JP2000228552A - 固体レーザ装置 - Google Patents
固体レーザ装置Info
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- JP2000228552A JP2000228552A JP11029616A JP2961699A JP2000228552A JP 2000228552 A JP2000228552 A JP 2000228552A JP 11029616 A JP11029616 A JP 11029616A JP 2961699 A JP2961699 A JP 2961699A JP 2000228552 A JP2000228552 A JP 2000228552A
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Abstract
出器及び温度制御素子の配置の関係から生じる共振器内
の温度勾配に基づく結晶温度の変化を無くし、温度に対
する特性劣化を防止した固体レーザ装置を提供する。 【解決手段】結晶の温度を制御するための金属板11
と、ペルチェ素子9と、制御温度検出用サーミスタ10
と、共振器温度調節器17及び温度制御用入出力ライン
15で共振器温度調節機構を構成し、制御温度検出用サ
ーミスタ10付近の制御温度を環境温度に対応して変化
させると、結晶と前記サーミスタ10間の温度勾配を無
くすことができ、結晶は一定温度に保たれ広い動作範囲
で安定したレーザ出力を得ることができる。
Description
ザプリンタ、医療機器あるいは光造形などの各種分野に
用いられる固体レーザ装置に関する。
た固体レーザ媒質(例えばYAG結晶等)に、半導体レ
ーザ等の励起源から出力されたレーザ光を集光して照射
し、その固体レーザ媒質を励起することによって光共振
器(以下、共振器と称す)内でレーザ発振を引き起こさ
せ、その共振器内に非線形光学結晶のSHG(Seco
nd Harmonic Generation)素子
を配置し、第2高調波を発生させる方式の固体レーザで
ある。
に、励起光を出力するための半導体レーザ(LD)1
と、励起光を集光するための励起光結合系を形成するレ
ンズ2、3と、固体レーザ媒質4、SHG素子5及び出
力ミラー6からなる基本波及び第2高調波レーザ光を発
生させる共振器18と、この共振器18を温度制御用入
出力ライン15を介して、温度検出器24の検出温度と
設定値が一致するよう温度制御素子23を温度制御する
共振器温度調節器17と、ビームスプリッター7、フォ
トダイオード8、ブルーレーザ光モニタライン12及び
LDドライバ16からなりSHG波を一定に保持する後
述のAPC(Auto Power Control)
機構19から構成されている。
ーザ装置においては、SHG素子5の光軸上にサーミス
タなどの温度検出器24を配置することは困難であり、
通常図10に示されるように相対的に離れて設置されて
いる。そして、共振器18の温度制御は温度検出器24
の設置点での制御温度を基準に一定に保つという方式が
一般的に採られている。また、この方式は励起用半導体
レーザ1に対しても用いられている。
は上記のように構成されているが、温度許容幅が大きな
固体レーザ媒質に比べSHG素子は温度許容幅が狭く、
共振器の温度検出器の設置点での制御温度を一定にする
という方法では、環境温度により共振器内に温度勾配が
発生し、SHG素子のような結晶は環境温度の影響を受
けるという問題がある。図10に示したSHG素子(結
晶)5と温度制御素子23や温度検出器24との配置関
係はその一例を示したものであるが、一般的には図4に
示されるように、結晶は結晶A又は結晶Bで示される位
置に設置される。図4において、温度検出器24の中心
位置は、結晶B21及び温度制御素子23の中心位置か
ら距離m、また、結晶A20と結晶B21の中心位置は
距離nだけ離れて設置されている。
による測定温度を基準に動作するので、温度検出器24
付近の温度は環境温度の変化に対して影響されずに一定
である。温度検出器24付近の温度を25℃で温度制御
した場合、環境温度が例えば5℃であるとすると、図中
の金属板22には図5(a)に示されるように温度制御
素子23の中心から遠くなるに従い温度が低くなる温度
勾配が発生する。したがって、温度検出器24付近を設
定温度と同じ温度25℃になるよう制御するためには、
温度制御素子23を設定温度以上に加熱する必要があ
る。この結果、図5(a)に示すように結晶Bは設定温
度よりも高い温度Thに達し、結晶Aでは低い温度Tl
になる。また、環境温度が例えば45℃になると逆の温
度勾配が発生し、図5(b)に示すように結晶Aは設定
温度より高い温度Thに達し、結晶Bでは低い温度Tl
になる。このような温度Th、Tlは制御温度、環境温
度及び設置位置によって決まる。
(図4)付近の温度が25℃一定で、環境温度が時間的
に変化した場合の結晶A、結晶Bの温度変化を示したも
のである。図に示されるように、環境温度と制御温度
(25℃)の差が大きくなるに従い、結晶A、Bの実温
度と制御温度(25℃)の差が大きくなる。このような
固体レーザ装置における結晶の温度変化は結晶の実温度
と位相整合温度に差を生じさせ、発振状態が不安定とな
り性能を悪化させるという問題がある。
たものであって、環境温度の変化に対して安定した出力
が得られる固体レーザ装置を提供することを目的とす
る。
め、本発明は、半導体レーザからの出力光により固体レ
ーザ媒質を含む光共振器内に非線形光学結晶を収容し
て、上記固体レーザ媒質から誘導放出される基本波を光
共振器内で発振させ、その第2高調波を出力ミラーを介
して外部に出力するように構成されたレーザ装置におい
て、環境温度変化に対応して、励起用半導体レーザ又は
共振器部の制御温度を変化させる機構を備えたことを特
徴とする。
成されており、環境温度に対応して制御温度を図7又は
図8における点線で示すように変化させることにより、
結晶A又はBの温度が一定になり、結晶の配置位置に関
して環境温度の影響を受けない固体レーザ装置を得るこ
とができる。
固体レーザ装置の一実施例を図1により説明する。本装
置は、励起光を出力するための半導体レーザ(LD)1
と、励起光を集光するための励起光結合系を形成するレ
ンズ2、3と、固体レーザ媒質4、SHG素子5及び出
力ミラー6からなる基本波及び第2高調波レーザ光を発
生させる共振器18と、この共振器18を温度制御用入
出力ライン15を介し、サーミスタ10の検出温度と環
境温度を測定するサーミスタ17eに比例した設定温度
が一致するようペルチェ素子9を温度調節する共振器温
度調節器17と、ビームスプリッター7、フォトダイオ
ード8、ブルーレーザ光モニタライン12及びLDドラ
イバ16からなりSHG波を一定に保持するためのAP
C(Auto Power Control)機構19
から構成されている。
Nd:YAG結晶、SHG素子5にはKNbO3の非線
形結晶を用い、固体レーザ媒質4の励起光入射端面4a
及び出力ミラー6の凹面には946nmの基本波並びに
そのSHG波に対して高い反射率をもつ誘電体多層膜が
コーティングされている。
から発生した励起光がレンズ2によって平行光線とされ
た後、レンズ3によって収束され、固体レーザ媒質4を
励起する。この固体レーザ媒質4は、その励起光入射端
面4aと出力ミラー6からなる共振器18に配置されて
おり、レーザ発振を起こす。このとき、同様に共振器内
に配置されたSHG素子5中において第2高調波が発生
し、Nd:YAG946nmレーザ光の第2高調波であ
る473nmのブルーレーザ光を発生させる。これによ
り波長変換が行われ、短波長化したレーザ光が出力ミラ
ー6を通過して外部へ出力される。なお、固体レーザ媒
質4からは1.06μmや1.3μmなどのその他の誘
導放出光も放出されるが、出力ミラー6や励起光入射端
面での反射率が低いためそれらを通過して共振器18外
に放出され、946nmの基本波と第2高調波のみが共
振器18内に閉じ込められレーザ発振が行われて大きな
パワー光に増幅される。
ブルーレーザ光の一部がビームスプリッター7によって
実際のブルーレーザ光とモニタ用レーザ光に分離され、
モニタ用レーザ光がフォトダイオード8に導かれてその
強度が検出される。この検出された強度信号は、半導体
レーザ1の励起光強度を調節するための駆動電流を出力
するLDドライバ16にフィードバックされ、ブルーレ
ーザ光強度が一定値になるようにLDドライバからの駆
動電流が制御される。
結晶KNbO3は効率よく波長変換を行うが、その温度
許容幅が狭く、安定した波長変換動作を行うためには動
作時の温度制御を正確に行う必要がある。
制御温度を環境温度に対応して変化させることを特徴と
している。図2は環境温度に対応して温度設定値を変え
るようにした共振器温度調節器の実施例の構成を示した
ものである。この温度調節器17は、抵抗R1、R2
と、共振器18の外部にあってその周辺の環境温度を測
定するサーミスタ17e及び制御温度検出用サーミスタ
10を4辺とするブリッジ回路17aと、このブリッジ
回路17aの偏差電圧を入力とし、ペルチェ素子9に制
御信号を出力する調節部17bから構成されている。
r)17cが並列に接続されており、この合成抵抗と制
御温度検出用サーミスタ10の抵抗値が等しくなるよう
調節部17bが働きブリッジ回路17aがバランスす
る。例えば、R1=R2で可変抵抗17cの抵抗値がサ
ーミスタ17eの1/9であるとすると、サーミスタ1
0の抵抗値はサーミスタ17eの抵抗値の1/10とな
る。すなわちサーミスタ17eとサーミスタ10の抵抗
比率は10:1となるが、この比率は可変抵抗17cの
抵抗値を調節することにより変えることができる。この
サーミスタ17eの抵抗値は環境温度により、またサー
ミスタ10の抵抗値は制御温度により変わるものである
から、可変抵抗17cの抵抗値を調節することにより、
環境温度の変化に対する制御温度を図7に示すように変
えることができる。
℃で制御した場合、結晶Bの温度は、環境温度が25℃
以下の場合は25℃以上となり、環境温度が25℃以上
の場合は25℃以下となり、その温度差は環境温度と制
御温度(サーミスタ10の温度)の差に比例する。図7
に示されるように制御温度は環境温度が25℃以下の場
合は25℃以下となり、環境温度が25℃以上の場合は
25℃以上となるため、図6で示された結晶温度の25
℃からのずれを補償することになり、結晶Bの実温度は
ほぼ25℃に保たれる。
抵抗R1とサーミスタ10を入れ換えることによって、
環境温度の変化に対する制御温度を図8のように変化さ
せることができ、その結果、図6に示された結晶Aの2
5℃からのずれは図8の制御温度によって補償すること
ができ、結晶Aの実温度をほぼ25℃に保つことができ
る。
えるようにした共振器温度調節器の他の実施例の構成を
示したものである。この温度調節器17は、半導体レー
ザ1の温度制御に用いられるペルチェ素子の駆動電流が
図9に示すように環境温度に比例することを利用するも
ので、そのペルチェ素子の駆動電流に比例した設定電圧
を得るための可変抵抗17cと、定電流源17dからの
電流を流すことにより制御温度に比例したフィードバッ
ク電圧を発生するためのサーミスタ10と、前記設定電
圧とフィードバック電圧を差動的に結合し得られた偏差
電圧を入力とし、温度制御素子9に制御信号を出力する
調節部17bから構成されている。
その両端の電圧、すなわち制御温度設定電圧が変わるた
め、環境温度に対応して変化するペルチェ素子駆動電流
に対し、一定の比率で制御温度を変えることができる。
この方法によれば、図2に示したような環境温度測定用
のサーミスタ17eを使用する必要がなく、また、サー
ミスタ取り付け場所がない場合に有効で、簡単な構成で
温度調節系を構成することができる。以上のように、サ
ーミスタと結晶の位置関係に応じて、環境温度変化に対
して一定の比率で制御温度を変化させることにより、結
晶の実温度を一定に保つことが可能となり、広い動作温
度範囲において安定したレーザ出力を得ることができ
る。
イバ16と温度制御用入出力ライン14により温度制御
されているが、制御温度検出用サーミスタを半導体レー
ザのチップに取り付けるのが困難であるため、ステム等
に配置して間接的に温度制御を行う方法が採られてい
る。そのため、制御温度と環境温度とに差があると、サ
ーミスタ取り付け位置と半導体中心位置間に温度差が生
じる。このような場合においても、サーミスタ付近の制
御温度を環境温度に対応して変化させることは有効な対
策である。例えば、共振器温度制御は環境温度測定用サ
ーミスタ17eを用いる図2の方法で用い、半導体レー
ザ1の温度制御はペルチェ素子9の駆動電流に比例した
電流を図3のペルチェ素子駆動電流に比例した電流に用
いることにより、共振器18及び半導体レーザ1への環
境温度の影響を無くすことができる。
施側に限定されるものではなく、例えば、温度制御素子
としてセラミックヒータ、温度検出器として感温抵抗体
などが使用できる。
構成されており、共振器及び半導体レーザの制御温度を
環境温度に対応して変化させることにより、環境温度に
よって共振器及び半導体レーザ内の結晶の温度が変動す
ることが防止でき、広い温度範囲で安定したレーザ出力
を得ることができる。
の構成図である。
した共振器温度調節機構の実施例を示す概略構成図であ
る。
した共振器温度調節機構の他の実施例を示す概略構成図
である。
の関係を示す部品配置図である。
高い場合の結晶の配置と温度の関係を示す温度変化図で
ある。
的に変化させた時の結晶温度変化図である。
結晶Bの温度変化図である。
結晶Aの温度変化図である。
る。
の構成図である。
Claims (1)
- 【請求項1】半導体レーザからの出力光により励起され
る固体レーザ媒質を含む光共振器内に非線形光学結晶を
収容して、前記固体レーザ媒質から誘導放出される基本
波を光共振器内で発振させその第2高調波を出力ミラー
を介して外部に出力するように構成されたレーザ装置に
おいて、環境温度変化に対応して励起用半導体レーザ又
は共振器部の制御温度を変化させる機構を備えたことを
特徴とする固体レーザ装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP02961699A JP4114260B2 (ja) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | 固体レーザ装置 |
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ID=12281021
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---|---|---|---|
JP02961699A Expired - Lifetime JP4114260B2 (ja) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | 固体レーザ装置 |
Country Status (1)
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Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
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US7593438B2 (en) | 2006-11-30 | 2009-09-22 | Seiko Epson Corporation | Driving method for laser light source device, laser light source device, image display device, monitor device, and illumination device |
JP2020161528A (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | 昭和オプトロニクス株式会社 | レーザ装置 |
CN114361916A (zh) * | 2021-11-30 | 2022-04-15 | 中国电子科技集团公司第十一研究所 | 用于激光器的热沉结构件及具有其的激光器 |
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-
1999
- 1999-02-08 JP JP02961699A patent/JP4114260B2/ja not_active Expired - Lifetime
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CN114361916A (zh) * | 2021-11-30 | 2022-04-15 | 中国电子科技集团公司第十一研究所 | 用于激光器的热沉结构件及具有其的激光器 |
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