JP2000212466A - 発光団含有ジアセチレン系重合体及びそれを利用した電界発光素子 - Google Patents

発光団含有ジアセチレン系重合体及びそれを利用した電界発光素子

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造方法が簡単で、最終物質の構造が明確
で、かつ有機溶媒に溶解しやすい高分子EL材料の提
供。 【解決手段】 次の化学式(I)の構造を有するジアセ
チレン系重合体。 【化15】 化学式(I)中、Arは、例えば、化学式: 【化16】 (式中、R及びR′は互いに独立して、水素、アルキル
等を示す)で示される発光団を示している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、発光団含有ジアセ
チレン系重合体に係るもので、詳しくは、高分子系電界
発光素子(Electroluminescence、以下、EL素子とい
う)を製造するとき使用される発光団含有ジアセチレン
系重合体及びそれを利用した電界発光素子に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】一般に、EL素子としてGaAsのよう
な無機系半導体は、小型及び小消耗電力等のような長所
を有するため、小面積のディスプレー、発光ダイオード
ランプ(Light Emitting Diode、以下、LEDランプと
いう)及び半導体レーザー等に使用されていた。
【0003】しかし、これらの素子を製造するために
は、高清浄な工程が必要で、広い面積のLEDを製造す
ること及び高効率の青色光を得ることが困難であった。
GaAsの他も金属化合物の蛍光イオンが添加された無
機半導体及びそれらを高分子に分散させた無機系EL素
子があるが、これらは駆動電圧が高いだけではなく高電
気場で作動するので、半導体の安定性に劣るという不都
合な点があった。
【0004】そこで、最近では上記のような問題点を克
服できる有機系(Appl. Phys. Lett., 51, p913 (198
7))及び高分子系(Nature, 347, p539 (1990), Solid
StatePhys, 49, p1 (1996))のEL材料が開発されつつ
ある。すなわち、有機染料を蒸着するか(特開平6−1
36360号及び特開平7−26254号)、あるいは
共役二重結合を有する高分子(国際特許WO92/03
491号、WO93/14177号及びWO94/15
368号)を陽極と陰極間に載置させて製造されたEL
素子に電圧を加えると、陽極からはホールが、陰極から
は電子が投入され、それらが発光層に移動して再結合し
ながら発光するようになるので、これを利用して現在の
陰極線チューブ、ガスプラズマディスプレー及び液晶デ
ィスプレー等を代替することができるLEDを利用した
次世代平板カラーディスプレー、電気化学的セル、イメ
ージセンサー、トランジスタ、レーザー及び光カプラー
等への応用を模索している。しかし、有機染料を蒸着し
て製造されたEL素子は、上述した問題点はある程度克
服できたとはいえ、商業化のためには安定性、効率及び
寿命を一層向上させなくてはならない。最も代表的な高
分子系発光材料としては、ポリフェニレンビニレン〔Po
ly (phenylenevinylene)、以下、PPVという〕、ポリ
チオフェン(polythiophene、以下、PThという)及
びポリフェニレン系高分子(Synth. Met., 501 (1-3),
p491 (1992)及びAdv. Mater., 4, p36(1992))である
が、最終物質が有機溶媒に溶解しないという短所があっ
た。また、前記各高分子系発光材料に適当な置換基を導
入させることにより、加工性を向上させ、青色、緑色及
び赤色の多様な光を発光するPPVまたはPTh誘導体
(Synth. Met., 62, p35 (1994)、Adv. Mater., 4, p36
(1992)及びMacromolecules, 28, p7525 (1995))も知
られているが、製造工程が複雑で、安定性に問題点があ
った。なお、青色光を発光するフルオレン系高分子も報
告されているが(Jpn. J. Appl. Phys., 30, pL1941 (1
991))、これは多様な共役二重結合を有する高分子を製
造することができない製造方法を使用している。そこ
で、本発明者らは、これらのような問題点を解決して共
役二重結合を有する電界発光素子用のフルオレン系交代
共重合体を既出願している(大韓民国特許出願第96−
16449号)一方、アセチレン基を含有した高分子も
発表されているが(Makromol.Chem., 191, p857 (199
0)、Macromolecules, 27, p562 (1994)、J. Chem. So
c.,Chem. Commun., p1433 (1995)及びMacromolecules,
29, p5157 (1996))、これらは主に非線形光学材料、光
伝導性及び光発光(photoluminescence、以下、PLと
いう)への応用研究が報告されており(Science, 279,
p835 (1998))、本発明者らも新しいアセチレン基を含
有した高分子をLEDへ応用する方法に対し最近特許出
願(大韓民国特許出願第96−82444号)してい
る。かつジアセチレン(Diacetylene)基を有する重合
体も発表されているが(Prog. Polym. Sci., 20, p943
(1995)、CHEMTECH, October, p32 (1993)及びMacromole
cules, 29, p2885 (1996))、これらは上述したアセチ
レン系高分子よりも熱及び光に敏感であるので架橋反応
が起こりやすく、よって、正に非線形光学材料、耐熱性
高分子、偏光PL高分子、電気及び光学活性高分子とし
ての応用が可能である。しかし、ジアセチレン(Diacet
ylene)基を有する重合体がEL材料として応用された
例は未だない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、製造方法が簡単で、最終物質の構造が明確で、かつ
有機溶媒に溶解しやすいという特徴を有する、多様な種
類の高分子EL材料を製造するために研究した結果、本
発明に到達した。
【0006】すなわち、本発明は、高分子EL素子を製
造する際、後述する化学式(I)のようにジアセチレン
基を含有する重合体を発光材料として使用することを特
徴とするものである。このような重合体は、EL素子で
あるLEDなどへの応用だけではなく、光及び電気的活
性を有しているので、PL特性、非線形光学特性、光及
び電気電導性等を有しており、よって、光スイッチ、モ
ジュール、ウェーブガイド、トランジスタ、レーザー、
光吸収体及び高分子分離膜として応用することができ
る。
【0007】したがって、本発明は、新しい発光団を含
有した発光材料を提供することを目的とする。
【0008】本発明の他の目的は、前記発光材料を含有
した電界発光素子を提供することである。
【0009】
【発明の実施の形態】上記したような本発明の目的は、
次の化学式(I)で示されるジアセチレン系重合体によ
り達成することができる。
【0010】
【化4】
【0011】前記化学式(I)中、Arは、下記の群
(II)から選択される発光団を表し、
【0012】
【化5】
【0013】群(II)中、置換基R及びR′は、互いに
同一であるか異なり、水素、炭素数1〜22個の脂肪族
又は脂環族のアルキル基又はアルコキシ基、炭素数6〜
18個のアリール又はアリールオキシ基、ケイ素、スズ
及びゲルマニウム等のアルキル又はアリール誘導体を表
示し、nは1以上の定数を示している。
【0014】なお、上式中、Arは、発光団を含有すれ
ば何でもよく、特に限定されない。また、前記R及び
R′の具体的な例としては、水素、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、
イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル、ドコシル、シクロプロピル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、メトキシ、エトキシ、ブト
キシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メト
キシエトキシエトキシエチル、フェニル、フェノキシ、
トリル、ベンジル、ナフチル、アントラニル等がある。
かつシリコン、スズ及びゲルマニウム等のアルキル及び
アリール誘導体も包含され、例えば、トリメチルシリ
ル、トリフェニルシリル、トリブチルチン及びトリエチ
ルゲルマニウム等がある。
【0015】本発明の用いる重合体の重合度及びその製
造方法も特に限定されず、例えば、重合体の重合度は、
有機溶媒に可溶であり、スピンコーティング、又はキャ
スティング方法により薄膜を形成し得る程度である重合
度1〜2,000、特に3〜1,000が好ましい。ま
た、前記化学式(I)の2個の三重結合を有する重合体
の製造方法としては、後述する反応式1に示したよう
に、塩化銅の存在下でアセチレン化合物に酸素を注入す
るという公知の方法により製造することができる(Pro
g. Polym. Sci., 20, 20, p943 (1995)、Macromolecule
s, 29, p2885 (1996))。より具体的には、アセチレン
化合物による重合体の製造は、1価又は2価の銅化合物
としてCuCl又はCu(OAc)2を使用し、塩基とし
て、ピリジン又はテトラメチルエチレンジアミン(Tetr
amethylethylenediamine、TMEDA)のようなアミン
化合物をo−ジクロロベンゼン、クロロベンゼン、又は
ピリジン溶媒下で酸素をバブリングさせながら反応させ
る。
【0016】反応式1〜反応式4は、アセチレン化合物
の製造過程、重合過程及びそれらの構造式を示してい
る。すなわち、ジエチニルフルオレン(diethnylfluore
ne)(M−2)、2,7−ビス(パラ−プロパルギルオ
キシスチリル)−9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレ
ン(M−9)、3,6−ビス(パラ−プロパルギルオキ
シスチリル)−N−n−ヘキシルカルバゾール(M−1
0)及び1,4−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチ
リル)−2,5−ジ−n−ヘキシルオキシベンゼンM−
11)のような単量体を単一重合(homopolymerizatio
n)させる例を示している。かつ反応式5〜反応式8
は、共重合(copolymerization)過程を示している。下
記の反応式1〜反応式8において、R及びR′はn−ヘ
キシル基(n−hexyl)を示し、mはnと同様である。
それら単量体、重合体及び共重合体の合成方法は、後述
する実施例で詳細に説明する。
【0017】
【化6】
【0018】
【化7】
【0019】
【化8】
【0020】
【化9】
【0021】
【化10】
【0022】
【化11】
【0023】
【化12】
【0024】
【化13】
【0025】なお、本発明に係る最小1個以上のジアセ
チレン系共重合体は、後述するような公知のアセチレン
化合物との共重合、又はそれ以上の相互重合により、共
重合体を形成することが可能で、これらの共重合体も本
発明の範囲に包含される。
【0026】
【化14】
【0027】一方、本発明に係るジアセチレン基を有す
る発光高分子を発光材料として直接使用するか、又は該
発光高分子を直接加熱させたり、紫外線もしくは電子線
のように光を照射させることにより架橋された高分子を
利用することも可能で、一般にEL素子の構成において
は、発光層である本発明に係る材料を陽極と陰極の間に
載置させる方式、すなわち陽極/発光層/陰極のような
最も典型的な素子構成を含むことは勿論で、更に、既知
の正孔伝達層、又は電子伝達層の材料(特開平2−13
5361号、特開平3−152184号及び特開平6−
207170号)を一緒に使用して構成することも可能
であるので、特に限定されない。すなわち、陽極/正孔
伝達層/発光層/電気伝達層/陰極のような構成も包含
される。ここで、前記陽極は、透明な支持基板としてガ
ラス、透明プラスチック及び石英などに、電極物質とし
てITO、金、銅、酸化スズ、酸化亜鉛などの金属及び
金属酸化物、又はポリピロール、ポリアニリン及びポリ
チオフェンのような半導体化合物が、通常10nm〜1μ
mの厚さに被覆された材料を使用して構成され、また、
前記陰極としては、ナトリウム、マグネシウム、カルシ
ウム、アルミニウム、インジウム、銀、金及び銅のよう
な金属物質及びそれらの合金物質も使用することができ
る。かつ前記正孔伝達層としては、ポリビニルカルバゾ
ール、2,5−ビス(4′−ジエチルアミノフェニル)
−1,3,4−オキサジアゾール及びN,N−ジフェニ
ル−N,N′−(3−メチルフェニル)−1,1′−ビ
フェニル−4,4′−ジアミン(TPD)など、前記電
子伝達層としては、トリス(8−ヒドロキシキノリネー
ト)アルミニウム、2−(4′−tert−ブチルフェニ
ル)−5−(4″−ビフェニル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール及び2,4,7−トリニトロ−9−フルオレ
ノンのような公知の化合物を、真空蒸着法、スピンコー
ティング、キャスティング及びLB法などの既知の薄膜
形成方法を利用して塗布して使用することができる。一
方、本発明の発光重合体は、前記の正孔伝達層、電子伝
達層、本発明の別の重合体、可溶性のPPV及びPTh
誘導体のような既存の発光重合体とブレンドして使用す
ることも可能で、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポ
リ(1,4−ヘキシルオキシ−2,5−フェニレンビニ
レン)及びポリ(3−ヘキシルチオフェン)等と本発明
に係るジアセチレン基を有する高分子をクロロホルムの
ような有機溶媒に溶かした後、スピンコーティング又は
キャスティング方法で塗布して使用することができる。
このとき、濃度について特に限定する必要はないが、本
発明に係る発光分子量をポリビニルカルバゾールに対し
て0.001〜99%、好ましくは0.1〜50%とな
るように調節し、更に薄膜の厚さは5nm〜5μm、好ま
しくは50nm〜1μmとなるようにして使用することが
できる。
【0028】かつ前記正孔伝達層及び電子伝達層でなく
ても、一般の有機溶媒に溶解して薄膜を形成し得る高分
子とも、上述した濃度及び厚さの範囲でブレンドして使
用することが可能で、使用可能な高分子としては、例え
ば、ポリメチルメタアクリレート、ポリアクリレート、
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリビニルクロライ
ド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアクリロニト
リル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、
ポリビニルアセテート、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルアミン、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタ
ン、ABS、ポリスルホン及びポリビニルフルオライド
のような熱可塑性のプラスチック、又はアセタール、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリエステル、アルキド、ウレ
ア、フラン、ナイロン、メラミン、フェノール、シリコ
ーン及びエポキシのような汎用樹脂が包含される。
【0029】以下、本発明を実施例により具体的に説明
するが、これらの実施例により本発明の要旨が制限され
るものではない。
【0030】
【実施例】単量体の合成 本発明に使用できる単量体は特に限定されない。例え
ば、重合を行った後、重合体が化学式(I)を満足する
重合体である限り、如何なる単量体であってもよい。な
お、以下で言及されていない場合でも、一般に合成しや
すく、既知の化合物、類似化合物及び購入可能な単量体
は、公知の方法又は類似する方法により合成又は購入し
て重合体の製造に利用することができる。
【0031】実施例1 2,7−ビス〔(トリメチルシリル)エチニル〕−9,
9′−ジ−n−ヘキシルフルオレン(M−1)の合成 撹拌機、温度計及び還流コンデンサーの付着した1リッ
トル3口のフラスコに窒素雰囲気下で2,7−ジブロモ
−9,9−ジ−n−ヘキシルフルオレン49.2g
(0.1モル)、ビストリフェニルホスフィンパラジウ
ムジクロライド〔(PPh3)2PdCl2〕3.95g
(5ミリモル)及びヨード化銅(CuI)0.95g
(5ミリモル)を400mlのピフェリジンに溶解させた
後、トリメチルシリルアセチレン21.6g(0.22
モル)を常温でゆっくり滴下させる。滴下が終了する
と、反応温度を徐々に上昇させて3時間の間還流させ、
反応が終了すると真空雰囲気で溶媒を除去し、ベンゼン
で3回抽出し、数回水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた後、活性炭素を使用して脱色し、濾過した後、
溶媒を蒸発させるとクリーム色の固体が形成され、該固
体をエタノールで2回再結晶させて純粋な結晶を得た。
これを30℃の真空オーブンで充分に乾燥させた後の重
量は42g(収率80%)で、融点は126〜128℃
であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.28 (s, 18H, SiCH3), 0.52 (br,
s 6H, CH3), 0.73-1.12(m, 16H, CH2), 1.89-1.97 (m,
4H, CCH2), 7.42-7.61 (m, 6H, Aromatic) IR (KBr): 2156cm- 1 (CC), 852cm- 1 (SiCH3)
【0032】実施例2 2,7−ジエチニル−9,9′−ジ−n−ヘキシルフル
オレン(M−2)の合成 撹拌機及び温度計の付着した250mlのフラスコに2,
7−ビス〔(トリメチルシリル)エチニル〕−9,9′
−ジ−n−ヘキシルフルオレン27.4g(52ミリモ
ル)及びフッ化カリウム4.53g(78ミリモル)を
5mlの水及び150mlのジメチルホルムアミドに溶解さ
せた後、常温で6時間の間反応させ、反応が終了すると
該反応溶液を500mlの氷水に注いでエチルエーテルに
より3回抽出した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、濾過した後、溶媒を蒸発させると粘性のある固体が
形成され、該固体をシリカゲルカラム(エチルアセテー
ト/ヘキサン−1/10の混合溶媒)を使用して精製
し、エタノールで再結晶させて淡黄色の固体17.1g
(収率86%)を得、融点は36〜37℃であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.58 (br 6H, CH3), 0.76-1.13
(m, 16H, CH2), 1.93-1.96(m, 4H, CCH2), 3.14 (s, 2
H, CH), 7.46-7.65 (m, 6H, Aromatic)1 3 C-NMR (CDCl3), δ 14.62, 23.24, 24.39, 30.33, 3
2.18, 40.94, 55.94, 77.99, 85.26, 120.66, 121.63,
127.29, 131.97, 141.72, 151.80 IR (KBr): 3296cm (CH)
【0033】実施例3 2,7−ビス(パラ−アセトキシスチリル)−9,9′
−ジ−n−ヘキシルフルオレン(M−3)の合成 窒素雰囲気下で撹拌機、温度計及び還流コンデンサーの
付着した3口の500mlフラスコに2,7−ジブロモ
−9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレン49.2g
(0.1モル)、トリエチルアミン22.2g(0.2
2モル)、パラジウム(II)アセテート224mg(1.
0ミリモル)及びトリオルトトリルホスフィン1.83
g(6.0ミリモル)を200mlのジメチルホルムアミ
ド(DMF)に溶解させた後、100℃で24時間反応
させた。その後、反応温度を常温に低下させ、前記反応
液を1.5リットルの2.0N 塩酸水溶液にゆっくり滴
下して固体を析出させた。析出された固体を濾過した
後、水及びエチルエーテルを使用して抽出した。更に、
有機層を分離して無水硫酸マグネシウムで乾燥させた
後、溶媒を蒸発させると固体が形成され、該固体をエチ
ルアセテート/ヘキサン(1:2)により2回再結晶さ
せて純粋な黄色の固体46.5g(収率71%)を得、
融点は149〜150℃であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.72-1.07 (m, 22H, CH2及びCH3),
1.98-2.06 (m, 4H, CCH2), 2.31 (s, 6H, COCH3), 7.0
8-7.68 (m, 18H, Vinyl及びAromatic)1 3 C-NMR (CDCl3), δ 13.84, 20.95, 22.43, 23.62, 2
9.57, 31.33, 40.39, 54.89, 119.95, 120.76, 121.76,
125.67, 126.89, 127.29, 129.55, 135.32, 136.14, 1
40.68, 149.99, 151.57, 169.38
【0034】実施例4 3,6−ビス(パラ−アセトキシスチリル)−N−n−
ヘキシルカルバゾール(M−4)の合成 窒素雰囲気下で撹拌機、温度計及び還流コンデンサーの
付着した3口の500mlフラスコに3,6−ジブロモ−
N−n−ヘキシルカルバゾール40.9g(0.1モ
ル)、トリエチルアミン22.2g(0.22モル)、
パラジウム(II)アセテート224mg(1.0ミリモ
ル)及びトリオルトトリルホスフィン1.83g(6.
0ミリモル)を200mlのジメチルホルムアミド(DM
F)に溶解させた後、100℃で24時間反応させた。
その後、反応温度を常温に低下させ、反応液を1.5リ
ットルの2.0N 塩酸水溶液にゆっくり滴下して固体を
析出させた。析出された固体を濾過した後、水及びエチ
ルアセテートを使用して抽出した。更に、有機層を分離
して無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を蒸発
させると固体が形成され、該固体をエチルアセテート/
ヘキサン(1:1)で2回再結晶させて純粋な黄色の固
体38.3g(収率67%)を得、融点は170〜17
2℃であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.86-0.89, 1.22-1.31, 1.82-1.86
(m, 11H, CH2及びCH3),2.31 (s, 6H, COCH3), 4.21-4.
29 (t, 2H, NCH2), 7.08-7.66 (m, 16H, Vinyl及びArom
atic), 8.22 (s, 2H, Aromatic)1 3 C-NMR (CDCl3), δ 13.90, 21.06, 22.44, 26.84, 2
8.90, 31.47, 43.24, 109.10, 118.72, 121.79, 123.2
9, 124.72, 125.20, 127.13, 128.66, 129.86, 135.85,
140.72, 149.72, 169.61
【0035】実施例5 1,4−ビス(パラ−アセトキシスチリル)−2,5−
ジ−n−ヘキシルオキシベンゼン(M−5)の合成 3,6−ジブロモ−N−n−ヘキシルカルバゾールの代
わりに1,4−ジブロモ−2,5−ジ−n−ヘキシルオ
キシベンゼン8.7g(0.02モル)使用した他は、
前記実施例4と同様の方法により反応させ、ヘキサンで
再結晶させて、純粋な黄色の固体7.2g(収率60
%)を得、融点は144〜145℃であった。1 H-NMR (CDCl2), δ 0.89-0.95, 1.35-1.57, 1.83-1.87
(m, 22H, CH2及びCH3),2.31 (s, 6H, COCH3), 4.01-4.
07 (t, 4H, OCH3), 7.06-7.51 (m, 18H, Vinyl及びArom
atic)1 3 C-NMR (CDCl3), δ 13.93, 21.06,
22.56, 25.87, 29.39, 31.5
6, 69.58, 110.73, 121.76,
123.87, 126.89, 127.43,
127.83 ,135.87, 149.99, 1
51.19, 169.57
【0036】実施例6 2,7−ビス(パラ−ヒドロキシスチリル)−9,9′
−ジ−n−ヘキシルフルオレン(M−6)の合成 窒素雰囲気下で撹拌機、温度計及び還流コンデンサーの
付着した3口の500mlフラスコに2,7−ビス(パ
ラ−アセトキシスチリル)−9,9′−ジ−n−ヘキシ
ルフルオレン32.7g(0.05モル)及びKOH2
8.0g(0.5モル)を200mlのメタノールに溶解
させた後、12時間の間還流させながら反応させた。そ
の後、反応温度を常温に低下させ、反応液を2.0リッ
トルの2.0N 塩酸水溶液にゆっくり滴下して固体を析
出させた。析出した固体を濾過させた後水洗し、更にト
ルエンを添加した後蒸留させて水及びトルエンを除去し
た。生成した前記固体をトルエンで2回再結晶させて純
粋な黄色の固体27.1g(収率95%)を得、融点は
96〜97℃であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.67-1.16 (m, 22H, CH2及びCH3),
1.96-2.04 (m, 4H, CCH2), 4.92 (s, 2H, OH) 6.82-7.
66 (m, 18H, Vinyl及びAromatic)1 3 C-NMR (CDCl3), δ 13.88, 22.47, 23.67, 29.63, 3
1.38, 40.45, 54.88, 115.73, 119.89, 120.56, 125.4
1, 127.37, 127.45, 127.92, 130.68, 136.46, 140.40
,151.56, 155.06
【0037】実施例7 3,6−ビス(パラ−ヒドロキシスチリル)−N−n−
ヘキシルカルバゾール(M−7)の合成 3,6−ビス(パラ−アセトキシスチリル)−N−n−
ヘキシルカルバゾール28.6g(0.05モル)を使
用して前記実施例6と同様の方法により実験した結果、
純粋なクリーム色の固体を23.4g(収率96%)を
得、融点は196〜198℃であった。1 H-NMR (DMSO), δ 0.76-0.85, 1.19-1.24, 1.74-1.77
(m, 11H, CH2及びCH3),4.29-4.37 (t, 2H, NCH2), 6.78
-7.67 (m, 16H, Vinyl及びAromatic), 8.34 (s,2H, Aro
matic),9.49 (s, 2H, OH)1 3 C-NMR (DMSO), δ 13.42, 21.61, 25.75, 28.20 ,30.
61, 42.05, 109.26, 115.33, 117.65 ,122.28, 124.22,
125.51, 125.88, 127.16, 128.47, 128.58, 139.62, 1
56.64
【0038】実施例8 1,4−ビス(パラ−ヒドロキシスチリル)−2,5−
ジ−n−ヘキシルオキシベンゼン(M−8)の合成 1,4−ビス(パラ−ヒドロキシスチリル)−2,5−
ジ−n−ヘキシルオキシベンゼン29.9g(0.05
モル)を使用して前記実施例6と同様の方法により実験
した結果、純粋な黄色の固体を23.9g(収率93
%)を得、融点は185〜187℃であった。1 H-NMR (DMSO), δ 0.87-0.90, 1.30-1.54, 1.75-1.85
((m, 22H, CH2及びCH3),4.02 (t, 4H, OCH2), 6.74-6.7
8, 7.18-7.37 (m, 14H, Vinyl及びAromatic), 9.55 (s,
2H, OH)1 3 C-NMR (DMSO), δ 12.72, 21.04, 24.38, 27.82, 29.
96, 67.80, 109.31, 114.63, 118.64, 125.06, 126.56,
127.55, 127.76, 149.33, 156.27
【0039】実施例9 2,7−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレン(M−9)の合
成 窒素雰囲気下で撹拌機、温度計及び還流コンデンサーの
付着した3口の250mlフラスコに2,7−ビス(パラ
−ヒドロキシスチリル)−9,9′−ジ−n−ヘキシル
フルオレン11.4g(0.02モル)、K2CO3
8.3g(0.06モル)、プロパルギルブロマイド
(propargyl bromide)7.1g(0.06モル)、1
8−クラウン−6(18−crown−6)0.1g及びア
セトン100mlを入れて24時間の間還流させながら反
応させた。その後、反応温度を常温に低下させ、溶媒を
蒸発させた後、残りの反応液を水及びエチルエーテルを
用いて抽出した。更に、有機層を分離して無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させた後、溶媒を蒸発させると粘性のあ
るオイルが形成され、該オイルをエチルアセテート/ヘ
キサン(1:5)の混合溶媒でシリカゲルカラムにより
精製した後、同じ混合溶媒で2回再結晶させると純粋な
黄色の固体11.0g(収率85%)を得、融点は91
〜92℃であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.71-1.13 (m, 22H, CH2及びCH3),
1.97-2.05 (m, 4H, CCH2), 2.54 (s, 2H, CH), 4.72
(s, 4H, OCH2), 6.96-7.66 ((m, 18H, Vinyl及びAromat
ic)1 3 C-NMR (CDCl3), δ 13.90, 22.49, 23.68, 29.66, 3
1.41, 40.48, 54.89, 55.81, 75.59, 78.50 ,115.17, 1
19.86, 120.57, 125.48, 127.28, 127.65, 127.83, 13
1.32, 136.46, 140.47, 151.56, 157.19
【0040】実施例10 3,6−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
N−n−ヘキシルカルバゾール(M−10)の合成 2,7−ビス(パラ−ヒドロキシスチリル)−9,9′
−ジ−n−ヘキシルフルオレンの代わりに3,6−ビス
(パラ−ヒドロキシスチリル)−N−n−ヘキシルカル
バゾール9.7g(0.02モル)を使用して、前記実
施例9と同様の方法により反応させて、純粋な黄色の固
体7.3g(収率65%)を得、融点は119〜120
℃であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.86-0.89, 1.26-1.33, 1.82-1.86
(m, 11H, CH2及びCH3),2.54 (s, 2H, CH), 4.22-4.29
(t, 2H, NCH2), 4.72 (s, 4H, CH2), 6.97-7.66(m, 16
H, Vinyl及びAromatic), 8.22 (s, 2H, Aromatic)1 3 C-NMR (CDCl3), δ 13.88, 22.41, 26.81, 28.87, 3
1.45, 43.15, 55.82, 75.51, 78.59, 108.98, 115.16,
118.39, 123.25, 124.47, 125.49, 127.36, 128.05, 12
8.92, 131.74, 140.47, 156.85
【0041】実施例11 1,4−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
2,5−ジ−n−ヘキシルオキシベンゼン(M−11)
の合成 2,7−ビス(パラ−ヒドロキシスチリル)−9,9′
−ジ−n−ヘキシルフルオレンの代わりに1,4−ビス
(パラ−ヒドロキシスチリル)−2,5−ジ−n−ヘキ
シルオキシベンゼン10.3g(0.02モル)を使用
して、前記実施例9と同様の方法により反応させ、エチ
ルアセテートで再結晶させて、純粋な淡黄色の固体1
0.5g(収率89%)を得、融点は95〜96℃であ
った。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.89-0.96, 1.25-1.40, 1.83-1.93
(m, 22H, CH2及びCH3),2.54 (c, 2H, CH), 4.01-4.07
(t, 4H, OCH2), 4.72 (s, 4H, OCH2), 6.95-7.50 (m, 1
4H, Vinyl及びAromatic)1 3 C-NMR (CDCl3), δ 12.34, 20.96, 24.27, 27.82, 2
9.96, 54.17, 67.92, 73.94, 76.95, 108.90, 113.50,
120.39, 125.24, 126.08, 126.36, 130.19, 149.44, 15
5.51
【0042】重合体の合成 実施例12 2,7−ジエチニル−9,9′−ジ−n−ヘキシルフル
オレンの重合(P−1) 窒素雰囲気下で撹拌機の付着した50mlフラスコに2,
7−ジエチニル−9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレ
ン1.52g(4.0ミリモル)、塩化銅(CuCl)
0.10g(10.0ミリモル)、テトラメチルエチレ
ンジアミン(N,N,N′,N′−tetramethylethylen
ediamine)1.50g(12.9ミリモル)及びクロロ
ベンゼン(chlorobenzene)20mlを入れ、常温で酸素
を吹き込みながら(bubbling)1時間の間反応させた。
粘性のある反応液を2.0N 塩酸10mlが入っている1
リットルのメタノール溶液にゆっくり滴下して重合体を
析出させた。析出された固体を濾過した後クロロホルム
に溶解させ、更にメタノールに再沈殿させると、精製さ
れた固体が得られた。該固体をメタノールでよく洗った
後40℃の真空オーブンで充分に乾燥させて、重量1.
35gの黄色の固体を得た。該重合体をテトラヒドロフ
ラン溶媒でポリスチレン基準物質を使用してGPCによ
り質量平均分子量及び分子量の分布を測定した結果、そ
れぞれ202,000及び3.64であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.5-1.2 (br, m, CH3及びCH2), 1.
8-2.1 (br, s, CCH2), 7.4-7.7 (br, m, Aromatic)1 3 C-NMR (CDCl3), δ 13.92, 22.52, 23.65, 29.57, 3
1.42, 40.13, 55.22, 74.57, 83.11, 120.32, 120.73,
126.98, 131.78, 141.34, 151.36
【0043】実施例13 2,7−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレンの重合(P−
2) 2,7−ジエチニル−9,9′−ジ−n−ヘキシルフル
オレン及びクロロベンゼン(chlorobenzene)20mlの
代わりに2,7−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチ
リル)−9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレン2.5
8g(4.0ミリモル)及びオルト−ジクロロベンゼン
(o−dichlorobenzene)30mlをそれぞれずつ使用し
て前記実施例12と同様の方法により重合させて、1.
98gの黄色の固体を得た。該重合体をテトラヒドロフ
ラン溶媒でポリスチレン基準物質を使用してGPCによ
り質量平均分子量及び分子量の分布を測定した結果、そ
れぞれ119,900及び5.23であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.71-1.25 (br, m, CH3及びCH2),
2.03 (br, s, CCH2), 4.77 (s, OCH2), 6.93-7.62 (m,
Vinyl及びAromatic)
【0044】実施例14 3,6−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
N−n−ヘキシルカルバゾールの重合(P−3) 2,7−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレンの代わりに3,
6−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−N−
n−ヘキシルカルバゾールを2.25g(4.0ミリモ
ル)を使用して前記実施例13と同様の方法により重合
させた結果、1.34gの黄色の固体を得た。該重合体
をクロロホルム溶媒でポリスチレン基準物質を使用して
GPCにより質量平均分子量及び分子量の分布を測定し
た結果、それぞれ47,500及び3.56であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.82-1.73 (br, m, CH3及びCH2),
4.10 (br, s, NCH2), 4.64 (br, s, OCH2), 6.87-7.42
(br, m, Vinyl及びAromatic), 8.12 (br, s, Aromatic)
【0045】実施例15 1,4−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
2,5−ジ−n−ヘキシルオキシベンゼンの重合(P−
4) 2,7−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレンの代わりに1,
4−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−2,
5−ジ−n−ヘキシルオキシベンゼンを2.36g
(4.0ミリモル)を使用して前記実施例13と同様の
方法により重合させた結果、1.85gの黄色の固体を
得た。該重合体をクロロホルム溶媒でポリスチレン基準
物質を使用してGPCにより質量平均分子量及び分子量
の分布を測定した結果、それぞれ86,300及び4.
87であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.90-1.85 (br, m, CH2及びCH3),
4.02-4.04 (br, t, OCH2), 4.76 (br, s, OCH2), 6.92-
7.48 (br, m, Vinyl及びAromatic)
【0046】実施例16 2,7−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレンと3,6−ビス
(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−N−n−ヘキ
シルカルバゾールとの共重合(C−1) 窒素雰囲気下で撹拌機の付着した50mlフラスコに2,
7−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−9,
9′−ジ−n−ヘキシルフルオレン1.29g(2.0
ミリモル)、3,6−ビス(パラ−プロパルギルオキシ
スチリル)−N−n−ヘキシルカルバゾール1.13g
(2.0ミリモル)、塩化銅(CuCl)0.10g
(10.0ミリモル)及びテトラメチルエチレンジアミ
ン(N,N,N′,N′−tetramethylethylenediamin
e)1.50g(12.9ミリモル)をオルト−ジクロ
ロベンゼン(o−chlorobenzene)30mlに入れ、常温
で酸素を吹き込みながら(bubbling)1時間の間反応さ
せた。粘性のある反応液を2.0N 塩酸10mlが入って
いる1リットルのメタノール溶液にゆっくり滴下して重
合体を析出させた。析出された固体を濾過させてクロロ
ホルムに溶解し、更にメタノールに再沈殿させて精製さ
れた固体を得た。該固体をメタノールでよく洗った後4
0℃の真空オーブンで充分に乾燥させて、重量1.95
gの黄色の固体を得た。該重合体をテトラヒドロフラン
溶媒でポリスチレン基準物質を使用してGPCにより質
量平均分子量及び分子量の分布を測定した結果、それぞ
れ94,600及び6.79であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.74-1.98 (br, m, CH3及びCH2),
4.20 (br, s, NCH2), 4.75 (br, s, OCH2), 6.92-7.59
(br, m, Vinyl及びAromatic), 8.17 (br, s, Aromatic)
【0047】実施例17 2,7−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレンと1,4−ビス
(パラ−プロパルギルオキシスチリル)2,5−ジ−n
−ヘキシルオキシベンゼンとの共重合(C−2) 3,6−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
N−n−ヘキシルカルバゾールの代わりに1,4−ビス
(パラ−プロパルギルオキシスチリル)2,5−ジ−n
−ヘキシルオキシベンゼン1.18g(2.0ミリモ
ル)を使用して前記実施例16と同様の方法により重合
させた結果、2.12gの黄色の固体を得た。該重合体
をテトラヒドロフラン溶媒でポリスチレン基準物質を使
用してGPCにより質量平均分子量及び分子量の分布を
測定した結果、それぞれ145,000及び5.01で
あった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.71-1.99 (br, m, CH3及びCH2),
4.03 (br, t, OCH2), 4.77 (br, s, OCH2), 6.91-7.61
(br, m, Vinyl及びAromatic)
【0048】実施例18 2,7−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレンとジプロパンギ
ルビスフェノールAとの共重合(C−3) 3,6−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
N−n−ヘキシルカルバゾールの代わりにジプロパンギ
ルビスフェノールAを0.61g(2.0ミリモル)を
使用して前記実施例16と同様の方法により重合させた
結果、1.45gの黄色の固体を得た。該重合体をテト
ラヒドロフラン溶媒でポリスチレン基準物質を使用して
GPCにより質量平均分子量及び分子量の分布を測定し
た結果、それぞれ26,100及び2.30であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.71-2.01 (br, m, CH3及びCH2),
4.70 (br, s, OCH2), 4.77 (br, s, OCH2), 6.81-7.51
(br, m, Vinyl及びAromatic)
【0049】実施例19 2,7−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
9,9′−ジ−n−ヘキシルフルオレンとジプロパンギ
ルテレフタレートとの共重合(C−4) 3,6−ビス(パラ−プロパルギルオキシスチリル)−
N−n−ヘキシルカルバゾールの代わりにジプロパンギ
ルテレフタレート0.48g(2.0ミリモル)を使用
して前記実施例16と同様の方法により重合させた結
果、1.23gの黄色の固体を得た。該重合体をテトラ
ヒドロフラン溶媒でポリスチレン基準物質を使用してG
PCにより質量平均分子量及び分子量の分布を測定した
結果、それぞれ36,900及び2.37であった。1 H-NMR (CDCl3), δ 0.70-2.02 (br, m, CH3及びCH2),
4.79 (br, s, OCH2), 5.01 (br, s, COOCH2), 6.93-7.6
7 (br, m, Vinyl及びAromatic)
【0050】実施例20 構造分析、紫外線、光発光及び電界発光特性 前記実施例により製造された代表的な各単量体の紫外線
(Ultraviolet-Visible、以下、UV−Visという)
及び光発光(Photoluminescence、以下、PLという)
スペクトルを図1〜図4に示した。かつ図5及び図6に
は、実施例12により製造された高分子の水素及び炭素
の核磁気共鳴スペクトルを示した。また、図7〜図9に
は、重合体フィルムの機械的特性、UV−Vis及びP
Lスペクトルを示した。なお、高分子薄膜の形成は、前
記重合体又は共重合体0.1gを5mlのクロロホルム溶
液に溶解した後、0.2μmのフィルターを使用して精
製し、薄膜の厚さが100nm程度となるようにスピン速
度を制御しながら(普通は900〜1,200rpm)ス
ピンコーティングを行った。次いで、コーティングされ
た試料を常温乾燥させた後、まずUVスペクトル値を求
め、UVピークの最大値の波長を利用してPLスペクト
ルを求めた。このようにして得られた結果を図10〜図
15に示した。一方、電界発光(Electroluminescenc
e、以下、EL素子という)素子の構成は、最も一般に
使用されているITO/発光層/電極により構成される
素子を制作してEL特性を調査した。ここで、前記発光
層は、前記実施例により製造された重合体をそのまま使
用するか、又はそれを上述した汎用高分子、例えば、ポ
リビニルカルバゾール、ポリメチルメタアクリレート、
ポリスチレン及びエポキシ樹脂などをクロロホルム溶媒
で本発明に係る重合体とブレンドしたものを使用するこ
とが可能で、電極としてはアルミニウムを選択した。製
造方法としては、上述したVU−Vis及びPLスペク
トル測定用試料の製造方法と同様にITOガラス基板に
100nmにスピンコーティングされた発光層上にアルミ
ニウムを真空蒸着することにより素子を構成した。代表
的に、ポリビニルカルバゾールとブレンドして得た実施
例17により共重合体のELスペクトルの結果を図16
に示した。
【0051】
【発明の効果】以上説明したように、ジアセチレン及び
フルオレンから交互共重合体を合成することにより、分
子量が大きくて物理的性質が安定され、青緑色の発光効
率の高い発光高分子を得ることが可能で、該発光分子を
材料として製造された発光ダイオードは高い光効率を表
す。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1に係る単量体M−1のUV−Vis
(−)及びPLスペクトル(クロロホルム溶液)であ
る。
【図2】実施例3に係る単量体M−3のUV−Vis
(−)及びPLスペクトル(クロロホルム溶液)であ
る。
【図3】実施例6に係る単量体M−6のUV−Vis
(−)及びPLスペクトル(クロロホルム溶液)であ
る。
【図4】実施例9に係る単量体M−9のUV−Vis
(−)及びPLスペクトル(クロロホルム溶液)であ
る。
【図5】実施例12に係る重合体P−1の1H−NMR
スペクトルである。
【図6】実施例12に係る重合体P−1の1 3C−NMR
スペクトルである。
【図7】実施例12に係る重合体P−1フィルムの応力
−ひずみ(stress-strain)曲線である。
【図8】実施例12に係る重合体P−1フィルムのUV
−Visスペクトルである。
【図9】実施例12に係る重合体P−1フィルムのPL
スペクトル(ポリビニルカルバゾール/P−1=8/
2)である。
【図10】実施例13に係る重合体P−2のUV−Vi
s(−)及びPLスペクトル(クロロベンゼン溶液)で
ある。
【図11】実施例14に係る重合体P−3のUV−Vi
s(−)及びPLスペクトルである。
【図12】実施例16に係る共重合体C−1のUV−V
is(−)及びPLスペクトル(クロロベンゼン溶液)
である。
【図13】実施例17に係る共重合体C−2フィルムの
UV−Vis(−)及びPLスペクトルである。
【図14】実施例18に係る共重合体C−3のUV−V
is(−)及びPLスペクトル(クロロベンゼン溶液)
である。
【図15】実施例19に係る共重合体C−4のUV−V
is(−)及びPLスペクトル(クロロベンゼン溶液)
である。
【図16】実施例17に係る共重合体C−2のELスペ
クトル(ポリビニルカルバゾール/C−2=8/2)で
ある。
【手続補正書】
【提出日】平成12年2月4日(2000.2.4)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項1
【補正方法】変更
【補正内容】
【化1】 化学式(I)中、Arは、下記の群(II)から選択され
る発光団を表し、
【化2】 群(II)中、置換基R及びR′は、互いに同一であるか
異なり、水素、炭素数1〜22個の脂肪族又は脂環族の
アルキル基又はアルコキシ基、炭素数6〜18個のアリ
ール又はアリールオキシ基、ケイ素、スズ及びゲルマニ
ウム等のアルキル又はアリール誘導体を表示し、nは3
〜1,000の定数を示している。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項2
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項3
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】群(II)中、置換基R及びR′は、互いに
同一であるか異なり、水素、炭素数1〜22個の脂肪族
又は脂環族のアルキル基又はアルコキシ基、炭素数6〜
18個のアリール又はアリールオキシ基、ケイ素、スズ
及びゲルマニウム等のアルキル又はアリール誘導体を表
示し、nは3〜1,000の定数を示している。
フロントページの続き (72)発明者 チュン・ユプ・キム 大韓民国、ソウル 135−090、カンナム− ク、サムスン−ドン、78、チュングアパー ト 101−1403 (72)発明者 ヒュン・ナム・チョウ 大韓民国、ソウル 150−050、ユンデュン ポ−ク、シンキル−ドン、2−38、33/9 (72)発明者 ドン・ヨン・キム 大韓民国、ソウル 130−050、ドンデムー ン−ク、ホエキ−ドン、65、シンヒュンダ イアパート 1−1103 (72)発明者 ヨン・チュル・キム 大韓民国、ソウル 139−221、ノウン− ク、ジュンケイ 1−ドン(番地なし)、 チュング3−チャアパート 106−505 (72)発明者 ジェ−ミン・ホン 大韓民国、ソウル 136−075、スンブック −ク、アナム−ドン、5−カ、159−4 (72)発明者 ジャイ・キョン・キム 大韓民国、ソウル 120−192、セオデムー ン−ク、ブーガヒュン 2−ドン、176− 125 (72)発明者 ジェ−ウーン・ユ 大韓民国、ソウル 137−049、スチョウ− ク、バンポボン−ドン(番地なし)、バン ポアパート 104−503

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の化学式(I)の構造を有するジアセ
    チレン系重合体。 【化1】 化学式(I)中、Arは、下記の群(II)から選択され
    る発光団を表し、 【化2】 群(II)中、置換基R及びR′は、互いに同一であるか
    異なり、水素、炭素数1〜22個の脂肪族又は脂環族の
    アルキル基又はアルコキシ基、炭素数6〜18個のアリ
    ール又はアリールオキシ基、ケイ素、スズ及びゲルマニ
    ウム等のアルキル又はアリール誘導体を表示し、nは1
    以上の定数を示している。
  2. 【請求項2】 前記R及びR′は、水素、メチル、エチ
    ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペ
    ンチル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチ
    ル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサ
    デシル、オクタデシル、ドコシル、シクロプロピル、シ
    クロペンチル、シクロヘキシル、メトキシ、エトキシ、
    ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、
    メトキシエトキシエトキシエチル、フェニル、フェノキ
    シ、トリル、ベンジル、ナフチル、アントラニル、トリ
    メチルシリル、トリフェニルシリル、トリブチルチン及
    びトリエチルゲルマニウムからなる群より独立して選択
    され、nは1〜2,000の定数である、請求項1記載
    のジアセチレン系重合体。
  3. 【請求項3】 前記R及びR′は、n−ヘキシル基で、
    nは3〜1,000の定数である、請求項1又は2記載
    のジアセチレン系重合体。
  4. 【請求項4】 請求項1に係る2種以上のジアセチレン
    系重合体をモノマー反復単位とする共重合体。
  5. 【請求項5】 請求項1に係るジアセチレン系重合体と
    下記の群(III)から選択されるアセチレン系化合物と
    の共重合体。 【化3】
  6. 【請求項6】 発光層の発光材料が、請求項1に係る化
    学式(I)のジアセチレン系重合体である、陽極/発光
    層/陰極、又は陽極/正孔伝達層/発光層/陰極により
    構成された電界発光素子。
  7. 【請求項7】 ジアセチレン系重合体を、熱及び/又は
    光により架橋させている、請求項6記載の電界発光素
    子。
  8. 【請求項8】 前記発光層は、化学式(I)のジアセチ
    レン系重合体と汎用高分子とをブレンドして形成させた
    ものである、請求項6記載の電界発光素子。
  9. 【請求項9】 前記汎用高分子が、ポリビニルカルバゾ
    ール、ポリメチルメタアクリレート、ポリアクリレー
    ト、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリビニルクロ
    ライド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアクリロ
    ニトリル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコー
    ル、ポリビニルアセテート、ポリビニルブチラール、ポ
    リビニルアミン、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテ
    レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレ
    タン、ABS、ポリスルホン、ポリビニルフルオライ
    ド、アセタール樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリエ
    ステル、アルキド樹脂、ウレア樹脂、フラン樹脂、ナイ
    ロン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、シリコーン及び
    エポキシ樹脂の中から選択される、請求項8記載の電界
    発光素子。
  10. 【請求項10】 ジアセチレン系重合体が前記汎用高分
    子に対し0.1〜99.9重量%の量でブレンドされて
    いる、請求項8又は9記載の電界発光素子。
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