JP2000198886A - 耐放射線性ポリオレフィン樹脂組成物 - Google Patents
耐放射線性ポリオレフィン樹脂組成物Info
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- JP2000198886A JP2000198886A JP37848098A JP37848098A JP2000198886A JP 2000198886 A JP2000198886 A JP 2000198886A JP 37848098 A JP37848098 A JP 37848098A JP 37848098 A JP37848098 A JP 37848098A JP 2000198886 A JP2000198886 A JP 2000198886A
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- polyolefin resin
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- resin composition
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Abstract
(57)【要約】
【課題】γ線、電子線等の放射線の照射を受けても、黄
変の起こり難いポリオレフィン樹脂組成物を提供するこ
とにある。 【解決手段】本発明による耐放射線性ポリオレフィン樹
脂組成物は、ポリオレフィン樹脂１００重量部にポリオ
レフィン樹脂１００重量部に（ａ）一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ１は炭素数１〜２８のアルキル基を示す。）
で表わされるモノアルキルアシッドホスフェートと
（ｂ）一般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、Ｒ２はそれぞれ独立に炭素数１〜２８のアルキ
ル基を示す。）で表わされるジアルキルアシッドホスフ
ェートと（ｃ）一般式（ＩＩＩ） 【化３】 （式中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜２８のアルキル
基を示し、Ｒ４は炭素数１〜２８のアルキル基を示
す。）で表わされるアルキルハイドロゼンホスファイト
とから選ばれる少なくとも１種の有機リン化合物及び／
又はその金属塩を０．００５〜５重量部を配合してなる
ことを特徴とする。
変の起こり難いポリオレフィン樹脂組成物を提供するこ
とにある。 【解決手段】本発明による耐放射線性ポリオレフィン樹
脂組成物は、ポリオレフィン樹脂１００重量部にポリオ
レフィン樹脂１００重量部に（ａ）一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ１は炭素数１〜２８のアルキル基を示す。）
で表わされるモノアルキルアシッドホスフェートと
（ｂ）一般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、Ｒ２はそれぞれ独立に炭素数１〜２８のアルキ
ル基を示す。）で表わされるジアルキルアシッドホスフ
ェートと（ｃ）一般式（ＩＩＩ） 【化３】 （式中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜２８のアルキル
基を示し、Ｒ４は炭素数１〜２８のアルキル基を示
す。）で表わされるアルキルハイドロゼンホスファイト
とから選ばれる少なくとも１種の有機リン化合物及び／
又はその金属塩を０．００５〜５重量部を配合してなる
ことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐放射線性ポリオ
レフィン樹脂組成物に関し、詳しくは、γ線や電子線の
ような放射線の照射を受けても、変色、特に、黄変しな
いポリオレフィン樹脂組成物に関する。
レフィン樹脂組成物に関し、詳しくは、γ線や電子線の
ような放射線の照射を受けても、変色、特に、黄変しな
いポリオレフィン樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレ
ン樹脂等のポリオレフィン樹脂は、注射器、ピンセッ
ト、クランプ等の医療器具やそれらの包装材や、また、
食品の包装材に広く用いられている。これらのポリオレ
フィン樹脂の成形品には、近年、殺菌を目的として、γ
線、電子線等の放射線が照射されることが多いが、ポリ
オレフィン樹脂は、その分子構造上、放射線照射によっ
て劣化し、機械的強度が低下したり、黄変したりする等
の問題がある。
ン樹脂等のポリオレフィン樹脂は、注射器、ピンセッ
ト、クランプ等の医療器具やそれらの包装材や、また、
食品の包装材に広く用いられている。これらのポリオレ
フィン樹脂の成形品には、近年、殺菌を目的として、γ
線、電子線等の放射線が照射されることが多いが、ポリ
オレフィン樹脂は、その分子構造上、放射線照射によっ
て劣化し、機械的強度が低下したり、黄変したりする等
の問題がある。
【０００３】そこで、従来、ポリオレフィン樹脂への放
射線照射による劣化、特に、黄変を防止するために、例
えば、ヒンダードアミン系光安定剤と亜リン酸エステル
系酸化防止剤を配合してなるポリプロピレン樹脂組成物
（特開平７−１８８４７２号公報）が提案されている
が、耐放射線性は、未だ十分ではない。
射線照射による劣化、特に、黄変を防止するために、例
えば、ヒンダードアミン系光安定剤と亜リン酸エステル
系酸化防止剤を配合してなるポリプロピレン樹脂組成物
（特開平７−１８８４７２号公報）が提案されている
が、耐放射線性は、未だ十分ではない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ポリオレフ
ィン樹脂への放射線照射による黄変の問題を解決するた
めになされたものであって、γ線、電子線等の放射線の
照射を受けても、黄変の起こり難いポリオレフィン樹脂
組成物を提供することを目的とする。
ィン樹脂への放射線照射による黄変の問題を解決するた
めになされたものであって、γ線、電子線等の放射線の
照射を受けても、黄変の起こり難いポリオレフィン樹脂
組成物を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明による耐放射線性
ポリオレフィン樹脂組成物は、ポリオレフィン樹脂１０
０重量部に（ａ）一般式（Ｉ）
ポリオレフィン樹脂組成物は、ポリオレフィン樹脂１０
０重量部に（ａ）一般式（Ｉ）
【０００６】
【化４】 （式中、Ｒ１は炭素数１〜２８のアルキル基を示す。）
で表わされるモノアルキルアシッドホスフェートと
（ｂ）一般式（ＩＩ）
で表わされるモノアルキルアシッドホスフェートと
（ｂ）一般式（ＩＩ）
【０００７】
【化５】 （式中、Ｒ２はそれぞれ独立に炭素数１〜２８のアルキ
ル基を示す。）で表わされるジアルキルアシッドホスフ
ェートと（ｃ）一般式（ＩＩＩ）
ル基を示す。）で表わされるジアルキルアシッドホスフ
ェートと（ｃ）一般式（ＩＩＩ）
【０００８】
【化６】 （式中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜２８のアルキル
基を示し、Ｒ４は炭素数１〜２８のアルキル基を示
す。）で表わされるアルキルハイドロゼンホスファイト
とから選ばれる少なくとも１種の有機リン化合物及び／
又はその金属塩を０．００５〜５重量部を配合してなる
ことを特徴とする。
基を示し、Ｒ４は炭素数１〜２８のアルキル基を示
す。）で表わされるアルキルハイドロゼンホスファイト
とから選ばれる少なくとも１種の有機リン化合物及び／
又はその金属塩を０．００５〜５重量部を配合してなる
ことを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明において、ポリオレフィン
樹脂は、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘ
キセン、４−メチル−１−ペンテン、ヘプテン、オクテ
ン等のα−オレフィンの単独又は共重合体を含み、具体
例としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレ
ン樹脂、ポリブテン樹脂、エチレン−プロピレンブロッ
ク共重合体、エチレン−プロピレンランダム共重合体、
エチレン−プロピレン−ブテン共重合体、エチレン−ブ
テン共重合体、エチレン−４−メチル−１−ペンテン共
重合体、プロピレン−ヘキセン共重合体、プロピレン−
ヘキセン−ブテン共重合体等を挙げることができる。
樹脂は、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘ
キセン、４−メチル−１−ペンテン、ヘプテン、オクテ
ン等のα−オレフィンの単独又は共重合体を含み、具体
例としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレ
ン樹脂、ポリブテン樹脂、エチレン−プロピレンブロッ
ク共重合体、エチレン−プロピレンランダム共重合体、
エチレン−プロピレン−ブテン共重合体、エチレン−ブ
テン共重合体、エチレン−４−メチル−１−ペンテン共
重合体、プロピレン−ヘキセン共重合体、プロピレン−
ヘキセン−ブテン共重合体等を挙げることができる。
【００１０】これらのなかでは、ポリエチレン樹脂、ポ
リプロピレン樹脂、エチレン−プロピレンブロック共重
合体、エチレン−プロピレンランダム共重合体等が好ま
しく用いられるが、特に、ポリプロピレン樹脂が好まし
く用いられる。本発明によれば、ポリプロピレン樹脂
は、特に、限定されるものではないが、ＪＩＳ Ｋ ７
２１０によるメルトフローレート（ＭＦＲ）（温度２３
０℃、荷重２．１６ｋｇ）が、通常、０．１〜１００ｇ
／１０分の範囲にあるものが好ましく用いられる。
リプロピレン樹脂、エチレン−プロピレンブロック共重
合体、エチレン−プロピレンランダム共重合体等が好ま
しく用いられるが、特に、ポリプロピレン樹脂が好まし
く用いられる。本発明によれば、ポリプロピレン樹脂
は、特に、限定されるものではないが、ＪＩＳ Ｋ ７
２１０によるメルトフローレート（ＭＦＲ）（温度２３
０℃、荷重２．１６ｋｇ）が、通常、０．１〜１００ｇ
／１０分の範囲にあるものが好ましく用いられる。
【００１１】本発明によれば、モノアルキルアシッドホ
スフェートとジアルキルアシッドホスフェートとアルキ
ルハイドロゼンホスファイトとから選ばれる少なくとも
１種の有機リン化合物及び／又はその金属塩をポリオレ
フィン樹脂に配合することによって、耐放射線性を格段
に改善して、放射線の照射による黄変を有効に防止する
ことができる。
スフェートとジアルキルアシッドホスフェートとアルキ
ルハイドロゼンホスファイトとから選ばれる少なくとも
１種の有機リン化合物及び／又はその金属塩をポリオレ
フィン樹脂に配合することによって、耐放射線性を格段
に改善して、放射線の照射による黄変を有効に防止する
ことができる。
【００１２】本発明において用いるモノアルキルアシッ
ドホスフェートは、一般式（Ｉ）
ドホスフェートは、一般式（Ｉ）
【００１３】
【化７】 （式中、Ｒ１は炭素数１〜２８のアルキル基を示す。）
で表わされ、ジアルキルアシッドホスフェートは、一般
式（ＩＩ）
で表わされ、ジアルキルアシッドホスフェートは、一般
式（ＩＩ）
【００１４】
【化８】 （式中、Ｒ２はそれぞれ独立に炭素数１〜２８のアルキ
ル基を示す。）で表わされる。
ル基を示す。）で表わされる。
【００１５】モノアルキルアシッドホスフェートとジア
ルキルアシッドホスフェートは、酸性リン酸エステルと
も呼ばれている。本発明によれば、その入手の容易性か
ら、通常、モノアルキルアシッドホスフェートとジアル
キルアシッドホスフェートとの混合物を用いるが、しか
し、必要に応じて、モノアルキルアシッドホスフェート
とジアルキルアシッドホスフェートのいずれか一方のみ
を用いることもできる。
ルキルアシッドホスフェートは、酸性リン酸エステルと
も呼ばれている。本発明によれば、その入手の容易性か
ら、通常、モノアルキルアシッドホスフェートとジアル
キルアシッドホスフェートとの混合物を用いるが、しか
し、必要に応じて、モノアルキルアシッドホスフェート
とジアルキルアシッドホスフェートのいずれか一方のみ
を用いることもできる。
【００１６】上記一般式（Ｉ）で表わされるモノアルキ
ルシアッドホスフェートや上記一般式（ＩＩ）で表わさ
れるジアルキルアシッドホスフェートにおいて、Ｒ１及
びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１〜２８のアルキル基で
あるが、ジアルキルアシッドホスフェートにおいて、Ｒ
２は好ましくは、同じアルキル基である。そのようなア
ルキル基の具体例として、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、
ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オ
クタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ドコシル
基、テトラコシル基、ヘキサコシル基又はオクタコシル
基等を挙げることができる。炭素数３以上のアルキル基
は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。
ルシアッドホスフェートや上記一般式（ＩＩ）で表わさ
れるジアルキルアシッドホスフェートにおいて、Ｒ１及
びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１〜２８のアルキル基で
あるが、ジアルキルアシッドホスフェートにおいて、Ｒ
２は好ましくは、同じアルキル基である。そのようなア
ルキル基の具体例として、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、
ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オ
クタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ドコシル
基、テトラコシル基、ヘキサコシル基又はオクタコシル
基等を挙げることができる。炭素数３以上のアルキル基
は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。
【００１７】上記酸性リン酸エステルの具体例として
は、例えば、メチルアシッドホスフェート（モノメチル
エステルとジメチルエステルとの混合物）、エチルアシ
ッドホスフェート（モノエチルエステルとジエチルエス
テルとの混合物）、イソプロピルアシッドホスフェート
（モノイソプロピルエステルとジイソプロピルエステル
との混合物）、ブチルアシッドホスフェート（モノブチ
ルエステルとジブチルエステルとの混合物）、２−エチ
ルヘキシルアシッドホスフェート（モノ−２−エチルヘ
キシルエステルとジ−２−エチルヘキシルエステルとの
混合物）、イソデシルアシッドホスフェート（モノイソ
デシルエステルとジイソデシルエステルとの混合物）、
ジラウリルアシッドホスフェート、ラウリルアシッドホ
スフェート（モノラウリルエステルとジラウリルエステ
ルとの混合物）、トリデシルアシッドホスフェート（モ
ノトリデシルエステルとジトリデシルエステルとの混合
物）、モノステアリルアシッドホスフェート、ジステア
リルアシッドホスフェート、ステアリルアシッドホスフ
ェート（モノステアリルエステルとジステアリルエステ
ルとの混合物）、イソステアリルアシッドホスフェート
（モノイソステアリルエステルとジイソステアリルエス
テルとの混合物）、オレイルアシッドホスフェート（モ
ノオレイルエステルとジオレイルエステルとの混合
物）、ベヘニルアシッドホスフェート（モノベヘニルエ
ステルとジベヘニルエステルとの混合物）等を挙げるこ
とができる。
は、例えば、メチルアシッドホスフェート（モノメチル
エステルとジメチルエステルとの混合物）、エチルアシ
ッドホスフェート（モノエチルエステルとジエチルエス
テルとの混合物）、イソプロピルアシッドホスフェート
（モノイソプロピルエステルとジイソプロピルエステル
との混合物）、ブチルアシッドホスフェート（モノブチ
ルエステルとジブチルエステルとの混合物）、２−エチ
ルヘキシルアシッドホスフェート（モノ−２−エチルヘ
キシルエステルとジ−２−エチルヘキシルエステルとの
混合物）、イソデシルアシッドホスフェート（モノイソ
デシルエステルとジイソデシルエステルとの混合物）、
ジラウリルアシッドホスフェート、ラウリルアシッドホ
スフェート（モノラウリルエステルとジラウリルエステ
ルとの混合物）、トリデシルアシッドホスフェート（モ
ノトリデシルエステルとジトリデシルエステルとの混合
物）、モノステアリルアシッドホスフェート、ジステア
リルアシッドホスフェート、ステアリルアシッドホスフ
ェート（モノステアリルエステルとジステアリルエステ
ルとの混合物）、イソステアリルアシッドホスフェート
（モノイソステアリルエステルとジイソステアリルエス
テルとの混合物）、オレイルアシッドホスフェート（モ
ノオレイルエステルとジオレイルエステルとの混合
物）、ベヘニルアシッドホスフェート（モノベヘニルエ
ステルとジベヘニルエステルとの混合物）等を挙げるこ
とができる。
【００１８】酸性リン酸エステルの金属塩は、周期律表
第Ｉａ、ＩＩａ、ＩＩｂ及びＩＩＩａから選ばれる少な
くとも１種の金属の塩であり、好ましい具体例として、
例えば、リチウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩、カ
ルシウム塩、亜鉛塩、アルミニウム塩等を挙げることが
でき、なかでも、リチウム塩、マグネシウム塩、カルシ
ウム塩又は亜鉛塩が好ましく用いられる。
第Ｉａ、ＩＩａ、ＩＩｂ及びＩＩＩａから選ばれる少な
くとも１種の金属の塩であり、好ましい具体例として、
例えば、リチウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩、カ
ルシウム塩、亜鉛塩、アルミニウム塩等を挙げることが
でき、なかでも、リチウム塩、マグネシウム塩、カルシ
ウム塩又は亜鉛塩が好ましく用いられる。
【００１９】また、本発明において用いるアルキルハイ
ドロゼンホスファイトは、一般式（ＩＩＩ）
ドロゼンホスファイトは、一般式（ＩＩＩ）
【００２０】
【化９】 （式中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜２８のアルキル
基を示し、Ｒ４は炭素数１〜２８のアルキル基を示
す。）で表わされ、一般式（ＩＶ）
基を示し、Ｒ４は炭素数１〜２８のアルキル基を示
す。）で表わされ、一般式（ＩＶ）
【００２１】
【化１０】 （式中、Ｒ３及びＲ４は上記と同じである。）で表わさ
れる構造と互変異性の関係にある。
れる構造と互変異性の関係にある。
【００２２】本発明において、上記一般式（Ｉ）で表わ
されるアルキルハイドロゼンホスファイトは、Ｒ３が水
素原子であり、Ｒ４がアルキル基であるモノアルキルハ
イドロゼンホスファイトと、Ｒ３及びＲ４が共にアルキ
ル基であるジアルキルハイドロゼンホスファイトとを含
むものとし、モノアルキルハイドロゼンホスファイトと
ジアルキルハイドロゼンホスファイトは、混合物を用い
てもよく、また、いずれか一方のみを用いてもよい。ジ
アルキルハイドロゼンホスファイトの２つのアルキル基
は、好ましくは、同一のものである。
されるアルキルハイドロゼンホスファイトは、Ｒ３が水
素原子であり、Ｒ４がアルキル基であるモノアルキルハ
イドロゼンホスファイトと、Ｒ３及びＲ４が共にアルキ
ル基であるジアルキルハイドロゼンホスファイトとを含
むものとし、モノアルキルハイドロゼンホスファイトと
ジアルキルハイドロゼンホスファイトは、混合物を用い
てもよく、また、いずれか一方のみを用いてもよい。ジ
アルキルハイドロゼンホスファイトの２つのアルキル基
は、好ましくは、同一のものである。
【００２３】モノアルキルハイドロゼンホスファイト及
びジアルキルハイドロゼンホスファイトにおけるアルキ
ル基は、炭素数１〜２８のアルキル基であり、そのよう
なアルキル基の具体例として、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル
基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ド
コシル基、テトラコシル基、ヘキサコシル基又はオクタ
コシル基等を挙げることができる。炭素数３以上のアル
キル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。
びジアルキルハイドロゼンホスファイトにおけるアルキ
ル基は、炭素数１〜２８のアルキル基であり、そのよう
なアルキル基の具体例として、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル
基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ド
コシル基、テトラコシル基、ヘキサコシル基又はオクタ
コシル基等を挙げることができる。炭素数３以上のアル
キル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。
【００２４】このようなモノアルキルハイドロゼンホス
ファイトの具体例として、例えば、モノラウリルハイド
ロゼンホスファイト、モノミリスチルハイドロゼンホス
ファイト、モノパルミチルハイドロゼンホスファイト、
モノステアリルハイドロゼンホスファイト、モノベヘニ
ルハイドロゼンホスファイト等を挙げることができる。
また、ジアルキルハイドロゼンホスファイトの具体例と
して、例えば、ジラウリルハイドロゼンホスファイト、
ジミリスチルハイドロゼンホスファイト、ジパルミチル
ハイドロゼンホスファイト、ジステアリルハイドロゼン
ホスファイト、ジベヘニルハイドロゼンホスファイト等
を挙げることができる。
ファイトの具体例として、例えば、モノラウリルハイド
ロゼンホスファイト、モノミリスチルハイドロゼンホス
ファイト、モノパルミチルハイドロゼンホスファイト、
モノステアリルハイドロゼンホスファイト、モノベヘニ
ルハイドロゼンホスファイト等を挙げることができる。
また、ジアルキルハイドロゼンホスファイトの具体例と
して、例えば、ジラウリルハイドロゼンホスファイト、
ジミリスチルハイドロゼンホスファイト、ジパルミチル
ハイドロゼンホスファイト、ジステアリルハイドロゼン
ホスファイト、ジベヘニルハイドロゼンホスファイト等
を挙げることができる。
【００２５】アルキルハイドロゼンホスファイトの金属
塩は、周期律表第Ｉａ、ＩＩａ、ＩＩｂ及びＩＩＩａか
ら選ばれる少なくとも１種の金属の塩であり、好ましい
具体例として、例えば、リチウム塩、マグネシウム塩、
バリウム塩、カルシウム塩、亜鉛塩、アルミニウム塩等
を挙げることができ、なかでも、リチウム塩、マグネシ
ウム塩、カルシウム塩又は亜鉛塩が好ましく用いられ
る。
塩は、周期律表第Ｉａ、ＩＩａ、ＩＩｂ及びＩＩＩａか
ら選ばれる少なくとも１種の金属の塩であり、好ましい
具体例として、例えば、リチウム塩、マグネシウム塩、
バリウム塩、カルシウム塩、亜鉛塩、アルミニウム塩等
を挙げることができ、なかでも、リチウム塩、マグネシ
ウム塩、カルシウム塩又は亜鉛塩が好ましく用いられ
る。
【００２６】本発明によれば、上記モノアルキルアシッ
ドホスフェート、ジアルキルアシッドホスフェート及び
アルキルハイドロゼンホスファイトから選ばれる少なく
とも１種の有機リン化合物及び／又はその金属塩のポリ
オレフィン樹脂への配合割合は、通常、ポリオレフィン
樹脂１００重量部に対して、０．００５〜５重量部、好
ましくは、０．０１〜２重量部の範囲である。上記有機
リン化合物及び／又はその金属塩のポリオレフィン樹脂
への配合割合がポリオレフィン樹脂１００重量部に対し
て、０．００５重量部よりも少ないときは、樹脂への放
射線照射による黄変を防止する効果に乏しく、他方、５
重量部を越えても、樹脂への放射線照射による黄変を防
止する効果はそれに見合って増えず、むしろ、樹脂の有
する本来の特性、例えば、強度等を損なうおそれがある
ので、好ましくない。
ドホスフェート、ジアルキルアシッドホスフェート及び
アルキルハイドロゼンホスファイトから選ばれる少なく
とも１種の有機リン化合物及び／又はその金属塩のポリ
オレフィン樹脂への配合割合は、通常、ポリオレフィン
樹脂１００重量部に対して、０．００５〜５重量部、好
ましくは、０．０１〜２重量部の範囲である。上記有機
リン化合物及び／又はその金属塩のポリオレフィン樹脂
への配合割合がポリオレフィン樹脂１００重量部に対し
て、０．００５重量部よりも少ないときは、樹脂への放
射線照射による黄変を防止する効果に乏しく、他方、５
重量部を越えても、樹脂への放射線照射による黄変を防
止する効果はそれに見合って増えず、むしろ、樹脂の有
する本来の特性、例えば、強度等を損なうおそれがある
ので、好ましくない。
【００２７】本発明において、放射線は、γ線、電子
線、Ｘ線及び中性子線を含む。
線、Ｘ線及び中性子線を含む。
【００２８】本発明によるポリオレフィン樹脂組成物
は、上記有機リン化合物及び／又はその金属塩を配合し
て、放射線照射による黄変を防止する効果を阻害しない
範囲で、必要に応じて、種々の添加剤を配合することが
できる。
は、上記有機リン化合物及び／又はその金属塩を配合し
て、放射線照射による黄変を防止する効果を阻害しない
範囲で、必要に応じて、種々の添加剤を配合することが
できる。
【００２９】このような添加剤として、例えば、フェノ
ール系酸化防止剤や硫黄系酸化防止剤等の酸化防止剤、
亜リン酸エステル系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダ
ードアミン系光安定剤、中和剤、透明化核剤（特に、ポ
リオレフィン樹脂がポリプロピレン樹脂である場合）等
を挙げることができる。
ール系酸化防止剤や硫黄系酸化防止剤等の酸化防止剤、
亜リン酸エステル系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダ
ードアミン系光安定剤、中和剤、透明化核剤（特に、ポ
リオレフィン樹脂がポリプロピレン樹脂である場合）等
を挙げることができる。
【００３０】フェノール系酸化防止剤として、例えば、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２’−
メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−
ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス（４−ｔ
−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，
３Ｈ，５Ｈ）トリオン、テトラキス〔メチレン−３−
（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕メタン、１，３，５−トリメチル
−２，４，６−トリス（３，５−ジｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）ベンゼン、３，９−ビス〔１，１−
ジメチル−２−｛β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル
−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウ
ンデカン等を挙げることができる。
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２’−
メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−
ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス（４−ｔ
−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，
３Ｈ，５Ｈ）トリオン、テトラキス〔メチレン−３−
（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕メタン、１，３，５−トリメチル
−２，４，６−トリス（３，５−ジｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）ベンゼン、３，９−ビス〔１，１−
ジメチル−２−｛β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル
−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウ
ンデカン等を挙げることができる。
【００３１】硫黄系酸化防止剤としては、例えば、ペン
タエリスリトールテトラキス（β−ラウリルチオジプロ
ピオネート）、ジステアリル−３，３’−チオジプロピ
オネート、ジラウリルジチオジプロピオネート、ジミリ
スチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリ
ルジチオジプロピオネート、ラウリルステアリルチオジ
プロピオネート等を挙げることができる。
タエリスリトールテトラキス（β−ラウリルチオジプロ
ピオネート）、ジステアリル−３，３’−チオジプロピ
オネート、ジラウリルジチオジプロピオネート、ジミリ
スチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリ
ルジチオジプロピオネート、ラウリルステアリルチオジ
プロピオネート等を挙げることができる。
【００３２】亜リン酸エステル系酸化防止剤としては、
例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホ
スファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）−４，４−ビフェニレンジホスファイト、ジ
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト等を挙げることができる。
例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホ
スファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）−４，４−ビフェニレンジホスファイト、ジ
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト等を挙げることができる。
【００３３】紫外線吸収剤としては、例えば、２−
（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロ
キシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−
アミルフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることが
できる。
（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロ
キシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−
アミルフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることが
できる。
【００３４】ヒンダードアミン系光安定剤としては、例
えば、コハク酸ジメチル・１−（２−ヒドロキシエチ
ル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン重縮合物、ポリ〔｛６−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン
−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
ノ｝〕、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレ
ンジアミン・２，４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミ
ノ〕−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物、ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
セバケート等を挙げることができる。
えば、コハク酸ジメチル・１−（２−ヒドロキシエチ
ル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン重縮合物、ポリ〔｛６−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン
−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
ノ｝〕、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレ
ンジアミン・２，４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミ
ノ〕−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物、ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
セバケート等を挙げることができる。
【００３５】透明化核剤としては、例えば、ジベンジリ
デンソルビトール、ビス（メチルベンジリデン）ソルビ
トール等を挙げることができる。
デンソルビトール、ビス（メチルベンジリデン）ソルビ
トール等を挙げることができる。
【００３６】中和剤としては、例えば、金属石ケン、ハ
イドロタルサイト類、ケイ酸アルミニウムカルシウム、
周期律表第ＩＩ族の金属の酸化物や水酸化等を挙げるこ
とができる。上記金属石ケンとしては、例えば、ステア
リン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステア
リン酸バリウム等を挙げることができ、ハイドロタルサ
イト類としては、例えば、マグネシウム、カルシウム、
亜鉛、アルミニウム、ビスマス等の含水塩基性炭酸塩又
は結晶水を含まないもので、天然物及び合成品を含む。
イドロタルサイト類、ケイ酸アルミニウムカルシウム、
周期律表第ＩＩ族の金属の酸化物や水酸化等を挙げるこ
とができる。上記金属石ケンとしては、例えば、ステア
リン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステア
リン酸バリウム等を挙げることができ、ハイドロタルサ
イト類としては、例えば、マグネシウム、カルシウム、
亜鉛、アルミニウム、ビスマス等の含水塩基性炭酸塩又
は結晶水を含まないもので、天然物及び合成品を含む。
【００３７】本発明によるポリオレフィン樹脂組成物に
配合することができる添加剤は、上記に限定されるもの
ではなく、更に、例えば、必要に応じて、熱安定剤、難
燃剤、無機充填剤、帯電防止剤、防曇剤、アンチブロッ
キング剤、滑剤や、更には、顔料、染料等の着色剤等を
配合してもよい。
配合することができる添加剤は、上記に限定されるもの
ではなく、更に、例えば、必要に応じて、熱安定剤、難
燃剤、無機充填剤、帯電防止剤、防曇剤、アンチブロッ
キング剤、滑剤や、更には、顔料、染料等の着色剤等を
配合してもよい。
【００３８】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
【００３９】実施例及び比較例 ポリプロピレン樹脂（三井化学（株）製ハイポールＪ７
００、温度２３０℃、荷重２．１６ｋｇなる条件下のメ
ルトフローレート（ＭＦＲ）１１ｇ／１０分）１００重
量部にフェノール系酸化防止剤（チバ・ガイギー社製
「イルガノックス１０１０」（登録商標）、テトラキス
〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン）０．１
重量部と表１から表３に示すモノアルキルアシッドホス
フェート、ジアルキルアシッドホスフェート、ジアルキ
ルハイドロゼンホスファイト又はそれらの金属塩を配合
し、場合によっては、更に、亜リン酸エステル（チバ・
ガイギー社製「イルガフォス１６８」（登録商標）、ト
リス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイ
ト）、硫黄系酸化防止剤（吉富製薬（株）製ＤＭＴＰ、
ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート）、ヒ
ンダードアミン系光安定剤（三共製薬（株）製「サノー
ルＬＳ７７０」（登録商標）、ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジニル）セバケート）、紫外
線吸収剤（チバ・ガイギー社製「チヌビンＰ」（登録商
標）、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール）から選ばれる少なくとも１種
を配合し、混練した後、加工温度２００℃にて試験片に
射出成形した。この試験片に電子線６０ＫＧｙ又はγ線
５０ＫＧｙを照射した後、試験片の黄変の程度を目視に
て観察し、１０〜１の１０段階にて評価した。１０は試
験片に何らの変色もなく、白いままであることを示し、
１は茶褐色に変色した状態であることを示す。
００、温度２３０℃、荷重２．１６ｋｇなる条件下のメ
ルトフローレート（ＭＦＲ）１１ｇ／１０分）１００重
量部にフェノール系酸化防止剤（チバ・ガイギー社製
「イルガノックス１０１０」（登録商標）、テトラキス
〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン）０．１
重量部と表１から表３に示すモノアルキルアシッドホス
フェート、ジアルキルアシッドホスフェート、ジアルキ
ルハイドロゼンホスファイト又はそれらの金属塩を配合
し、場合によっては、更に、亜リン酸エステル（チバ・
ガイギー社製「イルガフォス１６８」（登録商標）、ト
リス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイ
ト）、硫黄系酸化防止剤（吉富製薬（株）製ＤＭＴＰ、
ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート）、ヒ
ンダードアミン系光安定剤（三共製薬（株）製「サノー
ルＬＳ７７０」（登録商標）、ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジニル）セバケート）、紫外
線吸収剤（チバ・ガイギー社製「チヌビンＰ」（登録商
標）、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール）から選ばれる少なくとも１種
を配合し、混練した後、加工温度２００℃にて試験片に
射出成形した。この試験片に電子線６０ＫＧｙ又はγ線
５０ＫＧｙを照射した後、試験片の黄変の程度を目視に
て観察し、１０〜１の１０段階にて評価した。１０は試
験片に何らの変色もなく、白いままであることを示し、
１は茶褐色に変色した状態であることを示す。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
【００４２】
【表３】
【００４３】
【発明の効果】本発明によれば、ポリオレフィン樹脂、
特に、ポリプロピレン樹脂にモノアルキルアシッドホス
フェート、ジアルキルアシッドホスフェート及びアルキ
ルハイドロゼンホスファイトから選ばれる少なくとも１
種の有機リン化合物及び／又はその金属塩を所定の範囲
で少量、配合することによって、放射線の照射によって
も、黄変を有効に防止することができ、好ましい態様に
よれば、樹脂は、僅かの変色もない。
特に、ポリプロピレン樹脂にモノアルキルアシッドホス
フェート、ジアルキルアシッドホスフェート及びアルキ
ルハイドロゼンホスファイトから選ばれる少なくとも１
種の有機リン化合物及び／又はその金属塩を所定の範囲
で少量、配合することによって、放射線の照射によって
も、黄変を有効に防止することができ、好ましい態様に
よれば、樹脂は、僅かの変色もない。
フロントページの続き (72)発明者 辻本 英雄 大阪府堺市戎島町５丁１番地 堺化学工業 株式会社内 Ｆターム(参考） 4J002 BB031 BB051 BB121 BB141 BB151 BB171 BP021 EJ027 EJ037 EJ047 EL127 EU187 EW046 EW096 FD036 FD040 FD050 FD070 FD077 FD200
Claims (4)
- 【請求項１】ポリオレフィン樹脂１００重量部に（ａ）
一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ１は炭素数１〜２８のアルキル基を示す。）
で表わされるモノアルキルアシッドホスフェートと
（ｂ）一般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、Ｒ２はそれぞれ独立に炭素数１〜２８のアルキ
ル基を示す。）で表わされるジアルキルアシッドホスフ
ェートと（ｃ）一般式（ＩＩＩ） 【化３】 （式中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜２８のアルキル
基を示し、Ｒ４は炭素数１〜２８のアルキル基を示
す。）で表わされるアルキルハイドロゼンホスファイト
とから選ばれる少なくとも１種の有機リン化合物及び／
又はその金属塩を０．００５〜５重量部を配合してなる
ことを特徴とする耐放射線性ポリオレフィン樹脂組成
物。 - 【請求項２】ポリオレフィン樹脂がポリプロピレン樹脂
である請求項１に記載の樹脂組成物。 - 【請求項３】フェノール系酸化防止剤を含む請求項１又
は２に記載の樹脂組成物。 - 【請求項４】金属塩がリチウム塩、マグネシウム塩、カ
ルシウム塩又は亜鉛塩である請求項１に記載の樹脂組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP37848098A JP2000198886A (ja) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | 耐放射線性ポリオレフィン樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP37848098A JP2000198886A (ja) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | 耐放射線性ポリオレフィン樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000198886A true JP2000198886A (ja) | 2000-07-18 |
Family
ID=18509715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP37848098A Pending JP2000198886A (ja) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | 耐放射線性ポリオレフィン樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000198886A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006009183A1 (ja) | 2004-07-22 | 2006-01-26 | Jsr Corporation | 重合体組成物及びその製造方法 |
| WO2009016745A1 (ja) * | 2007-08-01 | 2009-02-05 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | ポリプロピレン系樹脂組成物、及び光透過性成形品 |
| WO2013094437A1 (ja) | 2011-12-20 | 2013-06-27 | 株式会社Adeka | オレフィン樹脂組成物の製造方法 |
| JP2021054905A (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-08 | 三井化学株式会社 | 環状オレフィン系共重合体組成物および成形体 |
-
1998
- 1998-12-29 JP JP37848098A patent/JP2000198886A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006009183A1 (ja) | 2004-07-22 | 2006-01-26 | Jsr Corporation | 重合体組成物及びその製造方法 |
| JPWO2006009183A1 (ja) * | 2004-07-22 | 2008-05-01 | Jsr株式会社 | 重合体組成物及びその製造方法 |
| US7534824B2 (en) | 2004-07-22 | 2009-05-19 | Jsr Corporation | Polymer composition and process for producing the same |
| JP4640337B2 (ja) * | 2004-07-22 | 2011-03-02 | Ｊｓｒ株式会社 | 重合体組成物及びその製造方法 |
| WO2009016745A1 (ja) * | 2007-08-01 | 2009-02-05 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | ポリプロピレン系樹脂組成物、及び光透過性成形品 |
| WO2013094437A1 (ja) | 2011-12-20 | 2013-06-27 | 株式会社Adeka | オレフィン樹脂組成物の製造方法 |
| JP2013129714A (ja) * | 2011-12-20 | 2013-07-04 | Adeka Corp | オレフィン樹脂組成物の製造方法 |
| JP2021054905A (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-08 | 三井化学株式会社 | 環状オレフィン系共重合体組成物および成形体 |
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| A521 | Written amendment |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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