JP2000208586A - フラットパネルディスプレイの製造ライン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の流れの簡素化と、１枚の基板上に駆動
回路が完成するまでの時間を短縮して在庫を少なくす
る。 【解決手段】 ブロック間搬送手段３で複数のブロック
２が連結され、各ブロック２は一つの露光ゾーン12と、
それぞれ複数の薄膜形成ゾーン11及びエッチングゾーン
13とを備えている。薄膜形成ゾーン11は洗浄工程４及び
薄膜形成工程５で、露光ゾーン12はレジスト塗布工程
６、露光工程７及び現像工程８で、エッチングゾーン13
はエッチング工程９及びレジスト剥離工程10でそれぞれ
構成されている。ブロック２内での薄膜形成ゾーン11及
びエッチングゾーン13での基板の流れは同方向となり、
露光ゾーン12での基板の流れは他のゾーンでの基板の流
れと逆方向となるように各ゾーンが配置されている。基
板の流れが薄膜形成ゾーン11→露光ゾーン12→エッチン
グゾーン13となるようにゾーン間搬送車17が基板を搬送
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はフラットパネルディ
スプレイの製造ラインに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】フラットパネルディスプレイの駆動回路
は、図７に示す各工程、即ち洗浄工程６１、薄膜形成工
程６２、レジスト塗布工程６３、露光工程６４、現像工
程６５、エッチング工程６６及びレジスト剥離工程６７
から成るパターン形成工程を所定回数繰り返すことによ
り形成される。

【０００３】従来、フラットパネルディスプレイ（例え
ば液晶表示装置）の駆動回路の製造ラインは、同種機能
の製造装置群をまとめて配置するジョブショップが主流
になっており、基板（ガラス基板）は基板を複数枚収容
可能なカセットに収容されて各工程間を搬送されてい
た。各工程では処理能力を高めるため複数枚のガラス基
板を同時に処理するバッチ処理が行われるものが多い
が、マザー・ガラスの大型化によってバッチ方式では均
一性を確保するのが難しくなった。そのため、エッチン
グ、レジスト剥離工程等がガラス基板を１枚単位で処理
する枚葉処理に変わり、露光工程では枚葉式が主流にな
っている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来装置で
は枚葉処理を行う工程でも、ガラス基板は複数枚（例え
ば２０枚）のガラス基板を収容するカセットに収容され
た状態で当該工程に搬入される。そして、ガラス基板が
１枚ずつ処理され、当該工程の処理が完了したものが順
次カセットに収容され、１カセット分のガラス基板の処
理が終了した後、次工程あるいはストッカーへ搬送され
る。従って、従来装置では枚葉処理が行われる場合で
も、各工程の処理単位はカセットに収容されるガラス基
板の枚数になる。その結果、１枚当たりの処理時間が同
じでもパターン形成工程にガラス基板が受け入れられた
後、製品として出てくるまでの時間が長くなり、少量の
製品を短期で納入するためには、工程内在庫を確保して
おく必要があるという問題がある。また、各工程で製品
検査を行う場合１カセット分の処理が終了した後に搬送
されるため、工程の故障で不良品が発生した時に１カセ
ット分が不良品となって製品の歩留まりが低下するとい
う問題もある。

【０００５】本発明は前記の問題点に鑑みてなされたも
のであって、その目的は基板の流れの簡素化と、１枚の
基板上に駆動回路が完成するまでの時間を短縮して在庫
を少なくすることができるフラットパネルディスプレイ
の製造ラインを提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明では、駆動回路の製造工程を
構成する、洗浄工程、薄膜形成工程、レジスト塗布工
程、露光工程、現像工程、エッチング工程及びレジスト
剥離工程のうち、レジスト塗布工程、露光工程及び現像
工程を除く各工程を、パターン形成工程毎にフローショ
ップ方式とし、かつ前記フローショップ方式の各工程で
基板を１枚ずつ順次受け入れて枚葉処理を行い、洗浄工
程と薄膜形成工程との組みを第１のゾーン、レジスト塗
布工程、露光工程及び現像工程を第２のゾーン、エッチ
ング工程とレジスト剥離工程との組みを第３のゾーンと
し、第１及び第３のゾーンと、第２のゾーンとを組み合
わせて一つのブロックを構成し、ブロック内における前
記第１及び第３のゾーンにおける基板の流れは同方向と
なり、第２のゾーンにおける基板の流れは第１及び第３
のゾーンにおける基板の流れと逆方向となるように各ゾ
ーンを配置し、ブロック内における各ゾーン間で基板を
搬送するゾーン間搬送手段による基板の搬送経路が各パ
ターン形成工程において第１のゾーン→第２のゾーン→
第３のゾーンとなるようにゾーン間搬送手段を配設し
た。

【０００７】請求項２に記載の発明では、請求項１に記
載の発明において、前記各ゾーンには入口側及び出口側
の少なくとも一方に前記基板を一時保管するストッカー
が設けられている。

【０００８】請求項３に記載の発明では、請求項１又は
請求項２に記載の発明において、前記ブロックは複数設
けられ、各ブロック間は基板の搬送を行うブロック間搬
送手段で連結されている。

【０００９】請求項４に記載の発明では、請求項３に記
載の発明において、前記ブロック間搬送手段は前記基板
の搬送を複数枚ずつ行う。請求項５に記載の発明では、
請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の発明におい
て、前記ゾーン間搬送手段は前記基板の搬送を１枚ずつ
行う。

【００１０】従って、請求項１に記載の発明では、駆動
回路の各パターン形成工程が、洗浄工程と薄膜形成工程
との組みからなる第１のゾーン、一組のレジスト塗布工
程、露光工程及び現像工程からなる第２のゾーン、エッ
チング工程とレジスト剥離工程との組みからなる第３の
ゾーンの３ゾーンに区分される。第１及び第３のゾーン
の各工程の処理は枚葉処理で行われる。基板は、第１の
ゾーン→第２のゾーン→第３のゾーンの順でゾーン間搬
送手段によって搬送される。基板は必要な数のパターン
形成層数と同じ回数だけ前記第１のゾーン→第２のゾー
ン→第３のゾーンの順で各工程の処理を受ける。

【００１１】請求項２に記載の発明では、請求項１に記
載の発明において、前記各ゾーンに搬入される基板は、
入口側及び出口側の少なくとも一方に設けられたストッ
カーに一時保管される。各ストッカーはゾーン間の基板
の移動、ゾーン内での基板の移動のバッファとなる。

【００１２】請求項３に記載の発明では、請求項１又は
請求項２に記載の発明において、製造ラインに搬入され
た基板は、第１のブロックで、第１のゾーン→第２のゾ
ーン→第３のゾーンの順にゾーン間搬送手段で所定回数
搬送されるとともに各工程で処理を受ける。その後、ブ
ロック間搬送手段によって次のブロックへ搬送され、同
様にして第１のゾーン→第２のゾーン→第３のゾーンの
順に所定回数搬送されて各工程で処理を受ける。そし
て、全ブロックで同様の作業が行われる。

【００１３】請求項４に記載の発明では、請求項３に記
載の発明において、前記ブロック間搬送手段により前記
基板は複数枚ずつ同時に搬送される。従って、ブロック
間搬送手段の搬送速度が比較的遅くても、基板１枚当た
りの所要搬送時間は短くなるため、ブロック間搬送手段
を高速で移動させなくても製造ラインが円滑に運転され
る。

【００１４】請求項５に記載の発明では、請求項１〜請
求項４のいずれか一項に記載の発明において、基板はゾ
ーン間搬送手段によって１枚ずつ次のゾーンへ搬送され
る。従って、製造ラインの運転立ち上げ時に、必要な仕
掛品の数が少なくなる。

【００１５】

【発明の実施の形態】（第１の実施の形態）以下、本発
明をフラットパネルディスプレイとしての液晶表示装置
の駆動回路の製造ラインに具体化した第１の実施の形態
を図１〜図３に従って説明する。

【００１６】図１に示すように、駆動回路としてのＴＦ
Ｔ（薄膜トランジスタ）の製造ライン１は、それぞれ複
数（この実施の形態では２つ）のパターン形成工程を備
えた複数（この実施の形態では３つ）のブロック２と、
各ブロック２間を連結して基板（ガラス基板）の搬送を
行うブロック間搬送手段３を備えている。各パターン形
成工程は、洗浄工程４、薄膜形成工程５、レジスト塗布
工程６、露光工程７、現像工程８、エッチング工程９及
びレジスト剥離工程１０を備えている。パターン形成工
程は大きく分けると、第１のゾーンとしての薄膜形成ゾ
ーン１１、第２のゾーンとしての露光ゾーン１２及び第
３のゾーンとしてのエッチングゾーン１３の３つのゾー
ンに区分されている。薄膜形成ゾーン１１は洗浄工程４
及び薄膜形成工程５で構成され、露光ゾーン１２はレジ
スト塗布工程６、露光工程７及び現像工程８で構成さ
れ、エッチングゾーン１３はエッチング工程９及びレジ
スト剥離工程１０で構成されている。各ブロック２は一
つの露光ゾーン１２と、露光ゾーン１２の処理能力に応
じたそれぞれ複数（この実施の形態では２つ）の薄膜形
成ゾーン１１及びエッチングゾーン１３とを備えてい
る。

【００１７】薄膜形成ゾーン１１及びエッチングゾーン
１３の各工程は、ガラス基板を１枚ずつ順次受け入れて
枚葉処理を行うように構成されている。薄膜形成ゾーン
１１及びエッチングゾーン１３の各工程はそれぞれ一列
に配置され、ゾーン内搬送手段１４によって接続されて
いる。露光ゾーン１２のレジスト塗布工程６、露光工程
７及び現像工程８は１台のインライン設備として配置さ
れている。薄膜形成ゾーン１１、露光ゾーン１２及びエ
ッチングゾーン１３の入口側にはストッカー１５ａが、
出口側にはストッカー１５ｂがそれぞれ配設されてい
る。各ゾーン１１〜１３は、ゾーン間搬送手段を構成す
るループ状のレール１６の内側において、互いにほぼ平
行に延びるように配置されている。各ストッカー１５
ａ，１５ｂはレール１６に面した状態で配置されてい
る。即ち、各ゾーン１１〜１３はレール１６に対してラ
ダー状に配置されて一つのブロック２が構成されてい
る。

【００１８】薄膜形成ゾーン１１及びエッチングゾーン
１３は、図２に矢印で示すガラス基板の流れの方向が同
じ方向となるように、かつ第一層用と第二層用の二つの
薄膜形成ゾーン１１及びエッチングゾーン１３同士がそ
れぞれ隣接するように配置されている。また、露光ゾー
ン１２は、ガラス基板の流れの方向が薄膜形成ゾーン１
１及びエッチングゾーン１３における方向と逆方向とな
るように、レジスト塗布工程６、露光工程７及び現像工
程８が配置されている。

【００１９】ゾーン間搬送手段を構成するゾーン間搬送
車１７は図示しない駆動源を介して、レール１６上を一
定方向（図１，２では左回りとなる方向）に走行可能に
配備されている。駆動源としては例えばリニアモータが
使用されている。ゾーン間搬送車１７は図示しないガラ
ス基板を支持する受け台を備えるとともに、受け台とス
トッカー１５ａ，１５ｂとの間でガラス基板の受渡を行
う受渡機構（図示せず）を備えている。そして、ゾーン
間搬送車１７はブロック２内におけるガラス基板の搬送
経路が、各パターン形成工程において薄膜形成ゾーン１
１→露光ゾーン１２→エッチングゾーン１３となるよう
にガラス基板を搬送する。

【００２０】図３に示すように、薄膜形成ゾーン１１に
は薄膜形成工程５の処理装置１８の前にロボット（ハン
ドラー）１９が配置され、そのロボット１９を挟んで両
側にゾーン内搬送手段１４を構成する２台の搬送装置２
０が配置されている。各搬送装置２０は、ガラス基板の
下面を支持する受け台と、受け台上の基板の移載を行う
移載機構（いずれも図示せず）とを備えた移動体２１
が、レール２２に沿って往復移動する構成となってい
る。移動体２１は駆動源として例えばリニアモータを使
用している。

【００２１】各搬送装置２０の端部と対向する位置には
移載ステーション２３がそれぞれ配置されている。移載
ステーション２３はＸ−Ｙ方向の位置合わせを行うため
のアライメントと、ガラス基板の向きを水平面内で９０
度変更するための回転手段（いずれも図示せず）とを有
する。移載ステーション２３は移動体２１からガラス基
板が受け渡されると、ガラス基板を処理装置への受渡に
適した向き及び位置でロボット１９がガラス基板を受け
取ることができるようにガラス基板の位置調整を行う。
また、ロボット１９からガラス基板が受け渡されると、
移動体２１が受け取り易い位置となるようにガラス基板
の位置調整を行う。

【００２２】洗浄工程４の処理装置２４はロボット２４
ａを備えており、ロボット２４ａと対応する位置に配置
された移載ステーション２５は、アライメントと回転手
段の他に、それらの手段の下方を移動体２１が通過可能
な位置と、移動体２１又はロボット２４ａとの間でガラ
ス基板の授受が可能な位置とに移動させる図示しない昇
降手段を備えている。

【００２３】エッチングゾーン１３にも同様にプロセス
フローに従って配設された処理装置の前又は処理装置間
の必要な箇所と、ストッカー１５ａ，１５ｂと対応する
箇所とに移載ステーション（図示せず）が配置されてい
る。各ストッカー１５ａ，１５ｂには移載ステーション
２３上からガラス基板をストッカー１５ａ，１５ｂ内に
取り込む作用をなす取込み装置が装備されている。

【００２４】図１に示すように、各ブロック２にはレー
ル１６の外側で当該ブロック２における最後のパターン
形成の際に使用されるエッチングゾーン１３の出口側の
ストッカー１５ｂと対応する箇所に出口２ｂが設けられ
ている。製造ライン１の入口側のブロック２には最初の
パターン形成の際に使用される薄膜形成ゾーン１１の入
口側のストッカー１５ａと対応する箇所に入口２ａが設
けられ、他のブロック２にはレール１６の外側で上流側
に配置されたブロック２の出口２ｂに近い箇所に入口２
ａが設けられている。隣接するブロック２の出口２ｂと
入口２ａとがブロック間搬送手段３により連結されてい
る。ブロック間搬送手段３はガラス基板の下面を支持す
る受け台を備えたブロック間搬送車２６が、レール２７
に沿って往復移動する構成となっている。ブロック間搬
送車２６は駆動源として例えばリニアモータを使用して
いる。

【００２５】製造ライン１の出口側のブロック２にはレ
ール１６の内側に、完成したＴＦＴアレイ基板と組み合
わせて液晶パネルを構成するＴＦＴカラーフィルタを製
造するカラーフィルタ製造工程２８が配置されている。
カラーフィルタ製造工程２８の入口側にはストッカー２
８ａが、出口側にはストッカー２８ｂが配設されてい
る。レール１６の外側にはストッカー２８ａと対向する
位置にフィルタ用基板の搬入口２９ａが、ストッカー２
８ｂと対向する位置にはＴＦＴカラーフィルタの搬出口
２９ｂがそれぞれ配設されている。

【００２６】次に前記のように構成された製造ライン１
の作用を説明する。製造ライン１の立ち上げ時には、各
ゾーン１１〜１３の出口側のストッカー１５ｂに仕掛品
が所定量収容された状態で運転が開始される。製造ライ
ン１の入口側のブロック２（図１の左端のブロック２）
に入口２ａから１枚ずつ搬入されたガラス基板は、ゾー
ン間搬送車１７によって第１層用の薄膜形成ゾーン１１
のストッカー１５ａに搬送される。ガラス基板は一旦ス
トッカー１５ａに格納された後に、ゾーン内搬送手段１
４によって搬送されるとともに、洗浄工程４及び薄膜形
成工程５で処理された後、薄膜形成ゾーン１１の出口側
のストッカー１５ｂに格納される。

【００２７】ゾーン間搬送車１７は薄膜形成ゾーン１１
のストッカー１５ｂに格納されたガラス基板を１枚ずつ
受け取り、露光ゾーン１２の入口側のストッカー１５ａ
へ搬送して格納する。格納されたガラス基板は、１枚ず
つ取り出されてレジスト塗布工程６、露光工程７及び現
像工程８の処理を経て露光ゾーン１２の出口側のストッ
カー１５ｂに格納される。次にこのガラス基板は再びゾ
ーン間搬送車１７によって１枚ずつ第１層用のエッチン
グゾーン１３の入口側のストッカー１５ａへ搬送され
る。エッチングゾーン１３では、エッチング工程９及び
レジスト剥離工程１０の順にガラス基板の処理が行われ
た後、ガラス基板は出口側のストッカー１５ｂに格納さ
れる。この時点で、最初のブロック２での第１層のパタ
ーン形成のサイクルが完了する。

【００２８】更にガラス基板はゾーン間搬送車１７によ
って第２層用の薄膜形成ゾーン１１のストッカー１５ａ
へ搬送され、前記と同様にして薄膜形成ゾーン１１、露
光ゾーン１２、エッチングゾーン１３の順で各工程の処
理を受けて第２層のパターン形成が完了する。即ち、ガ
ラス基板は基本的に１枚ずつ図２に矢印で示すように各
パターン形成工程を順次フローショップ的な流れで移動
する。

【００２９】第２層のパターン形成が完了したガラス基
板はブロック間搬送車２６によって次のブロック２へ搬
送される。ガラス基板のブロック間搬送車２６への受渡
は、ブロック間搬送車２６が出口２ｂに停止した状態
で、ゾーン間搬送車１７がブロック間搬送車２６と対向
する位置で停止し、ストッカー１５ｂからガラス基板を
取り出してブロック間搬送車２６の受け台上に受け渡す
ことにより行われる。また、ブロック間搬送車２６の受
け台上のガラス基板は、ブロック間搬送車２６がブロッ
ク２の入口２ａに停止した状態で、ブロック間搬送車２
６と対向する位置で停止したゾーン間搬送車１７の受け
台上に移載される。そして、ゾーン間搬送車１７により
薄膜形成ゾーン１１のストッカー１５ａに受け渡され
る。

【００３０】各ブロック２で２層ずつパターン形成が行
われ、合計６回のパターン形成工程を経て必要なパター
ン形成が完了したガラス基板（ＴＦＴアレイ基板）は、
ストッカー１５ｂに収容された後、出口２ｂから次工程
（セル工程）へ図示しない搬送装置により搬送される。
搬送装置へのガラス基板の受渡は、出口２ｂと対向する
位置で停止したゾーン間搬送車１７が、ストッカー１５
ｂ内のガラス基板を搬送装置へ受け渡すことにより行わ
れる。

【００３１】また、カラーフィルタ製造工程２８には、
図示しない搬送装置により搬入口２９ａからフィルタ用
基板が搬入される。フィルタ用基板は、搬送装置が搬入
口２９ａで停止した状態でゾーン間搬送車１７の受渡機
構を利用して、ストッカー２８ａに受け渡される。カラ
ーフィルタ製造工程２８で完成したＴＦＴカラーフィル
タはストッカー２８ｂに一時収容され、搬出口２９ｂか
ら図示しない搬送装置により次工程（セル工程）へ搬送
される。ストッカー２８ｂから搬送装置へのＴＦＴカラ
ーフィルタの受渡もゾーン間搬送車１７の受渡機構を利
用して行われる。

【００３２】この実施の形態では以下の効果を有する。 （１） ＴＦＴの各層のパターン形成工程毎に基本的に
フローショップ方式で各工程が配置され、フローショッ
プ方式の各工程でガラス基板を１枚ずつ受け入れて枚葉
処理が行われる。従って、１枚のＴＦＴが完成するまで
の時間が短縮され、在庫を少なくできる。また、仕掛品
の検査は１枚の処理が完了した段階でできるため、複数
枚の処理が完了した段階で検査が行われる場合に比較し
て、工程に故障が発生した際の歩留まりが向上する。

【００３３】（２） 各パターン形成工程を薄膜形成ゾ
ーン１１、露光ゾーン１２及びエッチングゾーン１３の
３つのゾーンに区分し、一つの露光ゾーン１２とそれぞ
れ複数の薄膜形成ゾーン１１及びエッチングゾーン１３
との組み合わせで構成したブロック２で製造ライン１が
構成される。従って、製造ライン１をゾーン単位に分割
してレイアウトでき、レイアウトの変更の自由度が大き
くなる。

【００３４】（３） ジョブショップ型の生産ラインに
比較して、ガラス基板の搬送距離が大幅に短縮され、搬
送中におけるガラス基板の破損の機会が大幅に少なくな
る。 （４） 複数のパターン形成工程でレジスト塗布工程
６、露光工程７及び現像工程８を共用しても、ガラス基
板の流れが単純なため、ガラス基板の搬送を自動搬送装
置により円滑に行うことができ、管理工数を削減するこ
とができる。

【００３５】（５） 薄膜形成ゾーン１１、露光ゾーン
１２及びエッチングゾーン１３の入口及び出口にストッ
カー１５ａ，１５ｂが配設されているため、各ゾーン間
の処理能力のアンバランスを吸収して、ガラス基板の流
れ、即ちゾーン内搬送手段１４及びゾーン間搬送車１７
の移動が円滑になる。また、設備（各工程の処理装置
等）の故障が起きた場合にも、ストッカー１５ａ，１５
ｂをバッファとして利用することにより、ライン全体へ
の影響を最小限に抑えることができる。

【００３６】（６） ブロック２が複数設けられ、ブロ
ック単位で生産のプロセスが進行するため、ブロック２
を一つの品質保証の単位として捉えることができ、基板
の品質トラブルの解析等に必要な管理工数を削減するこ
とができる。

【００３７】（７） ゾーン間搬送車１７に基板の受渡
機構を装備し、その受渡機構を利用して各ストッカー１
５ａ，１５ｂと、ゾーン間搬送車１７の受け台との間の
ガラス基板の受渡が行われる。従って、各ストッカー１
５ａ，１５ｂに受渡機構を設けた場合に比較して受渡機
構の数を少なくできる。また、その受渡機構をブロック
間搬送車２６や前工程及び次工程との間に配設された搬
送装置との間のガラス基板の受渡に利用することによ
り、ブロック間搬送車２６や前記搬送装置に受渡機構を
設ける必要がなく、その分、製造コストが安くなる。

【００３８】（８） 各ブロック２の出口２ｂを、当該
ブロック２における最後のパターン形成工程のエッチン
グゾーン１３の出口側ストッカー１５ｂと対向する箇所
としたので、次のブロック２及び次工程への基板の搬送
経路を最短にできる。

【００３９】（９） ゾーン間搬送車１７及びブロック
間搬送車２６はガラス基板の搬送を１枚ずつ行うため、
製造ライン１の立ち上げ時に、各ゾーン１１〜１３の出
口側のストッカー１５ｂに収容する仕掛品の数を少なく
できる。また、ストッカー１５ａ，１５ｂとの間でガラ
ス基板の受渡のために停止する１回の時間が短くなり、
複数のゾーン間搬送車１７が互いに効率よく移動でき
る。

【００４０】（第２の実施の形態）次に第２の実施の形
態を図４に従って説明する。この実施の形態では各ブロ
ック２でパターン形成工程が３つになってブロック２の
数が２個に減った点と、各ブロック２において異なるパ
ターン形成工程のエッチングゾーン１３と薄膜形成ゾー
ン１１が見かけ上一つのゾーンとして露光ゾーン１２と
平行に配置されている点とが大きく異なっている。前記
実施の形態と同一部分は同一符号を付して詳しい説明を
省略する。

【００４１】各ブロック２には平行に配設された一対の
レール１６の間に、露光ゾーン１２と３つの薄膜形成ゾ
ーン１１及びエッチングゾーン１３が平行に配設されて
いる。初めのパターン形成工程のエッチングゾーン１３
と二番目のパターン形成工程の薄膜形成ゾーン１１及び
二番目のパターン形成工程のエッチングゾーン１３と第
３番目のパターン形成工程の薄膜形成ゾーン１１が見か
け上一つのゾーンとして一列に配置されている。一列に
配置されたエッチングゾーン１３と薄膜形成ゾーン１１
の中間にはストッカー３０が配設されている。ゾーン内
搬送手段１４は薄膜形成ゾーン１１及びエッチングゾー
ン１３にそれぞれ対応して設けられている。ゾーン間搬
送車１７はレール１６上を往復移動する。

【００４２】この実施の形態では薄膜形成ゾーン１１の
出口側に配置されたレール１６上を移動するゾーン間搬
送車１７は、薄膜形成ゾーン１１の出口側のストッカー
１５ｂに収容されたガラス基板を取り出して、露光ゾー
ン１２の入口側のストッカー１５ａに収容する。薄膜形
成ゾーン１１及びエッチングゾーン１３の入口側に配置
されたレール１６上を移動するゾーン間搬送車１７は、
露光ゾーン１２の出口側のストッカー１５ｂに収容され
たガラス基板を取り出して、エッチングゾーン１３の入
口側のストッカー１５ａに収容する。エッチングゾーン
１３から次のパターン形成工程の薄膜形成ゾーン１１へ
のガラス基板の搬送はゾーン内搬送手段１４により行わ
れる。エッチングゾーン１３と薄膜形成ゾーン１１との
間のガラス基板の受渡は、通常は各ゾーンに対応して配
設されたゾーン内搬送手段１４間で直接行われる。そし
て、ストッカー３０はエッチングゾーン１３と薄膜形成
ゾーン１１との間の処理能力バランスの調整や故障が発
生したときのバッファとして利用される。

【００４３】従って、この実施の形態においては、前記
実施の形態の（１）〜（９）と同様な効果を有する他に
次の効果を有する。 （１０） ゾーン間搬送車１７は、薄膜形成ゾーン１１
のストッカー１５ｂから露光ゾーン１２のストッカー１
５ａへのガラス基板の搬送と、露光ゾーン１２のストッ
カー１５ｂからエッチングゾーン１３のストッカー１５
ａへのガラス基板の搬送とのいずれか一方の搬送作業し
か行わない。従って、ゾーン間搬送車１７の走行制御が
簡単になる。

【００４４】（１１） 前記実施の形態と異なり、ブロ
ック２内におけるエッチングゾーン１３の出口側のスト
ッカー１５ｂからエッチングゾーン１３の入口側に存在
する薄膜形成ゾーン１１の入口側のストッカー１５ａへ
のゾーン間搬送車１７によるガラス基板の搬送作業がな
い。従って、ガラス基板の搬送距離が短くなるととも
に、搬送速度を遅くすることができ、ガラス基板の搬送
途中でガラス基板が破損する機会がより少なくなる。

【００４５】なお、実施の形態は前記に限定されるもの
ではなく、例えば、次のように具体化してもよい。 ○ ブロック２間のガラス基板の搬送を複数枚ずつ行う
構成としてもよい。例えば、図５に示すように、ブロッ
ク２の入口２ａ及び出口２ｂにストッカー３１ａ，３１
ｂを配設し、ガラス基板を複数枚ずつブロック間搬送車
２６で搬送する構成とする。各ブロック２の入口２ａは
薄膜形成ゾーン１１の入口側と対向する位置に配設され
ている。ブロック間搬送車２６には複数枚のガラス基板
を互いに所定間隔をおいて載置可能な受け台が装備され
ている。ストッカー３１ａ，３１ｂにはブロック間搬送
車２６にガラス基板を受け渡す受渡機構が装備されてい
る。ゾーン間搬送車１７はブロック２の最後のパターン
形成工程のエッチングゾーン１３のストッカー１５ｂか
ら１枚ずつ取り出したガラス基板をストッカー３１ｂに
受け渡す。ブロック間搬送車２６はストッカー３１ｂか
ら所定の複数枚のガラス基板を受け台に載置した状態で
移動して次のブロック２のストッカー３１ａまで搬送す
る。

【００４６】この場合、ブロック間搬送車２６はガラス
基板の搬送を複数枚ずつ行うため、ブロック間搬送車２
６の搬送速度を遅くしても、ガラス基板１枚当たりの所
要搬送時間は短くなるため、ブロック間搬送車２６を高
速で移動させなくても製造ライン１が円滑に運転され
る。そして、ブロック間搬送車２６を低速で移動させる
ことにより、搬送時にガラス基板が振動し難くなり、ガ
ラス基板の破損の機会がより少なくなる。また、各ブロ
ック２の入口２ａが薄膜形成ゾーンの入口側と対向する
位置に設けられているため、ゾーン間搬送車１７はブロ
ック２内に搬入すべきガラス基板をストッカー３１ａか
ら直接薄膜形成ゾーン１１のストッカー１５ａに受け渡
すことができる。その結果、ゾーン間搬送車１７による
余分なガラス基板搬送作業を無くすことができる。

【００４７】○ 複数のブロック２によって製造ライン
１を構成する際、ゾーン間搬送手段とブロック間搬送手
段とを共通にしてもよい。例えば、図６に示すように、
３つのブロック２の外側にループ状のレール３２を設
け、レール３２に沿って移動する自走式の搬送車３３を
複数配備する。各搬送車３３はゾーン間及びブロック間
のガラス基板の搬送に使用される。この場合、搬送路
（レール３２）が単純なループ状に形成されるため、メ
ンテナンス性が向上するとともに初期投資の削減効果が
期待できる。

【００４８】○ 各ブロック２内におけるゾーン間のガ
ラス基板の搬送を複数枚ずつ行う構成としてもよい。ゾ
ーン間のガラス基板の搬送においても、複数枚ずつ搬送
することにより搬送速度が遅くても、１枚当たりの搬送
時間は短くなるためブロック間で複数枚ずつ搬送する場
合と同様な効果が得られる。

【００４９】○ 図６に示す構成において、各搬送車３
３はガラス基板を複数枚ずつ搬送する構成とする。レー
ル３２が単純なループ状のため、エッチングゾーン１３
の出口側から薄膜形成ゾーン１１の入口側までのガラス
基板の搬送距離が長くなるため、１枚ずつ搬送する構成
では搬送車３３を高速で移動させる必要がある。しか
し、複数枚ずつ搬送することにより、搬送車３３の低速
移動でガラス基板を搬送してもよくなり、特別な振動防
止機構等を設けずに搬送中にガラス基板に損傷を与える
機会が少なくなる。

【００５０】○ ブロック２は複数に限らず、露光ゾー
ン１２の処理能力が高く、必要なパターン形成工程の全
ての処理を一つの露光ゾーン１２で可能であれば、ブロ
ック２を一つとしてもよい。

【００５１】○ ストッカー１５ａ，１５ｂを各ゾーン
１１〜１３の入口側及び出口側にそれぞれ設けずに、各
ゾーン１１〜１３毎に一つずつ設けてもよい。ストッカ
ーを各ゾーンに一つずつ設ける場合は、各ゾーンの出口
側に設けるのが望ましい。この場合、次のゾーンで故障
が発生した際に、他のゾーンでは作業を続行して当該ゾ
ーンでの処理が完了したガラス基板をストッカー１５ｂ
に収容しておくことができる。

【００５２】○ パターン形成工程の数は６つに限らず
駆動回路に必要なトランジスタを形成するパターンの必
要層数に応じて５つ以下や７つ以上としてもよい。ま
た、一つのブロック２に設けられる薄膜形成ゾーン１１
及びエッチングゾーン１３の数は、２つ又は３つに限ら
ず４つ以上や１つでもよく、第１，第３のゾーンを交互
に複数並列に設けてもよい。並列に設けた場合には層毎
の形成状態を見えやすくできる。

【００５３】○ ゾーン間搬送手段及びブロック間搬送
手段を構成するゾーン間搬送車１７及びブロック間搬送
車は、天井に設置された軌道に沿って走行する、天井吊
下げタイプの搬送車であってもよい。また、床下に設置
された軌道に沿って走行する、床下収納タイプの搬送車
であってもよい。

【００５４】○ 各ブロック２の入口２ａ及び出口２ｂ
の位置は、任意の位置に変更してもよい。しかし、入口
２ａを薄膜形成ゾーン１１の入口側と対向する位置以外
にした場合は、ゾーン間搬送車１７が入口２ａから搬入
されるガラス基板を受け取り、薄膜形成ゾーン１１の入
口側のストッカー１５ａと対応する位置まで搬送する必
要がある。また、出口２ｂをエッチングゾーン１３の出
口側と対向する位置以外にした場合は、ゾーン間搬送車
１７がエッチングゾーン１３の出口側のストッカー１５
ｂから受け取ったガラス基板を出口２ｂまで搬送する必
要がある。従って、ゾーン間搬送車１７が余分な搬送作
業を行うことになる。

【００５５】○ ゾーン間搬送車１７に受渡機構を設け
ずに、ブロック間搬送車２６及び各ストッカー１５ａ，
１５ｂにブロック間搬送車１７との間での基板の受渡を
行う受渡機構を設けてもよい。

【００５６】○ 移載ステーション２３，２５にアライ
メント及び回転手段に加えて、移動体２１との間で基板
の受渡を行う受渡機構を設けてもよい。この場合、移動
体２１に移載機構を装備する必要がない。

【００５７】○ 移動体２１の通過位置に配置される移
載ステーション２５の構成として、移動体２１の通過を
許容するためアライメント等を昇降させる構成に代え
て、アライメント等を水平移動によって移動体２１の走
行経路から退避する構成としてもよい。また、移載ステ
ーション２５に代えて移載ステーション２３を配設し
て、移載ステーション２３の両側に搬送装置２０を配置
してもよい。

【００５８】○ 移動体２１にアライメント及び回転手
段を設け、移載ステーション２３，２５を省略して各工
程のロボット１９，２４ａが移動体２１との間で直接ガ
ラス基板の授受を行う構成としてもよい。

【００５９】○ 各工程間でガラス基板を搬送する搬送
装置２０として、レール２２に沿って往復移動する移動
体２１を備えた構成に代えて、搬送コンベアを使用して
もよい。また、移動体２１の駆動源としてリニアモータ
を移動体２１が装備する代わりに、移動体２１の移動経
路に沿って延設されるとともに往復駆動されるベルトを
駆動源とし、移動体２１をベルトに連結してもよい。

【００６０】○ 露光ゾーン１２のレジスト塗布工程
６、露光工程７及び現像工程８を１台のインライン設備
として配置する代わりに、各工程毎に独立した設備（処
理装置）とし、ゾーン内搬送手段１４で各設備を接続す
る構成としてもよい。

【００６１】○ カラーフィルタ製造工程２８を製造ラ
イン１の出口側のブロック２以外のブロック２に配置し
てもよい。また、カラーフィルタ製造工程２８を別に配
置してもよい。

【００６２】○ 検査工程を各ブロック２に配設しても
よい。 ○ 液晶パネルの駆動回路に限らず、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）やＦＥＤ（Field Emission Displ
ay) 等、他のフラットパネルディスプレイの駆動回路の
製造ラインに適用してもよい。

【００６３】前記実施の形態から把握できる請求項記載
以外の発明（技術思想）について、以下にその効果とと
もに記載する。 （１） 請求項１又は請求項５に記載の発明において、
前記ゾーン間搬送手段は複数台の自走型搬送車を備えて
いる。この場合、各自走型搬送車は互いに干渉しない範
囲で自由に移動でき、駆動ベルトに連結されて複数の移
動体が同時に移動する構成に比較して搬送効率が向上す
る。

【００６４】（２） 請求項１に記載の発明において、
ブロック内の最初のパターン形成工程の第１のゾーン及
び最後のパターン形成工程の第３のゾーンを除き、各パ
ターン形成工程の第３のゾーンと次のパターン形成工程
の第１のゾーンとを一列に配置した。この場合、ゾーン
間搬送手段が第３のゾーンから第１のゾーンまで基板を
搬送する機会が少なくなり、基板の搬送距離が短くな
る。

【００６５】（３） （２）に記載の発明において、各
ゾーンは平行に配置された２つのゾーン間搬送手段の間
に両ゾーン間搬送手段とほぼ直交する状態で配置され、
一方のゾーン間搬送手段は基板を第１のゾーンから第２
のゾーンへ搬送し、他方のゾーン間搬送手段は基板を第
２のゾーンから第３のゾーンへ搬送する。この場合、第
１のゾーン、第２のゾーン及び第３のゾーンがそれぞれ
互いに平行に配置されるとともにゾーン間搬送手段がル
ープ状に配置された構成に比較して、基板の搬送距離が
より短くなる。

【００６６】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１〜請求項
５に記載の発明によれば、基板の流れの簡素化と、１枚
の基板上に駆動回路が完成するまでの時間を短縮して在
庫を少なくすることができる。

【００６７】請求項２に記載の発明によれば、各ゾーン
間の処理能力のアンバランスを吸収して、ガラス基板の
流れが円滑になり、設備（各工程の処理装置等）の故障
が起きた場合にも、ストッカーをバッファとして利用す
ることにより、ライン全体への影響を最小限に抑えるこ
とができる。

【００６８】請求項３に記載の発明によれば、ブロック
単位で生産のプロセスが進行するため、ブロックを一つ
の品質保証の単位として捉えることができ、基板の品質
トラブルの解析等に必要な管理工数を削減することがで
きる。

【００６９】請求項４に記載の発明によれば、ガラス基
板がブロック間を複数枚ずつ搬送されるため、製造ライ
ン１の運転速度を落とさずに、ブロック間の基板の搬送
速度を低速とすることができ、搬送時に基板が振動し難
くなり、基板破損の機会がより少なくなる。

【００７０】請求項５に記載の発明によれば、製造ライ
ンの立ち上げ時に、各ゾーンの出口側のストッカーに収
容する仕掛品の数を少なくできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 第１の実施の形態の製造ラインの概略構成
図。

【図２】 ブロックの概略構成図。

【図３】 薄膜形成ゾーンの模式平面図。

【図４】 第２の実施の形態の製造ラインの概略構成
図。

【図５】 別の実施の形態の製造ラインの概略構成図。

【図６】 別の実施の形態の製造ラインの概略構成図。

【図７】 駆動回路のパターン形成工程のフローチャー
ト。

【符号の説明】

１…製造ライン、２…ブロック、３…ブロック間搬送手
段、４…洗浄工程、５…薄膜形成工程、６…レジスト塗
布工程、７…露光工程、８…現像工程、９…エッチング
工程、１０…レジスト剥離工程、１１…第１のゾーンと
しての薄膜形成ゾーン、１２…第２のゾーンとしての露
光ゾーン、１３…第３のゾーンとしてのエッチングゾー
ン、１４…ゾーン内搬送手段、１５ａ，１５ｂ…ストッ
カー、１６…ゾーン間搬送手段を構成するレール、１７
…同じくゾーン間搬送車、２６…ブロック間搬送手段を
構成するブロック間搬送車。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小山 雅弘 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 FA17 FA24 FA30 HA01 HA08 HA12 MA20 5F031 CA05 DA17 FA02 FA07 FA11 FA15 GA43 GA47 GA48 MA07 MA09 MA27 5G435 AA17 BB12 KK05 KK09 KK10

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 駆動回路の製造工程を構成する、洗浄工
   程、薄膜形成工程、レジスト塗布工程、露光工程、現像
   工程、エッチング工程及びレジスト剥離工程のうち、レ
   ジスト塗布工程、露光工程及び現像工程を除く各工程
   を、パターン形成工程毎にフローショップ方式とし、か
   つ前記フローショップ方式の各工程で基板を１枚ずつ順
   次受け入れて枚葉処理を行い、洗浄工程と薄膜形成工程
   との組みを第１のゾーン、レジスト塗布工程、露光工程
   及び現像工程を第２のゾーン、エッチング工程とレジス
   ト剥離工程との組みを第３のゾーンとし、第１及び第３
   のゾーンと、第２のゾーンとを組み合わせて一つのブロ
   ックを構成し、ブロック内における前記第１及び第３の
   ゾーンにおける基板の流れは同方向となり、第２のゾー
   ンにおける基板の流れは第１及び第３のゾーンにおける
   基板の流れと逆方向となるように各ゾーンを配置し、ブ
   ロック内における各ゾーン間で基板を搬送するゾーン間
   搬送手段による基板の搬送経路が各パターン形成工程に
   おいて第１のゾーン→第２のゾーン→第３のゾーンとな
   るようにゾーン間搬送手段を配設したフラットパネルデ
   ィスプレイの製造ライン。
2. 【請求項２】 前記各ゾーンには入口側及び出口側の少
   なくとも一方に前記基板を一時保管するストッカーが設
   けられている請求項１に記載のフラットパネルディスプ
   レイの製造ライン。
3. 【請求項３】 前記ブロックは複数設けられ、各ブロッ
   ク間は基板の搬送を行うブロック間搬送手段で連結され
   ている請求項１又は請求項２に記載のフラットパネルデ
   ィスプレイの製造ライン。
4. 【請求項４】 前記ブロック間搬送手段は前記基板の搬
   送を複数枚ずつ行う請求項３に記載のフラットパネルデ
   ィスプレイの製造ライン。
5. 【請求項５】 前記ゾーン間搬送手段は前記基板の搬送
   を１枚ずつ行う請求項１〜請求項４のいずれか一項に記
   載のフラットパネルディスプレイの製造ライン。