JP2000221123A - 排気ガスサンプリング方法 - Google Patents

排気ガスサンプリング方法

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JP2000221123A
JP2000221123A JP11023422A JP2342299A JP2000221123A JP 2000221123 A JP2000221123 A JP 2000221123A JP 11023422 A JP11023422 A JP 11023422A JP 2342299 A JP2342299 A JP 2342299A JP 2000221123 A JP2000221123 A JP 2000221123A
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cvs
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Noriyuki Hanashiro
規之 花城
Junji Shibata
淳史 柴田
Shigeru Yanagihara
茂 柳原
Hideta Yamawaki
秀太 山脇
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Honda Motor Co Ltd
Tsukasa Sokken KK
Original Assignee
Honda Motor Co Ltd
Tsukasa Sokken KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 排気ガス成分の分析精度を高める。 【解決手段】 走行パターンまたは排出ガス流量に対応
してCVS流量を例えば毎分0.6,1.0,1.8,
2.4立方メートルの4段階に変更する。CVS流量の
変更に伴って希釈ガスのサンプリング流量を例えば毎分
3,5,9,12リットルの4段階に変更する。CVS
流量が排気ガス流量を越えないように、また、サンプリ
ングバッグ内の露点を平順化するように測定モードのフ
ェーズ内でCVS流量を変化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、自動車等の排気ガ
スをCVS(定容量希釈サンプリング装置)を用いて希
釈し、希釈ガスをサンプリングバッグに採取した後に、
希釈ガスの成分を分析するようにした排気ガスサンプリ
ング方法に係り、詳しくは、評価試験用の走行モードパ
ターンに対応してCVS流量を変化させることで、希釈
ガスの結露を防止しながら低希釈率の希釈ガスをサンプ
リングバッグに採取できるようにした排気ガスサンプリ
ング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】特開昭54−127388号公報には、
排気ガスの成分測定に関して次のことが記載されてい
る。排気ガスの成分測定は、一般に定容量希釈サンプリ
ング装置(CVS)により、一定時間内にバッグに採取
された排気ガス中の成分ガス濃度を測定することによっ
て実施されている。バッグに採取された排気ガス中の成
分ガス濃度を測定する方法は、成分ガス濃度が採取ガス
全体の平均濃度として得られ、瞬時測定を行なう方法と
して、希釈ガスの連続測定法が知られている。希釈ガス
の連続測定法とは、空気で希釈された排気ガスを連続的
にサンプリングして、このサンプリングガス中の特定成
分ガス濃度を連続測定器で測定し、測定された濃度とサ
ンプル流量との演算により、成分ガスの瞬時重量を算出
する方法であるが、これによる場合は、自動車の運転状
態(特にアイドリング時)によっては、希釈率が数10
分の1になり、サンプルガス濃度が非常に低くなるた
め、濃度測定用分析計として高感度のものが要求され
る。しかも、サンプルガスが低濃度になるため、希釈に
用いる空気中に存在する測定対象成分の濃度変化による
誤差等により高精度の測定が困難である。
【0003】特開平4−268440号公報には、自動
車のエンジンから排出される排ガスを希釈用ガスによっ
て、常に一定、かつ、結露が生じない比率で希釈し、こ
の希釈された排ガスをサンプルガスとして分析部に供給
するようにした自動車排ガス用分析装置が記載されてい
る。特開平4−268440号公報の従来技術の欄に
は、排ガス中の含まれる成分を定量分析するには、自動
車を10モード、LA−4C/Hモードなどの運転モー
ドに従ってシャシダイナモによって運転し、そのときの
排ガスをCVS(Constant Volume S
ampler)を用いてサンプルガスとして採取し、こ
れを、例えば、FTIR(フーリエ変換赤外分光計)の
分析部に供給するようにしていることが記載されてい
る。
【0004】また、特開平4−268440号公報の従
来技術の欄に、希釈された排ガスの希釈ガス採取用バッ
グに採取しておき、希釈ガス採取用バッグに採取した希
釈ガスを分析部へ供給して分析することで、希釈ガスの
ある期間における成分およびその濃度の平均値を得るこ
とができることが記載されている。更に、希釈用の空気
を空気採取用バッグに採取しておき、採取した空気を予
め分析してバックグランド分を測定しておけば、より正
確な分析結果が得られることが記載されている。
【0005】更に、特開平4−268440号公報の発
明が解決しようとする課題の欄に、排ガスは、ガソリン
など炭素や水素を含む有機化合物を燃焼させて得られた
ものであるため、排ガス中には水蒸気が含まれており、
この水蒸気が結露したときの水分中に水溶性のガス成分
が溶け、そのガス成分が低下する、このような事態を防
ぐ手段として、(1)排ガスの温度が低下しないよう
に、希釈用トンネルやガス流路などの温度を一定以上に
保持することや、(2)希釈用空気などによる排ガスの
希釈比率(倍率)を上げて、露点を高めることが考えら
れることが記載されている。
【0006】特開平8−226879号公報には、排ガ
ス源から排出される排ガスを希釈し、この希釈されたガ
スを定容量採取装置によって吸引するとともに、定容量
採取装置から分岐したガスサンプリング流路に吸引ポン
プおよび流量制御装置を介してサンプルバッグを設けた
ガスサンプリング装置において、サンプルバッグに至る
までのガスサンプリング流路をそれを通過するガスが凝
縮しない程度に加熱する構成にすることで、排ガスを最
低限希釈して採取しながらも排ガス中に含まれる成分を
精度よく測定できるようにしたガスサンプリング装置が
記載されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】サンプリングバッグに
希釈ガスを採取し、採取した希釈ガスの成分を分析する
排気ガスサンプリング方法では、希釈ガスが結露しない
ように希釈率を設定する必要がある。CVS流量を大き
くすることで(希釈率をより高い値にすることで)、希
釈ガスの結露を防止できる。しかし、希釈率を高くする
と外気中に含まれるCO,HC,NOx等の影響が大き
くなり、正確な分析データが得られにくくなる。
【0008】そこで、走行モード内の各フェーズで排気
ガスの排出量が異なることに着目し、各フェーズ毎にC
VS流量を異ならしめることで希釈率を低くし、より正
確な分析データを得るようにしている。
【0009】図10および図11はフェーズ別にCVS
流量を変えた場合の測定結果を示すグラフであり、図1
0はLA4モード中の排気ガス流量とCVS流量との関
係を、図11はサンプリングバッグ内の露点を示す。L
A4モードは、測定開始から505秒までのCTフェー
ズと、505秒から1374秒までのCSフェーズと、
600秒の休止後505秒のHTフェーズとからなり
(ただしHTフェーズはCTフェーズとほぼ同等であり
図3、図7、図8、図10、図11、図12、図13で
は省略している)、時間の経過に対応して加速,定速,
減速等の走行パターン(自動車の速度パターン)が設定
されている。図10,図11において、走行パターン
は、シャシダイナモ装置上でテスト走行される自動車の
車速を示している。図10において、排気ガス流量は、
シャシダイナモ装置上でテスト走行される自動車の排気
ガスの流量測定値を示している。図10に示した試験条
件では、CTフェーズのCVS流量を毎分2.4立方メ
ートル、CSフェーズのCVS流量を毎分1.6立方メ
ートルに設定している。サンプリングバッグは40℃に
加温している。
【0010】このような条件で例えばガソリン車の場
合、CVSによって希釈した排気ガス(希釈ガス)の一
部をサンプリングバッグに採取した際のサンプリングバ
ッグ内の露点の変化を図11に示している。CVS流量
を毎分2.4立方メートルとしたCTフェーズでは、バ
ッグ内露点のピークは34.6℃(希釈率3.34倍)
となっているが、CTフェーズ最終のバッグ内露点は3
2.6℃(希釈率3.95倍)まで下がってしまう。同
様に、CVS流量を毎分1.6立方メートルとしたCS
フェーズでは、バッグ内露点のピークは36.0℃(希
釈率2.99倍)となっているが、CSフェーズ最終の
バッグ内露点は31.5℃(希釈率4.34倍)まで下
がってしまう。
【0011】上述の測定条件ではサンプリングバッグを
40℃に加温しているので、サンプリングバッグ(BA
G)内の露点が40℃を越えないかぎり結露することは
ない。図11に示したバッグ内露点の測定結果では、4
0℃に対してまだ余裕があるので、CVS流量を小さな
値に変更して(希釈率を下げて)、排気ガス濃度がより
濃い希釈ガスをサンプリングバッグに採取することが考
えられる。
【0012】図12および図13はCVS流量を図1
0,図11に示した条件よりも低下させた場合の測定結
果を示すグラフであり、図12はLA4モード中の排気
ガス流量とCVS流量との関係を、図13はサンプリン
グバッグ内の露点を示す。図12に示すように、CTフ
ェーズでのCVS流量を毎分1.84立方メートル、C
Sフェーズでの流量を毎分1.35立方メートルとした
場合、図13に示すように、バッグ内露点ピークはC
T,CSフェーズ共に38℃となり、バッグ内最終露点
はCTフェーズで35.8℃,CSフェーズで33.3
℃となり、サンプリングバッグの加温温度に近づけるこ
とができる。しかしながら、図12に示すように、CT
フェーズでのCVS流量を毎分1.84立方メートル、
CSフェーズでの流量を毎分1.35立方メートルに設
定した場合、排ガス流量がCVS流量を越えてしまうと
ころが出てくるため、正常な測定ができなくなってしま
う。
【0013】この発明はこのような課題を解決するため
なされたもので、排出ガス評価試験用の走行モードパタ
ーンに対応してCVS流量を変化させることで、希釈ガ
スの結露を防止しながら低希釈率の希釈ガスをサンプリ
ングバッグに採取し、かつ、バッグ内露点ピークならび
にバック内最終露点をバッグ周辺温度に近づけるように
して、サンプリングバッグ内に希釈率の低い希釈ガス
(排気ガス濃度の濃い状態の希釈ガス)を採取し、排気
ガス成分の分析精度を高めることのできる排気ガスサン
プリング方法を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
本発明に係る排気ガスサンプリング方法は、少なくとも
サンプリングバッグ内最終露点を所定温度以内、且つ、
所定温度に近づけるように、測定モードのフェーズ内で
CVS流量を変化させた。
【0015】なお、サンプリングバッグ内の露点を平順
化するように測定モードのフェーズ内でCVS流量を変
化させることが望ましい。また、測定中に少なくともC
VS流量が排気ガス流量を越えないように測定モードの
フェーズ内でCVS流量を変化させる。
【0016】この発明に係る排気ガスサンプリング方法
を適用することで、バッグ内露点ピークとバッグ内最終
露点との差を小さくできるとともに、最終露点をバッグ
保温温度に近づけることができる。よって、バッグ内最
終露点の希釈率を低くすることができ、分析精度を向上
させることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。図1はこの発明に係る排気ガ
スサンプリング方法を適用した定容量希釈サンプリング
装置(CVS装置)の構成図である。
【0018】図1に示す定容量希釈サンプリング装置
(CVS装置50)は、排気ガスと外気とを混合した得
た希釈ガスの成分をリアルタイムで連続分析した排気ガ
スの成分を分析したり、希釈ガスを試料採取バッグ(サ
ンプリングバッグ)に採取した後に採取した希釈ガスの
成分を分析することができる。
【0019】図示しないシャシダイナモ装置等に載置さ
れた自動車等からの排気ガスは図示しないフレキシブル
パイプ等を介して排気ガス取入部51へ供給される。排
気ガスは、外気取入部52から取り込まれフィルタ部5
3で清浄化された外気と混合されて希釈ガスとなり、こ
の希釈ガスは、サイクロン部54でダスト,ミスト等の
除去・分離がなされた後に、可変流量型の定流量発生器
(VCVF)10へ供給される。定流量発生器(VCV
F)10の後段には定容量ブロワー55が接続される。
定容量ブロワー55は、吐き出し能力が定流量発生器
(VCVF)10の最大定流量値よりも充分に大きなも
のを用いている。定容量ブロワー55に吐き出し能力が
充分大きなものを用いることで、定流量発生器(VCV
F)10によって希釈ガスの流量が設定できるようにし
ている。定容量ブロワー55から吐き出された希釈ガス
は大気中に放出、または、図示しない清浄化装置等を介
して大気中に放出される。
【0020】排気ガス取入部51よりも上流側には、外
気の流量を検出するための外気流量計56ならびに外気
サンプルを採取するための外気採取用ベンチュリー57
を設けている。外気流量計56の流量検出出力(図示し
ない)は、制御装置90へ供給される。外気採取用ベン
チュリー57で採取された外気は、フィルタ部58を介
して外気採取用のポンプ59へ供給される。フィルタ部
58は、ポンプ59へ異物等が吸入されるのを阻止する
ためのものである。ポンプ59の出力側は外気採取流量
計60を介して各電磁弁61,62,63の一端側へ供
給される。各電磁弁61,62,63の他端側は、各外
気採取バッグ(サンプリングバッグ)64,65,66
へそれぞれ接続される。ポンプ59の能力は、外気採取
用ベンチュリー57の流量よりも大きいものを用いてい
る。
【0021】したがって、外気採取用のポンプ59を運
転している状態で第1の電磁弁61を開状態にすること
で、第1の外気採取バッグ64に外気を採取することが
できる。同様に、第2の電磁弁62を開状態にすること
で第2の外気採取バッグ65に、第3の電磁弁63を開
状態にすることで第3の外気採取バッグ66に外気を採
取することができる。外気採取流量計60の流量検出出
力(図示しない)は、制御装置90へ供給される。制御
装置90は、外気採取流量計60の流量検出出力に基づ
いて流量積算を行なうことで、外気採取バッグに対する
外気採取量を調整する。なお、制御装置90は、図示し
ない電磁弁開閉制御信号線を介して各電磁弁61〜63
の開閉を制御することで、外気採取バッグの選択ならび
に外気採取量の調整を行なう。
【0022】定流量発生器10の上流側に熱交換器67
を介設して希釈ガスの温度が所定温度範囲になるよう加
熱・冷却を行なうようにしてもよい。希釈ガスの温度を
管理することで、希釈ガス中の水分の結露を防止するこ
とができる。また、希釈ガスの温度変動が緩和されるた
めに流量制御が安定になり、測定精度を向上させること
ができる。
【0023】定流量発生器10の入口側に設けた試料採
取管2、ならびに、この試料採取管2に接続された試料
採取用可変ベンチュリー3を介して採取された希釈ガス
は、連続ガス分析用電磁弁68の一端側、ならびに、希
釈ガス採取用電磁弁69の一端側へ供給される。連続ガ
ス分析用電磁弁68が開状態に制御されると、試料採取
用可変ベンチュリー3を介して採取された希釈ガスは連
続ガス分析装置70へ供給される。これにより、連続ガ
ス分析が行なわれる。
【0024】希釈ガス採取用電磁弁69が開状態に制御
されると、試料採取用可変ベンチュリー3を介して採取
された希釈ガスは、フィルタ部71を介して希釈ガス採
取用のポンプ72へ供給される。ポンプ72の出力側は
希釈ガス採取流量計73を介して各電磁弁74,75,
76の一端側へ供給される。各電磁弁74,75,76
の他端側は、各希釈ガス採取バッグ(サンプリングバッ
グ)77,78,79へそれぞれ接続される。ポンプ7
2の能力は、試料採取用可変ベンチュリー3の最大流量
よりも大きいものを用いている。
【0025】したがって、希釈ガス採取用電磁弁69が
開状態であって、かつ、試料採取用のポンプ72を運転
している状態で、第1の電磁弁74を開状態にすること
で第1の希釈ガス採取バッグ77に希釈ガスを採取する
ことができる。同様に、第1の電磁弁75を開状態にす
ることで第1の希釈ガス採取バッグ78に、第3の電磁
弁76を開状態にすることで第3の希釈ガス採取バッグ
79に希釈ガスを採取することができる。希釈ガス採取
流量計73の流量検出出力(図示しない)は、制御装置
90へ供給される。制御装置90は、希釈ガス採取流量
計73の流量検出出力に基づいて流量積算を行なうこと
で、試料採取バッグに対する試料採取量を調整する。な
お、制御装置90は、図示しない電磁弁開閉制御信号線
を介して各電磁弁74〜76の開閉を制御することで、
試料採取バッグの選択ならびに試料採取量の調整を行な
う。
【0026】電磁弁80ならびに採取ガス分析用電磁弁
86を開状態にすることで、第1の外気採取バッグ64
に採取した外気を採取ガス分析装置87へ供給して、第
1の外気採取バッグ64に採取した外気の成分を分析さ
せることができる。なお、採取ガス分析装置87は、ポ
ンプ(図示しない)を備えており、バッグ内の外気や試
料(希釈ガス)を吸引して成分分析部(図示しない)へ
供給する。成分分析がなされた外気や試料(希釈ガス)
は、大気中に放出、または、図示しない清浄化装置等を
介して大気中に放出される。
【0027】同様に、電磁弁81ならびに採取ガス分析
用電磁弁86を開状態にすることで、第1の外気採取バ
ッグ65に採取した外気を採取ガス分析装置87へ供給
し、電磁弁82ならびに採取ガス分析用電磁弁86を開
状態にすることで、第2の外気採取バッグ66に採取し
た外気を採取ガス分析装置87へ供給することができ
る。また、電磁弁83ならびに採取ガス分析用電磁弁8
6を開状態にすることで、第1の希釈ガス採取バッグ7
7に採取した希釈ガス(試料)を採取ガス分析装置87
へ供給することができる。同様に、電磁弁84ならびに
採取ガス分析用電磁弁86を開状態にすることで第2の
希釈ガス採取バッグ78に採取した希釈ガス(試料)
を、電磁弁85ならびに採取ガス分析用電磁弁86を開
状態にすることで第3の希釈ガス採取バッグ79に採取
した希釈ガス(試料)を採取ガス分析装置87へ供給す
ることができる。
【0028】本実施の形態では、各希釈ガス採取バッグ
(サンプリングバッグ)77〜78を図示しないヒータ
等で加熱したり、図示しない恒温槽等の内部に各希釈ガ
ス採取バッグ(サンプリングバッグ)77〜78を設け
る等して、各希釈ガス採取バッグ(サンプリングバッ
グ)77〜78の周囲温度が40℃になるようにしてい
る。
【0029】また、バッグ洗浄用電磁弁88ならびに電
磁弁80を開にした状態で可逆ポンプ89を運転して、
バッグ洗浄用の大気または洗浄用ガスを第1の外気採取
バッグ64内に供給した後に、第1の外気採取バッグ6
4内のバッグ洗浄用の大気または洗浄用ガスを外部へ放
出する処理を繰り返すことで、第1の外気採取バッグ6
4内を洗浄することができる。各バッグ64〜67,7
7〜79に対して同様な処理をそれぞれ施すことで、各
バッグ64〜67,77〜79を洗浄できる。
【0030】制御装置90は、この定流量希釈サンプリ
ング装置50の全体動作を制御するためのもので、コン
ピュータシステムを利用して構成している。制御装置9
0は、図示しない出力インターフェース部を介して各電
磁弁の開閉状態、各ポンプ,ブロワー等の運転を制御す
る。また、制御装置90は、図示しないエンジン自動運
転制御装置等から供給される運転情報に基づいて、図示
しないシャシダイナモ上に載置された自動車等のエンジ
ンの運転状態、すなわち、自動車等の走行モードを認識
する。そして、制御装置90は、自動車等の走行モード
に対応して可変ベンチュリー1の流量を変更(希釈ガス
流量の制御)するとともに、可変ベンチュリー1の流量
を変更に同期させて試料採取用可変ベンチュリー3の流
量を変更(サンプリング流量の制御)する。
【0031】図2はCVS流量(希釈ガス流量)とサン
プリング流量との対応関係を示す説明図、図3はLA4
モードにおける希釈ガス流量の変更シーケンスを示す説
明図である。本実施の形態では、図2に示すように希釈
ガス流量、ならびに、サンプリング流量を4段階に変更
するようにしている。走行状態が例えばアイドリング状
態やそれに近い状態であって排気ガスの排出量が極めて
小さい状態では、希釈ガス流量を毎分0.6立方メート
ル(毎分600リットル)に設定し、サンプリング流量
(希釈ガス採取バッグへの採取流量)を希釈ガス流量の
1/200である毎分3リットルに設定している。走行
状態が例えば定速走行等で排気ガスの排出量が小さい状
態では、希釈ガス流量を毎分1.0立方メートル(毎分
1000リットル)に設定し、サンプリング流量(希釈
ガス採取バッグへの採取流量)を希釈ガス流量の1/2
00である毎分5リットルに設定している。走行状態が
例えば高速走行や加速・減速状態等で排気ガスの排出量
が大きい状態では、希釈ガス流量を毎分1.8立方メー
トル(毎分1800リットル)に設定し、サンプリング
流量(希釈ガス採取バッグへの採取流量)を希釈ガス流
量の1/200である毎分9リットルに設定している。
走行状態が例えば高速走行や加速・減速状態等で排気ガ
スの排出量がさらに大きい状態では、希釈ガス流量を毎
分2.4立方メートル(毎分2400リットル)に設定
し、サンプリング流量(希釈ガス採取バッグへの採取流
量)を希釈ガス流量の1/200である毎分12リット
ルに設定している。
【0032】LA4モード等の走行モードではアイドリ
ング期間、加速期間、所定の速度で定速走行する期間、
減速期間等が時間経過との対応を付けて決められている
ので、図3に示すように、試験走行開始時点からの経過
時間に対応して希釈ガス流量ならびにサンプリング流量
の変更シーケンスを予め作成しておき、制御装置90は
この流量の変更シーケンスに基づいて可変ベンチュリー
1ならびに試料採取用可変ベンチュリ3の流量をそれぞ
れ制御する。
【0033】図4は可変ベンチュリーの構成図である。
可変ベンチュリー1は、定流量値を連続的に可変するこ
とのできる定流量発生器(VCFV:Variable
Critical Flow Venturi)10
と、可動機構部(アクチュエータユニット)20と、可
変ベンチュリー一制御制御・流量演算処理部30とから
なる。
【0034】定流量発生器(VCFV)10は、ソニッ
ク型ベンチュリー構造のものを用いている。この定流量
発生器(VCFV)10は、固定コア11と可動ベンチ
ュリー12とを備える。固定コア11はベンチュリ管路
の中央位置に固定している。可動ベンチュリー12はベ
ンチュリ管路の軸方向へ移動できる構造としている。可
動ベンチュリー12を軸方向へ移動させることで、固定
コア11と可動ベンチュリー12との間のスロート部
(流路部)13の断面積(流路断面積)を連続的に変化
させ、定流量値を連続的に可変させる構造としている。
【0035】なお、図4ではコアを固定し、外周側のベ
ンチュリーを移動させる構造を示したが、外周側のベン
チュリーを固定し、コアを移動させる構造としてもよ
い。
【0036】定流量発生器(VCFV)10の流入側
に、希釈ガスの圧力を検出するための圧力センサ4と、
希釈ガスの温度を検出するための温度センサ5とをそれ
ぞれ設けている。
【0037】可動機構部(アクチュエータユニット)2
0は、パルスモータ21と、パルスモータ21の出力軸
の回動に基づいて回動されるボールねじ22と、ボール
ねじ22の回動に伴ってボールねじ22の軸方向へ移動
する駆動用固定座23と、ボールねじ22の回動角度を
検出して所定の回動角度毎に複数系統のパルス信号を出
力するロータリエンコーダ24とを備える。
【0038】駆動用固定座23と定流量発生器(VCF
V)10側の可動ベンチュリー12とは連結棒25を介
して連結している。このため、パルスモータ21を駆動
してボールねじ22を回動駆動すると駆動用固定座23
が軸方向へ移動され、駆動用固定座23の軸方向移動に
伴って可動ベンチュリー12が移動される。これによ
り、定流量発生器(VCFV)10の定流量値を連続的
に変化させることができる。
【0039】可変ベンチュリー位置制御・流量演算処理
部30は、A/D変換部31と、パルス計数部32と、
パルス発生部33と、モータ駆動部34と、D/A変換
部35と、コンソール部36と、クロック発生部37
と、CPU部38と、システムバス39とを備える。A
/D変換部31,パルス計数部32,パルス発生部3
3,D/A変換部35,コンソール部36は、アドレス
・データ・制御バス等のシステムバス39を介してCP
U部38と接続される。
【0040】圧力センサ4の出力信号(可動ベンチュリ
ーの流入部圧力)4a、ならびに、温度センサ5の出力
信号(可動ベンチュリーの流入部温度)5aは、マリチ
プレクサ入力型のA/D変換器を備えたA/D変換部3
1へそれぞれ供給される。A/D変換部31は、圧力な
らびに温度に係る電圧信号を対応するデジタルデータへ
変換して出力する。圧力ならびに温度に係るデジタルデ
ータは、システムバス39を介してCPU部38へ供給
される。
【0041】ロータリエンコーダ24の出力信号(可動
ベンチュリーの移動距離に対応したパルス信号)24a
は、パルス計数部32へ供給される。パルス計数部32
は、ロータリエンコーダ24の出力信号24aに基づい
て可動ベンチュリー12の移動方向を判断するととも
に、パルス数の計数結果に基づいて可動ベンチュリー1
2の移動距離(位置)データを演算して、演算した移動
距離(位置)データを出力する。移動距離(位置)デー
タは、システムバス39を介してCPU部38へ供給さ
れる。
【0042】パルス発生部33は、CPU部38からシ
ステムバス39を介してパルスモータ駆動指令が供給さ
れると、パルスモータ駆動指令に基づいて指定されたモ
ータ回動方向に対応したモータ駆動パルス信号を生成し
て、生成したモータ駆動パルス信号をモータ駆動部34
へ供給する。
【0043】モータ駆動部34は、パルス発生部33か
ら供給されたモータ駆動パルス信号に基づいて、パルス
モータ21を駆動するために必要な電力34aをパルス
モータ21へ供給して、パルスモータ21をパルス駆動
する。
【0044】D/A変換部35は、CPU部38からシ
ステムバス39を介して供給される流量出力データに基
づいて流量に対応した電圧信号(流量出力信号)を生成
して出力する。なお、本実施の形態では、出力流量に対
応した電圧信号(アナログ信号)を流量出力信号として
出力する構成を示したが、流量出力データ(流量値)を
直接出力する構成としてもよい。また、流量(瞬時流
量)だけでなく、CPU部によって積算演算した流量積
算値も出力する構成としてもよい。
【0045】コンソール部36は、流量,流量可変条件
ならびに流量演算用パラメータ等を入力するための入力
操作部と、設定された流量,流量可変条件ならびに現在
の流量値(瞬時流量)や積算流量値等を表示するための
表示部等を備える。
【0046】クロック発生部37は、CPU部38の動
作の基準となるシステムクロックを生成してCPU部3
8へ供給する。また、クロック発生部37は、システム
クロックを分周して得た所定周期(例えば10ミリ秒周
期)の信号を流量計算を開始させるための例えば割り込
み信号としてCPU部38へ供給する。
【0047】CPU部38は、可動ベンチュリー12の
移動距離(位置)と定流量発生器(VCFV)10の流
量計数Kvとの対応テーブルを備える。図5は可動ベン
チュリーの移動距離(位置)と流量計数Kvと関係を示
すグラフである。本実施の形態では、可動ベンチュリー
の移動距離(位置)と流量計数Kvとが比例関係になる
よう固定コア11ならびに可動ベンチュリー12の形状
を設定している。
【0048】なお、CPU部38に予め作成した対応テ
ーブルを設けるのではなく、可動ベンチュリー12の移
動距離(位置)に基づいて定流量発生器(VCFV)1
0の流量計数Kvを求める演算式を備える構成としても
よい。また、対応テーブルのデータや演算式は、コンソ
ール部36から入力したり変更することができる。
【0049】図6は可変ベンチュリーのCPU部の処理
を示すフローチャートである。CPU部38は、所定周
期(例えば10ミリ秒間隔)毎に図3に示す一連の処理
を繰り返すことで、流量の演算ならびに積算流量の演算
を行なう。また、CPU部38は、図1に示した制御装
置90から供給されるCVS流量値になるように可動ベ
ンチュリー12の位置をフィードバック制御するととも
に、図1に示した制御装置90から供給されるCVS流
量値が変更された場合には変更された流量になるよう可
動ベンチュリー12の位置を制御する。
【0050】CPU部38は、パルス計数部32を介し
て可動ベンチュリー12の移動距離(位置)を読み込む
(ステップS1)。次いで、CPU部38は、A/D変
化部31を介して、定流量発生器(VCFV)10の入
口絶対圧力Pと、定流量発生器(VCFV)10の入口
絶対温度Tを読み込む(ステップS2)。CPU部38
は、定流量発生器(VCFV)10の流量計数Kvを可
動ベンチュリー12の移動距離(位置)と定流量発生器
(VCFV)10の流量計数Kvとの対応テーブルを参
照して、現在の可動ベンチュリー12の移動距離(位
置)における流量計数Kvを求める(ステップS3)。
そして、CPU部38は、流量計数Kvと定流量発生器
(VCFV)10の入口絶対圧力Pと、定流量発生器
(VCFV)10の入口絶対温度Tとに基づいて定流量
発生器(VCFV)10の流量Qを式1に示す演算を行
なって求める(ステップS4)。
【0051】
【数1】
【0052】CPU部38は、ステップS4で求めた流
量Qをコンソール部36の流量表示部に表示させるとと
もに、D/A変換部35を介して流量出力信号を図1に
示した制御装置90へ供給させる。また、CPU部38
は、流量Qに基づいて流量の積算を行ない、積算流量を
コンソール部36の積算流量表示部に表示させる(ステ
ップS5)。なお、CPU部38は、積算流量を図1に
示した制御装置90へ供給させる構成としてもよい。
【0053】CPU部38は、ステップS4で求めた流
量Qを図1に示した制御装置90から指定されたCVS
流量との偏差を求め、予め設定した許容量を越える偏差
が生じている場合には、パルス発生部33,モータ駆動
部34を介して可動機構部(アクチュエータユニット)
20を偏差がゼロに近づく方向へ駆動する。これによ
り、可動ベンチュリーの移動距離(位置)のフィードバ
ック制御がなされる(ステップS6)。
【0054】そして、CPU部38は、ステップS7に
示すように、所定時間が経過するたびにステップS1〜
ステップS6の処理を繰り返す。処理の繰り返し時間
(所定時間)を例えばミリ10秒に設定すれば、10ミ
リ秒毎に流量の演算ならびに可動ベンチュリー移動距離
のフィードバック制御がなされる。本実施の形態では、
クロック発生部37から供給される割り込み信号に基づ
いてステップS1〜ステップS6の一連の処理を行なう
ようにしている。なお、外部から割り込み信号を供給す
るのではなく、CPU部38の内部タイマ等を利用して
所定時間の経過を判断するようにしてもよい。また、図
6では、ステップS4に示す流量演算を行なった後に、
ステップS5で流量を出力する例を示したが、所定時間
が経過した時点で前回求めた流量を出力した後に、ステ
ップS1〜S4の処理を行なって流量を演算するように
してもよい。一連の処理の最初に流量出力を行なうこと
で、流量の出力タイミングを所定周期と正確に同期させ
ることができる。
【0055】図1に示した試料採取用可変ベンチュリー
3は、CVS流量設定用の可変ベンチュリー1と同様な
構造で小型のものを用いている。試料採取用可変ベンチ
ュリー3は、試料採取用可変ベンチュリー3の流量計数
Kvsを求めると、その流量計数KvsをCVS流量設
定用の可変ベンチュリー1へ供給するようにしている。
【0056】そして、CVS流量設定用の可変ベンチュ
リー1側では、流量演算式(式1)に示したように、定
流量発生器(VCFV)10の流量計数Kvと試料採取
用可変ベンチュリー3の流量計数Kvsとの和を求め、
温度T,圧力Pを考慮して瞬時流量Qを求めるようにし
ている。したがって、試料採取用可変ベンチュリー3を
介して試料ガスを採取している状態であっても、試料ガ
スの流量を加えた全流量を求めることができる。なお、
試料採取用可変ベンチュリー3側から試料ガスを採取し
ていない場合、図1に示す制御装置90は、試料ガス非
採取状態であることを示す情報(試料ガス採取/非採取
情報)をCVS流量設定用の可変ベンチュリー1へ供給
する。CVS流量設定用の可変ベンチュリー1側のCP
U部38は、試料ガス採取/非採取情報に基づいて試料
ガス非採取状態であることを認識した場合には、試料採
取用可変ベンチュリー3の流量計数をゼロとし、定流量
発生器(VCFV)10の流量計数Kvのみを用いて瞬
時流量Qの演算を行なう。
【0057】図7はこの発明に係る排気ガスサンプリン
グ方法を適用した場合の排気ガス流量とCVS流量との
関係を示すグラフ、図8はこの発明に係る排気ガスサン
プリング方法を適用した場合のバッグ内露点の測定結果
を示すグラフである。図7に示すように、走行モード
(車速)に対応してCVS流量を4段階に切り替えてい
るので、排気ガス流量がCVS流量を越えることはな
い。LA4モードでは、図3に示したCVS流量の変更
シーケンスでCVS流量を変更することで、最小希釈率
1.1パーセントを保持することができる。測定モード
のフェーズ内でCVS流量を変化させているので、図8
に示すように、バッグ内露点ピークとバッグ内最終露点
との差をなくすとともに、最終露点をバッグ保温温度に
近づけることができる。
【0058】この発明に係る排気ガスサンプリング方法
を適用した場合、CTフェーズにおけるバッグ内最終希
釈率は2.57となり、CSフェーズにおけるバッグ内
最終希釈率は2.58となった。図10に示した従来の
排気ガスサンプリング方法(フェーズ別にCVS流量を
変更する方法)では、CTフェーズにおけるバッグ内最
終希釈率は3.95、CSフェーズにおけるバッグ内最
終希釈率は4.34であったので、この発明に係る排気
ガスサンプリング方法を適用することで、サンプリング
バッグに採取される希釈ガスの濃度を濃くできることが
わかる。
【0059】なお、従来の排気ガスサンプリング方法で
はフェーズ内でCVS流量が一定であったためCVS流
量とサンプリング量との比率は同じでった(フェーズが
変わるとCVS流量を変化させるが、この時はサンプリ
ングバッグも変更するので、CVS流量とサンプリング
量との比率は同じである)。これに対して、この発明に
係る排気ガスサンプリング方法では、フェーズ内でCV
S流量を変化させているので、CVS流量の変化に対し
てサンプリング量も同じ比率だけ変化させる必要があ
る。
【0060】図1では、CVS流量設定用の可変ベンチ
ュリー1の流量変更と同時に試料採取用可変ベンチュリ
ー3の流量を変更して、図2に示したように、CVS流
量とサンプリング流量とを所定の比率(例えば200:
1)にする構成を示したが、流量の異なる複数のオリフ
ィスを組合せてCVS流量やサンプリング流量を可変す
るようにしてもよい。
【0061】図9はサンプリング流量変更機構の他の構
成を示す説明図である。図9に示すサンプリング流量変
更機構は、希釈ガスの流路中に、流量が毎分1リットル
のオリフィス101と、流量が毎分2リットルのオリフ
ィス102と、流量が毎分4リットルのオリフィス10
3と、流量が毎分8リットルのオリフィス104とを設
けるとともに、各オリフィス101〜104に直列に電
磁弁105〜108をそれぞれ接続してなる。符号10
9は希釈ガス採取用のポンプである。電磁弁105〜1
08の開閉を制御することで希釈ガスの採取に使用する
オリフィス101〜104を選択する。全てのオリフィ
ス101〜104を使用した場合に、サンプリング流量
は毎分15リットル(最大値)となる。このサンプリン
グ流量変更機構は、毎分1リットル〜毎分15リットル
までの流量範囲を毎分1リットル単位で可変することが
できる。
【0062】図1では、可変ベンチュリー1を用いてC
VS流量を変更する構成を示したが、流量の異なる固定
ベンチュリーを複数個備え、電磁弁等によって使用する
固定ベンチュリーを切り替えたり、同時使用する固定ベ
ンチュリーの組合せを選択したりすることで、CVS流
量を可変するようにしてもよい。
【0063】本実施の形態では、走行モードとしてLA
4モードを例示し、CTフェーズ,CSフェーズ内でC
VS流量ならびにサンプリング流量を4段階に切り替え
る例を示したが、この発明に係る排気ガスサンプリング
方法は各種の走行モードに適用することができる。な
お、測定対象となる自動車(エンジン)の排気量に応じ
てCVS流量を適宜設定する必要がある。また、走行モ
ードに対応してCVS流量の切替タイミングを適宜設定
する必要がある。
【0064】本実施の形態では、図3に示したようなC
VS流量とサンプリング流量との変更シーケンスを予め
準備しておき、制御装置90がその変更シーケンスに基
づいて制御装置90がCVS流量とサンプリング流量と
を制御する構成を示したが、シャシダイナモ装置上の自
動車の運転を制御するエンジン自動運転装置等から走行
モードに対応してCVS流量指定情報とサンプリング流
量指定情報を出力させ、それらの流量指定情報に基づい
てCVS流量ならびにサンプリング流量を変更する構成
としてもよい。また、シャシダイナモ装置から制御装置
90へ車速情報ならびに加速・減速等の運転情報を供給
し、制御装置90はそれらの情報に基づいてCVS流量
ならびにサンプリング流量を変更するようにしてもよ
い。
【0065】
【発明の効果】以上に説明したように本発明に係る排気
ガスサンプリング方法は、測定モードのフェーズ内でC
VS流量を変化させるので、バッグ内露点ピークとバッ
グ内最終露点との差を小さくできるとともに、最終露点
をバッグ保温温度に近づけることができる。よって、バ
ッグ内最終露点の希釈率を低くすることができ、分析精
度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る排気ガスサンプリング方法を適用
した定容量希釈サンプリング装置(CVS装置)の構成
【図2】CVS流量(希釈ガス流量)とサンプリング流
量との対応関係を示す説明図
【図3】LA4モードにおける希釈ガス流量の変更シー
ケンスを示す説明図
【図4】可変ベンチュリーの構成図
【図5】可動ベンチュリーの移動距離(位置)と流量計
数Kvと関係を示すグラフ
【図6】可変ベンチュリーのCPU部の処理を示すフロ
ーチャート
【図7】本発明に係る排気ガスサンプリング方法を適用
した場合の排気ガス流量とCVS流量との関係を示すグ
ラフ
【図8】本発明に係る排気ガスサンプリング方法を適用
した場合のバッグ内露点の測定結果を示すグラフ
【図9】サンプリング流量変更機構の他の構成を示す説
明図
【図10】LA4モード中の排気ガス流量とCVS流量
との関係を示すグラフ
【図11】図10に示したCVS流量で希釈ガスを採取
したときのサンプリングバッグ内の露点を示すグラフ
【図12】CVS流量を図10に示した条件よりも低下
させた場合のLA4モード中の排気ガス流量とCVS流
量との関係を示すグラフ
【図13】図12に示したCVS流量で希釈ガスを採取
したときのサンプリングバッグ内の露点を示すグラフ
【符号の説明】
1…可変ベンチュリー(CVS流量変更用)、3…試料
採取用可変ベンチュリー(サンプリング流量変更用)、
50…定容量希釈サンプリング装置(CVS装置)、5
1…排気ガス取入部、52…外気取入部、64,65,
66…外気採取バッグ、70…連続ガス分析装置、7
7,78,79…希釈ガス採取バッグ(サンプリングバ
ッグ)、87…採取ガス分析装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柴田 淳史 三重県鈴鹿市平田町1907番地 本田技研工 業株式会社鈴鹿製作所内 (72)発明者 柳原 茂 東京都世田谷区玉堤1丁目19番4号 株式 会社司測研内 (72)発明者 山脇 秀太 東京都世田谷区玉堤1丁目19番4号 株式 会社司測研内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 自動車等の排気ガスを外気で希釈すると
    ともに、この一部を一定の割合で採取して分析する排気
    ガスサンプリング方法において、少なくともサンプリン
    グバッグ内の最終露点を所定温度以内、且つ、所定温度
    に近づけるように、測定モードのフェーズ内でCVS流
    量を変化させることを特徴とする排気ガスサンプリング
    方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の排気ガスサンプリング
    方法において、前記サンプリングバッグ内の露点を平順
    化するように測定モードのフェーズ内でCVS流量を変
    化させることを特徴とする排気ガスサンプリング方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の排気ガ
    スサンプリング方法において、測定中に少なくともCV
    S流量が排気ガス流量を越えないように測定モードのフ
    ェーズ内でCVS流量を変化させることを特徴とする排
    気ガスサンプリング方法。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の排気ガスサンプリング
    方法において、前記CVS流量の変更に対応してサンプ
    リング流量を変更することを特徴とする排気ガスサンプ
    リング方法。
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