JP2000222760A

JP2000222760A - 情報の記録又は再生方法および記録又は再生装置

Info

Publication number: JP2000222760A
Application number: JP11025789A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Miyauchi; 靖宮内; Shigeru Nakamura; 滋中村; Keikichi Ando; 圭吉安藤
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1999-02-03
Filing date: 1999-02-03
Publication date: 2000-08-11

Abstract

(57)【要約】【課題】高密度記録の一つの方法として、ＳＩＬ(So
lid Immersion Lens)を用いた近接場記録があるが、こ
の場合、ＳＩＬの底面からの反射とディスク面との反射
とが干渉し、焦点制御が不安定になる。【解決手段】図１に示すように，ＳＩＬの底面（平
面部）に波長選択膜５を形成する。これにより、波長選
択膜５での光学条件を制御することが可能となる。ここ
では、記録又は再生用レーザの波長では反射率が低く、
焦点制御用レーザ波長では反射率が高くなるような波長
選択膜を用いている。【効果】焦点制御用の信号が大きくとれるので安定に
焦点制御が行える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光ディスクにおける
情報の記録又は再生方法および記録又は再生装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報の大容量化に伴い、光記録を
用いた高密度記録技術の開発が活発に行われている。光
記録では、その限界が光の回折により、記録ビット径が
500nm前後といわれている。この回折限界は光の波長
（λ）に比例し、さらに、レンズの性能指数(NA)に反比
例する。このため、高密度化の１つの方向は、光の波長
を短波長化すること、絞り込みレンズを高NA化すること
にある。また、別の方法としては、この回折限界によら
ない光学現象を利用する方法がある。たとえば、United
States Patent 5,121,256のように、ＳＩＬ(Solid Imm
ersion Lens)を用いて高NA化を実現し、通常の光学レン
ズを用いたものより小さなスポット径を得ている。以
下、この従来技術の原理を説明する。まず、ＳＩＬは屈
折率ｎが大きな透明物質からなる球面レンズを例えば半
球面に研磨し作製する。次に絞り込みレンズで絞られた
レーザ光の焦点をこの底面に合せる。ＳＩＬの中に入っ
たレーザ光の速度は屈折率の分だけ遅くなり、波長は１
／ｎに短くなっている。つまり、ＳＩＬ中での回折限界
は通常の１／ｎと小さくなる。見方を変えれば対物レン
ズのNAをｎ倍に増やせたといってもよい。この時、ＳＩ
Ｌの内部ではNAを高められてもレーザ光がＳＩＬを抜け
て空気中に出ると、再び元のビームスポット径に戻って
しまう。しかし、ＳＩＬの底面である底面と試料（ディ
スクの記録膜上など）との間がλ／４以下と接近した場
合（近接場）、入射光の波長λに対して波長が１／ｎの
まま試料に伝播するため、分解能がｎ倍になる。すなわ
ち、通常の１／ｎの回折限界が得られる。このような方
法によって高密度記録が可能となっている。

【０００３】このようなＳＩＬを用いた記録又は再生装
置では少なくとも次の制御が必要になる。（１）ＳＩＬ
を搭載した浮上スライダーとディスク表面との距離の制
御。（２）ＳＩＬの底面と絞り込みレンズとの距離の制
御。ここで、（１）の項目に関しては、浮上スライダー
の形状をディスクの線速度にあわせて作製することによ
り、目的の距離に安定に保つことができる。しかし、
（２）の項目に関しては、従来のように１つのレーザを
用いて記録又は再生と焦点制御を行う記録又は再生装置
では、ＳＩＬの底面で反射した光とＳＩＬを透過してデ
ィスク面で反射してきた光で干渉が起こりＳＩＬの底面
に焦点が合いにくくなるという問題があった。これを解
決する一つの方法としては、ＳＩＬの底面に薄膜を設け
ＳＩＬの底面からの反射率を高くし焦点制御用の信号を
大きくする方法が考えられる。しかし、この方法ではデ
ィスク面に到達する光強度が少なくなる為、高パワーの
レーザを搭載する必要があり、コストが高くなってしま
う。

【０００４】本発明の目的は，上記従来技術の問題点を
解決し、従来よりも安定に焦点制御が行える情報の記録
又は再生方法およびそれを用いた記録又は再生装置を提
供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明に用いる記録又は
再生装置としては大きく分けて２つの方式が用いられ
る。まず1つ目の方式としては、波長の異なる２つのレ
ーザ（記録又は再生用と焦点制御用）を搭載し、かつそ
れぞれのレーザ波長に対して光学特性が大きく異なる波
長選択膜をＳＩＬの底面に設けていることが大きな特徴
である。すなわち、ＳＩＬの底面に設けた波長選択膜で
は、記録又は再生用のレーザ照射では反射率が小さく
（ディスク面にほとんどの光が照射される）、焦点制御
用のレーザ照射では反射率が高くなる（ディスク面には
ほとんど照射されない）のである。これにより、記録又
は再生は従来のように問題無く行え、焦点制御も高反射
率の光が得られる為、安定に行える。ここで、記録又は
再生用レーザ波長で透過率がほぼ１００％になり、また
焦点制御用レーザ波長で反射率が７０％以上になるよう
な波長選択膜を用いれば、記録又は再生用レーザは従来
と同じ程度のパワーのもので良く、また焦点制御に用い
るレーザはコンパクトディスクに用いられている安価な
低パワーのレーザおよび回路を用いることが可能とな
る。

【０００６】ここで用いる２つのレーザとしては、記録
又は再生用のレーザ波長の方が焦点制御用のレーザ波長
に比べて短波長である方が微小ピット記録及びレーザの
価格の関係から好ましい。更にこの波長差は極力大きい
方が波長選択膜での反射率差を大きくできる為好まし
い。波長選択膜を１層で形成する場合には、２つのレー
ザ波長差は１００ｎｍ以上が好ましい。また、偏光方向
の異なる２つのビームを用いても同様な効果が得られ
る。

【０００７】ここで用いる方式は記録又は再生装置に限
らず、ＳＩＬを用いた原盤のカッティング装置にも適用
できる。例えば、原盤にプリピットやトラッキング用の
グルーブなどをカッティングするレーザ波長では反射率
が低く、かつ焦点制御に用いるレーザ波長ではほとんど
反射するような２波長で光学特性が大きく異なる波長選
択膜をＳＩＬの底面に設ければ良い。これにより、安定
な焦点制御が可能となる。さらに、焦点制御用のレーザ
はディスク面にほとんど達しない為に焦点制御用のレー
ザ照射によるレジスト等への悪影響はほとんど無い。

【０００８】また波長選択膜としては、記録又は再生用
のレーザ波長で反射率が極力低く、焦点制御用のレーザ
波長で反射率が高くなるような薄膜であれば良い。さら
に、多層で構成した方が光学調整の余裕度が増えるため
好ましい。

【０００９】ここで用いる記録又は再生装置は，波長の
異なる２つのレーザを搭載し，記録又は再生用のレーザ
から出射されたビームを絞り込みレンズによりＳＩＬの
底面に形成した波長選択膜に集光する手段、焦点制御用
のレーザから出射されたビームを絞り込みレンズにより
ＳＩＬの底面に形成した波長選択膜に集光する手段、Ｓ
ＩＬの波長選択膜面とディスク表面との間の間隔を制御
する手段、記録媒体を回転させる手段を少なくとも有し
ている。さらに、波長選択膜で反射してきた記録又は
再生用レーザの反射光をカットする為のフィルター素子
を焦点制御用レーザ光路中に設けてもよい。ここで、Ｓ
ＩＬの波長選択膜面とディスク表面との間の間隔を制御
する１つの手段としては、浮上型スライダーにＳＩＬを
取り付け、ディスクを一定回転で回転させる事により一
定の浮上量が得られる。また、絞り込みレンズとＳＩＬ
とを一体化し、同様に浮上スライダーに乗せたり、ある
いは浮上スライダーを用いないで絞り込みレンズとディ
スクとの距離をレーザなどにより正確に制御する（自動
焦点制御など）ことなどにより可能となる。

【００１０】また、2つ目の方式としては、２つのビー
ムを用い、記録又は再生用のビームはＳＩＬの底面の中
心部に照射し、焦点制御用のビームはＳＩＬの底面の中
心部から少し離れたところに照射する。この時、記録又
は再生用のビームが照射される領域の透過率が高く、か
つ焦点制御用のビームが照射される領域からの反射率が
高いことが大きな特徴である。これを実現する為には、
例えば焦点制御用のビームが照射される領域に高反射率
を示す反射膜を形成し、かつ記録又は再生用のビームが
照射される領域にはこの反射膜を形成しなければよい。
すなわち、記録又は再生用のビームが照射される領域に
は反射膜が無い為、ビームのほとんどの光がＳＩＬの底
面からディスク表面に照射される。また、焦点制御用の
ビームが照射される領域には反射膜がある為、ほとんど
の光がこの反射膜で反射される。これにより、記録又は
再生は従来のように問題無く行え、焦点制御も安定に行
える。ＳＩＬ上での記録又は再生用ビームのスポット中
心と焦点制御用ビームのスポット中心との距離が、ＳＩ
Ｌの底面上で３μｍ以上であればビームスポット同士が
重なることはなく好ましい。

【００１１】ここで用いるＳＩＬとしては、半球状で底
面の中心部のみ反射膜が無い物が好ましい。この反射膜
が無い領域を穴と呼ぶと、この穴の大きさはＳＩＬの底
面にビームの焦点が合った場合の最小スポット径よりも
大きければ良いが、2倍〜２０倍であれば問題無い。こ
こで、穴ではなく、一様な膜でも実質的に記録又は再生
ビームが照射される領域の透過率が高ければ良い。たと
えば、ＳＩＬの端面から出た光のほぼ１００％が透過す
れば良い。また、ＳＩＬの底面は円形ではなくてもよ
い。

【００１２】２つのビームは、1つのレーザを2つのビー
ムに分けても良いが、波長の異なる2つのレーザを用い
た方が安定な焦点制御ができる為、好ましい。

【００１３】また本方式は記録又は再生装置に限らず、
ＳＩＬを用いた原盤のカッティング装置にも適用でき
る。この場合レジスト面からの反射率が小さい為に不安
定だった焦点制御が安定にかかる。さらに、焦点制御用
のビームはディスク面にほとんど達しない為に焦点制御
用のレーザ照射によるレジスト等への悪影響はほとんど
無い。

【００１４】ここで用いる反射膜としては、焦点制御用
のレーザ波長で反射率が高くなるような薄膜であれば良
い。さらに、多層で構成した方が光学調整の余裕度が増
えるため好ましい。また、ＳＩＬの底面に接して超解像
膜を形成することにより更なる高密度記録又は再生が可
能となる。

【００１５】ここで用いる記録又は再生装置は，２つの
ビームを用い、記録又は再生用ビームを絞り込みレンズ
によりＳＩＬの底面に集光する手段、焦点制御用のビー
ムを絞り込みレンズによりＳＩＬの底面に形成した反射
膜に集光する手段、焦点制御用ビームを記録又は再生用
ビームの照射領域から離れたＳＩＬの底面にビームを照
射する手段、記録媒体を回転させる手段を少なくとも有
している。ここで、ＳＩＬの波長選択膜面とディスク
表面との間の間隔を制御する１つの手段としては、浮上
型スライダーにＳＩＬを取り付け、ディスクを一定回転
で回転させる事により一定の浮上量が得られる。また、
絞り込みレンズとＳＩＬとを一体化し、同様に浮上スラ
イダーに乗せたり、あるいは浮上スライダーを用いない
で絞り込みレンズとディスクとの距離をレーザなどによ
り正確に制御する（自動焦点制御など）ことなどにより
可能となる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細を実施例を用
いて説明する。

【００１７】実施例１図１は，記録又は再生装置における記録又は再生系の概
要を示したものである。ＳＩＬ(Solid Immersion Lens)
１が取り付けられた浮上型ヘッド２に、記録又は再生用
の半導体レーザ（波長４１０ｎｍ）から出射されたレー
ザビーム３を、絞り込みレンズ（開口数：0.6）４によ
りＳＩＬの半球面のほぼ中央部に入射する。ＳＩＬの底
面には、波長選択膜５を形成している。レーザビーム３
の焦点は波長選択膜５に合うようになっている。また、
この浮上型ヘッド２とディスク６との間の距離は、約１
００ｎｍと近づいている（近接場領域）。この距離は、
浮上型ヘッド２の形状やディスク６の回転数などで制御
されほぼ一定に保たれる。さらに、焦点制御用の半導体
レーザ（波長６５０ｎｍ）から出射されたレーザビーム
７もビームスプリッタ８を介して同じ絞り込みレンズ４
によりＳＩＬの底面の波長選択膜５に焦点が合うよう
にしている。ここで、ＳＩＬの底面でのビームスポット
径（Φ）は、以下の式で表される。ＳＩＬの屈折率を
ｎ、レーザ波長をλ、絞り込みレンズの開口数をNAとす
ると、 Φ≒（１／ｎ）×（λ／NA）となる。すなわち、通常の１／ｎの回折限界が得られ
る。また球の大半を残しながら一部だけを平面で切り取
った「超半球」の形状にする事により、Φ≒λ／ｎ²と
ビーム径を更に小さくできる。本実施例では、図2に示
すように波長選択膜５として、ＳＩＬに接してＺｎＳ−
ＳｉＯ２／Ａｕの順番に形成した。図３にＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ２を横軸にＡｕの膜厚を縦軸にとった場合の、波長６
５０ｎｍにおける反射率の値をシミュレーションした結
果を示す。また、図４にＺｎＳ−ＳｉＯ２を横軸にＡｕ
の膜厚を縦軸にとった場合の、波長４１０ｎｍにおける
反射率の値をシミュレーションした結果を示す。ここで
例えばＡｕの膜厚が２５ｎｍ以上であれば、ＺｎＳ−Ｓ
ｉＯ２の膜厚によらず波長６５０ｎｍで反射率が７０％
以上となり、ＣＤなどの再生専用光ディスクと同じ程度
の反射率が得られ安定に焦点制御が行える。そして、波
長４１０ｎｍでの反射率が小さくなるＺｎＳ−ＳｉＯ２
の膜厚は３０ｎｍ＋（１００×Ｎ）ｎｍである。ここ
で、Ｎは０及び正の整数である。波長４１０ｎｍのレー
ザで記録又は再生を行う為、反射率は３０％以下が好ま
しい。特に１５％以下が好ましい。

【００１８】以上の結果から、本実施例ではＺｎＳ−Ｓ
ｉＯ２を３０ｎｍ、Ａｕを３０ｎｍとした波長選択膜を
用いた。この構造では波長６５０ｎｍで反射率が約７５
％で、波長４１０ｎｍで反射率は約１０％となる。また
単層の場合は、Ａｕのみを用い、膜厚を２５ｎｍにすれ
ば、ほぼ同様の効果が得られる。ここで、波長選択膜は
ＺｎＳ−ＳｉＯ２やＡｕに限らず、上記の反射率を満足
する材料や構造であれば良い。またＳＩＬの底面に超解
像膜も同時に形成することによりスポット径を小さくす
ることが可能となる。更に、今回は記録又は再生用レー
ザ波長４１０ｎｍ、焦点制御用レーザ波長６５０ｎｍの
光源を用いたが、この波長に限定するものではない。例
えば、焦点制御用レーザ波長をコンパクトディスクに用
いるレーザ（波長７８０ｎｍ）を用いれば、装置単価が
安くできて好ましい。これらの波長差を１００ｎｍ以上
とした方が両者の波長での反射率差を大きくできる為好
ましい。

【００１９】以上のように、ＳＩＬの底面に波長選択膜
を形成する事により、安定に焦点制御ができかつ高密度
記録又は再生が可能となった。

【００２０】ＳＩＬの底面に形成した波長選択膜とディ
スクの記録膜面上との距離は、近接場を用いるためλ／
４以下と近づいている。このスペース部分に透明な潤滑
剤を設けて、波長選択膜表面とディスク表面とが接する
ようにしてもよい。

【００２１】本実施例に用いる記録媒体としては、結晶
と非晶質状態の反射率差を利用した相変化光ディスクや
磁気効果を利用した光磁気ディスク、あるいは磁気ディ
スクなどＳＩＬを用いて記録あるいは再生できる記録媒
体なら適用可能である。レジストを塗布した原盤カッテ
ィングにも本発明は適応できる。

【００２２】本実施例に用いる記録又は再生装置は，波
長の異なる２つのレーザを搭載し，記録又は再生用のレ
ーザから出射されたビームを絞り込みレンズによりＳＩ
Ｌの底面に形成した波長選択膜に集光する手段、焦点制
御用のレーザから出射されたビームを絞り込みレンズに
よりＳＩＬの底面に形成した波長選択膜に集光する手
段、ＳＩＬの波長選択膜面とディスク表面との間の間隔
を制御する手段、ディスクを回転させる手段を少なくと
も有している。さらに、波長選択膜で反射してきた記
録又は再生用レーザの反射光をカットする為のフィルタ
ー素子を焦点制御用レーザ光路中に設けた方が確実な焦
点制御が行える。ここで、ＳＩＬの波長選択膜面とディ
スク表面との間の間隔を制御する手段としては、本実施
例のように浮上型スライダーにＳＩＬを取り付ける事に
より可能となる。更に絞り込みレンズとＳＩＬを一体化
し、同じ浮上スライダーに搭載しても良い。

【００２３】実施例２本実施例で用いる記録又は再生装置における記録又は再
生系は実施例１とほぼ同じであるが、波長選択膜５の変
わりに反射膜９を形成していることが大きく異なる。た
だし、反射膜９は図５に示すように記録又は再生用レー
ザビーム３が照射される場所には反射膜９は無い。ま
た、実施例1では焦点制御用レーザビーム７と記録又は
再生用レーザビーム３はＳＩＬ上のほぼ同じ場所に照射
されるが、本実施例では焦点制御用レーザビーム７は記
録又は再生用レーザビーム３が照射される場所から約１
０μｍ離れた反射膜９上に照射される。本実施例では、
反射膜９として、ＳＩＬに接してＳｂを３０ｎｍ形成し
た。その後、ＳＩＬの中心部にＡｒレーザ照射により直
径１０μｍ程度の穴を形成した。この穴は、ＳＩＬの底
面での記録又は再生用レーザビームスポット径（Φ）の
2倍〜２０倍程度であれば良い。これ以上小さいと記録
又は再生用レーザビーム３が反射膜９に照射される可能
性があり、これ以上大きいと焦点制御用レーザビーム７
の制御性が悪くなる。また、反射膜９の材質はＳｂでな
くても穴が形成でき、かつ焦点制御用のレーザ波長で反
射率が高ければよい。例えば反射率が７０％以上となる
材質および膜厚であれば、コンパクトディスクで用いて
いる安価な回路などが流用でき好ましい。ただし、穴で
なくても、記録又は再生ビームが照射される領域での透
過率が高ければ良い。また、ＳＩＬの底面に接して超解
像膜を形成することにより、更なるビームスポットの縮
小化が図られる為、高密度記録又は再生が可能となっ
た。

【００２４】今回は記録又は再生用レーザ波長４１０ｎ
ｍ、焦点制御用レーザ波長６５０ｎｍの光源を用いた
が、本発明ではこの波長に限定するものではなく、例え
ば焦点制御用レーザとしてコンパクトディスクに用いる
波長７８０ｎｍのレーザを用いると安価にできて好まし
い。

【００２５】以上のように、焦点制御用ビームが照射さ
れるＳＩＬの底面に反射膜を形成し、記録又は再生用ビ
ームが照射されるＳＩＬの底面には反射膜がない状態に
する事により、安定に焦点制御ができかつ高密度記録又
は再生が可能となった。

【００２６】本実施例に用いる記録媒体としては、結晶
と非晶質状態の反射率差を利用した相変化光ディスクや
磁気効果を利用した光磁気ディスク、あるいは磁気ディ
スクなどＳＩＬを用いて記録あるいは再生できる記録媒
体なら適用可能である。レジストを塗布した原盤カッテ
ィングにも本発明は適応できる。

【００２７】本実施例に用いる記録又は再生装置は，２
つのビームを用い、記録又は再生用ビームを絞り込みレ
ンズによりＳＩＬの底面に集光する手段、焦点制御用の
ビームを絞り込みレンズによりＳＩＬの底面に形成した
反射膜に集光する手段、焦点制御用ビームを記録又は再
生用ビームの照射領域から離れたＳＩＬの底面にビーム
を照射する手段、記録媒体を回転させる手段を少なくと
も有している。

【００２８】

【発明の効果】本発明によれば，例えば波長の異なる２
つのレーザビームを用い、かつそれぞれの波長に対して
光学特性が大きく異なる波長選択膜をＳＩＬの底面に設
けることにより、焦点制御用の信号が大きく取れる為、
安定に焦点制御が行え高密度記録又は再生が可能となっ
た。また２つのビームを用い、焦点制御用ビームが照射
されるＳＩＬの底面に反射膜を設けることによっても焦
点制御用の信号が大きく取れる為、安定に焦点制御が行
える。この時、記録又は再生用ビームが照射されるＳＩ
Ｌの底面には反射膜を形成しないので従来通り高密度記
録又は再生が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１における記録又は再生系の説明図。

【図２】実施例１におけるＳＩＬの底面の拡大図（断面
図）。

【図３】波長６５０ｎｍにおける反射率のシミュレーシ
ョン結果。

【図４】波長４１０ｎｍにおける反射率のシミュレーシ
ョン結果。

【図５】実施例２におけるＳＩＬの底面の拡大図（断面
図）。

【符号の説明】

１ＳＩＬ(Solid Immersion Lens) ２浮上型ヘッド３記録又は再生用レーザビーム４絞り込みレンズ５波長選択膜６ディスク７焦点制御用レーザビーム８ビームスプリッタ９反射膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者安藤圭吉東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内Ｆターム(参考） 5D119 AA11 AA22 AA28 BA01 CA06 EA02 EA03 EC47 FA08 JA64 MA06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ＳＩＬ(Solid Immersion Lens)を用いて情
報を記録又は再生する情報の記録又は再生方法におい
て、波長の異なる２つのレーザを用い、それぞれのレー
ザ波長に対して光学特性が異なる波長選択膜をＳＩＬの
底面に設け、該波長選択膜に長波長側のレーザビームを
照射して反射したビームで焦点制御を行い、該波長選択
膜に短波長側のレーザビームを照射して透過したビーム
で記録又は再生を行うことを特徴とする情報の記録又は
再生方法。
【請求項２】特許請求の範囲第１項記載の情報の記録又
は再生方法において、該波長選択膜における焦点制御用
レーザ波長での反射率が、記録又は再生用レーザ波長で
の反射率よりも高いことを特徴とする情報の記録又は再
生方法。
【請求項３】特許請求の範囲第１項記載の情報の記録又
は再生方法において、該波長選択膜における焦点制御用
レーザ波長での反射率が７０％以上であることを特徴と
する情報の記録又は再生方法。
【請求項４】特許請求の範囲第１項記載の情報の記録又
は再生方法において、該波長選択膜における記録又は再
生用レーザ波長での透過率がほぼ１００％であることを
特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項５】ＳＩＬ(Solid Immersion Lens)を用いて情
報を記録又は再生する情報の記録又は再生方法におい
て、２つのビームを用い、ＳＩＬの底面に形成した反射
膜が有る領域に焦点制御用ビームを照射し、反射膜が無
いＳＩＬの底面に記録又は再生用ビームを照射すること
により、焦点制御を行いながら情報を記録又は再生する
ことを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項６】特許請求の範囲第５項記載の情報の記録又
は再生方法において、焦点制御用ビームと記録又は再生
用ビームとが照射されるそれぞれのスポットの中心の距
離がＳＩＬの底面上で３μｍ以上であることを特徴とす
る情報の記録又は再生方法。
【請求項７】特許請求の範囲第５項記載の情報の記録又
は再生方法において、該反射膜における焦点制御用レー
ザ波長での反射率が７０％以上であることを特徴とする
情報の記録又は再生方法。
【請求項８】ＳＩＬ(Solid Immersion Lens)を用いて情
報を記録又は再生する情報の記録又は再生装置におい
て、波長の異なる２つのレーザを搭載し、かつそれぞれ
のレーザ波長に対して光学特性が異なる波長選択膜をＳ
ＩＬの底面に設け、該波長選択膜に長波長側のレーザビ
ームを照射して反射したビームで焦点制御を行い、該波
長選択膜に短波長側のレーザビームを照射して透過した
ビームで記録又は再生を行うことを特徴とする情報の記
録又は再生装置。
【請求項９】特許請求の範囲第８項記載の情報の記録又
は再生装置において、波長の異なる２つのレーザレーザ
から出射された各ビームを絞り込みレンズによりＳＩＬ
の底面に形成した波長選択膜に集光する手段、ＳＩＬの
波長選択膜面と記録媒体表面との間の間隔を制御する手
段、記録媒体を回転させる手段を少なくとも有している
事を特徴とする情報の記録又は再生装置。
【請求項１０】特許請求の範囲第８項記載の情報の記録
又は再生装置において、焦点制御用レーザ光路中に記録
又は再生用レーザ光をカットするフィルター素子を設け
ている事を特徴とする情報の記録又は再生装置。
【請求項１１】特許請求の範囲第８項記載の情報の記録
又は再生装置において、記録又は再生用レーザ波長と焦
点制御用レーザ波長との波長差が１００ｎｍ以上である
ことを特徴とする情報の記録又は再生装置。
【請求項１２】ＳＩＬ(Solid Immersion Lens)を用いて
情報を記録又は再生する情報の記録又は再生装置におい
て、２つのビームを用い、ＳＩＬの底面に形成した反射
膜が有る領域に焦点制御用ビームを照射し、反射膜が無
いＳＩＬの底面に記録又は再生用ビームを照射すること
により、焦点制御を行いながら情報を記録又は再生する
ことを特徴とする情報の記録又は再生装置。
【請求項１３】特許請求の範囲第１２項記載の情報の記
録又は再生装置において、２つのビームを用い、記録又
は再生用ビームを絞り込みレンズによりＳＩＬの底面に
集光する手段、焦点制御用のビームを絞り込みレンズに
よりＳＩＬの底面に形成した反射膜に集光する手段、焦
点制御用ビームを記録又は再生用ビームの照射領域から
離れたＳＩＬの底面にビームを照射する手段、記録媒体
を回転させる手段を少なくとも有していることを特徴と
する情報の記録又は再生装置。
【請求項１４】特許請求の範囲第１２項記載の情報の記
録又は再生装置において、ＳＩＬの底面の中心部がその
周りの領域よりも透過率が高いことを特徴とする情報の
記録又は再生装置。
【請求項１５】特許請求の範囲第１４項記載の情報の記
録又は再生装置において、上記透過率が高い領域の大き
さがＳＩＬの底面で絞り込まれる最小のビームスポット
径の2倍〜２０倍であることを特徴とする情報の記録又
は再生装置。
【請求項１６】波長の異なる第1及び第2のレーザを用
い、レンズの光記録媒体側の面から反射した上記第1の
レーザからの光で焦点制御を行い、上記第2のレーザか
ら上記レンズに入射した光で上記光記録媒体の記録又は
再生を行うことを特徴とする情報の記録又は再生方法。
【請求項１７】波長の異なる第1及び第2のレーザと、光
記録媒体上をスライドするスライダーと、上記スライダ
ーに搭載されたレンズと、上記レンズの上記光記録媒体
側の面から反射した上記第1のレーザからの光で焦点制
御を行う焦点制御回路と、上記第2のレーザから上記レ
ンズに入射した光で上記光記録媒体の記録又は再生を行
う記録又は再生回路とを具備することを特徴とする情報
の記録又は再生装置。