JP2000227639A - 基準ビ―ムとレンチキュラ―材料中のレンチキュ―ルとの間のスキュ―を検出し補正する方法 - Google Patents

基準ビ―ムとレンチキュラ―材料中のレンチキュ―ルとの間のスキュ―を検出し補正する方法

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JP2000227639A
JP2000227639A JP11359944A JP35994499A JP2000227639A JP 2000227639 A JP2000227639 A JP 2000227639A JP 11359944 A JP11359944 A JP 11359944A JP 35994499 A JP35994499 A JP 35994499A JP 2000227639 A JP2000227639 A JP 2000227639A
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Joshua M Cobb
エム カブ ジャシュア
Andrea S Rivers
エス リヴァーズ アンドリア
Jeffrey R Hawver
アール ハウヴァ ジェフリ
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 材料上に正確な像を印刷するため、書込みレ
ーザビームに対するレンチキュラースキューのばらつき
を検出及び／又は測定するための方法及び装置を提供す
る。 【解決手段】 レンチキュラー画像生成物は、円柱レン
ズのアレイ及びその上にコーティングされた写真乳剤を
有するレンチキュラー材料から、写真乳剤の中にレンチ
キュラー潜像を形成するようレンチキュラー材料をシリ
ンダレンズの長軸に平行な方向の強度調節された第１の
光のビームで走査することによって形成される。写真乳
剤の感度の範囲外の波長を有する第２の光のビームは、
レンチキュラー材料上へ両方とも円柱レンズのピッチよ
りも小さい幅を有する２つの別個のスポット又は線へ合
焦される。レンチキュラー材料は、レンチキュラー材料
のページ走査運動を与え第２の光のビームの反射又は屈
折の角度を調節するよう、円柱レンズの軸に垂直な方向
にビームを通って動かされる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は概してレンチキュラ
ー像の製造の分野に関連し、更に特定的にはレンチキュ
ラー像を生成するために使用されるレンチキュラー材料
に対する書込みレーザビームの相対的なスキューを検出
し測定する方法に関する。更に特定的には、本発明は、
材料が走査レーザプリンタ中を移送されるときの書込み
レーザビームとレンチキュールとの間の全てのスキュー
の検出及び補正に関する。
【０００２】
【従来の技術】レンチキュラー像は、レンチキュラー材
料の中の円柱レンズのアレイと、レンチキュラー材料を
通して見られる空間的に多重化された像とを含み、それ
により多重化された像の異なる像は見る人によって異な
る角度で見られる。レンチキュラー像によって生ずる１
つの像効果は深度像又は立体像であり、その場合、レン
チキュールは垂直に向けられ、片方の目は立体対又はシ
ーケンスの１つの像を１つの角度から見て、他方の目は
立体対の他の像を見る。他の像効果は動画像であり、そ
の場合、動画像シーケンス中の異なる像が両目で見られ
ると同時に像が見られる角度が変化される。この像効果
では、レンチキュールは水平方向に向けられ、レンチキ
ュラー材料はレンチキュールの長軸の回りに回転され
る。これらの２つの効果を組み合わせる又は異なる視角
から見られる関連しない像のコラージュを形成する他の
効果が提供されうる。
【０００３】カラー写真乳剤をその上に有するレンチキ
ュラー材料を設けることによって立体画像を形成するこ
とが既に提案されている。立体像はレーザスキャナによ
ってレンチキュラー材料上に露光され、材料はレンチキ
ュラー像生成物を生成するために処理される。例えば、
１９９７年１２月９日発行のTaguchi 外による米国特許
第５，６９７，００６号を参照のこと。
【０００４】レンチキュラー材料上に露光される像は、
各レンチキュールの下で非常に正確に位置決めされねば
ならない。レーザスキャナの書込みレーザビームによっ
て生成される別々の像線とレンチキュールとが平行に一
直線に配置されていなければ、結果として生ずるスキュ
ーミスアラインメントは画質を低下させる。従って、写
真乳剤でコーティングされたレンチキュラーレンズアレ
イを有する種類のレンチキュラー材料からレンチキュラ
ー像生成物を形成するための改善された製造工程が必要
とされる。
【０００５】レンチキュールの軸に垂直な方向にレンチ
キュラーアレイを横切って非光化学レーザビームを走査
し、書込みレーザビームを調節するための出力クロック
を生成するようレンチキュールによってビームの偏向を
感知することが知られている。１９９７年１０月２８日
発行の発明者Telfer外による米国特許第５，６８１，６
７６号参照のこと。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、材料上に正
確な像を印刷するために、書込みレーザビームに対する
レンチキュラースキューの全てのばらつきを検出及び／
又は測定するための方法及び装置を提供することを目的
とする。本発明は、レンチキュラー像生成物の製造中の
かかるばらつきを最小限とするための方法及び装置を提
供することを他の目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上述の１つ以上
の問題を克服することを目的とする。簡単に概略する
と、本発明の１つの面によれば、レンチキュラー画像生
成物は、円柱レンズのアレイ及びその上にコーティング
された写真乳剤を有するレンチキュラー材料から、写真
乳剤の中にレンチキュラー潜像を形成するようレンチキ
ュラー材料をシリンダレンズの長軸に平行な方向の強度
調節された第１の光のビームで走査することによって形
成される。写真乳剤の感度の範囲外の波長を有する第２
の光のビームは、レンチキュラー材料上へ円柱レンズの
ピッチよりも小さいスポットへ合焦される。レンチキュ
ラー材料は、材料のレンチキュールの短軸を横切るペー
ジ走査運動を与えレンチキュールによって生ずる第２の
光のビームの反射又は屈折の角度を調節するよう、ビー
ムを通って動かされる。角度的に調節された第２の光の
ビームの位置は、レンチキュラーの長軸に沿った２つの
別個の点において感知され、感知された位置は回動シリ
ンダミラー組立体の回転位置を制御するために使用され
る。結果として、書込みレーザと円柱レンズの長軸との
間のスキューは最小化され、書込みレーザビームのレン
チキュールに対する平行なアラインメントが維持され
る。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の上述及び他の面、目的、
特徴、及び利点は、望ましい実施例の詳細な説明を読む
こと及び添付の図面を参照することによって、より明確
に理解されよう。図中、理解を容易とするため、各図に
共通な同一の要素を示すために可能であれば同一の参照
番号が用いられている。
【０００９】図１を参照するに、レンチキュラー像生成
装置１０は、レンチキュラー材料１４を支持するための
プラテン１２を含む。レンチキュラー材料１４は、レン
チキュラー材料１４の乳剤面１３が上向きとなるよう、
レンチキュールを下にしてプラテン１２上に配置され
る。更にレンチキュラー材料１４は、両側でプラテン１
２から張り出すようにされ、それにより固定の検出器４
４及び４４ａがレンチキュラー材料１４の張り出した縁
の下に配置されることを可能とする。移送プラテン１２
及びレンチキュラー材料１４が動いている間に検出器４
４及び４４ａを固定に取り付ける適当な取付け構造（図
示せず）は、検出器４４及び４４ａをレンチキュラー材
料１４が露光されている領域の下に保持するために設け
られる。
【００１０】レンチキュラー材料１４は、典型的には、
直接駆動リニアモータ又は親ねじといった駆動系（図示
せず）によって適当に駆動されるリニア移送系によって
矢印Ａの方向にプラテン１２によって移送される。これ
らの駆動系は、従来技術において周知である。レンチキ
ュラー材料１４は、調節されたレーザ２４からの書込み
レーザビーム２２で露光される。書込みレーザビーム２
２は光学系２８によって走査ポリゴン２６上に合焦され
る。走査ポリゴン２６はＣ方向に回転し、反射された書
込みレーザビーム２２をＤ方向に走査させる。書込みレ
ーザビーム２２はコールドミラー（可視光を反射し赤外
線光を透過する）３２から回動可能なシリンダミラー３
４上へ反射される。シリンダミラー３４は書込みレーザ
ビーム２２をレンチキュラー材料１４の表面１３上へ合
焦し、それによりカラー写真乳剤を露光する。
【００１１】材料の表面からの距離がポリゴン２６から
走査面への距離と同一であるように配置された赤外線レ
ーザ３６は、レンチキュラー材料１４を通して透過され
えレンチキュラー材料１４を露光しない波長の第２の光
のビーム３８を形成する。第２の光のビームは、ＩＲ反
射鏡４０によって反射され、コールドミラー３２を通
り、シリンダミラー３４へ向かう。シリンダミラー３４
は第２のビーム３８を線又はレンチキュールの幅よりも
狭い２つのスポットとしてレンチキュラー材料１４の表
面１３上に合焦する。固定の検出器４４及び４４ａは、
第２のビーム３８の波長に感応し、各検出器の製造工程
中に各検出器の上に配置される適当なフィルタによって
書込みレーザビーム２２に対して感応しないようにされ
る。第２のビーム３８はレンチキュラー材料１４を通過
し、レンチキュラー材料１４のレンチキュールによって
屈折され、プラテン１２の各側の固定の検出器４４及び
４４ａ上に当たる。従って、第２のビーム３８の位置
は、検出器４４及び４４ａによってレンチキュラー材料
１４のレンチキュールに対して感知される。
【００１２】シリンダミラー３４は、書込みレーザビー
ム２２の走査線の中央において矢印Ｅの方向に回動軸３
５の回りに回転可能であるよう取り付けられる。回動シ
リンダミラー３４は、第１及び第２のレーザビーム２２
及び３８の両方を回動軸３５の回りに回転させ、第２の
ビーム３８の線と書込みレーザビーム２２の走査線とが
平行に維持されることを確実とする。走査ポリゴン２６
は、書込みレーザビーム２２がレンチキュラー材料を矢
印Ｂの方向に、レンチキュラー材料１４のレンチキュー
ルの円柱長軸に平行に走査するよう、回動シリンダミラ
ー３４と協働する。矢印Ａの方向にプラテン１２によっ
て生ずるレンチキュラー材料１４の動きは、直交又はペ
ージ走査方向の走査を与える。
【００１３】更に、回動ミラー３４の角位置は、回動ミ
ラー３４の端部に固定して取り付けられた可動部材２１
を有する位置センサ２０によって測定される。このセン
サは、ＬＶＤＴ、容量性プローブ又は電位差計といった
従来技術で既知であり使用されている任意の適当な種類
の位置センサでありうる。回動ミラー３４の他端には、
回動ミラー３４を変位又は回転させる手段が取り付けら
れる。本実施例では、回動ミラー３４の端部の矢印Ｆの
方向の制御された変位、従って回動軸３５の回りの角変
位Ｅ、を発生するために直流モータ１９及び親ねじ１８
が使用される。当業者によれば、同じ変位を発生させる
ために、カムアクチュエータ、ボイスコイル又は機械的
連結といった任意の数の他の適当な手段が使用されうる
が、しかしこれらに限られるものではないことが理解さ
れよう。従って、上述の手段により、回動ミラー３４は
書込みビーム２２及び第２のビーム３８の角度をレンチ
キュラー材料１４上のレンチキュールに対して変化さ
せ、それによりそれらの間にあるミスアラインメントを
最小化するよう正確に制御されうる。
【００１４】図２は、書込みレーザビーム２２及びレン
チキュラー材料１４を一直線に配置させるための他の方
法を示す図である。この方法では、既に説明され図１に
図示される光学用素は同じであるが、回動シリンダミラ
ー３４はシリンダミラー固定取付台２７の中に保持され
る。モータ１９及び親ねじ１８、並びに、センサ２０及
びその可動部材２１は使用されない。可動プラテン１２
は、回転ステージ基部２３上に固定に取り付けられた回
転する機械的ステージ１上に取り付けられる。回転ステ
ージ基部２３は、図１に関して説明されたのと同じ種類
の線形移送手段によって方向Ａに移送される。
【００１５】レンチキュラー材料１４のレンチキュール
に対する書込みレーザビーム２２の回転スキューアライ
ンメントは、図示される方向Ｇの回転機械ステージ１７
の回転運動によって行われる。方向Ｇの回転機械ステー
ジ１７の動きは、回転機械ステージ１７の回転機械ステ
ージ軸２５の回りのプラテン１２及びレンチキュラー材
料１４の回転運動を発生する。軸２５の回りのレンチキ
ュラー材料１４の動きは、レンチキュラー材料１４のレ
ンチキュール及び書込みレーザビーム２２の相対角位置
を変化させ、第２のビーム３８は固定に取り付けられた
検出器４４及び４４ａによって検出される。従って、レ
ンチキュラー材料１４のレンチキュール及び書込みレー
ザビーム２２の角度的なスキューアラインメントが感知
されえ、この手段によって最小又は所望の角度的なスキ
ューアラインメントへ補正される。
【００１６】回転機械ステージの回転運動のための手段
は、モータ駆動のウオーム及びピニオン歯車、レバーア
ーム、又は手動調整といった従来技術で使用される任意
の既知の手段でありうる。ここで図３を参照するに、赤
外線光のビーム３８がレンチキュラー材料１４のレンチ
キュラーレンズのうちの１つの異なる部分を通過すると
きに、いかにしてレンチキュラー材料が赤外線光のビー
ム３８を偏向させるかが示されている。ビーム３８は、
カラー写真乳剤からなる上層１３へ合焦されこれを通っ
て透過される。図３の（Ａ）に示されるように、ビーム
３８がまずレンチキュールへ到達すると、これは大きな
角度で左へ屈折され、感位置検出器４４の左側へ当た
る。角度は、ビーム３８に対するレンチキュールの位置
に依存する。図３の（Ｂ）に示されるように、ビームが
レンチキュールの中央にあるとき、これは図示されるよ
うに最も少なく偏向され、位置検出器４４の中央に当た
る。図３の（Ｃ）に示されるように、レンチキュラー材
料が更に右へ移動されると、ビームは右へ偏向され、位
置検出器４４の右側に当たる。位置検出器４４は、例え
ば、日本国浜松市のHamamatsu Photonics KKから市販さ
れるＰＳＤ Ｓ３９３２感位置検出器でありうる。しか
しながら、ビーム３８の位置を検出するためには、分割
セル検出器、ＣＣＤ画像センサ、及び光のスポット又は
線の相対位置変化を感じることが可能な任意の他の光検
出器を含む任意の適当な光センサ手段が使用されうる。
【００１７】ここで図４を参照するに、感位置検出器４
４の機能の更なる細部が示されている。光のビーム３８
は、レンチキュラー材料１４の上層１３に合焦される。
レンチキュラー材料１４はビーム３８に対して方向Ａに
移送機構（図示せず）によって動かされる。ビーム３８
は、レンチキュラー材料１４の曲面１５を通過すると
き、大きな角度で屈折する。出射ビーム３３の重心は、
元のビーム３８から距離ｄに亘って軸方向に変位されて
いる。この距離ｄは、感位置検出器４４によって測定さ
れる。移送機構がレンチキュラー材料１４を動かすと、
距離ｄは変化する。出射ビーム３３の重心が元のビーム
３８から距離ｄに亘って軸方向に変位されると、出力信
号４８が発生される。位置検出器４４によって生成され
る波形４８は図４に示される。
【００１８】ここで図５を参照するに、レンチキュール
に対する書込みレーザビーム２２及び第２のビーム３８
のスキューミスアラインメントが示される。感位置検出
器４４及び４４ａは、このスキューミスアラインメント
を検出するときの正しい向きで示されている。レンチキ
ュラー材料１４が方向Ａに移送されると、第２のビーム
３８はレンチキュールのレンズを通って透過され、屈折
され、検出器４４及び４４ａによる出力信号４８及び４
８ａの発生をもたらす。第２のビーム３８がレンチキュ
ールの長軸１００に対して正しく一直線に配置されてい
ないため、屈折されたビーム３３の位置は各検出器にお
いて異なり、波形４８及び４８ａの位置的な位相をずれ
させる。
【００１９】ここで図６を参照するに、３組の出力信号
４８及び４８ａと、第２のビーム３８とそれらが向けら
れるレンチキュールレンズの長軸１００との間のスキュ
ーミスアラインメントの異なる量について生ずる、結果
としての相対位相位置が示される。図６は、スキューア
ラインメントの３つの場合について感位置検出器４４及
び４４ａから結果としての出力波形４８及び４８ａを形
成するレンチキュール及び第２のビーム３８の平面図を
示す図である。
【００２０】図６の（Ａ）は、第２のビーム３８とレン
チキュールの長軸１００との間の時計回りのスキューミ
スアラインメントを示す図である。このミスアラインメ
ントは、出力信号４８及び４８ａの間の相対位相シフト
によって測定される。図示されるように、４８は４８ａ
に先行し、第２のビーム３８とレンチキュールレンズの
長軸１００との間の時計回りのスキューミスアラインメ
ントを表わす。
【００２１】図６の（Ｂ）は、第２のビーム３８とレン
チキュールの長軸１００との間にスキューミスアライン
メントが無い場合を示す図である。図示されるように、
４８ａは４８と同位相であり、第２のビーム３８とレン
チキュールレンズの長軸１００との間にスキューミスア
ラインメントが無いことを表わす。図６の（Ｃ）は、第
２のビーム３８とレンチキュールの長軸１００との間の
反時計回りのスキューミスアラインメントを示す図であ
る。このミスアラインメントは、出力信号４８及び４８
ａの間の相対位相シフトによって測定される。図示され
るように、４８は４８ａよりも遅れており、第２のビー
ム３８とレンチキュールレンズの長軸１００との間の時
計回りのスキューミスアラインメントを表わす。
【００２２】このように、上述のようなシステムは、第
２のビーム３８とレンチキュールの長軸１００との間の
角度的なスキューミスアラインメントの度合いを位相差
によって表わす電気信号を発生させることが可能であ
る。第２のビーム３８と長軸１００とが平行に一直線に
配置された場合に発生された電気信号が所望の位相差を
有することを確実とするため、検出器４４及び４４ａの
最初のプレアラインメントが必要とされる。これは、第
２のビーム３８がレンチキュラー材料１４のレンチキュ
ールによって偏向されないことを確実とするためにレン
チキュラー材料１４を除去し、所望の位相差を有する波
形４８及び４８ａに等しい所望の出力電圧を生成するた
めに両方の検出器を相互に矢印Ａの方向に動かすことに
よって達成される。
【００２３】図７を参照するに、制御電子系について詳
述する。感位置検出器４４及び４４ａからの出力信号４
８及び４８ａは、位相検出手段５４へ入力される。位相
検出手段５４は、従来技術により理解され知られている
任意の既知の位相検出手段でありうる。典型的な方法
は、波形４８及び４８ａのゼロ交差間の時間差を測定
し、これを電荷ポンプ技術を用いて電圧へ変換しうる。
結果としての位相差信号５８は、制御電子系４６へ入力
される。位相検出手段５４の出力５８は、レンチキュラ
ー長軸１００と、書込みレーザビーム２２及び第２のビ
ーム３８との間のスキューの度合いを表わす。制御電子
系は、回動シリンダミラーモータ１９を駆動するために
駆動信号１０２を発生するために電力増幅器６０へ向け
られる制御信号６２を発生する。制御電子系４６はま
た、回動シリンダミラー３４の角位置を監視する回動シ
リンダミラー位置センサ２０からの位置フィードバック
信号５６を受信する。この位置フィードバック信号５６
はサーボ系の安定性を高めるために制御電子系４６によ
って使用される。
【００２４】図８を参照するに、制御電子系は、制御シ
ステムブロック図として詳細に示される。制御システム
は、デュアルループシステムである。内側ループは、命
令された位置７０を追跡しようとする。命令された位置
７０は、位置誤り信号７２を発生するよう位置フィード
バック信号５６と合計される。この位置誤り信号は、補
償電子系７４によって制御信号７６を発生するために作
動される。この制御信号７６は、回動シリンダミラー駆
動信号７８を形成する電力増幅器６０へ向けられる。回
動シリンダミラー駆動信号は、シリンダミラーアクチュ
エータ（回動シリンダミラーアクチュエータは回動シリ
ンダミラー３４、回動シリンダミラーモータ１９、親ね
じ１８、回動シリンダミラー位置センサ２０、及び可動
部材２１を含む）を回転させ、それにより回動シリンダ
ミラー３４の角位置を変化させる。回動シリンダミラー
３４の角位置は、回動シリンダミラー位置センサ２０に
よって感知される。回動シリンダミラー位置センサ２０
の出力８２は位置フィードバック信号５６を発生するよ
う信号処理ブロック８０の中でフィルタリングされ利得
調整される。
【００２５】外側のループは、命令された位置７０を与
える。命令された位置７０は、レンチキュラー材料１４
を通るビーム３８の偏向によって発生される。第２のビ
ーム３８とレンチキュラーの長軸１００との間のミスア
ラインメントは、感位置検出器４４及び４４ａによって
検出され、出力信号４８及び４８ａの間の相対位相シフ
トによって表わされる。出力信号４８及び４８ａの間の
相対位相差信号５８は、位相検出器８４によって弁別さ
れる。相対位相は、位相調整入力８６によって合算さ
れ、ＰＩＤ制御法則電子系８８へ印加される。システム
制御においてＰＩＤ制御法則を使用することは従来技術
で周知である。この電子系の出力は、命令された位置７
０である。位相調整信号８６は、書込みレーザビーム２
２のラスタスキューを補償するために既知の一定のスキ
ューオフセットを導入するために位相差５８への追加的
なオフセットとして加算されうる。
【００２６】他の実施例では、プラテン１２は、レンチ
キュラー材料１４が完全に支持され、ビーム３８が透明
材料を通過し検出器４４及び４４ａ上に当たることがで
きるよう、全体的にガラス（図示せず）又は他の透明材
料で構成されうる。図９を参照するに、更なる他の実施
例では、プラテン１２は、ガラス以外の材料で構成さ
れ、レンチキュラー材料１４の長さ全体に沿って狭い透
明な挿入物１１を含みうる。透明な挿入物１１は、ビー
ムが検出器４４及び４４ａを通過しうるのに十分な幅が
あればよい。透明な挿入物１１が使用される場合、これ
は固定の検出器４４及び４４ａが偏向されたビーム３８
を受けるように配置されねばならない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるレンチキュラー像生成物を生成す
るために使用される装置を示す概略図である。
【図２】本発明によるレンチキュラー像生成物を生成す
るために使用される図１と同様の他の装置を示す概略図
である。
【図３】第２の光のビーム上のレンチキュラー媒体の効
果を示す概略図である。
【図４】感位置検出器４４の機能の細部を示す図であ
る。
【図５】レンチキュールに対する書込みレーザビーム２
２及び第２のビーム３８のスキューミスアラインメン
ト、並びに、検出器４４及び４４ａ上に当たる屈折され
た第２のビームを示す図である。
【図６】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は、第２のビーム３８
とそれが向けられるレンチキュールレンズの長軸中心１
００との間の異なる量のスキューミスアラインメントに
ついて生ずる、出力信号４８、４８ａ及びそれらの間の
結果としての相対位相位置の組を夫々示す図である。
【図７】回動シリンダミラーの位置を制御するための補
正信号を発生するよう出力信号４８及び４８ａを処理す
る装置を示す概略図である。
【図８】回動シリンダミラーの位置を制御するための補
正信号を発生するよう出力信号４８、４８ａを処理する
装置をより詳細に示す概略図である。
【図９】レンチキュラー材料を支持する方法を変更させ
た本発明の他の実施例を示す概略図である。
【符号の説明】
１０ レンチキュラー像生成物生成装置 １１ 透明な挿入物 １２ プラテン １３ レンチキュラー材料の上層 １４ レンチキュラー材料 １５ レンチキュラー材料の曲面 １７ 回転機械ステージ １８ 親ねじ １９ 回動シリンダミラーモータ ２０ 回動シリンダミラー位置センサ ２１ 可動部材 ２２ 書込みレーザビーム ２３ 回転ステージ基部 ２４ 調節されたレーザ ２５ 回転機械ステージ軸 ２６ ポリゴン ２７ シリンダミラー固定取付台 ２８ 光学系 ３２ コールドミラー ３３ 出射ビーム ３４ 回動シリンダミラー ３５ 回動軸 ３６ 赤外線レーザ ３８ 第２の光のビーム ４０ ＩＲ反射鏡 ４４ 感位置検出器 ４６ 制御電子系 ４８ 角変位信号 ５６ 位置フィードバック信号 ５８ 位相差信号 ６０ 電力増幅器 ６２ 制御信号 ７０ 命令された位置 ７２ 位置誤差 ７４ 補償 ７６ 制御信号 ７８ 回動シリンダミラー駆動信号 ８０ 信号処理電子系 ８２ 回動シリンダミラー位置センサの出力 ８４ 位相検出器 ８６ 位相調整入力 ８８ ＰＩＤ制御法則電子系 １００ レンチキュールレンズの長軸 １０２ 駆動信号
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジェフリ アール ハウヴァ アメリカ合衆国，ニューヨーク 14623, ロチェスター，ローデン・レーン 22

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基準ビームと円柱レンズの繰り返すパタ
    ーンを有する種類の透明なレンチキュラー材料との間の
    相対スキューを検出する方法であって、 光のビームを形成する段階と、 上記光のビームを、共に円柱レンズのピッチよりも小さ
    い幅を有する少なくとも２つの別個のスポット又は線の
    上へレンチキュラー材料上に合焦する段階と、 光のビームの反射又は屈折の角度を調節するために、ビ
    ームが円柱レンズの長軸を横切るような方向にレンチキ
    ュラー材料をビームに対して動かす段階と、 合焦されたスポット又は線に対するレンチキュラー材料
    のスキュー又は相対角位置を決定するために、調節され
    た光のビームの位置を円柱レンズの長軸に沿って離間さ
    れた２つの別個の点へ感知する段階とを含む方法。
  2. 【請求項２】 基準ビームと円柱レンズの繰り返すパタ
    ーンを有する種類の透明なレンチキュラー材料との間の
    相対スキューを検出する方法であって、 光のビームを形成する段階と、 上記光のビームを、共に円柱レンズのピッチよりも小さ
    い幅を有する少なくとも２つの別個のスポット又は線の
    上へレンチキュラー材料上に合焦する段階と、 基準ビーム方向にプラテンの各縁から張り出すよう、レ
    ンチキュラー材料をローラプラテン又は平型プラテン上
    に保持する段階と、 光のビームの反射又は屈折の角度を調節するために、ビ
    ームが円柱レンズの長軸を横切るような方向にレンチキ
    ュラー材料をビームに対して動かす段階と、 合焦されたスポット又は線に対するレンチキュラー材料
    のスキュー又は相対角位置を決定するために、調節され
    た光のビームの位置を円柱レンズの長軸に沿って離間さ
    れた２つの別個の点へ感知する段階とを含む方法。
  3. 【請求項３】 光のビームを回動シリンダミラーを介し
    てレンチキュラー材料へ向ける段階と、 回動シリンダミラーの回転を生じさせるためにアクチュ
    エータを設ける段階と、 回動シリンダミラーの回転位置を検出するために位置セ
    ンサを設ける段階と、 ビームとレンチキュラー材料の縦軸との間の感知された
    スキュー又は相対位置を補正信号へ変換する段階と、 ＰＩＤ制御法則に基づいて命令された位置を発生する段
    階と、 回動シリンダミラーを動かすことによってビームとレン
    チキュラー材料の縦軸との間のスキューを最小化するた
    めに上記命令された位置を位置制御系の入力として与え
    る段階とを更に有する、請求項１記載の方法。
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