JP2000221479A - 液晶パネルの吸着ステージ - Google Patents
液晶パネルの吸着ステージInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶パネルを吸着ステージに接触剥離するこ
とで発生する静電気によってＴＦＴが破壊される問題
と、吸着ステージで使用される研削加工水が吸着面に残
り覆うため、吸着面に生じる吸着不良の問題を解決した
液晶パネルの吸着ステージを提供する。 【解決手段】 吸着ステージ本体１の吸着面２に、底面
に貫通穴４を有する凹形溝３を複数本並列に形成し、吸
着面２の周辺部および凹形溝３の間隔等、吸着面２上で
凹形溝３の無い部分に液晶パネルを真空吸着させる真空
吸着溝７を形成し、真空吸着溝７の底面に真空吸着管を
備え、さらに、吸着ステージ本体１の進行方向であって
吸着面２上の位置に、前後方向と左右方向共に角度が±
１〜９０度の範囲に可動できる気体噴射ノズルを設け
た。
とで発生する静電気によってＴＦＴが破壊される問題
と、吸着ステージで使用される研削加工水が吸着面に残
り覆うため、吸着面に生じる吸着不良の問題を解決した
液晶パネルの吸着ステージを提供する。 【解決手段】 吸着ステージ本体１の吸着面２に、底面
に貫通穴４を有する凹形溝３を複数本並列に形成し、吸
着面２の周辺部および凹形溝３の間隔等、吸着面２上で
凹形溝３の無い部分に液晶パネルを真空吸着させる真空
吸着溝７を形成し、真空吸着溝７の底面に真空吸着管を
備え、さらに、吸着ステージ本体１の進行方向であって
吸着面２上の位置に、前後方向と左右方向共に角度が±
１〜９０度の範囲に可動できる気体噴射ノズルを設け
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶パネルの製造工
程で液晶パネルの吸着搬送に使用される吸着ステージに
関するものである。
程で液晶パネルの吸着搬送に使用される吸着ステージに
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶パネルの製造工程で使用され
る液晶パネルの搬送用吸着ステージとしては、液晶パネ
ル用のガラス基板を搬送用吸着ステージ上に載置し、そ
の載置位置が作業中に変動しないように、搬送用吸着ス
テージのガラス基板載置面に複数個の真空吸着孔を設け
てガラス基板を載置面に吸着固定し、導管で真空源に接
続した真空吸着孔の真空圧をバルブ制御器で制御してい
るものが知られている（特開平１０−１２３４９０号公
報参照）。
る液晶パネルの搬送用吸着ステージとしては、液晶パネ
ル用のガラス基板を搬送用吸着ステージ上に載置し、そ
の載置位置が作業中に変動しないように、搬送用吸着ス
テージのガラス基板載置面に複数個の真空吸着孔を設け
てガラス基板を載置面に吸着固定し、導管で真空源に接
続した真空吸着孔の真空圧をバルブ制御器で制御してい
るものが知られている（特開平１０−１２３４９０号公
報参照）。
【０００３】これらの搬送用吸着ステージにおいては、
液晶パネルを吸着固定して、高精度な仕事をするため
に、吸着ステージの吸着面に高い平面精度が必要であ
り、吸着ステージの吸着面は高い平面精度が得られる導
電性のある金属材料で作られている。
液晶パネルを吸着固定して、高精度な仕事をするため
に、吸着ステージの吸着面に高い平面精度が必要であ
り、吸着ステージの吸着面は高い平面精度が得られる導
電性のある金属材料で作られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の液晶パネルの吸着ステージの構成では、吸着ステー
ジの吸着面が高い平面精度を得るために、吸着ステージ
の材質として、絶縁物である樹脂材料では平面精度の確
保が困難であり、ガラスやセラミクス材料等は衝撃で割
れ易く製作費が高い等の問題から、一般にアルミニウム
やステンレス等の導電性のある金属材料で作られるのが
主流となっている。そのため、金属と絶縁物を接触させ
るときに電子が移動して帯電し、その電荷が十分に大き
くなると、導体で結ばれなくてもその距離が近いと気中
放電するというメカニズムによって、液晶パネルは吸着
ステージとの接触分離によって静電気を発生し、吸着ス
テージに液晶パネルを吸着して一連の作業完了後、液晶
パネルを吸着ステージの吸着面から真空破壊して取り出
す瞬間に剥離帯電を起こし、液晶パネルのＴＦＴが静電
破壊されるという問題点を有していた。
来の液晶パネルの吸着ステージの構成では、吸着ステー
ジの吸着面が高い平面精度を得るために、吸着ステージ
の材質として、絶縁物である樹脂材料では平面精度の確
保が困難であり、ガラスやセラミクス材料等は衝撃で割
れ易く製作費が高い等の問題から、一般にアルミニウム
やステンレス等の導電性のある金属材料で作られるのが
主流となっている。そのため、金属と絶縁物を接触させ
るときに電子が移動して帯電し、その電荷が十分に大き
くなると、導体で結ばれなくてもその距離が近いと気中
放電するというメカニズムによって、液晶パネルは吸着
ステージとの接触分離によって静電気を発生し、吸着ス
テージに液晶パネルを吸着して一連の作業完了後、液晶
パネルを吸着ステージの吸着面から真空破壊して取り出
す瞬間に剥離帯電を起こし、液晶パネルのＴＦＴが静電
破壊されるという問題点を有していた。
【０００５】また、従来の吸着ステージを液晶パネルの
研削加工の吸着固定用として使用する場合、研削加工に
用いられる研削加工水が吸着ステージの吸着面を覆うた
め、真空圧が上がらず、次の研削加工工程で液晶パネル
を真空吸着できず、たとえ真空吸着ができても、吸着固
定する保持力が弱く、研削加工中に液晶パネルの位置が
変動するという吸着不良の問題を有していた。
研削加工の吸着固定用として使用する場合、研削加工に
用いられる研削加工水が吸着ステージの吸着面を覆うた
め、真空圧が上がらず、次の研削加工工程で液晶パネル
を真空吸着できず、たとえ真空吸着ができても、吸着固
定する保持力が弱く、研削加工中に液晶パネルの位置が
変動するという吸着不良の問題を有していた。
【０００６】本発明はかかる点に鑑み、液晶パネルを吸
着ステージの吸着面から取り出す際の液晶パネルの静電
破壊を防止し、液晶パネルの吸着ステージへの吸着不良
が生じない液晶パネルの吸着ステージを提供することを
目的とする。
着ステージの吸着面から取り出す際の液晶パネルの静電
破壊を防止し、液晶パネルの吸着ステージへの吸着不良
が生じない液晶パネルの吸着ステージを提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の液晶パネルの吸着ステージは、液晶パネルの
吸着面に、吸着ステージの厚み方向に向かって掘り下げ
られ、その底面に吸着ステージを貫通する貫通穴を設け
た凹形溝を複数列形成し、前記凹形溝の形成されていな
い吸着面上の部分に液晶パネルを吸着する真空吸着孔を
複数個形成したものであり、液晶パネルを吸着ステージ
の吸着面から取り出す際の液晶パネルの静電破壊がな
く、液晶パネルの吸着ステージへの吸着不良もなくなる
ものである。
に本発明の液晶パネルの吸着ステージは、液晶パネルの
吸着面に、吸着ステージの厚み方向に向かって掘り下げ
られ、その底面に吸着ステージを貫通する貫通穴を設け
た凹形溝を複数列形成し、前記凹形溝の形成されていな
い吸着面上の部分に液晶パネルを吸着する真空吸着孔を
複数個形成したものであり、液晶パネルを吸着ステージ
の吸着面から取り出す際の液晶パネルの静電破壊がな
く、液晶パネルの吸着ステージへの吸着不良もなくなる
ものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、液晶パネルの吸着面に、吸着ステージの厚み方向に
向かって掘り下げられ、その底面に吸着ステージを貫通
する貫通穴を設けた凹形溝を複数列形成し、前記凹形溝
の形成されていない吸着面上の部分に液晶パネルの真空
吸着孔を形成した液晶パネルの吸着ステージであり、液
晶パネルの吸着面に、底面に貫通穴を設けた凹形溝を複
数列形成することにより、液晶パネルと吸着ステージと
の接触面積が減り、液晶パネルと吸着ステージの接触剥
離によって発生する静電気も減り、液晶パネルを吸着ス
テージの吸着面から取り出す際の静電破壊が防止できる
という作用を有し、また、吸着ステージに吸着固定した
液晶パネルの研削加工に用いられる研削加工水が凹形溝
に流れ込み、底面の貫通穴から外部に排出できるので、
吸着ステージの吸着面を覆う研削加工水により吸着ステ
ージの吸着面が吸着不良を起こすことがなくなるという
作用を有する。
は、液晶パネルの吸着面に、吸着ステージの厚み方向に
向かって掘り下げられ、その底面に吸着ステージを貫通
する貫通穴を設けた凹形溝を複数列形成し、前記凹形溝
の形成されていない吸着面上の部分に液晶パネルの真空
吸着孔を形成した液晶パネルの吸着ステージであり、液
晶パネルの吸着面に、底面に貫通穴を設けた凹形溝を複
数列形成することにより、液晶パネルと吸着ステージと
の接触面積が減り、液晶パネルと吸着ステージの接触剥
離によって発生する静電気も減り、液晶パネルを吸着ス
テージの吸着面から取り出す際の静電破壊が防止できる
という作用を有し、また、吸着ステージに吸着固定した
液晶パネルの研削加工に用いられる研削加工水が凹形溝
に流れ込み、底面の貫通穴から外部に排出できるので、
吸着ステージの吸着面を覆う研削加工水により吸着ステ
ージの吸着面が吸着不良を起こすことがなくなるという
作用を有する。
【０００９】請求項２に記載の発明は、凹形溝が、直線
状に複数本並列に勾配を形成しながら掘り下げられた凹
形溝であり、真空吸着孔が、吸着面の周辺部および複数
本並列に形成された凹形溝と凹形溝との間隔に設けられ
た真空吸着溝である請求項１に記載の液晶パネルと吸着
ステージであり、凹形溝が、勾配を形成しながら掘り下
げられているので、吸着面の研削加工水が凹形溝に流れ
込み易く、真空吸着溝が吸着面の周辺部および凹形溝と
凹形溝との間隔に設けられているので、吸着面が吸着不
良を起こすことがなくなるという作用を有する。
状に複数本並列に勾配を形成しながら掘り下げられた凹
形溝であり、真空吸着孔が、吸着面の周辺部および複数
本並列に形成された凹形溝と凹形溝との間隔に設けられ
た真空吸着溝である請求項１に記載の液晶パネルと吸着
ステージであり、凹形溝が、勾配を形成しながら掘り下
げられているので、吸着面の研削加工水が凹形溝に流れ
込み易く、真空吸着溝が吸着面の周辺部および凹形溝と
凹形溝との間隔に設けられているので、吸着面が吸着不
良を起こすことがなくなるという作用を有する。
【００１０】請求項３に記載の発明は、吸着ステージの
進行方向であって、液晶パネルの吸着面から任意の間隔
を保有し、吸着面上に位置する所定の高さに設けられ、
前後方向と左右方向共に角度が±１〜９０度の範囲に可
動できる気体噴射ノズルを備えた請求項１に記載の液晶
パネルの吸着ステージであり、気体噴射ノズルにより吸
着面上の研削加工水残水を完全に取り除くことができる
という作用を有する。
進行方向であって、液晶パネルの吸着面から任意の間隔
を保有し、吸着面上に位置する所定の高さに設けられ、
前後方向と左右方向共に角度が±１〜９０度の範囲に可
動できる気体噴射ノズルを備えた請求項１に記載の液晶
パネルの吸着ステージであり、気体噴射ノズルにより吸
着面上の研削加工水残水を完全に取り除くことができる
という作用を有する。
【００１１】以下、本発明の実施の形態について図面を
参照して説明する。 （実施の形態）図１は本発明の実施の形態における液晶
パネルの吸着ステージの上面図、図２は図１のＡ−Ｂ線
断面図、図３は図２の一部拡大断面図、図４は図１の液
晶パネルの吸着ステージを駆動するための空圧回路図、
図５は図１に示す液晶パネルの吸着ステージの使用状態
を示す側面図であり、図１，図２，図３において、１は
吸着ステージ本体、２は吸着ステージ本体１の液晶パネ
ルの吸着面、３は前記液晶パネルの吸着面２上に、一定
の間隔を保って複数本並列に、吸着ステージ本体１の厚
み方向に向かって勾配を形成しながら掘り下げられた直
線状の凹形溝、４は前記凹形溝３の底面に形成された吸
着ステージ本体１を貫通する貫通穴、５は吸着ステージ
本体１を駆動軸に取り付けられたベース６に結合させる
ために吸着ステージ本体１に形成されたボルト取り付け
穴、７は前記吸着ステージ本体１の吸着面２上の周辺部
および前記複数本の凹形溝３の間隔の部分等、凹形溝３
の設けられていない吸着面２上の部分に閉ループ状に形
成された複数本の液晶パネルの真空吸着溝、８は前記真
空吸着溝７に真空圧を与えるために真空吸着溝７の底部
に接続し、吸着ステージ本体１の内部を走行する真空吸
着管である。なお、図１における矢印Ｄは吸着ステージ
本体１の進行方向を示す。
参照して説明する。 （実施の形態）図１は本発明の実施の形態における液晶
パネルの吸着ステージの上面図、図２は図１のＡ−Ｂ線
断面図、図３は図２の一部拡大断面図、図４は図１の液
晶パネルの吸着ステージを駆動するための空圧回路図、
図５は図１に示す液晶パネルの吸着ステージの使用状態
を示す側面図であり、図１，図２，図３において、１は
吸着ステージ本体、２は吸着ステージ本体１の液晶パネ
ルの吸着面、３は前記液晶パネルの吸着面２上に、一定
の間隔を保って複数本並列に、吸着ステージ本体１の厚
み方向に向かって勾配を形成しながら掘り下げられた直
線状の凹形溝、４は前記凹形溝３の底面に形成された吸
着ステージ本体１を貫通する貫通穴、５は吸着ステージ
本体１を駆動軸に取り付けられたベース６に結合させる
ために吸着ステージ本体１に形成されたボルト取り付け
穴、７は前記吸着ステージ本体１の吸着面２上の周辺部
および前記複数本の凹形溝３の間隔の部分等、凹形溝３
の設けられていない吸着面２上の部分に閉ループ状に形
成された複数本の液晶パネルの真空吸着溝、８は前記真
空吸着溝７に真空圧を与えるために真空吸着溝７の底部
に接続し、吸着ステージ本体１の内部を走行する真空吸
着管である。なお、図１における矢印Ｄは吸着ステージ
本体１の進行方向を示す。
【００１２】図４において、９は前記真空吸着溝７の底
部に接続した真空吸着管８にエアーホースを接続する接
続管、１０は吸着ステージ本体１の吸着面２に吸着固定
された液晶パネルに注がれた研削加工水の真空吸着管８
から侵入してきた分を排水するための手動式排水器付き
フィルタ、１１は吸着ステージ本体１の吸着面２に吸着
固定された液晶パネルの真空圧力の設定を行なう圧力ス
イッチ、１２ａ〜１２ｄは空気圧の流れを２方向に切り
替える２方向電磁制御弁、１３は液晶パネルを真空吸着
に利用している３方向２位置電磁制御弁、１４はチェッ
ク弁付き流量制御弁、１５は流れる空気を清浄するミス
トセパレータ、１６は圧力計付き圧力調整器である。
部に接続した真空吸着管８にエアーホースを接続する接
続管、１０は吸着ステージ本体１の吸着面２に吸着固定
された液晶パネルに注がれた研削加工水の真空吸着管８
から侵入してきた分を排水するための手動式排水器付き
フィルタ、１１は吸着ステージ本体１の吸着面２に吸着
固定された液晶パネルの真空圧力の設定を行なう圧力ス
イッチ、１２ａ〜１２ｄは空気圧の流れを２方向に切り
替える２方向電磁制御弁、１３は液晶パネルを真空吸着
に利用している３方向２位置電磁制御弁、１４はチェッ
ク弁付き流量制御弁、１５は流れる空気を清浄するミス
トセパレータ、１６は圧力計付き圧力調整器である。
【００１３】図５において、１７は前記吸着ステージ本
体１の進行方向Ｄにおいて、液晶パネルの吸着面２から
任意の間隔を隔てて、吸着面２上に位置する所定の高さ
に設けられ、前後方向と左右方向共に角度が±１〜９０
度の範囲に可動できる気体噴射ノズルである。
体１の進行方向Ｄにおいて、液晶パネルの吸着面２から
任意の間隔を隔てて、吸着面２上に位置する所定の高さ
に設けられ、前後方向と左右方向共に角度が±１〜９０
度の範囲に可動できる気体噴射ノズルである。
【００１４】以下、本実施の形態における液晶パネルの
吸着ステージの動作を説明する。まず、液晶パネルが搬
送ロボットにて吸着ステージ本体１の吸着面２に載置さ
れた後、２方向電磁制御弁１２ａ，１２ｂは常閉から常
開に作動する。２方向電磁制御弁１２ｂが常開になると
高圧空気が吸着空圧回路に供給され始める。供給された
空気圧はチェック弁付き流量制御弁１４により任意に設
定された流量に調整され、３方向２位置電磁制御弁１３
から手動式排水器付きフィルタ１０を経て、常開状態の
２方向電磁制御弁１２ａにより流れを方向制御され、外
部へ排気される。このときに、液晶パネルが載置されて
閉ざされた空気室となった真空吸着溝７の空気は、圧力
差により手動式排水器付きフィルタ１０を通る空気の流
れに引っ張られる作用を受け、真空吸着管８を介して外
部へ排気され、圧力スイッチ１１の設定値に到達するま
でそれらの動作が続けられる。圧力スイッチ１１が設定
値に到達後、２方向電磁制御弁１２ａ，１２ｂが常閉状
態に切り替わり、高圧空気の供給と排気が停止して本空
圧回路は閉回路となり、液晶パネルの真空吸着を保持す
る。研削加工の仕事を終え、完了信号を受け取り後、２
方向電磁制御弁１２ａが常開状態に切り替わり、真空吸
着溝７は大気圧に戻るので液晶パネルの真空吸着は開放
される。さらに、２方向電磁制御弁１２ｃが常開状態に
切り替わり、真空吸着管８を介して真空吸着溝７から液
晶パネルに向けてエアーブローされ搬送アームによって
液晶パネルは吸着面２から剥離、取り出される。
吸着ステージの動作を説明する。まず、液晶パネルが搬
送ロボットにて吸着ステージ本体１の吸着面２に載置さ
れた後、２方向電磁制御弁１２ａ，１２ｂは常閉から常
開に作動する。２方向電磁制御弁１２ｂが常開になると
高圧空気が吸着空圧回路に供給され始める。供給された
空気圧はチェック弁付き流量制御弁１４により任意に設
定された流量に調整され、３方向２位置電磁制御弁１３
から手動式排水器付きフィルタ１０を経て、常開状態の
２方向電磁制御弁１２ａにより流れを方向制御され、外
部へ排気される。このときに、液晶パネルが載置されて
閉ざされた空気室となった真空吸着溝７の空気は、圧力
差により手動式排水器付きフィルタ１０を通る空気の流
れに引っ張られる作用を受け、真空吸着管８を介して外
部へ排気され、圧力スイッチ１１の設定値に到達するま
でそれらの動作が続けられる。圧力スイッチ１１が設定
値に到達後、２方向電磁制御弁１２ａ，１２ｂが常閉状
態に切り替わり、高圧空気の供給と排気が停止して本空
圧回路は閉回路となり、液晶パネルの真空吸着を保持す
る。研削加工の仕事を終え、完了信号を受け取り後、２
方向電磁制御弁１２ａが常開状態に切り替わり、真空吸
着溝７は大気圧に戻るので液晶パネルの真空吸着は開放
される。さらに、２方向電磁制御弁１２ｃが常開状態に
切り替わり、真空吸着管８を介して真空吸着溝７から液
晶パネルに向けてエアーブローされ搬送アームによって
液晶パネルは吸着面２から剥離、取り出される。
【００１５】吸着ステージ本体１は、搬送アームから液
晶パネル取り出し完了の信号を受けとると、２方向電磁
制御弁１２ｄが常開状態に切り替わり、チェック弁付き
流量制御弁１４で任意に設定された流量の空気圧が、気
体噴射ノズル１７から吹き出されると同時に吸着ステー
ジ本体１は矢印Ｄ方向に進行し始め、気体噴射ノズル１
７の下を通過する。吸着ステージ本体１の吸着面２上に
残った研削加工水は、気体噴射ノズル１７から吹き出さ
れる空気圧により凹形溝３内に流れ込み、貫通穴４に案
内され外部へ排水する。吸着面２の表面はそのまま水切
りされる。
晶パネル取り出し完了の信号を受けとると、２方向電磁
制御弁１２ｄが常開状態に切り替わり、チェック弁付き
流量制御弁１４で任意に設定された流量の空気圧が、気
体噴射ノズル１７から吹き出されると同時に吸着ステー
ジ本体１は矢印Ｄ方向に進行し始め、気体噴射ノズル１
７の下を通過する。吸着ステージ本体１の吸着面２上に
残った研削加工水は、気体噴射ノズル１７から吹き出さ
れる空気圧により凹形溝３内に流れ込み、貫通穴４に案
内され外部へ排水する。吸着面２の表面はそのまま水切
りされる。
【００１６】以上のように、液晶パネルは吸着ステージ
本体１の吸着面２から剥離、取り出され、吸着面２にお
ける研削加工水が排水されるが、まず、液晶パネルを吸
着ステージ本体１の吸着面２から取り出す際の液晶パネ
ルの静電破壊に関する問題を本実施の形態により如何に
解決したかを説明する。
本体１の吸着面２から剥離、取り出され、吸着面２にお
ける研削加工水が排水されるが、まず、液晶パネルを吸
着ステージ本体１の吸着面２から取り出す際の液晶パネ
ルの静電破壊に関する問題を本実施の形態により如何に
解決したかを説明する。
【００１７】一般に静電気は、物体上で正電荷および負
電荷の電気的中性の状態が破れることによって生じる過
剰電荷で発生し、その発生機構は接触分離による発生、
流体の流動による発生、破壊による発生、静電誘導によ
る発生等があるが、本吸着ステージの場合は液晶パネル
と吸着ステージ本体１との接触剥離によって発生する静
電気の問題である。この静電気の帯電量の大きさを決め
る要因は接触面積，圧力，摩擦頻度，速度，温度差等と
云われている。発生した静電気は気中放電または導電に
よって静電気量は緩和される。液晶パネルの静電破壊は
一般的には放電電流が流れるときに生じる熱で、ＴＦＴ
の酸化絶縁膜，金属電極，容量部等が溶融破壊されるこ
とである。
電荷の電気的中性の状態が破れることによって生じる過
剰電荷で発生し、その発生機構は接触分離による発生、
流体の流動による発生、破壊による発生、静電誘導によ
る発生等があるが、本吸着ステージの場合は液晶パネル
と吸着ステージ本体１との接触剥離によって発生する静
電気の問題である。この静電気の帯電量の大きさを決め
る要因は接触面積，圧力，摩擦頻度，速度，温度差等と
云われている。発生した静電気は気中放電または導電に
よって静電気量は緩和される。液晶パネルの静電破壊は
一般的には放電電流が流れるときに生じる熱で、ＴＦＴ
の酸化絶縁膜，金属電極，容量部等が溶融破壊されるこ
とである。
【００１８】従って、液晶パネルの剥離帯電を減少させ
るには、液晶パネルと吸着ステージ本体１との接触面積
を小さくすることが最も効果的である。
るには、液晶パネルと吸着ステージ本体１との接触面積
を小さくすることが最も効果的である。
【００１９】本実施の形態においては、液晶パネルの吸
着面２に凹形溝３を複数列形成し、前記凹形溝３の形成
されていない吸着面２上の部分に液晶パネルの真空吸着
溝７を形成することにより、液晶パネルと吸着ステージ
本体１の吸着面２との接触面積が減り、液晶パネルと吸
着ステージ本体１の接触剥離によって発生する静電気も
減り、液晶パネルを吸着ステージ本体１の吸着面２から
取り出す際の静電破壊が防止できる。
着面２に凹形溝３を複数列形成し、前記凹形溝３の形成
されていない吸着面２上の部分に液晶パネルの真空吸着
溝７を形成することにより、液晶パネルと吸着ステージ
本体１の吸着面２との接触面積が減り、液晶パネルと吸
着ステージ本体１の接触剥離によって発生する静電気も
減り、液晶パネルを吸着ステージ本体１の吸着面２から
取り出す際の静電破壊が防止できる。
【００２０】次に、吸着ステージ本体１に吸着固定した
液晶パネルの研削加工水により吸着ステージ本体１の吸
着面２が吸着不良を起こすという問題を本実施の形態に
より如何に解決したかを説明する。
液晶パネルの研削加工水により吸着ステージ本体１の吸
着面２が吸着不良を起こすという問題を本実施の形態に
より如何に解決したかを説明する。
【００２１】吸着ステージ本体１の吸着面２が研削加工
水で覆われた際に、真空吸着溝７に研削加工水が侵入し
てゆき、真空吸着溝７あるいはそれに接続された真空圧
を印加するエアーホース内に研削加工水が詰まることで
導通の妨げを起こし、真空吸引が弱まり吸着不良とな
る。
水で覆われた際に、真空吸着溝７に研削加工水が侵入し
てゆき、真空吸着溝７あるいはそれに接続された真空圧
を印加するエアーホース内に研削加工水が詰まることで
導通の妨げを起こし、真空吸引が弱まり吸着不良とな
る。
【００２２】本実施の形態においては、液晶パネルの吸
着面２に複数本並列に配置された凹形溝３の側面に形成
された勾配に沿って、凹形溝３の底面に研削加工水が流
れ込む。流れ込んだ研削加工水は凹形溝３の底面に設け
られた複数個の貫通穴４から吸着ステージ本体１外に自
然排水される。また、吸着ステージ本体１から液晶パネ
ルを搬出後、液晶パネルが載置されていない空の状態の
吸着ステージ本体１を、吸着ステージ本体１上に配置さ
れた気体噴射ノズル１７の下を低速度で進行させ、気体
噴射ノズル１７から垂下に進行してくる吸着ステージ本
体１の吸着面２に向けて、吸着ステージ本体１とは相反
する方向で気体を高速に流出させ、吸着ステージ本体１
が通過するまで吹き付け、吸着面２の表面を覆う若干の
研削加工水残水を吸着面２から吹き飛ばすので、吸着面
２には研削加工水が残らない。
着面２に複数本並列に配置された凹形溝３の側面に形成
された勾配に沿って、凹形溝３の底面に研削加工水が流
れ込む。流れ込んだ研削加工水は凹形溝３の底面に設け
られた複数個の貫通穴４から吸着ステージ本体１外に自
然排水される。また、吸着ステージ本体１から液晶パネ
ルを搬出後、液晶パネルが載置されていない空の状態の
吸着ステージ本体１を、吸着ステージ本体１上に配置さ
れた気体噴射ノズル１７の下を低速度で進行させ、気体
噴射ノズル１７から垂下に進行してくる吸着ステージ本
体１の吸着面２に向けて、吸着ステージ本体１とは相反
する方向で気体を高速に流出させ、吸着ステージ本体１
が通過するまで吹き付け、吸着面２の表面を覆う若干の
研削加工水残水を吸着面２から吹き飛ばすので、吸着面
２には研削加工水が残らない。
【００２３】
【発明の効果】以上のように本発明の液晶パネルの吸着
ステージによれば、吸着ステージの吸着面に、吸着ステ
ージの厚み方向に向かって掘り下げられた凹形溝を複数
並列に形成させたことで、液晶パネルと吸着ステージの
吸着面の接触面積を小さくでき、接触剥離による静電破
壊を防止できると共に、前記凹形溝の底面に設けた貫通
穴により研削加工等で使用される研削加工水を外部まで
排水案内することができ、さらに、気体噴射ノズルとの
併用によって研削加工水の吸着面残水の影響による液晶
パネル吸着不良の防止ができ、優れた液晶パネル吸着保
持を実現できるものである。
ステージによれば、吸着ステージの吸着面に、吸着ステ
ージの厚み方向に向かって掘り下げられた凹形溝を複数
並列に形成させたことで、液晶パネルと吸着ステージの
吸着面の接触面積を小さくでき、接触剥離による静電破
壊を防止できると共に、前記凹形溝の底面に設けた貫通
穴により研削加工等で使用される研削加工水を外部まで
排水案内することができ、さらに、気体噴射ノズルとの
併用によって研削加工水の吸着面残水の影響による液晶
パネル吸着不良の防止ができ、優れた液晶パネル吸着保
持を実現できるものである。
【図１】本発明の実施の形態における液晶パネルの吸着
ステージの上面図
ステージの上面図
【図２】図１のＡ−Ｂ線断面図
【図３】図２の一部拡大断面図
【図４】図１の液晶パネルの吸着ステージを駆動するた
めの空圧回路図
めの空圧回路図
【図５】図１に示す液晶パネルの吸着ステージの使用状
態を示す側面図
態を示す側面図
１ 吸着ステージ本体 ２ 吸着面 ３ 凹形溝 ４ 貫通穴 ５ ボルト取り付け穴 ６ ベース ７ 真空吸着溝 ８ 真空吸着管 ９ 接続管 １０ 手動式排水器付きフィルタ １１ 圧力スイッチ １２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ ２方向電磁制御弁 １３ ３方向２位置電磁制御弁 １４ チェック弁付き流量制御弁 １５ ミストセパレータ １６ 圧力計付き圧力調整器 １７ 気体噴射ノズル
Claims (3)
- 【請求項１】 液晶パネルの吸着面に、吸着ステージの
厚み方向に向かって掘り下げられ、その底面に吸着ステ
ージを貫通する貫通穴を設けた凹形溝を複数列形成し、
前記凹形溝の形成されていない吸着面上の部分に液晶パ
ネルの真空吸着孔を形成した液晶パネルの吸着ステー
ジ。 - 【請求項２】 凹形溝が、直線状に複数本並列に勾配を
形成しながら掘り下げられた凹形溝であり、真空吸着孔
が、吸着面の周辺部および複数本並列に形成された凹形
溝と凹形溝との間隔に設けられた真空吸着溝である請求
項１に記載の液晶パネルと吸着ステージ。 - 【請求項３】 吸着ステージの進行方向であって、液晶
パネルの吸着面から任意の間隔を保有し、吸着面上に位
置する所定の高さに設けられ、前後方向と左右方向共に
角度が±１〜９０度の範囲に可動できる気体噴射ノズル
を備えた請求項１に記載の液晶パネルの吸着ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2434499A JP2000221479A (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | 液晶パネルの吸着ステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2434499A JP2000221479A (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | 液晶パネルの吸着ステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000221479A true JP2000221479A (ja) | 2000-08-11 |
Family
ID=12135583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2434499A Pending JP2000221479A (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | 液晶パネルの吸着ステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000221479A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002079483A (ja) | 2000-09-06 | 2002-03-19 | Koganei Corp | 吸着搬送装置 |
| JP2008076187A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Oht Inc | 回路パターン検査装置 |
| CN100439991C (zh) * | 2005-09-27 | 2008-12-03 | 塔工程有限公司 | 用于分配器工作台的玻璃附着结构 |
| JP2017168613A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 信越半導体株式会社 | 熱処理装置 |
| JP2018034299A (ja) * | 2017-11-22 | 2018-03-08 | ローム株式会社 | 吸引保持装置およびウエハ研磨装置 |
-
1999
- 1999-02-01 JP JP2434499A patent/JP2000221479A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002079483A (ja) | 2000-09-06 | 2002-03-19 | Koganei Corp | 吸着搬送装置 |
| CN100439991C (zh) * | 2005-09-27 | 2008-12-03 | 塔工程有限公司 | 用于分配器工作台的玻璃附着结构 |
| JP2008076187A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Oht Inc | 回路パターン検査装置 |
| JP4634353B2 (ja) * | 2006-09-20 | 2011-02-16 | オー・エイチ・ティー株式会社 | 回路パターン検査装置 |
| JP2017168613A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 信越半導体株式会社 | 熱処理装置 |
| JP2018034299A (ja) * | 2017-11-22 | 2018-03-08 | ローム株式会社 | 吸引保持装置およびウエハ研磨装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20041119 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050221 |