JP2000228265A - 高回路密度を有する電気スリップリング - Google Patents
高回路密度を有する電気スリップリングInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のスリップリングよりも高い回路密度を
有する平型複合電気スリップリングを提供する。 【解決手段】 開示されたスリップリングプリント回路
基板を製造する方法は、非導電性基体の一方の側上に複
数の同心的な離隔された電気接点を形成すると共に該非
導電性基体の反対側上に相互接続電気経路を形成するス
テップを含む。本スリップリングプリント回路基板を製
造する方法は、更に、上記電気接点と相互接続電気経路
とを電気的に接続するステップと、上記電気接点上に銅
を付着させて電気リングを形成するステップと、これら
電気リングの各々に溝をエッチング形成するステップと
を含む。
有する平型複合電気スリップリングを提供する。 【解決手段】 開示されたスリップリングプリント回路
基板を製造する方法は、非導電性基体の一方の側上に複
数の同心的な離隔された電気接点を形成すると共に該非
導電性基体の反対側上に相互接続電気経路を形成するス
テップを含む。本スリップリングプリント回路基板を製
造する方法は、更に、上記電気接点と相互接続電気経路
とを電気的に接続するステップと、上記電気接点上に銅
を付着させて電気リングを形成するステップと、これら
電気リングの各々に溝をエッチング形成するステップと
を含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、広くは電気スリッ
プリングに係り、更に特定的には従来技術よりも高い回
路密度を有する電気スリップリングに関する。有利に
は、本発明は、電気リングが互いに接近して隔てられて
いるような平型複合電気スリップリングを指向するもの
である。
プリングに係り、更に特定的には従来技術よりも高い回
路密度を有する電気スリップリングに関する。有利に
は、本発明は、電気リングが互いに接近して隔てられて
いるような平型複合電気スリップリングを指向するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】電気スリップリングは、或る構造部材か
ら他のものへの電気信号の伝達のためのものであって、
これら構造部材の一方が他方に対して回転可能であるよ
うな良く知られた装置である。斯様なスリップリング装
置は、例えば、相対的に静止した環状基台部材を有し、
該部材はそれを廻って環状に延びる複数の導電リングを
有している。相対的に回転可能な構造部材上には、１以
上の導電ブラシが上記静止環状基台部材の廻りに回転す
るように配置されると共に、これらブラシの各々は上記
導電リングの１つの表面に接触するように配置され、こ
れにより２つの構造部材の間に一連の電気接続部を形成
する。
ら他のものへの電気信号の伝達のためのものであって、
これら構造部材の一方が他方に対して回転可能であるよ
うな良く知られた装置である。斯様なスリップリング装
置は、例えば、相対的に静止した環状基台部材を有し、
該部材はそれを廻って環状に延びる複数の導電リングを
有している。相対的に回転可能な構造部材上には、１以
上の導電ブラシが上記静止環状基台部材の廻りに回転す
るように配置されると共に、これらブラシの各々は上記
導電リングの１つの表面に接触するように配置され、こ
れにより２つの構造部材の間に一連の電気接続部を形成
する。
【０００３】平型又は“パンケーキ型”のスリップリン
グは、スリップリング用の空間が非常に限られているよ
うな軍事的又は商業的環境用の最少の高さ又は厚さの装
置である。当該スリップリングの基台を形成する導電リ
ングは、通常、0.003ないし0.040インチの厚さを持つ材
料から形成されるが、殆どの斯様な材料は0.006ないし
0.016インチの範囲の厚さを有している。特徴的には、
斯かるスリップリング基台用のリングは、幅が約0.015
ないし0.020インチである。これらリングの間の間隔、
即ちリングピッチは特徴的には略同じ寸法である。
グは、スリップリング用の空間が非常に限られているよ
うな軍事的又は商業的環境用の最少の高さ又は厚さの装
置である。当該スリップリングの基台を形成する導電リ
ングは、通常、0.003ないし0.040インチの厚さを持つ材
料から形成されるが、殆どの斯様な材料は0.006ないし
0.016インチの範囲の厚さを有している。特徴的には、
斯かるスリップリング基台用のリングは、幅が約0.015
ないし0.020インチである。これらリングの間の間隔、
即ちリングピッチは特徴的には略同じ寸法である。
【０００４】溝切り板法は、パンケーキ型スリップリン
グを製造する最も普通の方法である。該溝切り板法にお
いては、溝切り板が、黄銅板を略“溝切り板”形状に粗
加工することにより準備される。該溝付き板は、次い
で、後のプラスチック硬化及び最終加工の間での歪みを
最小化するために焼き鈍しされる。次ぎに、該溝切り板
の一方の側が最終的な“溝切り板”状に加工される。こ
の場合、頂部は将来のリングの底部に対応し、谷部はリ
ング間の将来の絶縁障壁に対応する。該“溝切り板”
は、次いで、ニッケル及び金ストライクでメッキされ
る。リード線が、該溝切り板上の個々のリング状機構に
半田付け又は溶接される。次いで、ガラス布が該板に接
着されて、リードが該板の谷部（リングの間の将来の障
壁）に入るのを防止する。該板及びリードのアセンブリ
は、次いで、内部リードの経路決め、リード出し位置決
め及び他のロータ幾何学要件を提供するための機構を含
む金型に装填される。該型は、液状エポキシを用いて真
空鋳込みされて、該型の内側細部を完全に満たす。この
時点では、該アセンブリは、内部エポキシ絶縁体を有す
るような１つ又は２つの面上に連続した板を有する単体
である。最終加工工程により、当該板の表面が露出さ
れ、該板はエポキシ（該板内の以前の谷部を充填する）
により互いに分離された個々の同心的なリングに分離す
る。これらリングが分離された後、リングの間の絶縁障
壁が最終的な寸法に加工される。加えて、この工程にお
いて、リングの表面が最終的な寸法に加工される。該リ
ングの溝のパターンは、Ｖ字状、Ｕ字状又は二重Ｖ字状
であってもよい。リングの形状に加えて、これらリング
は所要の表面粗さに加工される。次ぎに、当該ロータは
ニッケルメッキされ、次いで貴金属（通常、金又は銀）
を用いてメッキされる。このような製造方法は複雑であ
り、スリップリングの密度は加工要件により制限されて
しまう。
グを製造する最も普通の方法である。該溝切り板法にお
いては、溝切り板が、黄銅板を略“溝切り板”形状に粗
加工することにより準備される。該溝付き板は、次い
で、後のプラスチック硬化及び最終加工の間での歪みを
最小化するために焼き鈍しされる。次ぎに、該溝切り板
の一方の側が最終的な“溝切り板”状に加工される。こ
の場合、頂部は将来のリングの底部に対応し、谷部はリ
ング間の将来の絶縁障壁に対応する。該“溝切り板”
は、次いで、ニッケル及び金ストライクでメッキされ
る。リード線が、該溝切り板上の個々のリング状機構に
半田付け又は溶接される。次いで、ガラス布が該板に接
着されて、リードが該板の谷部（リングの間の将来の障
壁）に入るのを防止する。該板及びリードのアセンブリ
は、次いで、内部リードの経路決め、リード出し位置決
め及び他のロータ幾何学要件を提供するための機構を含
む金型に装填される。該型は、液状エポキシを用いて真
空鋳込みされて、該型の内側細部を完全に満たす。この
時点では、該アセンブリは、内部エポキシ絶縁体を有す
るような１つ又は２つの面上に連続した板を有する単体
である。最終加工工程により、当該板の表面が露出さ
れ、該板はエポキシ（該板内の以前の谷部を充填する）
により互いに分離された個々の同心的なリングに分離す
る。これらリングが分離された後、リングの間の絶縁障
壁が最終的な寸法に加工される。加えて、この工程にお
いて、リングの表面が最終的な寸法に加工される。該リ
ングの溝のパターンは、Ｖ字状、Ｕ字状又は二重Ｖ字状
であってもよい。リングの形状に加えて、これらリング
は所要の表面粗さに加工される。次ぎに、当該ロータは
ニッケルメッキされ、次いで貴金属（通常、金又は銀）
を用いてメッキされる。このような製造方法は複雑であ
り、スリップリングの密度は加工要件により制限されて
しまう。
【０００５】電鋳リング法は、他の既知の製造方法であ
る。ロータ及びリードのアセンブリが、内部リード経
路、リード出口位置決め及び他のロータ幾何学要件に備
えるための機構を含む鋳型内にリード線を装填すること
により準備される。該鋳型には液状エポキシが鋳込まれ
て、該鋳型の内側細部を完全に満たすと共に上記リード
線を封じ込める。リングを収容するであろう溝が加工さ
れる。開始リングが以下のように準備される。上記リン
グ溝の底部において、前記リード線の導体が露出される
と共に整えられる（通常、導電エポキシのすみ肉を塗布
することによる）。該リング溝の内壁は導電プラスチッ
クで被覆されて、メッキ用の連続した導電開始リングを
形成する。リングが、高肉持ちメッキ技術を用いて上記
開始リング上に銅をメッキすることにより電鋳される。
高肉持ちメッキ技術、即ち高集積電鋳は、通常銅溶液内
で、上記開始リングをメッキすることにより一層厚いリ
ング断面を生成する方法である。上記開始リングは、こ
れらリングの間に誘電体障壁を伴って又は斯様な誘電体
障壁無しでメッキすることができる。この時点では、該
アセンブリはエポキシ絶縁体内に埋め込まれた個別のリ
ング及びリードを有する単体である。最終加工工程が、
上記リングと、これらリングの間の絶縁障壁の最終形状
及びテクスチャを形成する。この最終的なロータはニッ
ケルメッキされ、次いで、貴金属（通常、金又は銀）を
用いてメッキされる。該電鋳リング法の欠点は、障壁が
無い限り限られたリング厚の集積しかできないことを含
む。一層厚いリングの集積を可能にするような誘電体障
壁の生成には、徹底した加工が必要とされる。上記リン
グを電鋳するに要する長い時間により、メッキ液がスリ
ップリング材料を損なう可能性があり、誘電体内に埋め
込まれたリードへの漏れがリードの損傷及び電気絶縁の
破壊の原因となる。また、誘電体材料が電鋳工程を妨害
し得る。リングの側面はニッケルにより密封することが
できず、腐蝕生成物を形成し電気接点を汚染するのを許
してしまう。斯かる汚染物質は、接点の故障及び電気的
短絡に繋がる。これが、従来の電鋳リングの最も重大な
欠点である。
る。ロータ及びリードのアセンブリが、内部リード経
路、リード出口位置決め及び他のロータ幾何学要件に備
えるための機構を含む鋳型内にリード線を装填すること
により準備される。該鋳型には液状エポキシが鋳込まれ
て、該鋳型の内側細部を完全に満たすと共に上記リード
線を封じ込める。リングを収容するであろう溝が加工さ
れる。開始リングが以下のように準備される。上記リン
グ溝の底部において、前記リード線の導体が露出される
と共に整えられる（通常、導電エポキシのすみ肉を塗布
することによる）。該リング溝の内壁は導電プラスチッ
クで被覆されて、メッキ用の連続した導電開始リングを
形成する。リングが、高肉持ちメッキ技術を用いて上記
開始リング上に銅をメッキすることにより電鋳される。
高肉持ちメッキ技術、即ち高集積電鋳は、通常銅溶液内
で、上記開始リングをメッキすることにより一層厚いリ
ング断面を生成する方法である。上記開始リングは、こ
れらリングの間に誘電体障壁を伴って又は斯様な誘電体
障壁無しでメッキすることができる。この時点では、該
アセンブリはエポキシ絶縁体内に埋め込まれた個別のリ
ング及びリードを有する単体である。最終加工工程が、
上記リングと、これらリングの間の絶縁障壁の最終形状
及びテクスチャを形成する。この最終的なロータはニッ
ケルメッキされ、次いで、貴金属（通常、金又は銀）を
用いてメッキされる。該電鋳リング法の欠点は、障壁が
無い限り限られたリング厚の集積しかできないことを含
む。一層厚いリングの集積を可能にするような誘電体障
壁の生成には、徹底した加工が必要とされる。上記リン
グを電鋳するに要する長い時間により、メッキ液がスリ
ップリング材料を損なう可能性があり、誘電体内に埋め
込まれたリードへの漏れがリードの損傷及び電気絶縁の
破壊の原因となる。また、誘電体材料が電鋳工程を妨害
し得る。リングの側面はニッケルにより密封することが
できず、腐蝕生成物を形成し電気接点を汚染するのを許
してしまう。斯かる汚染物質は、接点の故障及び電気的
短絡に繋がる。これが、従来の電鋳リングの最も重大な
欠点である。
【０００６】前方監視赤外線レーダ（ＦＬＩＲ）プラッ
トフォームに電気スリップリングアセンブリを使用する
もっと最近の要件は、前記溝切り法又は上記電鋳リング
法の何れにより供され得るよりも厳しい空間要件を有し
ている。ＦＬＩＲシステムは、監視、偵察、距離計、照
準及び射撃制御用途に使用される。これらのＦＬＩＲプ
ラットフォームは、全て、多くの回路が必要とされ且つ
当該スリップリング用の空間が常に制限されるような高
回路密度を含み、スリップリングに厳しい要件を課す。
他の要件は、当該スリップリングアセンブリを介して通
過するデジタル化されたビデオ信号に対する広帯域幅及
び低雑音に関するものである。更に他の要件は、当該ス
リップリングアセンブリが−５４℃ないし＋６０℃の温
度範囲にわたり機能しなければならないという低温動作
に関するものである。
トフォームに電気スリップリングアセンブリを使用する
もっと最近の要件は、前記溝切り法又は上記電鋳リング
法の何れにより供され得るよりも厳しい空間要件を有し
ている。ＦＬＩＲシステムは、監視、偵察、距離計、照
準及び射撃制御用途に使用される。これらのＦＬＩＲプ
ラットフォームは、全て、多くの回路が必要とされ且つ
当該スリップリング用の空間が常に制限されるような高
回路密度を含み、スリップリングに厳しい要件を課す。
他の要件は、当該スリップリングアセンブリを介して通
過するデジタル化されたビデオ信号に対する広帯域幅及
び低雑音に関するものである。更に他の要件は、当該ス
リップリングアセンブリが−５４℃ないし＋６０℃の温
度範囲にわたり機能しなければならないという低温動作
に関するものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の１つの目的
は、従来のスリップリングよりも高い回路密度を有する
平型複合電気スリップリングを提供することにある。
は、従来のスリップリングよりも高い回路密度を有する
平型複合電気スリップリングを提供することにある。
【０００８】また、本発明の他の目的は、電気スリップ
リングが機械的に加工されないような電気スリップリン
グ装置を提供することにある。
リングが機械的に加工されないような電気スリップリン
グ装置を提供することにある。
【０００９】また、本発明の更に他の目的は、動作に信
頼性があり、製造が容易であり、且つ、価格有効的な電
気スリップリングを提供することにある。
頼性があり、製造が容易であり、且つ、価格有効的な電
気スリップリングを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のこれら及び他の
目的は、３つの関係する工程を用いて達成される。これ
ら工程は、両面プリント回路基板技術、銅電鋳、及び化
学的加工を含む。本発明を用いて、両面銅被覆ガラス補
強エポキシ積層板（ＦＲ４）が、写真ネガを用いて結像
される感光ポリマにより被覆される。強力紫外光源によ
る露光に続いて、上記感光ポリマは溶液を用いて現像さ
れ、該溶液が該レジストの非露光領域を選択的に溶解除
去する。該レジストが除去されると、銅が後のエッチン
グのために露出される。
目的は、３つの関係する工程を用いて達成される。これ
ら工程は、両面プリント回路基板技術、銅電鋳、及び化
学的加工を含む。本発明を用いて、両面銅被覆ガラス補
強エポキシ積層板（ＦＲ４）が、写真ネガを用いて結像
される感光ポリマにより被覆される。強力紫外光源によ
る露光に続いて、上記感光ポリマは溶液を用いて現像さ
れ、該溶液が該レジストの非露光領域を選択的に溶解除
去する。該レジストが除去されると、銅が後のエッチン
グのために露出される。
【００１１】次いで、該写真結像された材料は銅エッチ
ング剤中に置かれ、該エッチング剤が露出した銅を除去
する。フォトレジストにより保護された領域はエッチン
グされず、一方の面上に相互接続する電気通路を形成す
る。次いで、該エッチングされた材料を介して孔が開け
られ、２つの面を電気的に接続する。該接続は、メッキ
スルーホール処理を用いて、及び／又は銀添加エポキシ
のような導電材料により上記孔を充填することにより形
成される。
ング剤中に置かれ、該エッチング剤が露出した銅を除去
する。フォトレジストにより保護された領域はエッチン
グされず、一方の面上に相互接続する電気通路を形成す
る。次いで、該エッチングされた材料を介して孔が開け
られ、２つの面を電気的に接続する。該接続は、メッキ
スルーホール処理を用いて、及び／又は銀添加エポキシ
のような導電材料により上記孔を充填することにより形
成される。
【００１２】スルーホール相互接続部が形成されると、
該スリップリング回路基板の両面に再びフォトレジスト
が塗布される。上記電気相互接続部には単層のレジスト
が塗布され、反対側には複数の層が順次塗布される。該
複数層のフォトレジストは、次いで、複数の同心的リン
グを含むフォトツールを介して紫外光により露光され
る。像が現像された後、フォトレジストの同心的リング
の間に銅が電鋳され、銅リングを形成する。これら電鋳
されたリングの間のレジストが除去された後、これら電
鋳されたリングは、次いで、リングの基部の間の銅の薄
層をエッチング除去することにより分離される。次い
で、これら電鋳されたリングは感光ポリマにより再被覆
されると共にフォトツールを用いて再結像され、リング
内のＵ字溝のエッチングを可能にする。これらの溝は、
僅かなパーセントのニッケルを含む金合金のメッキが施
された後、対応するブラシ接点用の接触面を形成する。
該合金メッキ中のニッケルは該金電着の硬度及び耐摩耗
性を大幅に増加させると同時に、低電気接触抵抗を維持
する。該ニッケルは、潤滑剤の化学吸着を促進し、更に
接触摩耗を低減させる。
該スリップリング回路基板の両面に再びフォトレジスト
が塗布される。上記電気相互接続部には単層のレジスト
が塗布され、反対側には複数の層が順次塗布される。該
複数層のフォトレジストは、次いで、複数の同心的リン
グを含むフォトツールを介して紫外光により露光され
る。像が現像された後、フォトレジストの同心的リング
の間に銅が電鋳され、銅リングを形成する。これら電鋳
されたリングの間のレジストが除去された後、これら電
鋳されたリングは、次いで、リングの基部の間の銅の薄
層をエッチング除去することにより分離される。次い
で、これら電鋳されたリングは感光ポリマにより再被覆
されると共にフォトツールを用いて再結像され、リング
内のＵ字溝のエッチングを可能にする。これらの溝は、
僅かなパーセントのニッケルを含む金合金のメッキが施
された後、対応するブラシ接点用の接触面を形成する。
該合金メッキ中のニッケルは該金電着の硬度及び耐摩耗
性を大幅に増加させると同時に、低電気接触抵抗を維持
する。該ニッケルは、潤滑剤の化学吸着を促進し、更に
接触摩耗を低減させる。
【００１３】次いで、上記スリップリングはブラシブロ
ックと合体されて、スリップリング装置を形成する。結
果としての該スリップリング装置は、従来のスリップリ
ング製造方法により達成されるよりも高い回路密度を有
する一方、低い回路当たりの価格を有する。
ックと合体されて、スリップリング装置を形成する。結
果としての該スリップリング装置は、従来のスリップリ
ング製造方法により達成されるよりも高い回路密度を有
する一方、低い回路当たりの価格を有する。
【００１４】本発明の前述した目的は、非導電性基体の
一方の側上に複数の同心的な離隔された電気接点を形成
し、該非導電性基体の反対側上に相互接続する電気経路
を形成するステップを含むスリップリングプリント回路
基板の製造によっても達成される。スリップリングプリ
ント回路基板の製造は、上記電気接点と上記相互接続電
気経路とを電気的に接続し、上記電気接点上に銅を付着
して電気リングを形成し、及びこれら電気リングの各々
に溝をエッチング形成するステップも含む。
一方の側上に複数の同心的な離隔された電気接点を形成
し、該非導電性基体の反対側上に相互接続する電気経路
を形成するステップを含むスリップリングプリント回路
基板の製造によっても達成される。スリップリングプリ
ント回路基板の製造は、上記電気接点と上記相互接続電
気経路とを電気的に接続し、上記電気接点上に銅を付着
して電気リングを形成し、及びこれら電気リングの各々
に溝をエッチング形成するステップも含む。
【００１５】本発明の前述した目的は、非導電性基体の
一方の側上に複数の同心的な離隔された電気接点を形成
すると共に、該非導電性基体の反対側上に相互接続電気
経路を形成するステップ含むスリップリングプリント回
路基板を製造する方法によっても達成される。スリップ
リングプリント回路基板を製造する方法は、更に、上記
電気接点と相互接続電気経路とを電気的に接続するステ
ップと、上記電気接点上に銅を付着させて電気リングを
形成するステップと、これら電気リングの各々に溝をエ
ッチング形成するステップと含んでいる。
一方の側上に複数の同心的な離隔された電気接点を形成
すると共に、該非導電性基体の反対側上に相互接続電気
経路を形成するステップ含むスリップリングプリント回
路基板を製造する方法によっても達成される。スリップ
リングプリント回路基板を製造する方法は、更に、上記
電気接点と相互接続電気経路とを電気的に接続するステ
ップと、上記電気接点上に銅を付着させて電気リングを
形成するステップと、これら電気リングの各々に溝をエ
ッチング形成するステップと含んでいる。
【００１６】本発明の前記目的は、環状基体部材と、該
環状基体部材に固定されると共に複数のブラシを有する
少なくとも１つのブラシブロックアセンブリとを含む電
気スリップリング装置によっても達成される。平型複合
電気スリップリングは、非導電性基体と、該非導電性基
体の各々の一方の側上に配置された複数の同心的な離隔
された電気リングとを含む。前記スリップリングは、隣
接する電気リングから約0.070インチ又はそれ以上の距
離離されている。相互接続電気経路は、前記非導電性基
体の反対側に配置されている。前記電気リングの少なく
とも幾つかを上記相互接続電気経路に接続するために接
続手段が設けられる。
環状基体部材に固定されると共に複数のブラシを有する
少なくとも１つのブラシブロックアセンブリとを含む電
気スリップリング装置によっても達成される。平型複合
電気スリップリングは、非導電性基体と、該非導電性基
体の各々の一方の側上に配置された複数の同心的な離隔
された電気リングとを含む。前記スリップリングは、隣
接する電気リングから約0.070インチ又はそれ以上の距
離離されている。相互接続電気経路は、前記非導電性基
体の反対側に配置されている。前記電気リングの少なく
とも幾つかを上記相互接続電気経路に接続するために接
続手段が設けられる。
【００１７】本発明の前記目的は、非導電性基体の一方
の側上に複数の同心的な離隔された電気接点を形成する
と共に、該非導電性基体の反対側上に相互接続電気経路
を形成するステップを含む前記方法により製造される平
型複合電気スリップリング製品によっても達成される。
本発明の前記目的は、前記電気接点と相互接続電気経路
とを電気的に接続するステップと、前記電気接点上に銅
を付着させて電気リングを形成するステップと、これら
電気リングの各々に溝をエッチング形成するステップと
を含むスリップリング回路基板を製造する方法によって
も達成される。
の側上に複数の同心的な離隔された電気接点を形成する
と共に、該非導電性基体の反対側上に相互接続電気経路
を形成するステップを含む前記方法により製造される平
型複合電気スリップリング製品によっても達成される。
本発明の前記目的は、前記電気接点と相互接続電気経路
とを電気的に接続するステップと、前記電気接点上に銅
を付着させて電気リングを形成するステップと、これら
電気リングの各々に溝をエッチング形成するステップと
を含むスリップリング回路基板を製造する方法によって
も達成される。
【００１８】本発明の更に他の目的及び利点は、当業者
にとっては、以下の詳細な説明から容易に明らかとなる
であろうが、該説明においては本発明の好ましい実施例
が、単に本発明を実施することを意図する最良の形態の
解説として、示され且つ記載される。理解されるであろ
うように、本発明は他の及び異なる実施例が可能であ
り、その幾つかの細部は、全て本発明から逸脱すること
なく種々の自明の点で変形が可能である。従って、図面
は図示的な性質のものであって、限定するものでないと
みなされたい。
にとっては、以下の詳細な説明から容易に明らかとなる
であろうが、該説明においては本発明の好ましい実施例
が、単に本発明を実施することを意図する最良の形態の
解説として、示され且つ記載される。理解されるであろ
うように、本発明は他の及び異なる実施例が可能であ
り、その幾つかの細部は、全て本発明から逸脱すること
なく種々の自明の点で変形が可能である。従って、図面
は図示的な性質のものであって、限定するものでないと
みなされたい。
【００１９】尚、添付図面の各図には、本発明が限定と
してではなく例示として示されており、これら図におい
て同一の符号を持つ要素は全図を通して同様の要素を表
している。
してではなく例示として示されており、これら図におい
て同一の符号を持つ要素は全図を通して同様の要素を表
している。
【００２０】
【発明の実施の形態】図１を参照すると、電気スリップ
リング装置１０が図示されている。該電気スリップリン
グ装置１０は、図１においては、電気スリップリングが
垂直に延在しているように図示されているが、本発明は
如何なる傾きでも使用可能であると理解されたい。従っ
て、ここで使用される“上”、“下”、“右”及び
“左”等の用語は相対的な意味とみなすべきである。本
出願は、参照することにより、１９９７年７月３日に出
願され、本出願人に譲渡された“平型スリップリングア
センブリを製造する方法”なる名称の米国特許出願第08
/887,697号を本明細書に組み込むものとする。
リング装置１０が図示されている。該電気スリップリン
グ装置１０は、図１においては、電気スリップリングが
垂直に延在しているように図示されているが、本発明は
如何なる傾きでも使用可能であると理解されたい。従っ
て、ここで使用される“上”、“下”、“右”及び
“左”等の用語は相対的な意味とみなすべきである。本
出願は、参照することにより、１９９７年７月３日に出
願され、本出願人に譲渡された“平型スリップリングア
センブリを製造する方法”なる名称の米国特許出願第08
/887,697号を本明細書に組み込むものとする。
【００２１】電気スリップリング装置１０は、本発明の
原理による、３つの積み重ねられた電気スリップリング
アセンブリ３０、３２、３４を含む円筒状ハウジング２
０を有している。３つのスリップリングアセンブリが図
示されているが、如何なる数のスリップリングアセンブ
リを使用することもできる。これらスリップリングアセ
ンブリ３０、３２、３４は同一のものとすることができ
るが、用途に応じて同一である必要はない。各電気スリ
ップリングアセンブリ３０、３２、３４は、ハウジング
２０に固着された環状体３６、３７、３８及び電気スリ
ップリング４１、４２、４３を各々有している。図１に
示されるように、環状体３６、３７、３８の断面はＵ字
状である。電気スリップリング４１、４２、４３は、環
状体３６、３７、３８に対して自由に回転可能であると
共に、各々は、回転ハブ４８に一体に回転するように接
続されている。複数の遮蔽４４、４５、４６が、ハウジ
ング２０内に配置されると共に該ハウジング２０に接続
されている。遮蔽４４、４５は、電気スリップリングア
センブリ３０、３２及び３２、３４の間に各々配置され
ている。例えば、環状体３８は２つの半部４９、５０に
形成されている。各半部４９、５０は半径方向内側に延
びるフランジ５１、５２を各々有し、円柱状開口５３を
形成している。複数のボルトが、スリップリングアセン
ブリ３０、３２、３４及び遮蔽４４、４５、４６を接続
するために使用されている。該電気スリップリング装置
１０は、それ以外では従来の通りであり、ここでは詳細
には説明しない。
原理による、３つの積み重ねられた電気スリップリング
アセンブリ３０、３２、３４を含む円筒状ハウジング２
０を有している。３つのスリップリングアセンブリが図
示されているが、如何なる数のスリップリングアセンブ
リを使用することもできる。これらスリップリングアセ
ンブリ３０、３２、３４は同一のものとすることができ
るが、用途に応じて同一である必要はない。各電気スリ
ップリングアセンブリ３０、３２、３４は、ハウジング
２０に固着された環状体３６、３７、３８及び電気スリ
ップリング４１、４２、４３を各々有している。図１に
示されるように、環状体３６、３７、３８の断面はＵ字
状である。電気スリップリング４１、４２、４３は、環
状体３６、３７、３８に対して自由に回転可能であると
共に、各々は、回転ハブ４８に一体に回転するように接
続されている。複数の遮蔽４４、４５、４６が、ハウジ
ング２０内に配置されると共に該ハウジング２０に接続
されている。遮蔽４４、４５は、電気スリップリングア
センブリ３０、３２及び３２、３４の間に各々配置され
ている。例えば、環状体３８は２つの半部４９、５０に
形成されている。各半部４９、５０は半径方向内側に延
びるフランジ５１、５２を各々有し、円柱状開口５３を
形成している。複数のボルトが、スリップリングアセン
ブリ３０、３２、３４及び遮蔽４４、４５、４６を接続
するために使用されている。該電気スリップリング装置
１０は、それ以外では従来の通りであり、ここでは詳細
には説明しない。
【００２２】図２及び３を参照すると、これら図は電気
スリップリングアセンブリ３０、３２、３４の何れかの
両側を図示するものであるが、簡略化のために電気スリ
ップリングアセンブリ３０のみが図示されている。電気
スリップリングアセンブリ３０は電気スリップリング４
１を含み、該スリップリングは一緒に結合された２つの
好ましくは同一の電気スリップリング半部５４、５６及
び２つの好ましくは同一のブラシブロックアセンブリ６
２、６４を有している。ブラシブロックアセンブリ６
２、６４は、フランジ５１、５２に各々固定的に接続さ
れると共に、これらフランジから半径方向内側に延びて
いる。電気スリップリング半部５４、５６は異なる構造
のものであってもよい。上記ブラシブロックアセンブリ
も、異なる構造のものであってよい。ブラシブロックア
センブリ６２、６４は、一方の縁部が対応するフランジ
５１、５２に固定的に接続されたパイ状のものである。
各ブラシブロックアセンブリ６２、６４はフランジ５
１、５２により片持ち支持されており、各ブラシブロッ
クアセンブリ６２、６４のプリント回路基板の斯様な剛
性は、ブラシと、それらの各電気スリップリングとの間
の一様な接触を維持するために重要である。環状体３６
及びブラシブロックアセンブリ６２、６４は、当該電気
スリップリング装置１０の動作の間においてはハウジン
グ２０に対して静止したままであり、その際に電気スリ
ップリングアセンブリ３０、３２、３４は回転する。ブ
ラシブロックアセンブリ６２、６４は、該複合電気スリ
ップリング３０の両側上に配置されると共に、周方向に
おいて角度的に互いに離隔されている。複数のリード８
２が、電気スリップリング４１の内周部において、回転
部材（図示略）に電気的に接続されている。各電気スリ
ップリング半部５４、５６は、複数の同心的な半径方向
に離隔された電気リング８４を有している。各ブラシブ
ロック６２、６４は、複数のブラシ８０を有すると共
に、対応する複数のリード９０に電気的に接続されてい
る。これらリード９０は対応する接続点１５０に半田付
けされている。電気スリップリング３０は、ハブ４８に
係合するために、径方向に対向する半径方向のスロット
７２、７４を有している。
スリップリングアセンブリ３０、３２、３４の何れかの
両側を図示するものであるが、簡略化のために電気スリ
ップリングアセンブリ３０のみが図示されている。電気
スリップリングアセンブリ３０は電気スリップリング４
１を含み、該スリップリングは一緒に結合された２つの
好ましくは同一の電気スリップリング半部５４、５６及
び２つの好ましくは同一のブラシブロックアセンブリ６
２、６４を有している。ブラシブロックアセンブリ６
２、６４は、フランジ５１、５２に各々固定的に接続さ
れると共に、これらフランジから半径方向内側に延びて
いる。電気スリップリング半部５４、５６は異なる構造
のものであってもよい。上記ブラシブロックアセンブリ
も、異なる構造のものであってよい。ブラシブロックア
センブリ６２、６４は、一方の縁部が対応するフランジ
５１、５２に固定的に接続されたパイ状のものである。
各ブラシブロックアセンブリ６２、６４はフランジ５
１、５２により片持ち支持されており、各ブラシブロッ
クアセンブリ６２、６４のプリント回路基板の斯様な剛
性は、ブラシと、それらの各電気スリップリングとの間
の一様な接触を維持するために重要である。環状体３６
及びブラシブロックアセンブリ６２、６４は、当該電気
スリップリング装置１０の動作の間においてはハウジン
グ２０に対して静止したままであり、その際に電気スリ
ップリングアセンブリ３０、３２、３４は回転する。ブ
ラシブロックアセンブリ６２、６４は、該複合電気スリ
ップリング３０の両側上に配置されると共に、周方向に
おいて角度的に互いに離隔されている。複数のリード８
２が、電気スリップリング４１の内周部において、回転
部材（図示略）に電気的に接続されている。各電気スリ
ップリング半部５４、５６は、複数の同心的な半径方向
に離隔された電気リング８４を有している。各ブラシブ
ロック６２、６４は、複数のブラシ８０を有すると共
に、対応する複数のリード９０に電気的に接続されてい
る。これらリード９０は対応する接続点１５０に半田付
けされている。電気スリップリング３０は、ハブ４８に
係合するために、径方向に対向する半径方向のスロット
７２、７４を有している。
【００２３】図４を参照すると、ハブ４８に接続された
本発明による複合電気スリップリング３０が図示されて
いる。図５に示すように、該複合スリップリング３０
は、エポキシポリアミド接着剤により一緒に接着されて
複合電気スリップリング４１を形成する２つの電気スリ
ップリング半部５４、５６を有している。図５に図示す
るように、スリップリング半部５４、５６は複数の同心
的な離隔された電気リング８４を有している。各リング
８４は対応するブラシ８０を受け入れるための溝８６を
有している。該溝は、一対の側壁８９と、これら側壁８
９を接続する半径方向の面９１とにより規定される。電
気スリップリング半部５４、５６の各々は背面９３、９
４を有し、これら背面に対して電気相互接続回路９５、
９６が配置されている。
本発明による複合電気スリップリング３０が図示されて
いる。図５に示すように、該複合スリップリング３０
は、エポキシポリアミド接着剤により一緒に接着されて
複合電気スリップリング４１を形成する２つの電気スリ
ップリング半部５４、５６を有している。図５に図示す
るように、スリップリング半部５４、５６は複数の同心
的な離隔された電気リング８４を有している。各リング
８４は対応するブラシ８０を受け入れるための溝８６を
有している。該溝は、一対の側壁８９と、これら側壁８
９を接続する半径方向の面９１とにより規定される。電
気スリップリング半部５４、５６の各々は背面９３、９
４を有し、これら背面に対して電気相互接続回路９５、
９６が配置されている。
【００２４】図６及び７を参照すると、前記ブラシブロ
ックアセンブリの１つ６２が図示されている。ブラシブ
ロックアセンブリ６２はプリント回路基板１００上に装
着されている。当該電気スリップリングの高回路密度の
ために、ブラシブロックアセンブリ６２も、電気スリッ
プリング４１の回路密度に対応する高回路密度で形成さ
れねばならない。斯かる高回路密度に適合させるため
に、該プリント回路基板は、好ましくは、各々が回路基
板上に回路経路を有するような複数層の回路基板から形
成される（如何なる数の層も使用することができるが、
図７には３つの層１２２、１３２、１４２が図示されて
いる）。有利には、該複数の層の使用は、回路層の各層
の間に接地面を提供する。図６に図示したように、各々
が対応するブラシ８０に接続された３組の回路経路が存
在する。第１組の回路経路１２０（実線で示す）は第１
層１２２上にあり、第２組の回路経路１３０（長破線で
示す）は第２層１３２上にあり、第３層１４２上の第３
組の回路経路１４０（短破線で示す）は電気信号を当該
電気スリップリング装置１０のプリント回路基板１００
上の接続点へ（又はから）対応するブラシ８０から（又
はへ）伝送する。これらプリント回路基板は、好ましく
は、ガラス補強エポキシ積層板（ＦＲ４）から形成され
ると共にエポキシポリアミド接合剤により一緒に結合さ
れる。
ックアセンブリの１つ６２が図示されている。ブラシブ
ロックアセンブリ６２はプリント回路基板１００上に装
着されている。当該電気スリップリングの高回路密度の
ために、ブラシブロックアセンブリ６２も、電気スリッ
プリング４１の回路密度に対応する高回路密度で形成さ
れねばならない。斯かる高回路密度に適合させるため
に、該プリント回路基板は、好ましくは、各々が回路基
板上に回路経路を有するような複数層の回路基板から形
成される（如何なる数の層も使用することができるが、
図７には３つの層１２２、１３２、１４２が図示されて
いる）。有利には、該複数の層の使用は、回路層の各層
の間に接地面を提供する。図６に図示したように、各々
が対応するブラシ８０に接続された３組の回路経路が存
在する。第１組の回路経路１２０（実線で示す）は第１
層１２２上にあり、第２組の回路経路１３０（長破線で
示す）は第２層１３２上にあり、第３層１４２上の第３
組の回路経路１４０（短破線で示す）は電気信号を当該
電気スリップリング装置１０のプリント回路基板１００
上の接続点へ（又はから）対応するブラシ８０から（又
はへ）伝送する。これらプリント回路基板は、好ましく
は、ガラス補強エポキシ積層板（ＦＲ４）から形成され
ると共にエポキシポリアミド接合剤により一緒に結合さ
れる。
【００２５】図６に図示されたように、プリント回路基
板１００は、周方向に延びる部分１５５と、２つの半径
方向内側に延びる部分１６０、１６２とを有するパイ形
状の構造を有している。接続点１５０は周方向に延びる
部分１５５上に配置され、ブラシ群８０は半径方向内側
に延びる部分１６０、１６２の各々に取り付けられると
共に、該プリント回路基板１００を越えて周方向外側に
延びている。リード９０が接続点１５０に半田付けされ
ている。
板１００は、周方向に延びる部分１５５と、２つの半径
方向内側に延びる部分１６０、１６２とを有するパイ形
状の構造を有している。接続点１５０は周方向に延びる
部分１５５上に配置され、ブラシ群８０は半径方向内側
に延びる部分１６０、１６２の各々に取り付けられると
共に、該プリント回路基板１００を越えて周方向外側に
延びている。リード９０が接続点１５０に半田付けされ
ている。
【００２６】ブラシ８０の各々は、層１２２、１３２、
１４２のうちの１つ上の対応する経路に電気的に接続さ
れている。図７に図示されているように、ブラシ８０は
層１４２の経路に接続されている。該ブラシ８０は脚部
１７０と、該脚部の先端部における湾曲部１７２とを有
している。湾曲部１７２は、当該電気スリップリング４
１における電気リング８４に機械的且つ電気的に接触す
る丸められた面１７４を有している。各ブラシは、ニッ
ケルによりメッキされ、次いで金メッキされている。
１４２のうちの１つ上の対応する経路に電気的に接続さ
れている。図７に図示されているように、ブラシ８０は
層１４２の経路に接続されている。該ブラシ８０は脚部
１７０と、該脚部の先端部における湾曲部１７２とを有
している。湾曲部１７２は、当該電気スリップリング４
１における電気リング８４に機械的且つ電気的に接触す
る丸められた面１７４を有している。各ブラシは、ニッ
ケルによりメッキされ、次いで金メッキされている。
【００２７】図８のＡないし図９のＬを参照すると、本
発明による電気スリップリングを製造する工程が図示さ
れている。以下に述べる工程は、密に詰められた電気リ
ング８０を有する上述した電気スリップリング半部５
４、５６の各々を製造するためのものである。説明を容
易にするために図８のＡないし図９のＬの部分的側面図
には３つのみのリングしか図示されていないが、本発明
によれば如何なる数の電気リングも基板上に形成するこ
とができることに注意されたい。
発明による電気スリップリングを製造する工程が図示さ
れている。以下に述べる工程は、密に詰められた電気リ
ング８０を有する上述した電気スリップリング半部５
４、５６の各々を製造するためのものである。説明を容
易にするために図８のＡないし図９のＬの部分的側面図
には３つのみのリングしか図示されていないが、本発明
によれば如何なる数の電気リングも基板上に形成するこ
とができることに注意されたい。
【００２８】図８のＡには上記電気リングが形成される
単一の銅層しか図示されていないが、両面銅積層体が先
ず形成される。明瞭化のために、電気的な相互接続回路
は説明しない。図８のＡに図示されているように、基板
２００は、該基板上に積層された銅層２１０を有してい
る。図８のＢに示されるように、これら基板２００及び
銅層２１０を介して、複数の孔２４０が穿孔される。該
銅層２１０は、次いで、感光ポリマにより被覆され、写
真ネガを介して強力な紫外光に曝される。他方の側も、
上記電気的相互接続部を形成するために、同様に露光さ
れる。該感光ポリマは次いで溶液を用いて現像され、該
溶液は該レジストの非露光領域を選択的に溶解除去し
て、図８のＥに示すように、現像されたレジストのリン
グ２２０を残存させる。
単一の銅層しか図示されていないが、両面銅積層体が先
ず形成される。明瞭化のために、電気的な相互接続回路
は説明しない。図８のＡに図示されているように、基板
２００は、該基板上に積層された銅層２１０を有してい
る。図８のＢに示されるように、これら基板２００及び
銅層２１０を介して、複数の孔２４０が穿孔される。該
銅層２１０は、次いで、感光ポリマにより被覆され、写
真ネガを介して強力な紫外光に曝される。他方の側も、
上記電気的相互接続部を形成するために、同様に露光さ
れる。該感光ポリマは次いで溶液を用いて現像され、該
溶液は該レジストの非露光領域を選択的に溶解除去し
て、図８のＥに示すように、現像されたレジストのリン
グ２２０を残存させる。
【００２９】図８のＣに示すように、孔２４０はメッキ
スルーホール法を用いて導電材料によりメッキされる
か、及び／又は銀添加エポキシのような導電材料により
これら孔は充填される。図８のＤに示すように、複数層
のフォトレジスト２５２、２５４、２５６が銅層２１０
に塗布される。ここでも、フォトレジストは該スリップ
リング回路基板の両面に塗布される。図８には図示され
ていないが、単一層のフォトレジストが前記電気的相互
接続部に塗布される。
スルーホール法を用いて導電材料によりメッキされる
か、及び／又は銀添加エポキシのような導電材料により
これら孔は充填される。図８のＤに示すように、複数層
のフォトレジスト２５２、２５４、２５６が銅層２１０
に塗布される。ここでも、フォトレジストは該スリップ
リング回路基板の両面に塗布される。図８には図示され
ていないが、単一層のフォトレジストが前記電気的相互
接続部に塗布される。
【００３０】図８のＥに示すように、次いで複数層のフ
ォトレジスト２５２、２５４、２５６は、リング用の複
数の同心的リングを生成するスロット２６２、２６４、
２６６を含むフォトツールを介して紫外光により露光さ
れる。図８のＦに示すように、該像が現像された後、上
記フォトレジストの同心的リングの間に銅が電鋳されて
銅リング２７２、２７４、２７６を形成する。図８のＧ
に示すように、上記電鋳されたリングの間のフォトレジ
ストが除去された後、これら電鋳されたリングは、該リ
ングの基部間の銅の薄層をエッチング除去することによ
り分離され、これにより図９のＨに示すようにリング２
７２、２７４、２７６を電気的に絶縁する。図９のＩに
示すように、リング２７２、２７４、２７６は、これら
リングの頂面を平坦にするために軽く研磨される。研磨
されたリングの頂面には、フォトレジスト２８０の層が
塗布される。図９のＪに示すように、フォトレジスト２
８０は、これらリングの頂面を露出するために現像され
る。図９のＫに示すように、リング２７２、２７４、２
７６の各々の頂面に溝８６がエッチング形成される。図
９のＬに示すように、現像されたフォトレジスト２８０
の層が除去され、リング２７２、２７４、２７６はニッ
ケル及び金のメッキの準備が整う。
ォトレジスト２５２、２５４、２５６は、リング用の複
数の同心的リングを生成するスロット２６２、２６４、
２６６を含むフォトツールを介して紫外光により露光さ
れる。図８のＦに示すように、該像が現像された後、上
記フォトレジストの同心的リングの間に銅が電鋳されて
銅リング２７２、２７４、２７６を形成する。図８のＧ
に示すように、上記電鋳されたリングの間のフォトレジ
ストが除去された後、これら電鋳されたリングは、該リ
ングの基部間の銅の薄層をエッチング除去することによ
り分離され、これにより図９のＨに示すようにリング２
７２、２７４、２７６を電気的に絶縁する。図９のＩに
示すように、リング２７２、２７４、２７６は、これら
リングの頂面を平坦にするために軽く研磨される。研磨
されたリングの頂面には、フォトレジスト２８０の層が
塗布される。図９のＪに示すように、フォトレジスト２
８０は、これらリングの頂面を露出するために現像され
る。図９のＫに示すように、リング２７２、２７４、２
７６の各々の頂面に溝８６がエッチング形成される。図
９のＬに示すように、現像されたフォトレジスト２８０
の層が除去され、リング２７２、２７４、２７６はニッ
ケル及び金のメッキの準備が整う。
【００３１】上記リング２７２、２７４、２７６は、約
0.008ないし0.010インチ幅である溝８６を含む。これら
リング２７２、２７４、２７６は、約0.012ないし0.014
インチの間の厚さを持つ。リング２７２、２７４、２７
６は、0.070インチ離れる程度に接近させることができ
る。
0.008ないし0.010インチ幅である溝８６を含む。これら
リング２７２、２７４、２７６は、約0.012ないし0.014
インチの間の厚さを持つ。リング２７２、２７４、２７
６は、0.070インチ離れる程度に接近させることができ
る。
【００３２】上記スリップリング４１がブラシブロック
アセンブリと組み合わされる場合、ブラシ圧が、−５４
℃から＋６０℃の動作温度範囲にわたる繰り返しサイク
ルを通して一定していることが重要である。
アセンブリと組み合わされる場合、ブラシ圧が、−５４
℃から＋６０℃の動作温度範囲にわたる繰り返しサイク
ルを通して一定していることが重要である。
【００３３】低温における境界潤滑を維持するために、
上記電気スリップリングの溝８６内に潤滑剤を設けなけ
ればならず、該潤滑剤は粘度／速度積が、流体力学的揚
力が接点を分離させるような何らかの臨界値に到達する
のを防止すべく充分に低いままであるような流体粘度を
有していなければならない。上記臨界値は潤滑剤粘度と
潤滑剤の量との関数である。境界潤滑に要する潤滑剤の
量が全皮膜潤滑に要する量よりもかなり少ない場合であ
っても、存在する潤滑剤の量が多ければ多いほど、当該
スリップリングの寿命は長くなる。しかしながら、量が
多いほど、潤滑剤の粘度が増加するにつれて、潤滑メカ
ニズムが境界潤滑から流体力学的潤滑へと容易に変化す
る。充分な潤滑剤がなければならないが、あまり多過ぎ
る潤滑剤であってはならない。該ジレンマに加えて、非
常に低い温度で働く流体は室温（及びそれ以上）で揮発
的であるので、比較的短時間で蒸発する。摩擦を低減す
るために、潤滑剤が接触対の間に使用され、低分子量の
線状過フッ素ポリエーテル液（linear perfluoropolyet
her fluid）又は“Ｚ”液により被覆され、これは大幅
に改善された粘性率（従来の流体潤滑剤のものの２ない
し３倍）及び低蒸気圧を有し、広い温度範囲にわたる動
作を可能にする。過度な摩耗は、電気雑音及び他の電気
的問題を生じさせ得る。
上記電気スリップリングの溝８６内に潤滑剤を設けなけ
ればならず、該潤滑剤は粘度／速度積が、流体力学的揚
力が接点を分離させるような何らかの臨界値に到達する
のを防止すべく充分に低いままであるような流体粘度を
有していなければならない。上記臨界値は潤滑剤粘度と
潤滑剤の量との関数である。境界潤滑に要する潤滑剤の
量が全皮膜潤滑に要する量よりもかなり少ない場合であ
っても、存在する潤滑剤の量が多ければ多いほど、当該
スリップリングの寿命は長くなる。しかしながら、量が
多いほど、潤滑剤の粘度が増加するにつれて、潤滑メカ
ニズムが境界潤滑から流体力学的潤滑へと容易に変化す
る。充分な潤滑剤がなければならないが、あまり多過ぎ
る潤滑剤であってはならない。該ジレンマに加えて、非
常に低い温度で働く流体は室温（及びそれ以上）で揮発
的であるので、比較的短時間で蒸発する。摩擦を低減す
るために、潤滑剤が接触対の間に使用され、低分子量の
線状過フッ素ポリエーテル液（linear perfluoropolyet
her fluid）又は“Ｚ”液により被覆され、これは大幅
に改善された粘性率（従来の流体潤滑剤のものの２ない
し３倍）及び低蒸気圧を有し、広い温度範囲にわたる動
作を可能にする。過度な摩耗は、電気雑音及び他の電気
的問題を生じさせ得る。
【００３４】
【発明の効果】かくして、広帯域幅を達成する電気スリ
ップリングが説明されたことは明らかであろう。本発明
は、各回路の層の間の接地面を可能にし、クロストーク
及びインピーダンス非整合を最小化するためのリングと
接地との分離の調整を可能にし、低温で流動性を維持し
且つ少量で充分な潤滑作用を提供する潤滑剤の使用を可
能にし、リングの構築工程の間において大きな雑音の原
因になり得る材料の汚染を最小化し、並びにニッケル障
壁被覆の使用によりリング側壁上での腐食生成物の形成
を防止する。
ップリングが説明されたことは明らかであろう。本発明
は、各回路の層の間の接地面を可能にし、クロストーク
及びインピーダンス非整合を最小化するためのリングと
接地との分離の調整を可能にし、低温で流動性を維持し
且つ少量で充分な潤滑作用を提供する潤滑剤の使用を可
能にし、リングの構築工程の間において大きな雑音の原
因になり得る材料の汚染を最小化し、並びにニッケル障
壁被覆の使用によりリング側壁上での腐食生成物の形成
を防止する。
【００３５】当業者によれば、本発明が前述した目的の
全てを満たすことが容易に分かるであろう。本明細書を
読めば、当業者はここに広く述べた本発明の種々の変
形、均等物の置換及び種々の他の特徴を実施することが
可能であろう。従って、本発明に付与される保護は、請
求の範囲に含まれる定義及びそれらの均等物によっての
み限定されることを意図するものである。
全てを満たすことが容易に分かるであろう。本明細書を
読めば、当業者はここに広く述べた本発明の種々の変
形、均等物の置換及び種々の他の特徴を実施することが
可能であろう。従って、本発明に付与される保護は、請
求の範囲に含まれる定義及びそれらの均等物によっての
み限定されることを意図するものである。
【図１】図１は、電気スリップリング装置の側断面図で
ある。
ある。
【図２】図２は、本発明による電気スリップリング装置
の上面図である。
の上面図である。
【図３】図３は、本発明による電気スリップリング装置
の底面図である。
の底面図である。
【図４】図４は、複合電気スリップリングの側面図であ
る。
る。
【図５】図５は、本発明による複合電気スリップリング
装置の拡大側断面図である。
装置の拡大側断面図である。
【図６】図６は、本発明によるブラシブロックアセンブ
リを図示する。
リを図示する。
【図７】図７は、図６のブラシの図６の４Ｂ−４Ｂ線に
沿う側面図である。
沿う側面図である。
【図８】図８のＡないしＧは、本発明による電気スリッ
プリングの製造工程を図示する。
プリングの製造工程を図示する。
【図９】図９のＨないしＬは、本発明による電気スリッ
プリングの製造工程を図示する。
プリングの製造工程を図示する。
１０ 電気スリップリング装置 ３０、３２、３４ 電気スリップリングアセンブリ ３６、３７、３８ 環状体 ４１、４２、４３ 電気スリップリング ６２、６４ ブラシブロックアセンブリ ８０ ブラシ ８４ 電気リング ８６ 溝 ９５、９６ 電気相互接続回路 ２００ 基体 ２１０ 銅層 ２４０ 孔 ２７２、２７４、２７６ 銅リング
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 599175967 400 Ｐａｒｋ Ｒｏａｄ Ｗａｔｅｒｔ ｏｗｎ， Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ 06795−0500 Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅ ｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ (72)発明者 ラリー ディーン ヴォート アメリカ合衆国 24136 バージニア州ペ ムブロウク、 ピー．オー．ボックス 702
Claims (38)
- 【請求項１】 スリップリングプリント回路基板を製造
する方法において、 非導電性基体の一方の側上に複数の同心的な離隔された
電気接点を形成すると共に、該非導電性基体の反対側上
に相互接続電気経路を形成するステップと、 前記電気接点と前記相互接続電気経路とを電気的に接続
するステップと、 前記電気接点上に銅を付着させて電気リングを形成する
ステップと、 前記電気リングの各々に溝をエッチング形成するステッ
プと、 を有していることを特徴とするスリップリングプリント
回路基板を製造する方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の方法において、前記非
導電性基体上に両面銅被覆積層体を形成するステップを
有し、該銅被覆積層体が第１側と第２側とを有している
ことを特徴とする方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載の方法において、前記第
１側及び前記第２側の少なくとも一方を感光ポリマで被
覆すると共に該感光ポリマの選択された領域を光源に曝
すステップを有していることを特徴とする方法。 - 【請求項４】 請求項３に記載の方法において、前記感
光ポリマの露光されていない領域を溶解除去して下側の
前記銅被覆を露出させると共に、露出された銅被覆をエ
ッチング除去するステップを有していることを特徴とす
る方法。 - 【請求項５】 請求項４に記載の方法において、残存す
る露光されていない感光ポリマを除去すると共に、露出
された前記銅被覆上に銅を付着して堆積電気接点を形成
するステップを有していることを特徴とする方法。 - 【請求項６】 請求項５に記載の方法において、前記堆
積電気接点を感光ポリマにより被覆するステップを有し
ていることを特徴とする方法。 - 【請求項７】 請求項６に記載の方法において、前記感
光ポリマの選択された領域を光源に曝すステップと、該
感光ポリマの露光された領域を溶解除去して下側の前記
銅被覆を露出させるステップと、露出された銅被覆をエ
ッチング除去して前記堆積電気接点の各々に溝を形成す
ることにより前記電気リングを形成するステップを有し
ていることを特徴とする方法。 - 【請求項８】 請求項１に記載の方法において、前記形
成するステップが、前記非導電性基体上に第１側と第２
側とを有するような両面銅被覆積層体を形成するステッ
プと、前記第１側及び前記第２側の一方を感光ポリマに
より被覆すると共に該感光ポリマの選択された領域を光
源に曝すステップと、前記感光ポリマの露光されていな
い領域を溶解除去して下側の前記銅被覆を露出させると
共に露出された銅被覆をエッチング除去するステップと
を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項９】 請求項１に記載の方法において、前記電
気的に接続するステップが、前記非導電性基体を介して
少なくとも１つの孔を穿孔するステップと、該少なくと
も１つの孔を導電材料により充填するステップとを含む
ことを特徴とする方法。 - 【請求項１０】 請求項１に記載の方法において、前記
銅を付着させるステップが、残存する露光されていない
感光ポリマを除去するステップと、露出された前記銅被
覆上に銅を付着させて堆積電気接点を形成するステップ
とを有していることを特徴とする方法。 - 【請求項１１】 請求項１に記載の方法において、前記
エッチング形成するステップが、前記堆積電気接点を感
光ポリマにより被覆するステップと、該感光ポリマの選
択された領域を光源に曝すステップと、該感光ポリマの
露光された領域を溶解除去して下側の前記銅被覆を露出
させるステップと、露出された銅被覆をエッチング除去
して前記堆積電気接点の各々に溝を形成することにより
前記電気リングを形成するステップとを有していること
を特徴とする方法。 - 【請求項１２】 請求項１に記載の方法において、前記
溝は幅が約0.008ないし0.010インチの間であることを特
徴とする方法。 - 【請求項１３】 請求項１に記載の方法において、前記
付着させるステップが前記電気的に接続するステップの
前に実施されることを特徴とする方法。 - 【請求項１４】 請求項１に記載の方法において、前記
電気的に接続するステップが前記付着させるステップの
前に実施されることを特徴とする方法。 - 【請求項１５】 平型複合電気スリップリングにおい
て、 非導電性基体と、 前記非導電性基体の各々の一方の側上に配置された複数
の同心的な離隔された電気リングであって、前記スリッ
プリングが隣接する電気リングから約0.070インチ又は
それ以上の距離離されているような電気リングと、 前記非導電性基体の反対側に配置された相互接続電気経
路と、 前記電気リングの少なくとも幾つかを前記相互接続電気
経路に接続する接続手段と、を有していることを特徴と
する平型複合電気スリップリング。 - 【請求項１６】 請求項１５に記載の平型複合電気スリ
ップリングにおいて、前記電気リングの各々が約0.012
ないし0.014インチの間の厚さを有していることを特徴
とする平型複合電気スリップリング。 - 【請求項１７】 請求項１５に記載の平型複合電気スリ
ップリングにおいて、更に、前記複数の電気リングの各
々にメッキを有することを特徴とする平型複合電気スリ
ップリング。 - 【請求項１８】 請求項１５に記載の平型複合電気スリ
ップリングにおいて、前記溝は幅が約0.008ないし0.010
インチの間であることを特徴とする平型複合電気スリッ
プリング。 - 【請求項１９】 請求項１５に記載の平型複合電気スリ
ップリングにおいて、前記電気リング、前記相互接続電
気経路及び前記接続手段が電気回路を形成し、当該電気
スリップリングが該電気スリップリングの体積の立方イ
ンチ当たり２０回路までの電気回路密度を有しているこ
とを特徴とする平型複合電気スリップリング。 - 【請求項２０】 電気スリップリング装置において、 環状基体部材と、 前記環状基体部材に固定されると共に複数のブラシを有
する少なくとも１つのブラシブロックアセンブリと、 平型複合電気スリップリングと、を有し、該平型複合電
気スリップリングが、 非導電性基体と、 前記非導電性基体の各々の一方の側上に配置された複数
の同心的な離隔された電気リングであって、前記スリッ
プリングが隣接する電気リングから約0.070インチ又は
それ以上の距離離されているような電気リングと、 前記非導電性基体の反対側に配置された相互接続電気経
路と、 前記電気リングの少なくとも幾つかを前記相互接続電気
経路に接続する接続手段と、を含んでいることを特徴と
する電気スリップリング装置。 - 【請求項２１】 請求項２０に記載の電気スリップリン
グ装置において、前記電気リングの各々が約0.012ない
し0.014インチの間の厚さを有していることを特徴とす
る電気スリップリング装置。 - 【請求項２２】 請求項２０に記載の電気スリップリン
グ装置において、前記複数の電気リングの各々にメッキ
を更に有することを特徴とする電気スリップリング装
置。 - 【請求項２３】 請求項２０に記載の電気スリップリン
グ装置において、前記溝は幅が約0.008ないし0.010イン
チの間であることを特徴とする電気スリップリング装
置。 - 【請求項２４】 請求項２０に記載の電気スリップリン
グ装置において、前記電気リング、前記相互接続電気経
路及び前記接続手段が電気回路を形成し、当該電気スリ
ップリング装置が該電気スリップリング装置の体積の立
方インチ当たり２０回路までの電気回路密度を有してい
ることを特徴とする電気スリップリング装置。 - 【請求項２５】 非導電性基体の一方の側上に複数の同
心的な離隔された電気接点を形成すると共に、該非導電
性基体の反対側上に相互接続電気経路を形成するステッ
プと、 前記電気接点と前記相互接続電気経路とを電気的に接続
するステップと、 前記電気接点上に銅を付着させて電気リングを形成する
ステップと、 前記電気リングの各々に溝をエッチング形成するステッ
プと、を有する方法により製造される平型複合電気スリ
ップリング製品。 - 【請求項２６】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記方法が前記非導電性基体上に両面銅被覆積層体を形成
するステップを有し、該銅被覆積層体が第１側と第２側
とを有していることを特徴とする平型複合電気スリップ
リング製品。 - 【請求項２７】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記方法が前記第１側及び前記第２側の少なくとも一方を
感光ポリマで被覆すると共に該感光ポリマの選択された
領域を光源に曝すステップを有していることを特徴とす
る平型複合電気スリップリング製品。 - 【請求項２８】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記方法が前記感光ポリマの露光されていない領域を溶解
除去して下側の前記銅被覆を露出させると共に、露出さ
れた銅被覆をエッチング除去するステップを有している
ことを特徴とする平型複合電気スリップリング製品。 - 【請求項２９】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記方法が残存する露光されていない感光ポリマを除去す
ると共に、露出された前記銅被覆上に銅を付着して堆積
電気接点を形成するステップを有していることを特徴と
する平型複合電気スリップリング製品。 - 【請求項３０】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記方法が前記堆積電気接点を感光ポリマにより被覆する
ステップを有していることを特徴とする平型複合電気ス
リップリング製品。 - 【請求項３１】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記方法が前記感光ポリマの選択された領域を光源に曝す
ステップと、該感光ポリマの露光された領域を溶解除去
して下側の前記銅被覆を露出させるステップと、露出さ
れた銅被覆をエッチング除去して前記堆積電気接点の各
々に溝を形成することにより前記電気リングを形成する
ステップとを有していることを特徴とする平型複合電気
スリップリング製品。 - 【請求項３２】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記形成するステップが、前記非導電性基体上に第１側と
第２側とを有するような両面銅被覆積層体を形成するス
テップと、前記第１側及び前記第２側の一方を感光ポリ
マにより被覆すると共に該感光ポリマの選択された領域
を光源に曝すステップと、前記感光ポリマの露光されて
いない領域を溶解除去して下側の前記銅被覆を露出させ
ると共に露出された銅被覆をエッチング除去するステッ
プとを含むことを特徴とする平型複合電気スリップリン
グ製品。 - 【請求項３３】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記電気的に接続するステップが、前記非導電性基体を介
して少なくとも１つの孔を穿孔するステップと、該少な
くとも１つの孔を導電材料により充填するステップとを
含むことを特徴とする平型複合電気スリップリング製
品。 - 【請求項３４】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記銅を付着させるステップが、残存する露光されていな
い感光ポリマを除去するステップと、露出された前記銅
被覆上に銅を付着させて堆積電気接点を形成するステッ
プとを有していることを特徴とする平型複合電気スリッ
プリング製品。 - 【請求項３５】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記エッチング形成するステップが、前記堆積電気接点を
感光ポリマにより被覆するステップと、該感光ポリマの
選択された領域を光源に曝すステップと、該感光ポリマ
の露光された領域を溶解除去して下側の前記銅被覆を露
出させるステップと、露出された銅被覆をエッチング除
去して前記堆積電気接点の各々に溝を形成することによ
り前記電気リングを形成するステップとを有しているこ
とを特徴とする平型複合電気スリップリング製品。 - 【請求項３６】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記溝は幅が略0.008ないし0.010インチの間であることを
特徴とする平型複合電気スリップリング製品。 - 【請求項３７】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記付着させるステップが前記電気的に接続するステップ
の前に実施されることを特徴とする平型複合電気スリッ
プリング製品。 - 【請求項３８】 請求項２５に記載の前記方法により製
造される平型複合電気スリップリング製品において、前
記電気的に接続するステップが前記付着させるステップ
の前に実施されることを特徴とする平型複合電気スリッ
プリング製品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/246098 | 1999-02-08 | ||
| US09/246,098 US6356002B1 (en) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | Electrical slip ring having a higher circuit density |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000228265A true JP2000228265A (ja) | 2000-08-15 |
| JP4601110B2 JP4601110B2 (ja) | 2010-12-22 |
Family
ID=22929308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000025847A Expired - Fee Related JP4601110B2 (ja) | 1999-02-08 | 2000-02-03 | 高回路密度を有する電気スリップリング |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6356002B1 (ja) |
| EP (1) | EP1026794B1 (ja) |
| JP (1) | JP4601110B2 (ja) |
| CA (1) | CA2296825C (ja) |
| DE (1) | DE60006867T2 (ja) |
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