装置は、長手方向へ間欠的に搬送される長尺状
の金属薄板を挾んでその両側に設けられ、光源であるラ
ンプおよびその背面側に配設された反射板を有する光照
射部と、それぞれ所定のパターンを有する原板を、金属
薄板の両主面上に形成されたレジスト膜に真空密着させ
るための真空枠とを備えて構成されている。
ング法を利用して金属薄板に対し各種の処理を施すこと
により製造される。その製造プロセスの１つである露光
工程においては、シャドウマスク素材である長尺状の金
属薄板の両主面にそれぞれ形成された感光性を有するレ
ジスト膜に、シャドウマスクの電子ビーム通過孔に対応
するそれぞれ所定のパターンが形成された原板をそれぞ
れ密着させた後、それぞれ原板を介してレジスト膜に光
を照射して、金属薄板の両主面上のレジスト膜にそれぞ
れ所定のパターンを焼き付ける。この露光工程で使用さ
れる露光装置は、長手方向へ間欠的に搬送される長尺状
の金属薄板を挾んでその両側に設けられ、光源であるラ
ンプおよびその背面側に配設された反射板を有する光照
射部と、それぞれ所定のパターンを有する原板を、金属
薄板の両主面上に形成されたレジスト膜に真空密着させ
るための真空枠とを備えて構成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の露光装置では、
水銀ランプ、メタルハライドランプ等のランプから紫外
線を含む光が発せられ、その光が直接に被露光体へ照射
されるとともに、一部の光が反射板で反射されて被露光
体へ照射される。ところが、ランプから発せられる光に
は、紫外線以外に可視光線や赤外線も含まれている。こ
のため、ランプから被露光体へ光が照射されたときに、
赤外線、特に熱線と呼ばれる近赤外線（物質の吸収によ
り物質内の熱運動が励起されて温度が上昇する熱作用を
もつ波長域の赤外線）を被露光体が吸収すると、被露光
体の温度が上昇する。また、可視光線であっても、反射
板等の周囲の部材に照射されるとその部分に熱線が発生
し、間接的に被露光体の温度が上昇する。この結果、被
露光体が熱膨張を起こして、被露光面に焼き付けられた
画像品質が低下することになる。また、反射板や焼付け
枠、原板なども熱線を吸収して温度が上昇する結果、露
光精度や装置性能に悪い影響を及ぼす、といった問題点
がある。
水銀ランプ、メタルハライドランプ等のランプから紫外
線を含む光が発せられ、その光が直接に被露光体へ照射
されるとともに、一部の光が反射板で反射されて被露光
体へ照射される。ところが、ランプから発せられる光に
は、紫外線以外に可視光線や赤外線も含まれている。こ
のため、ランプから被露光体へ光が照射されたときに、
赤外線、特に熱線と呼ばれる近赤外線（物質の吸収によ
り物質内の熱運動が励起されて温度が上昇する熱作用を
もつ波長域の赤外線）を被露光体が吸収すると、被露光
体の温度が上昇する。また、可視光線であっても、反射
板等の周囲の部材に照射されるとその部分に熱線が発生
し、間接的に被露光体の温度が上昇する。この結果、被
露光体が熱膨張を起こして、被露光面に焼き付けられた
画像品質が低下することになる。また、反射板や焼付け
枠、原板なども熱線を吸収して温度が上昇する結果、露
光精度や装置性能に悪い影響を及ぼす、といった問題点
がある。
【０００４】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、光源から発せられた紫外線を含む光
を被露光体へ照射して被露光体を露光させる場合に、被
露光体や装置の構成部品が熱線を吸収して温度上昇する
ことを防止することができ、もって、被露光体に焼き付
けられる画像品質を向上させ、露光精度や装置性能を高
く保持することができる露光装置を提供することを目的
とする。
されたものであり、光源から発せられた紫外線を含む光
を被露光体へ照射して被露光体を露光させる場合に、被
露光体や装置の構成部品が熱線を吸収して温度上昇する
ことを防止することができ、もって、被露光体に焼き付
けられる画像品質を向上させ、露光精度や装置性能を高
く保持することができる露光装置を提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
光源から発せられた紫外線を含む光を被露光体へ照射し
て被露光体を露光させる露光装置において、前記光源の
発光管が紫外線を透過可能な透明材料で形成され、前記
光源から前記被露光体へ至る光路上のいずれかの位置
に、前記光源から発せられた光の紫外線を通過させつつ
熱線を遮断する熱線遮断フィルタを配設したことを特徴
とする。
光源から発せられた紫外線を含む光を被露光体へ照射し
て被露光体を露光させる露光装置において、前記光源の
発光管が紫外線を透過可能な透明材料で形成され、前記
光源から前記被露光体へ至る光路上のいずれかの位置
に、前記光源から発せられた光の紫外線を通過させつつ
熱線を遮断する熱線遮断フィルタを配設したことを特徴
とする。
【０００６】請求項２に係る発明は、請求項１記載の露
光装置において、前記熱線遮断フィルタが、前記光源か
ら発せられた光の熱線を反射する熱線反射フィルタであ
ることを特徴とする。
光装置において、前記熱線遮断フィルタが、前記光源か
ら発せられた光の熱線を反射する熱線反射フィルタであ
ることを特徴とする。
【０００７】請求項３に係る発明は、請求項２記載の露
光装置において、前記熱線反射フィルタが、少なくとも
紫外線を透過させる基体の表面に金属酸化膜を形成した
干渉フィルタであることを特徴とする。
光装置において、前記熱線反射フィルタが、少なくとも
紫外線を透過させる基体の表面に金属酸化膜を形成した
干渉フィルタであることを特徴とする。
【０００８】請求項４に係る発明は、請求項１記載の露
光装置において、前記熱線遮断フィルタを冷却する冷却
手段を備えたことを特徴とする。
光装置において、前記熱線遮断フィルタを冷却する冷却
手段を備えたことを特徴とする。
【０００９】請求項１に係る発明の露光装置において
は、光源から被露光体へ至る光路上に熱線遮断フィルタ
が配設されているので、光源から発せられた光に含まれ
ている熱線は、熱線遮断フィルタによって遮断され、被
露光体へ到達することがない。このため、被露光体が熱
線を吸収して温度上昇することが防止される。また、熱
線遮断フィルタを通過した光が原板や焼付け枠などの構
成部品に照射されても、原板や焼付け枠などが熱線を吸
収して温度上昇する、といったことが起こらない。そし
て、熱線遮断フィルタは、光源から発せられた光のうち
の紫外線を通過させ、また、光源の発光管は、紫外線を
透過させる透明材料、例えば石英ガラスまたはソーダガ
ラス等で形成されているので、被露光体の被露光面で光
量不足を生じることはない。
は、光源から被露光体へ至る光路上に熱線遮断フィルタ
が配設されているので、光源から発せられた光に含まれ
ている熱線は、熱線遮断フィルタによって遮断され、被
露光体へ到達することがない。このため、被露光体が熱
線を吸収して温度上昇することが防止される。また、熱
線遮断フィルタを通過した光が原板や焼付け枠などの構
成部品に照射されても、原板や焼付け枠などが熱線を吸
収して温度上昇する、といったことが起こらない。そし
て、熱線遮断フィルタは、光源から発せられた光のうち
の紫外線を通過させ、また、光源の発光管は、紫外線を
透過させる透明材料、例えば石英ガラスまたはソーダガ
ラス等で形成されているので、被露光体の被露光面で光
量不足を生じることはない。
【００１０】請求項２に係る発明の露光装置では、光源
から発せられた光が熱線反射フィルタを通過するとき
に、その光に含まれている熱線が熱線反射フィルタによ
って反射されるので、熱線反射フィルタを通過して被露
光体へ照射される光には熱線が含まれない。そして、熱
線反射フィルタでは、熱線が反射されるので、熱線吸収
フィルタのように熱線を吸収してフィルタ自身の温度が
上昇する、といったことは起こらない。
から発せられた光が熱線反射フィルタを通過するとき
に、その光に含まれている熱線が熱線反射フィルタによ
って反射されるので、熱線反射フィルタを通過して被露
光体へ照射される光には熱線が含まれない。そして、熱
線反射フィルタでは、熱線が反射されるので、熱線吸収
フィルタのように熱線を吸収してフィルタ自身の温度が
上昇する、といったことは起こらない。
【００１１】請求項３に係る発明の露光装置では、光源
から発せられた光が干渉フィルタを通過するときに、光
の波長程度の厚さの透明薄膜による干渉作用により、被
露光体の露光に必要である波長領域の紫外線が通過させ
られ熱線が反射させられる。このため、干渉フィルタを
通過して被露光体へ照射される光には熱線が含まれな
い。一方、色素の吸収を利用した色ガラスやゼラチンを
用いたフィルタのように、所望の波長領域の紫外線の一
部も吸収もしくは反射してしまい、被露光体の被露光面
で光量不足を生じる、といったことは起こらない。
から発せられた光が干渉フィルタを通過するときに、光
の波長程度の厚さの透明薄膜による干渉作用により、被
露光体の露光に必要である波長領域の紫外線が通過させ
られ熱線が反射させられる。このため、干渉フィルタを
通過して被露光体へ照射される光には熱線が含まれな
い。一方、色素の吸収を利用した色ガラスやゼラチンを
用いたフィルタのように、所望の波長領域の紫外線の一
部も吸収もしくは反射してしまい、被露光体の被露光面
で光量不足を生じる、といったことは起こらない。
【００１２】請求項４に係る発明の露光装置では、熱線
遮断フィルタが冷却手段によって冷却されるので、熱線
遮断フィルタとして特に熱線吸収フィルタを用いた場合
に、熱線吸収フィルタが熱線を吸収しても、熱線吸収フ
ィルタの温度の上昇が抑えられる。このため、熱線吸収
フィルタからの放射伝熱や対流伝熱によって被露光体や
原板、焼付け枠などの温度が上昇する、といったことが
防止される。
遮断フィルタが冷却手段によって冷却されるので、熱線
遮断フィルタとして特に熱線吸収フィルタを用いた場合
に、熱線吸収フィルタが熱線を吸収しても、熱線吸収フ
ィルタの温度の上昇が抑えられる。このため、熱線吸収
フィルタからの放射伝熱や対流伝熱によって被露光体や
原板、焼付け枠などの温度が上昇する、といったことが
防止される。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
について図面を参照しながら説明する。
について図面を参照しながら説明する。
【００１４】図１は、この発明の実施形態の１例を示
し、露光装置の光源の縦断面図である。なお、露光装置
の全体構成は、従来の露光装置と変わるところが無いの
で、その図示および説明を省略する。
し、露光装置の光源の縦断面図である。なお、露光装置
の全体構成は、従来の露光装置と変わるところが無いの
で、その図示および説明を省略する。
【００１５】この光源は、水銀ランプ、メタルハライド
ランプ等のランプ１からなり、ランプ１の発光管２は、
紫外線を透過させる透明材料、例えば石英ガラスで形成
され、その発光管２の内部に水銀、金属ハロゲン化物等
と少量の希ガスとが封入されており（発光管２の内部は
ハッチングで略図的に示している。後述する図２におい
ても同じ）、ランプ１からは紫外線を含む光が発せられ
る。ランプ１の外側には、ランプ１で発生した熱線を遮
断して熱線が外部へ放射されないようにするために、ラ
ンプ１と同心の管状をなす熱線遮断フィルタ３が配設さ
れている。熱線遮断フィルタ３は、紫外線を通過させつ
つ、熱線を反射もしくは吸収することにより熱線を遮断
する。図１に示したように、ランプ１の外側に熱線遮断
フィルタ３を配設した構造では、熱線遮断フィルタ３の
温度上昇を抑える意味合いから、熱線遮断フィルタ３と
して熱線反射フィルタを用いることが望ましい。熱線反
射フィルタとしては、例えば図１に示しているように、
紫外線を透過させる透明材料、例えば石ガラスで形成さ
れた管状の透明基体４上に真空蒸着でＴｉＯ２、ＳｉＯ
２、またはＡｌ２Ｏ３等の金属酸化膜５を形成した干渉
フィルタが使用される。干渉フィルタは、薄膜の厚さを
調整することにより、紫外線を透過させつつ熱線を反射
させる帯域フィルタとして機能する。このような干渉フ
ィルタを用いることにより、被露光体の被露光面で光量
不足を生じることを無くすことができる。
ランプ等のランプ１からなり、ランプ１の発光管２は、
紫外線を透過させる透明材料、例えば石英ガラスで形成
され、その発光管２の内部に水銀、金属ハロゲン化物等
と少量の希ガスとが封入されており（発光管２の内部は
ハッチングで略図的に示している。後述する図２におい
ても同じ）、ランプ１からは紫外線を含む光が発せられ
る。ランプ１の外側には、ランプ１で発生した熱線を遮
断して熱線が外部へ放射されないようにするために、ラ
ンプ１と同心の管状をなす熱線遮断フィルタ３が配設さ
れている。熱線遮断フィルタ３は、紫外線を通過させつ
つ、熱線を反射もしくは吸収することにより熱線を遮断
する。図１に示したように、ランプ１の外側に熱線遮断
フィルタ３を配設した構造では、熱線遮断フィルタ３の
温度上昇を抑える意味合いから、熱線遮断フィルタ３と
して熱線反射フィルタを用いることが望ましい。熱線反
射フィルタとしては、例えば図１に示しているように、
紫外線を透過させる透明材料、例えば石ガラスで形成さ
れた管状の透明基体４上に真空蒸着でＴｉＯ２、ＳｉＯ
２、またはＡｌ２Ｏ３等の金属酸化膜５を形成した干渉
フィルタが使用される。干渉フィルタは、薄膜の厚さを
調整することにより、紫外線を透過させつつ熱線を反射
させる帯域フィルタとして機能する。このような干渉フ
ィルタを用いることにより、被露光体の被露光面で光量
不足を生じることを無くすことができる。
【００１６】図１に示したように、ランプ１の外側に熱
線遮断フィルタ３を配設してランプ１から外部へ熱線が
放射されない構造とすることにより、被露光体が熱線を
吸収して温度上昇する、といったことが無くなる。この
ため、被露光体の熱膨張が抑えられて、被露光体の被露
光面に焼き付けられる画像品質が向上する。また、反射
板や焼付け枠、その他の装置構成部品や原板が、ランプ
１で発生した熱線を吸収して温度上昇する、といったこ
とも無くなるので、露光精度や装置性能も向上する。
線遮断フィルタ３を配設してランプ１から外部へ熱線が
放射されない構造とすることにより、被露光体が熱線を
吸収して温度上昇する、といったことが無くなる。この
ため、被露光体の熱膨張が抑えられて、被露光体の被露
光面に焼き付けられる画像品質が向上する。また、反射
板や焼付け枠、その他の装置構成部品や原板が、ランプ
１で発生した熱線を吸収して温度上昇する、といったこ
とも無くなるので、露光精度や装置性能も向上する。
【００１７】次に、図２は、この発明の別の実施形態を
示す光源の縦断面図である。この実施形態のものは、ラ
ンプ６の外側に、ランプ６の発光管７の外周面との間に
間隔を設けて、ランプ６と同心の二重構造からなり内管
９と外管１０との間に液体通路１１が形成された冷却ジ
ャケット８が配設された構成を有する。図１に示した実
施形態と同様に、ランプ６からは、紫外線を含む光が発
せられ、発光管７は、石英ガラスで形成されている。ラ
ンプ６の発光管７の外周面と冷却ジャケット８の内周面
（内管９の内周面）との間は、空気層となっている。冷
却ジャケット８の内管９および外管１０は、ランプ６の
発光管７と同様に、紫外線を透過させる透明材料、例え
ば石英ガラスで形成されている。そして、冷却ジャケッ
ト８の内管９の外周面と外管１０の内周面との間に、内
管９および外管１０と同心の管状をなす熱線遮断フィル
タ１２が配設されている。冷却ジャケット８の内管９と
外管１０との間の液体通路１１には、透明の冷却用液
体、例えば冷却水として純水が流される。冷却ジャケッ
ト８の液体通路１１に純水が流されることにより、冷却
ジャケット８を通過する光に含まれる熱線の１．４μｍ
以上の波長部分が遮断される。
示す光源の縦断面図である。この実施形態のものは、ラ
ンプ６の外側に、ランプ６の発光管７の外周面との間に
間隔を設けて、ランプ６と同心の二重構造からなり内管
９と外管１０との間に液体通路１１が形成された冷却ジ
ャケット８が配設された構成を有する。図１に示した実
施形態と同様に、ランプ６からは、紫外線を含む光が発
せられ、発光管７は、石英ガラスで形成されている。ラ
ンプ６の発光管７の外周面と冷却ジャケット８の内周面
（内管９の内周面）との間は、空気層となっている。冷
却ジャケット８の内管９および外管１０は、ランプ６の
発光管７と同様に、紫外線を透過させる透明材料、例え
ば石英ガラスで形成されている。そして、冷却ジャケッ
ト８の内管９の外周面と外管１０の内周面との間に、内
管９および外管１０と同心の管状をなす熱線遮断フィル
タ１２が配設されている。冷却ジャケット８の内管９と
外管１０との間の液体通路１１には、透明の冷却用液
体、例えば冷却水として純水が流される。冷却ジャケッ
ト８の液体通路１１に純水が流されることにより、冷却
ジャケット８を通過する光に含まれる熱線の１．４μｍ
以上の波長部分が遮断される。
【００１８】図２に示したように、ランプ６の外側に冷
却ジャケット８を設け、冷却ジャケット８の液体通路１
１に管状の熱線遮断フィルタ１２を配設した構造では、
熱線遮断フィルタ１２として熱線吸収フィルタを用いて
も、熱線吸収フィルタでの熱線の吸収による温度上昇が
抑えられることになる。また、ランプ６自体も冷却され
る。したがって、熱線吸収フィルタやランプ６が熱源と
なって放射伝熱や対流伝熱により、被露光体や原板、焼
付け枠、反射板等の装置構成部品の温度が上昇する、と
いったことが防止される。また、図１に示したものと同
様に、ランプ１で発生した熱線は、熱線遮断フィルタ１
２で吸収されて外部への放射が遮断され、被露光体や原
板、焼付け枠などに熱線が到達することはないので、そ
れらが熱線を吸収して温度上昇する、といったことは無
くなる。このため、被露光体の被露光面に焼き付けられ
る画像品質が向上し、また、露光精度や装置性能も向上
することになる。
却ジャケット８を設け、冷却ジャケット８の液体通路１
１に管状の熱線遮断フィルタ１２を配設した構造では、
熱線遮断フィルタ１２として熱線吸収フィルタを用いて
も、熱線吸収フィルタでの熱線の吸収による温度上昇が
抑えられることになる。また、ランプ６自体も冷却され
る。したがって、熱線吸収フィルタやランプ６が熱源と
なって放射伝熱や対流伝熱により、被露光体や原板、焼
付け枠、反射板等の装置構成部品の温度が上昇する、と
いったことが防止される。また、図１に示したものと同
様に、ランプ１で発生した熱線は、熱線遮断フィルタ１
２で吸収されて外部への放射が遮断され、被露光体や原
板、焼付け枠などに熱線が到達することはないので、そ
れらが熱線を吸収して温度上昇する、といったことは無
くなる。このため、被露光体の被露光面に焼き付けられ
る画像品質が向上し、また、露光精度や装置性能も向上
することになる。
【００１９】なお、上記したそれぞれの実施形態では、
ランプ１、６を取り囲むように管状の熱線遮断フィルタ
３、１２を配置して、ランプ１、６で発生した熱線が外
部へ放射されないようにしているが、熱線遮断フィルタ
は、ランプから被露光体へ至る光路上のいずれかの位置
に配設すればよく、また、板状の熱線遮断フィルタを光
路と交差するように設けてもよい。また、この発明は、
シャドウマスク素材である長尺状の金属薄板の両主面に
形成されたレジスト膜面に原板のパターンを焼き付ける
場合のほか、種々の被露光体に対する露光に適用するこ
とが可能である。また、上記したそれぞれの実施形態で
は、熱線遮断フィルタの透明基体４は石英ガラスで形成
されているが、紫外線を透過させることのできる材料で
あれば何でもよく、例えば、一般的なソーダガラス、光
学レンズに用いられるようなガラス、または、耐熱性お
よび耐紫外線性を有する透明樹脂等でもよい。ただし、
紫外線の透過波長域の広さやその透過率等を考慮する
と、石英ガラスを用いるのが最も好ましい。
ランプ１、６を取り囲むように管状の熱線遮断フィルタ
３、１２を配置して、ランプ１、６で発生した熱線が外
部へ放射されないようにしているが、熱線遮断フィルタ
は、ランプから被露光体へ至る光路上のいずれかの位置
に配設すればよく、また、板状の熱線遮断フィルタを光
路と交差するように設けてもよい。また、この発明は、
シャドウマスク素材である長尺状の金属薄板の両主面に
形成されたレジスト膜面に原板のパターンを焼き付ける
場合のほか、種々の被露光体に対する露光に適用するこ
とが可能である。また、上記したそれぞれの実施形態で
は、熱線遮断フィルタの透明基体４は石英ガラスで形成
されているが、紫外線を透過させることのできる材料で
あれば何でもよく、例えば、一般的なソーダガラス、光
学レンズに用いられるようなガラス、または、耐熱性お
よび耐紫外線性を有する透明樹脂等でもよい。ただし、
紫外線の透過波長域の広さやその透過率等を考慮する
と、石英ガラスを用いるのが最も好ましい。
【００２０】
【発明の効果】請求項１に係る発明の露光装置を使用す
ると、光源から発せられた光に含まれている熱線が被露
光体に到達することがないので、被露光体が熱線を吸収
して温度上昇することが防止され、このため、被露光体
に焼き付けられる画像品質を向上させることができる。
また、光源から発せられ熱線遮断フィルタを通過した光
が原板や焼付け枠などの構成部品に照射されても、原板
や焼付け枠などが熱線を吸収して温度上昇する、といっ
たことが起こらないため、露光精度や装置性能を高く保
持することができる。そして、光源から発せられた光に
含まれる紫外線は、光源の発光管を透過し熱線遮断フィ
ルタを通過するので、被露光体の被露光面で光量不足を
生じることはなく、被露光体に所望通りのパターンが焼
き付けられる。
ると、光源から発せられた光に含まれている熱線が被露
光体に到達することがないので、被露光体が熱線を吸収
して温度上昇することが防止され、このため、被露光体
に焼き付けられる画像品質を向上させることができる。
また、光源から発せられ熱線遮断フィルタを通過した光
が原板や焼付け枠などの構成部品に照射されても、原板
や焼付け枠などが熱線を吸収して温度上昇する、といっ
たことが起こらないため、露光精度や装置性能を高く保
持することができる。そして、光源から発せられた光に
含まれる紫外線は、光源の発光管を透過し熱線遮断フィ
ルタを通過するので、被露光体の被露光面で光量不足を
生じることはなく、被露光体に所望通りのパターンが焼
き付けられる。
【００２１】請求項２に係る発明の露光装置では、光源
から発せられた光に含まれる熱線は熱線反射フィルタに
よって反射され、熱線反射フィルタを通過して被露光体
へ照射される光には熱線が含まれない。そして、熱線反
射フィルタでは、熱線が反射されるので、熱線吸収フィ
ルタのように熱線を吸収してフィルタ自身の温度が上昇
する、といったことは起こらない。
から発せられた光に含まれる熱線は熱線反射フィルタに
よって反射され、熱線反射フィルタを通過して被露光体
へ照射される光には熱線が含まれない。そして、熱線反
射フィルタでは、熱線が反射されるので、熱線吸収フィ
ルタのように熱線を吸収してフィルタ自身の温度が上昇
する、といったことは起こらない。
【００２２】請求項３に係る発明の露光装置では、光源
から発せられた光に含まれる熱線は干渉フィルタの干渉
作用によって反射され、干渉フィルタを通過して被露光
体へ照射される光には熱線が含まれない。一方、色素の
吸収を利用した色ガラスやゼラチンを用いたフィルタの
ように、所望の波長領域の紫外線の一部も吸収もしくは
反射してしまい、被露光体の被露光面で光量不足を生じ
る、といったことは起こらない。
から発せられた光に含まれる熱線は干渉フィルタの干渉
作用によって反射され、干渉フィルタを通過して被露光
体へ照射される光には熱線が含まれない。一方、色素の
吸収を利用した色ガラスやゼラチンを用いたフィルタの
ように、所望の波長領域の紫外線の一部も吸収もしくは
反射してしまい、被露光体の被露光面で光量不足を生じ
る、といったことは起こらない。
【００２３】請求項４に係る発明の露光装置では、熱線
遮断フィルタとして特に熱線吸収フィルタを用いた場合
でも、熱線吸収フィルタでの熱線の吸収によるフィルタ
の温度上昇が抑えられので、熱線吸収フィルタが熱源と
なって放射伝熱や対流伝熱により被露光体や原板、焼付
け枠などの温度が上昇する、といったことが防止され
る。このため、露光精度や装置性能を高く保持すること
ができる。
遮断フィルタとして特に熱線吸収フィルタを用いた場合
でも、熱線吸収フィルタでの熱線の吸収によるフィルタ
の温度上昇が抑えられので、熱線吸収フィルタが熱源と
なって放射伝熱や対流伝熱により被露光体や原板、焼付
け枠などの温度が上昇する、といったことが防止され
る。このため、露光精度や装置性能を高く保持すること
ができる。
【図１】この発明の実施形態の１例を示す露光装置の光
源の縦断面図である。
源の縦断面図である。
【図２】この発明の別の実施形態を示す光源の縦断面図
である。
である。
１、６ ランプ ２、７ ランプの発光管 ３ 熱線遮断フィルタ（熱線反射フィルタ） ４ 透明基体 ５ 金属酸化膜 ８ 冷却ジャケット ９ 内管 １０ 外管 １１ 液体通路 １２ 熱線遮断フィルタ（熱線吸収フィルタ）
Claims (4)
- 【請求項１】 光源から発せられた紫外線を含む光を被
露光体へ照射して被露光体を露光させる露光装置におい
て、 前記光源の発光管が紫外線を透過可能な透明材料で形成
され、 前記光源から前記被露光体へ至る光路上のいずれかの位
置に、前記光源から発せられた光の紫外線を通過させつ
つ熱線を遮断する熱線遮断フィルタを配設したことを特
徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記熱線遮断フィルタが、前記光源から
発せられた光の熱線を反射する熱線反射フィルタである
請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記熱線反射フィルタが、少なくとも紫
外線を透過させる基体の表面に金属酸化膜を形成した干
渉フィルタである請求項２記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記熱線遮断フィルタを冷却する冷却手
段を備えた請求項１記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11032850A JP2000231199A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11032850A JP2000231199A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000231199A true JP2000231199A (ja) | 2000-08-22 |
Family
ID=12370323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11032850A Abandoned JP2000231199A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000231199A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8822962B2 (en) | 2011-03-16 | 2014-09-02 | Iwasaki Electric Co., Ltd. | Ultraviolet irradiator and ultraviolet irradiating apparatus using the same |
-
1999
- 1999-02-10 JP JP11032850A patent/JP2000231199A/ja not_active Abandoned
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8822962B2 (en) | 2011-03-16 | 2014-09-02 | Iwasaki Electric Co., Ltd. | Ultraviolet irradiator and ultraviolet irradiating apparatus using the same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2538728B2 (ja) | グレイ・レベル・マスクおよびその製造方法 | |
| US5207505A (en) | Illumination light source device | |
| JP2010282969A (ja) | ランプハウジング装置および投映機 | |
| JP2005268035A (ja) | Ｅｕｖ光源の評価用評価装置、およびそれを用いた評価方法 | |
| KR20060004683A (ko) | 적외선 방출체 및 조사 장치 | |
| JP2000231199A (ja) | 露光装置 | |
| US5147742A (en) | Photomask and fabrication of the same | |
| JP2008130302A (ja) | 光照射装置 | |
| JPH0586338B2 (ja) | ||
| JPH02189805A (ja) | マイクロ波励起型無電極発光装置 | |
| TW546679B (en) | Heating method | |
| JPS61158451A (ja) | 紫外線照射装置 | |
| JP2002359173A (ja) | 光源装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JP2734939B2 (ja) | ランプ光源及び露光装置 | |
| JP2007266098A (ja) | 減光フィルタ、タブレット板および露光装置 | |
| JP3744397B2 (ja) | 紫外線照射器 | |
| JP2002246297A (ja) | 光源装置、その光源装置に用いられるフライアイ・レンズ、その光源装置を有する露光装置 | |
| JP7126244B2 (ja) | 投影マスク、およびレーザ照射装置 | |
| JP2002278078A (ja) | シャドウマスク用露光装置 | |
| JP2013162110A (ja) | 露光装置 | |
| JP2007220933A (ja) | 露光装置 | |
| JP2000231198A (ja) | 密着焼付け装置 | |
| JPH08236425A (ja) | 放射線取出窓およびこれを有する露光装置 | |
| JPS5845738A (ja) | 紫外線照射器具 | |
| JP4522840B2 (ja) | フォトマスク、露光装置及び露光方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040609 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040622 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20040722 |