JP2000199886A5 - 液晶表示装置、携帯情報端末、ビデオカメラ、コンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、ディスプレイ、プレーヤー及びデジタルカメラ - Google Patents
液晶表示装置、携帯情報端末、ビデオカメラ、コンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、ディスプレイ、プレーヤー及びデジタルカメラ Download PDFInfo
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Description
図25(A)はパーソナルコンピュータであり、本体2001、画像入力部2002、フィールドシーケンシャル液晶表示装置2003、キーボード2004で構成される。
図25(B)はゴーグル型ディスプレイであり、本体2301、フィールドシーケンシャル液晶表示装置2302、アーム部2303で構成される。
図25(C)はプログラムを記録した記録媒体(以下、記録媒体と呼ぶ)を用いるプレーヤーであり、本体2401、フィールドシーケンシャル液晶表示装置2402、スピーカ部2403、記録媒体2404、操作スイッチ2405で構成される。
図25(D)はデジタルカメラであり、本体2501、フィールドシーケンシャル液晶表示装置2502、接眼部2503、操作スイッチ2504、受像部(図示しない)で構成される。
Claims (43)
- 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁 膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有 し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域 とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトにLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記半導体層と重なる2つのゲイト電極を有し、
前記半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有 し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 画素に第1の薄膜トランジスタが設けられ、
駆動回路に第2の薄膜トランジスタが設けられ、
前記第1の薄膜トランジスタは、第1の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第1の半導体層と重なる第1のゲイト電極及び第2のゲイト電極を有し、
前記第1の半導体層は、チャネル形成領域と、第1の不純物領域と、第2の不純物領域とを有し、前記第1の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第2の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第2の薄膜トランジスタは、第2の半導体層と、ゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜を介して前記第2の半導体層と重なる第3のゲイト電極を有し、
前記第2の半導体層は、チャネル形成領域と、第3の不純物領域と、第4の不純物領域とを有し、前記第3の不純物領域が含む不純物元素の濃度は、前記第4の不純物領域が含む不純物元素の濃度よりも低く、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層は、多結晶シリコン膜であり、
バックライトとして、赤のLEDと、緑のLEDと、青のLEDを用いており、
フィールドシーケンシャル駆動を行い、
時間階調により階調表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1乃至請求項36のいずれか一項に記載の前記液晶表示装置を用いた携帯情報端末。
- 請求項1乃至請求項36のいずれか一項に記載の前記液晶表示装置を用いたビデオカメラ。
- 請求項1乃至請求項36のいずれか一項に記載の前記液晶表示装置を用いたコンピュータ。
- 請求項1乃至請求項36のいずれか一項に記載の前記液晶表示装置を用いたヘッドマウントディスプレイ。
- 請求項1乃至請求項36のいずれか一項に記載の前記液晶表示装置を用いたディスプレイ。
- 請求項1乃至請求項36のいずれか一項に記載の前記液晶表示装置を用いたプレーヤー。
- 請求項1乃至請求項36のいずれか一項に記載の前記液晶表示装置を用いたデジタルカメラ。
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