JP2000192076A - 界面活性剤 - Google Patents
界面活性剤Info
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- JP2000192076A JP2000192076A JP10369303A JP36930398A JP2000192076A JP 2000192076 A JP2000192076 A JP 2000192076A JP 10369303 A JP10369303 A JP 10369303A JP 36930398 A JP36930398 A JP 36930398A JP 2000192076 A JP2000192076 A JP 2000192076A
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- Japan
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- ketone
- hydrocarbon group
- methyl
- surfactant
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルキルフェニルエーテルのような環境等へ
の問題のない、生分解性の高い非イオン性界面活性剤を
提供すること。 【解決手段】 本発明は、下記の一般式（１）及び
（２） 【化１】 【化２】 （式中、Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7はＨ又は炭化水素基を表わ
し、Ｒ5は炭化水素基を表わし、ｍ及びｐは１以上の数
を表わし、ｎは０又は１以上の数を表わす。Ｘは水素原
子又は−（Ｒ8−Ｏ）q−Ｈで表わされる基を表わし、Ｒ
8は炭化水素基を表わす。但し、Ｒ1とＲ2、Ｒ3とＲ4及
びＲ6とＲ7の各組の置換基が同時にＨであることは無
く、全てのＸが同時にＨであることは無い。）で表わさ
れる界面活性剤を提供する。
の問題のない、生分解性の高い非イオン性界面活性剤を
提供すること。 【解決手段】 本発明は、下記の一般式（１）及び
（２） 【化１】 【化２】 （式中、Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7はＨ又は炭化水素基を表わ
し、Ｒ5は炭化水素基を表わし、ｍ及びｐは１以上の数
を表わし、ｎは０又は１以上の数を表わす。Ｘは水素原
子又は−（Ｒ8−Ｏ）q−Ｈで表わされる基を表わし、Ｒ
8は炭化水素基を表わす。但し、Ｒ1とＲ2、Ｒ3とＲ4及
びＲ6とＲ7の各組の置換基が同時にＨであることは無
く、全てのＸが同時にＨであることは無い。）で表わさ
れる界面活性剤を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な界面活性剤
に関する。
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、地球規模の環境保全や人体に対す
る安全性への関心が高まり、「人や地球に優しい」製品
が注目されている。界面活性剤としても、人体に対する
刺激が少なく、安全性の高い製品や、環境に対する負荷
の少ない生分解性の高い製品が望まれており、トイレタ
リー製品を中心に安全性や生分解性の高い界面活性剤の
開発が進められている。これまで知られていた生分解性
の高い界面活性剤としては、構造中にエステル基等の加
水分解性の基を含有しているものや、アミノ酸等の生物
由来の原料を利用したもの等が主であった。ところで、
非イオン系の界面活性剤、特にアルコールやフェノール
にエチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加
したようなエーテル型の非イオン系界面活性剤は、洗浄
力が大きい、低濃度でも洗浄力が大きい、泡立ちが少な
い、液状である、水の硬度により洗浄力が変化しない、
耐アルカリ性が良い等の多くの優れた特徴を持ってい
る。このような特徴のため、エーテル型の非イオン系界
面活性剤は、洗濯用や食器用等の家庭用洗浄剤、シャン
プー等の化粧品、金属洗浄等の工業用洗浄剤等として広
範に使用されている界面活性剤である。
る安全性への関心が高まり、「人や地球に優しい」製品
が注目されている。界面活性剤としても、人体に対する
刺激が少なく、安全性の高い製品や、環境に対する負荷
の少ない生分解性の高い製品が望まれており、トイレタ
リー製品を中心に安全性や生分解性の高い界面活性剤の
開発が進められている。これまで知られていた生分解性
の高い界面活性剤としては、構造中にエステル基等の加
水分解性の基を含有しているものや、アミノ酸等の生物
由来の原料を利用したもの等が主であった。ところで、
非イオン系の界面活性剤、特にアルコールやフェノール
にエチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加
したようなエーテル型の非イオン系界面活性剤は、洗浄
力が大きい、低濃度でも洗浄力が大きい、泡立ちが少な
い、液状である、水の硬度により洗浄力が変化しない、
耐アルカリ性が良い等の多くの優れた特徴を持ってい
る。このような特徴のため、エーテル型の非イオン系界
面活性剤は、洗濯用や食器用等の家庭用洗浄剤、シャン
プー等の化粧品、金属洗浄等の工業用洗浄剤等として広
範に使用されている界面活性剤である。
【０００３】エーテル型の非イオン系洗浄剤は、通常は
アルコールやフェノールにエチレンオキサイド等のアル
キレンオキサイドを付加させて製造される。ここで、原
料として使用されるアルコールやフェノールは、当然洗
浄剤の用途によって適宜選択される。広く使用されるア
ルコールとしては、ヤシ油由来アルコール、牛脂由来ア
ルコール、大豆油由来アルコール、パーム油由来アルコ
ール等の天然由来アルコールや、チーグラーアルコー
ル、オキソアルコール、ソフタノールと称されるセカン
ダリーアルコール等の合成アルコールが使用されてい
る。しかし、最も洗浄力に優れているといわれているの
は、オレフィンとフェノールの反応により得られるノニ
ルフェノール、オクチルフェノール、ドデシルフェノー
ル等のアルキルフェノールにアルキレンオキサイドを付
加したポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル
である。
アルコールやフェノールにエチレンオキサイド等のアル
キレンオキサイドを付加させて製造される。ここで、原
料として使用されるアルコールやフェノールは、当然洗
浄剤の用途によって適宜選択される。広く使用されるア
ルコールとしては、ヤシ油由来アルコール、牛脂由来ア
ルコール、大豆油由来アルコール、パーム油由来アルコ
ール等の天然由来アルコールや、チーグラーアルコー
ル、オキソアルコール、ソフタノールと称されるセカン
ダリーアルコール等の合成アルコールが使用されてい
る。しかし、最も洗浄力に優れているといわれているの
は、オレフィンとフェノールの反応により得られるノニ
ルフェノール、オクチルフェノール、ドデシルフェノー
ル等のアルキルフェノールにアルキレンオキサイドを付
加したポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル
である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ポリオキシア
ルキレンアルキルフェニルエーテルは生分解性が良くな
いため、排水に含まれて環境中に放出されると、河川の
汚染や生態系に悪影響を与えるという問題点がある。そ
こで本発明者等は鋭意検討し、エステル基以外にも生分
解性の官能基があることに注目して本発明に到達した。
本発明の目的は、ケタール基及びポリオキシアルキレン
基を含有する生分解性の高い非イオン性界面活性剤を提
供することにある。
ルキレンアルキルフェニルエーテルは生分解性が良くな
いため、排水に含まれて環境中に放出されると、河川の
汚染や生態系に悪影響を与えるという問題点がある。そ
こで本発明者等は鋭意検討し、エステル基以外にも生分
解性の官能基があることに注目して本発明に到達した。
本発明の目的は、ケタール基及びポリオキシアルキレン
基を含有する生分解性の高い非イオン性界面活性剤を提
供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記の
一般式（１）
一般式（１）
【０００６】
【化３】
【０００７】（式中、Ｒ1〜Ｒ4は水素原子又は炭化水素
基を表わし、Ｒ5は炭化水素基を表わし、ｍは１以上の
数を表わし、ｎは０又は１以上の数を表わす。但し、Ｒ
1及びＲ2が同時に水素原子であることは無く、Ｒ3及び
Ｒ4が同時に水素原子であることは無い。）で表わされ
る界面活性剤である。又、本発明は、下記の一般式
（２）
基を表わし、Ｒ5は炭化水素基を表わし、ｍは１以上の
数を表わし、ｎは０又は１以上の数を表わす。但し、Ｒ
1及びＲ2が同時に水素原子であることは無く、Ｒ3及び
Ｒ4が同時に水素原子であることは無い。）で表わされ
る界面活性剤である。又、本発明は、下記の一般式
（２）
【０００８】
【化４】
【０００９】（式中、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭化水
素基を表わし、Ｘは水素原子又は−（Ｒ8−Ｏ）q−Ｈで
表わされる基を表わし、Ｒ8は炭化水素基を表わし、ｐ
は１以上の数を表わし、ｑは０又は１以上の数を表わ
す。但し、Ｒ6及びＲ7が同時に水素原子であることは無
く、全てのＸが同時に水素原子であることは無い。）で
表わされる界面活性剤である。
素基を表わし、Ｘは水素原子又は−（Ｒ8−Ｏ）q−Ｈで
表わされる基を表わし、Ｒ8は炭化水素基を表わし、ｐ
は１以上の数を表わし、ｑは０又は１以上の数を表わ
す。但し、Ｒ6及びＲ7が同時に水素原子であることは無
く、全てのＸが同時に水素原子であることは無い。）で
表わされる界面活性剤である。
【００１０】
【発明の実施の形態】一般式（１）において、Ｒ1〜Ｒ4
は水素原子又は炭化水素基を表わす。但し、Ｒ1及びＲ2
が同時に水素原子であることは無く、Ｒ3及びＲ4が同時
に水素原子であることは無い。炭化水素基としては例え
ば、アルキル基、アルケニル基、アルキルアリール基、
シクロアルキル基、シクロアルケニル基等が挙げられ
る。アルキル基としては例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、２級ブチ
ル、ターシャリブチル、ペンチル、イソペンチル、２級
ペンチル、ネオペンチル、ターシャリペンチル、ヘキシ
ル、２級ヘキシル、ヘプチル、２級ヘプチル、オクチ
ル、２―エチルヘキシル、２級オクチル、ノニル、２級
ノニル、デシル、２級デシル、ウンデシル、２級ウンデ
シル、ドデシル、２級ドデシル、トリデシル、イソトリ
デシル、２級トリデシル、テトラデシル、２級テトラデ
シル、ヘキサデシル、２級ヘキサデシル、ステアリル、
イコシル、ドコシル、テトラコシル、トリアコンチル、
２―ブチルオクチル、２―ブチルデシル、２―ヘキシル
オクチル、２―ヘキシルデシル、２―オクチルデシル、
２―ヘキシルドデシル、２―オクチルドデシル、２―デ
シルテトラデシル、２―ドデシルヘキサデシル、２―ヘ
キサデシルオクタデシル、２―テトラデシルオクタデシ
ル、モノメチル分枝―イソステアリル基等が挙げられ
る。
は水素原子又は炭化水素基を表わす。但し、Ｒ1及びＲ2
が同時に水素原子であることは無く、Ｒ3及びＲ4が同時
に水素原子であることは無い。炭化水素基としては例え
ば、アルキル基、アルケニル基、アルキルアリール基、
シクロアルキル基、シクロアルケニル基等が挙げられ
る。アルキル基としては例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、２級ブチ
ル、ターシャリブチル、ペンチル、イソペンチル、２級
ペンチル、ネオペンチル、ターシャリペンチル、ヘキシ
ル、２級ヘキシル、ヘプチル、２級ヘプチル、オクチ
ル、２―エチルヘキシル、２級オクチル、ノニル、２級
ノニル、デシル、２級デシル、ウンデシル、２級ウンデ
シル、ドデシル、２級ドデシル、トリデシル、イソトリ
デシル、２級トリデシル、テトラデシル、２級テトラデ
シル、ヘキサデシル、２級ヘキサデシル、ステアリル、
イコシル、ドコシル、テトラコシル、トリアコンチル、
２―ブチルオクチル、２―ブチルデシル、２―ヘキシル
オクチル、２―ヘキシルデシル、２―オクチルデシル、
２―ヘキシルドデシル、２―オクチルドデシル、２―デ
シルテトラデシル、２―ドデシルヘキサデシル、２―ヘ
キサデシルオクタデシル、２―テトラデシルオクタデシ
ル、モノメチル分枝―イソステアリル基等が挙げられ
る。
【００１１】アルケニル基としては例えば、ビニル、ア
リル、プロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニ
ル、イソペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテ
ニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニ
ル、テトラデセニル、オレイル基等が挙げられる。
リル、プロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニ
ル、イソペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテ
ニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニ
ル、テトラデセニル、オレイル基等が挙げられる。
【００１２】アリール基としては例えば、フェニル、ト
ルイル、キシリル、クメニル、メシチル、ベンジル、フ
ェネチル、スチリル、シンナミル、ベンズヒドリル、ト
リチル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ブチルフ
ェニル、ペンチルフェニル、ヘキシルフェニル、ヘプチ
ルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニル、デシ
ルフェニル、ウンデシルフェニル、ドデシルフェニル、
フェニルフェニル、ベンジルフェニル、スチレン化フェ
ニル、ｐ―クミルフェニル、α―ナフチル、β―ナフチ
ル基等が挙げられる。
ルイル、キシリル、クメニル、メシチル、ベンジル、フ
ェネチル、スチリル、シンナミル、ベンズヒドリル、ト
リチル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ブチルフ
ェニル、ペンチルフェニル、ヘキシルフェニル、ヘプチ
ルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニル、デシ
ルフェニル、ウンデシルフェニル、ドデシルフェニル、
フェニルフェニル、ベンジルフェニル、スチレン化フェ
ニル、ｐ―クミルフェニル、α―ナフチル、β―ナフチ
ル基等が挙げられる。
【００１３】シクロアルキル基、シクロアルケニル基と
しては例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル、メチルシクロペンチル、メチルシクロヘキ
シル、メチルシクロヘプチル、シクロペンテニル、シク
ロヘキセニル、シクロヘプテニル、メチルシクロペンテ
ニル、メチルシクロヘキセニル、メチルシクロヘプテニ
ル基等が挙げられる。これらの中でも、一般式（１）で
表わされる界面活性剤の界面活性、特に洗浄力等を考慮
した場合、Ｒ1及びＲ2の何れか一方、又はＲ3及びＲ4の
何れか一方が炭素数６〜２２のアルキル基、アルケニル
基又はアリール基であることが好ましい。
しては例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル、メチルシクロペンチル、メチルシクロヘキ
シル、メチルシクロヘプチル、シクロペンテニル、シク
ロヘキセニル、シクロヘプテニル、メチルシクロペンテ
ニル、メチルシクロヘキセニル、メチルシクロヘプテニ
ル基等が挙げられる。これらの中でも、一般式（１）で
表わされる界面活性剤の界面活性、特に洗浄力等を考慮
した場合、Ｒ1及びＲ2の何れか一方、又はＲ3及びＲ4の
何れか一方が炭素数６〜２２のアルキル基、アルケニル
基又はアリール基であることが好ましい。
【００１４】Ｒ5は炭化水素基を表わし、炭素数２〜４
のアルキレン基であることが好ましく、エチレン基であ
ることがより好ましい。一般式（１）の（Ｒ5−Ｏ）nの
部分は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、
ブチレンオキサイド、α−オレフィンオキサイド、スチ
レンオキサイド等のアルキレンオキサイド等を付加重合
することにより得ることができる。アルキレンオキサイ
ド等を付加することによって（Ｒ5−Ｏ）nの部分を形成
する場合は、付加させるアルキレンオキサイド等の種類
によりＲ5が決定される。付加させるアルキレンオキサ
イド等の重合形態は特に限定されず、１種類のアルキレ
ンオキサイド等の単独重合、２種類以上のアルキレンオ
キサイド等のランダム共重合、ブロック共重合又はラン
ダム／ブロック共重合等であってよい。Ｒ5としてはエ
チレン基が最も好ましく、Ｒ5が２種以上の基である場
合はそのうちの１種はエチレン基であることが好まし
い。重合度ｎは１以上の数であり、好ましくは１〜１０
０、より好ましくは１〜５０、更に好ましくは２〜２０
である。ｍはポリグリセリンの平均重合度であって、１
以上の数を表わし、好ましくは1〜２０、より好ましく
は１〜１０である。
のアルキレン基であることが好ましく、エチレン基であ
ることがより好ましい。一般式（１）の（Ｒ5−Ｏ）nの
部分は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、
ブチレンオキサイド、α−オレフィンオキサイド、スチ
レンオキサイド等のアルキレンオキサイド等を付加重合
することにより得ることができる。アルキレンオキサイ
ド等を付加することによって（Ｒ5−Ｏ）nの部分を形成
する場合は、付加させるアルキレンオキサイド等の種類
によりＲ5が決定される。付加させるアルキレンオキサ
イド等の重合形態は特に限定されず、１種類のアルキレ
ンオキサイド等の単独重合、２種類以上のアルキレンオ
キサイド等のランダム共重合、ブロック共重合又はラン
ダム／ブロック共重合等であってよい。Ｒ5としてはエ
チレン基が最も好ましく、Ｒ5が２種以上の基である場
合はそのうちの１種はエチレン基であることが好まし
い。重合度ｎは１以上の数であり、好ましくは１〜１０
０、より好ましくは１〜５０、更に好ましくは２〜２０
である。ｍはポリグリセリンの平均重合度であって、１
以上の数を表わし、好ましくは1〜２０、より好ましく
は１〜１０である。
【００１５】一方、一般式（２）において、Ｒ6及びＲ7
は水素原子又は炭化水素基を表わす。但し、Ｒ6及びＲ7
が同時に水素原子であることは無い。この炭化水素基と
しては例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキルア
リール基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基等が
挙げられる。更に具体的には、Ｒ1〜Ｒ4で例示したもの
と同一のものが挙げられる。これらの中でも、一般式
（２）で表わされる界面活性剤の界面活性、特に洗浄力
等を考慮した場合、Ｒ6及びＲ7の何れか一方が炭素数６
〜２２のアルキル基、アルケニル基又はアリール基であ
ることが好ましい。Ｘは水素原子又は−（Ｒ8−Ｏ）q−
Ｈで表わされる基を表わし、Ｒ8は炭化水素基を表わ
し、ｑは０又は１以上の数を表わし、好ましくは１〜１
００、より好ましくは１〜５０、更に好ましくは２〜２
０である。Ｒ8は炭化水素基を表わし、炭素数２〜４の
アルキレン基であることが好ましく、エチレン基である
ことがより好ましい。更に具体的には、上記Ｒ5と同様
のものが挙げられる。但し、全てのＸが同時に水素原子
であることは無い。ｐはポリグリセリンの平均重合度で
あって、１以上の数を表わし、好ましくは1〜２０、よ
り好ましくは１〜１０である。
は水素原子又は炭化水素基を表わす。但し、Ｒ6及びＲ7
が同時に水素原子であることは無い。この炭化水素基と
しては例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキルア
リール基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基等が
挙げられる。更に具体的には、Ｒ1〜Ｒ4で例示したもの
と同一のものが挙げられる。これらの中でも、一般式
（２）で表わされる界面活性剤の界面活性、特に洗浄力
等を考慮した場合、Ｒ6及びＲ7の何れか一方が炭素数６
〜２２のアルキル基、アルケニル基又はアリール基であ
ることが好ましい。Ｘは水素原子又は−（Ｒ8−Ｏ）q−
Ｈで表わされる基を表わし、Ｒ8は炭化水素基を表わ
し、ｑは０又は１以上の数を表わし、好ましくは１〜１
００、より好ましくは１〜５０、更に好ましくは２〜２
０である。Ｒ8は炭化水素基を表わし、炭素数２〜４の
アルキレン基であることが好ましく、エチレン基である
ことがより好ましい。更に具体的には、上記Ｒ5と同様
のものが挙げられる。但し、全てのＸが同時に水素原子
であることは無い。ｐはポリグリセリンの平均重合度で
あって、１以上の数を表わし、好ましくは1〜２０、よ
り好ましくは１〜１０である。
【００１６】一般式（１）又は（２）で表される化合物
は、重合度３以上のポリグリセリンとアルデヒド又はケ
トンを酸性触媒下で脱水縮合させた化合物に、エチレン
オキサイド等のアルキレンオキサイドを付加させれば得
ることができる。このような方法で製造した場合、通常
は、一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で
表される化合物の混合物として得られる。この場合、反
応させるポリグリセリンとアルデヒド又はケトンの反応
比を調節すれば、両化合物の混合比を調節することがで
きる。
は、重合度３以上のポリグリセリンとアルデヒド又はケ
トンを酸性触媒下で脱水縮合させた化合物に、エチレン
オキサイド等のアルキレンオキサイドを付加させれば得
ることができる。このような方法で製造した場合、通常
は、一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で
表される化合物の混合物として得られる。この場合、反
応させるポリグリセリンとアルデヒド又はケトンの反応
比を調節すれば、両化合物の混合比を調節することがで
きる。
【００１７】重合度３以上のポリグリセリンとアルデヒ
ド又はケトンを酸性触媒下で脱水縮合させた化合物に、
エチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加さ
せて一般式（１）又は（２）で表される化合物を製造す
る場合は、反応に使用するアルデヒド又はケトンの種類
によりＲ1〜Ｒ4又はＲ6及びＲ7が決定される。
ド又はケトンを酸性触媒下で脱水縮合させた化合物に、
エチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加さ
せて一般式（１）又は（２）で表される化合物を製造す
る場合は、反応に使用するアルデヒド又はケトンの種類
によりＲ1〜Ｒ4又はＲ6及びＲ7が決定される。
【００１８】また、反応に使用することができるアルデ
ヒドとしては具体的には、例えば、ブチルアルデヒド、
イソブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、２−メチル
ブタナール、カプロアルデヒド、２−メチルペンタナー
ル、２，３−ジメチルブタナール、ヘプタナール、オク
タナール、２−メチルヘプタナール、２−エチルヘキサ
ナール、２−プロピルペンタナール、２，４，４−トリ
メチルペンタナール、デカナール、２−イソプロピル−
５−メチルヘキサナール、ドデカナール、テトラデカナ
ール、ヘキサデカナール、オクタデカナール、２−メチ
ルオクタデカナール、イコサナール等が挙げられる。
ヒドとしては具体的には、例えば、ブチルアルデヒド、
イソブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、２−メチル
ブタナール、カプロアルデヒド、２−メチルペンタナー
ル、２，３−ジメチルブタナール、ヘプタナール、オク
タナール、２−メチルヘプタナール、２−エチルヘキサ
ナール、２−プロピルペンタナール、２，４，４−トリ
メチルペンタナール、デカナール、２−イソプロピル−
５−メチルヘキサナール、ドデカナール、テトラデカナ
ール、ヘキサデカナール、オクタデカナール、２−メチ
ルオクタデカナール、イコサナール等が挙げられる。
【００１９】反応に使用することができるケトンとして
は具体的には、例えば、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルプロピルケトン、メチルイソプロピルケト
ン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルヘ
プチルケトン、メチルオクチルケトン、メチルノニルケ
トン、メチルデシルケトン、メチルウンデシルケトン、
メチルドデシルケトン、メチルトリデシルケトン、メチ
ルテトラデシルケトン、メチルペンタデシルケトン、メ
チルヘキサデシルケトン、メチルヘプタデシルケトン、
メチルオクタデシルケトン、メチルシクロヘキシルケト
ン、ジエチルケトン、エチルプロピルケトン、エチルイ
ソプロピルケトン、エチルイソブチルケトン、エチルペ
ンチルケトン、エチルヘキシルケトン、ジイソブチルケ
トン、ジペンチルケトン、ジヘキシルケトン、ジウンデ
シルケトン、ジヘプタデシルケトン、６−メチル−２−
ヘプタノン、４−メチル−３−ヘプタノン、２−メチル
−３−ヘプタノン、５−（２，２，５−トリメチルシク
ロヘキシル）−２−ペンタノン、６，１０，１４−トリ
メチル−２−ペンタデカノン、６，１０−ジメチル−２
−ウンデカノン等が挙げられる。
は具体的には、例えば、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルプロピルケトン、メチルイソプロピルケト
ン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルヘ
プチルケトン、メチルオクチルケトン、メチルノニルケ
トン、メチルデシルケトン、メチルウンデシルケトン、
メチルドデシルケトン、メチルトリデシルケトン、メチ
ルテトラデシルケトン、メチルペンタデシルケトン、メ
チルヘキサデシルケトン、メチルヘプタデシルケトン、
メチルオクタデシルケトン、メチルシクロヘキシルケト
ン、ジエチルケトン、エチルプロピルケトン、エチルイ
ソプロピルケトン、エチルイソブチルケトン、エチルペ
ンチルケトン、エチルヘキシルケトン、ジイソブチルケ
トン、ジペンチルケトン、ジヘキシルケトン、ジウンデ
シルケトン、ジヘプタデシルケトン、６−メチル−２−
ヘプタノン、４−メチル−３−ヘプタノン、２−メチル
−３−ヘプタノン、５−（２，２，５−トリメチルシク
ロヘキシル）−２−ペンタノン、６，１０，１４−トリ
メチル−２−ペンタデカノン、６，１０−ジメチル−２
−ウンデカノン等が挙げられる。
【００２０】一般式（１）又は（２）で表される化合物
を有効量得るためには、重合度３以上のポリグリセリン
１モルに対して、上記アルデヒド又はケトンを、好まし
くは１．０〜１０モル程度、より好ましくは１．８〜
５．０モル程度反応させる。重合度３以上のポリグリセ
リンとアルデヒド又はケトンを反応させる際に好適に使
用することができる酸性触媒としては、ｐ−トルエンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸等が挙げられる。こ
れらの酸性触媒を使用する場合は、ポリグリセリン１モ
ルに対して、０．０５〜１０モル使用することが好まし
く、０．１〜７モル使用することがより好ましく、０．
５〜５モル使用することが最も好ましい。重合度３以上
のポリグリセリンとアルデヒド又はケトンを反応させる
際は、無溶媒下、又は溶媒中で、好ましくは４０〜１６
０℃、より好ましくは６０〜１００℃程度で、生成する
水を除去しながら反応を行う。反応は窒素雰囲気下又は
乾燥雰囲気下で行うことが好ましい。場合によっては減
圧下で反応を行うことも有効である。反応時間は一概に
は言えないが、通常は５〜２００時間程度である。
を有効量得るためには、重合度３以上のポリグリセリン
１モルに対して、上記アルデヒド又はケトンを、好まし
くは１．０〜１０モル程度、より好ましくは１．８〜
５．０モル程度反応させる。重合度３以上のポリグリセ
リンとアルデヒド又はケトンを反応させる際に好適に使
用することができる酸性触媒としては、ｐ−トルエンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸等が挙げられる。こ
れらの酸性触媒を使用する場合は、ポリグリセリン１モ
ルに対して、０．０５〜１０モル使用することが好まし
く、０．１〜７モル使用することがより好ましく、０．
５〜５モル使用することが最も好ましい。重合度３以上
のポリグリセリンとアルデヒド又はケトンを反応させる
際は、無溶媒下、又は溶媒中で、好ましくは４０〜１６
０℃、より好ましくは６０〜１００℃程度で、生成する
水を除去しながら反応を行う。反応は窒素雰囲気下又は
乾燥雰囲気下で行うことが好ましい。場合によっては減
圧下で反応を行うことも有効である。反応時間は一概に
は言えないが、通常は５〜２００時間程度である。
【００２１】溶媒は、使用しても使用しなくてもよい。
使用する場合は、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭素、クロロホル
ム、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、
リグロイン、石油エーテル等の不活性溶媒が好ましい。
その後、アルキレンオキサイドの付加を行うが、アルキ
レンオキサイドの付加は常法に従えばよい。
使用する場合は、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭素、クロロホル
ム、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、
リグロイン、石油エーテル等の不活性溶媒が好ましい。
その後、アルキレンオキサイドの付加を行うが、アルキ
レンオキサイドの付加は常法に従えばよい。
【００２２】本発明の界面活性剤の具体的用途として
は、例えば、消泡剤、乳化剤、洗浄剤、分散剤、脱墨
剤、離型剤、繊維処理剤、接着剤用添加剤、防曇剤、艶
だし剤、ウレタンフォーム等の整泡剤、塗料用添加剤、
帯電防止剤、滑剤、樹脂の内部潤滑剤、樹脂改質剤、化
粧料添加剤等が挙げられる。
は、例えば、消泡剤、乳化剤、洗浄剤、分散剤、脱墨
剤、離型剤、繊維処理剤、接着剤用添加剤、防曇剤、艶
だし剤、ウレタンフォーム等の整泡剤、塗料用添加剤、
帯電防止剤、滑剤、樹脂の内部潤滑剤、樹脂改質剤、化
粧料添加剤等が挙げられる。
【００２３】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。尚、以下の実施例中、部及び％は特に記載が無
い限り重量基準である。 （製造例１）攪拌機、温度計、窒素導入管、及び水分離
器付き冷却器を取り付けた３リットルの４つ口フラスコ
に、テトラグリセリン３１４ｇ、メチルヘプチルケトン
４２６ｇ、パラトルエンスルホン酸１水和物３．８ｇ、
及び溶媒としてトルエン７００ｍＬを仕込んだ。窒素雰
囲気下、常圧、１１０〜１２０℃で６０時間脱水反応を
行った。反応終了後、４０℃まで冷却して炭酸ナトリウ
ム４．５ｇを加えて系内を中性にし、同温で１時間攪拌
した。更に水２３０ｇを加えて、６０℃で３０分間攪拌
し、その後静置して分層した。下層を除去した後、飽和
食塩水５０ｇで洗浄した。次いで、トルエン及び未反応
のメチルヘプチルケトンを減圧留去し、更に減圧蒸留に
より反応物を精製した。
明する。尚、以下の実施例中、部及び％は特に記載が無
い限り重量基準である。 （製造例１）攪拌機、温度計、窒素導入管、及び水分離
器付き冷却器を取り付けた３リットルの４つ口フラスコ
に、テトラグリセリン３１４ｇ、メチルヘプチルケトン
４２６ｇ、パラトルエンスルホン酸１水和物３．８ｇ、
及び溶媒としてトルエン７００ｍＬを仕込んだ。窒素雰
囲気下、常圧、１１０〜１２０℃で６０時間脱水反応を
行った。反応終了後、４０℃まで冷却して炭酸ナトリウ
ム４．５ｇを加えて系内を中性にし、同温で１時間攪拌
した。更に水２３０ｇを加えて、６０℃で３０分間攪拌
し、その後静置して分層した。下層を除去した後、飽和
食塩水５０ｇで洗浄した。次いで、トルエン及び未反応
のメチルヘプチルケトンを減圧留去し、更に減圧蒸留に
より反応物を精製した。
【００２４】上記反応物２００ｇをオートクレーブに仕
込み、エチレンオキサイド１２５ｇを反応温度１００〜
１５０℃、反応圧力１〜５ｋｇ／ｃｍ 2 、３時間かけて
フィードした。その後、３時間熟成し、精製処理をして
本発明の界面活性剤１を得た。以下、同様の方法で、表
１及び表２に示す本発明の界面活性剤２〜２９を得た。
得られた各界面活性剤について、界面活性剤の基礎物性
を測定した。
込み、エチレンオキサイド１２５ｇを反応温度１００〜
１５０℃、反応圧力１〜５ｋｇ／ｃｍ 2 、３時間かけて
フィードした。その後、３時間熟成し、精製処理をして
本発明の界面活性剤１を得た。以下、同様の方法で、表
１及び表２に示す本発明の界面活性剤２〜２９を得た。
得られた各界面活性剤について、界面活性剤の基礎物性
を測定した。
【００２５】＜表面張力＞No.１〜No.２９の各界面活性
剤の０．１％濃度の水溶液について、ウィルヘルミ法に
より、２５℃における表面張力を測定した。 ＜起泡力＞同様にNo.１〜No.２９の各界面活性剤につい
て、界面活性剤の添加量が０．２５％のイオン交換水の
起泡力試験を、ロスマイルス法により２５℃で行い、泡
の高さ（ｍｍ）を測定した。これらの結果を表１及び表
２に示す。
剤の０．１％濃度の水溶液について、ウィルヘルミ法に
より、２５℃における表面張力を測定した。 ＜起泡力＞同様にNo.１〜No.２９の各界面活性剤につい
て、界面活性剤の添加量が０．２５％のイオン交換水の
起泡力試験を、ロスマイルス法により２５℃で行い、泡
の高さ（ｍｍ）を測定した。これらの結果を表１及び表
２に示す。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【表２】
【００２８】表１及び表２において、ＥＯはオキシエチ
レン基を、ＰＯはオキシプロピレン基を、ＢＯはオキシ
ブチレン基を表わす。(EO)-(PO)-(BO）はブロック重合
のポリオキシアルキレン鎖を、(EO)/(PO)はランダム重
合のポリオキシアルキレン鎖を表わす。又、表２のＸは
全て（Ｒ8−Ｏ）qＨで表される基であり、重合度ｑは、
ベースのポリグリセリンケタール１モルに対するモル数
である。
レン基を、ＰＯはオキシプロピレン基を、ＢＯはオキシ
ブチレン基を表わす。(EO)-(PO)-(BO）はブロック重合
のポリオキシアルキレン鎖を、(EO)/(PO)はランダム重
合のポリオキシアルキレン鎖を表わす。又、表２のＸは
全て（Ｒ8−Ｏ）qＨで表される基であり、重合度ｑは、
ベースのポリグリセリンケタール１モルに対するモル数
である。
【００２９】＜生分解性＞上記の本発明品１〜２９につ
いて、ＪＩＳ−Ｋ−０１０２の方法に従って生分解性の
試験を行った。即ち、ＢＯＤは生物化学的酸素消費量で
あって、水中の好気性微生物によって消費される溶存酸
素の量である。ここでは、試料の界面活性剤を希釈水で
１，０００ｐｐｍの濃度に希釈し、２０℃で５日間放置
した後に消費された溶存酸素の量である。ＴＯＤは各試
料の化学構造から求められる定数である。このＢＯＤと
ＴＯＤの値から生分解率を求めた。その結果を表３及び
４に示す。
いて、ＪＩＳ−Ｋ−０１０２の方法に従って生分解性の
試験を行った。即ち、ＢＯＤは生物化学的酸素消費量で
あって、水中の好気性微生物によって消費される溶存酸
素の量である。ここでは、試料の界面活性剤を希釈水で
１，０００ｐｐｍの濃度に希釈し、２０℃で５日間放置
した後に消費された溶存酸素の量である。ＴＯＤは各試
料の化学構造から求められる定数である。このＢＯＤと
ＴＯＤの値から生分解率を求めた。その結果を表３及び
４に示す。
【００３０】
【表３】
【００３１】
【表４】
【００３２】＜洗浄力評価１＞本発明品の界面活性剤１
〜２９の一部及び下記の比較品１及び２を用い、以下の
配合組成の洗浄剤組成物を調製した。 ＜配合＞ 本発明品又は比較品 ８％ ヤシ油アルコールＥＯモル付加硫酸エステルＮａ塩 １８％ 塩化ポリオキシプロピレン（２５）メチルジエチルアンモニウム ３％ ヤシ脂肪酸ジエタノールアミド １１％ ヤシアルキルジメチルアミンオキサイド ２％ その他（ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、 エタノール、プロピレングリコール） １７％ 水 残部
〜２９の一部及び下記の比較品１及び２を用い、以下の
配合組成の洗浄剤組成物を調製した。 ＜配合＞ 本発明品又は比較品 ８％ ヤシ油アルコールＥＯモル付加硫酸エステルＮａ塩 １８％ 塩化ポリオキシプロピレン（２５）メチルジエチルアンモニウム ３％ ヤシ脂肪酸ジエタノールアミド １１％ ヤシアルキルジメチルアミンオキサイド ２％ その他（ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、 エタノール、プロピレングリコール） １７％ 水 残部
【００３３】マーガリン１００部、小麦粉１０４部及び
オレイン酸４部の混合物を磁製皿に３ｇ塗布し、温度２
２℃、湿度５０％の恒温槽に一晩静置したものについて
以下の要領で洗浄力試験を行った。尚、試験に用いた水
はカルシウム濃度５０ｐｐｍの人工硬水であった。２５
℃の水１リットルに対して、前記洗浄剤組成物０．７５
ｍＬの割合で希釈し洗剤液とした。直径３０ｃｍのプラ
スチック製洗い桶に１リットルの前記洗剤液を入れ、そ
の液面から７５ｃｍの高さから、５００ｍＬの分液ろう
とに入れた５００ｍＬの前記洗剤液をプラスチック桶の
中心へ落下させ泡立てた。この洗剤液の中で、直径４．
５ｃｍの洗浄ブラシにて上記汚染皿を１０回こすり洗い
し流水にて１０秒すすいだ後乾燥させた。乾燥後の皿に
ついて、目視及び手指の触感にて油の残留度を評価し
た。試験結果は、乾燥後油の残留感が無かった皿の枚数
を求めた。
オレイン酸４部の混合物を磁製皿に３ｇ塗布し、温度２
２℃、湿度５０％の恒温槽に一晩静置したものについて
以下の要領で洗浄力試験を行った。尚、試験に用いた水
はカルシウム濃度５０ｐｐｍの人工硬水であった。２５
℃の水１リットルに対して、前記洗浄剤組成物０．７５
ｍＬの割合で希釈し洗剤液とした。直径３０ｃｍのプラ
スチック製洗い桶に１リットルの前記洗剤液を入れ、そ
の液面から７５ｃｍの高さから、５００ｍＬの分液ろう
とに入れた５００ｍＬの前記洗剤液をプラスチック桶の
中心へ落下させ泡立てた。この洗剤液の中で、直径４．
５ｃｍの洗浄ブラシにて上記汚染皿を１０回こすり洗い
し流水にて１０秒すすいだ後乾燥させた。乾燥後の皿に
ついて、目視及び手指の触感にて油の残留度を評価し
た。試験結果は、乾燥後油の残留感が無かった皿の枚数
を求めた。
【００３４】＜洗浄力評価２＞縦１０ｃｍ、横１０ｃ
ｍ、厚さ２ｍｍのステンレス板のテストピースに、マシ
ン油を１００ｍｇ付着させて汚染テストピースとした。
これに、本発明品１〜２９の一部及び比較品１又は２の
それぞれと、メタケイ酸ナトリウムを１：９の重量比で
配合した０．２％水溶液に、２５℃、３分間浸漬させ
て、その後１０５℃で２時間乾燥させた。このテストピ
ースのマシン油の脱脂率を次の式によって測定した。
ｍ、厚さ２ｍｍのステンレス板のテストピースに、マシ
ン油を１００ｍｇ付着させて汚染テストピースとした。
これに、本発明品１〜２９の一部及び比較品１又は２の
それぞれと、メタケイ酸ナトリウムを１：９の重量比で
配合した０．２％水溶液に、２５℃、３分間浸漬させ
て、その後１０５℃で２時間乾燥させた。このテストピ
ースのマシン油の脱脂率を次の式によって測定した。
【００３５】
【数１】
【００３６】以上の洗浄力評価の結果を表５に示す。
尚、比較品としては以下のものを使用した。
尚、比較品としては以下のものを使用した。
【００３７】
【化５】
【００３８】
【化６】
【００３９】
【表５】
【００４０】
【発明の効果】本発明の効果は、ケタール基及びポリオ
キシアルキレン基を含有する生分解性の優れた非イオン
性界面活性剤を提供したことにある。
キシアルキレン基を含有する生分解性の優れた非イオン
性界面活性剤を提供したことにある。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｄ 317/22 Ｃ０７Ｄ 317/22 (72)発明者 小宮 薫 東京都荒川区東尾久７丁目２番35号 旭電 化工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4C083 AB032 AC102 AC122 AC402 AC562 AC642 AC692 AC792 AC841 CC38 DD23 DD27 EE21 4D077 AA03 AA05 AA09 AB06 AB10 AB11 AB20 AC01 AC05 BA07 BA15 BA20 CA03 CA13 DC07Y DC08Z DC10Z DC12Y DC15Z DC19Y DD05Y DD32Y DD33Y DE02Y DE07Y DE08Y DE12Y 4H003 AB27 AC03 AC10 AC13 AC15 AE04 BA12 EA21 EB22 ED02 ED28 FA03
Claims (2)
- 【請求項１】 下記の一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1〜Ｒ4は水素原子又は炭化水素基を表わし、
Ｒ5は炭化水素基を表わし、ｍは１以上の数を表わし、
ｎは０又は１以上の数を表わす。但し、Ｒ1及びＲ2が同
時に水素原子であることは無く、Ｒ3及びＲ4が同時に水
素原子であることは無い。）で表わされる界面活性剤。 - 【請求項２】 下記の一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭化水素基を表わ
し、Ｘは水素原子又は−（Ｒ8−Ｏ）q−Ｈで表わされる
基を表わし、Ｒ8は炭化水素基を表わし、ｐは１以上の
数を表わし、ｑは０又は１以上の数を表わす。但し、Ｒ
6及びＲ7が同時に水素原子であることは無く、全てのＸ
が同時に水素原子であることは無い。）で表わされる界
面活性剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36930398A JP4097821B2 (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | 界面活性剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36930398A JP4097821B2 (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | 界面活性剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000192076A true JP2000192076A (ja) | 2000-07-11 |
| JP4097821B2 JP4097821B2 (ja) | 2008-06-11 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36930398A Expired - Fee Related JP4097821B2 (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | 界面活性剤 |
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006199665A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Nof Corp | 皮膚化粧料 |
| JP2006206494A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Nof Corp | 毛髪化粧料 |
| JP2006225324A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Nof Corp | メイクアップ化粧料 |
| JP2006232717A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Nof Corp | クレンジング料 |
| JP2006241412A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Nof Corp | 洗浄剤組成物 |
| JP2008188557A (ja) * | 2007-02-07 | 2008-08-21 | Nof Corp | ポリグリセリン誘導体を含む界面活性剤 |
| JP2010100818A (ja) * | 2008-04-17 | 2010-05-06 | Daicel Chem Ind Ltd | 温度感受性高分子化合物及び温度感受性薬剤放出システム |
| WO2015170638A1 (ja) * | 2014-05-08 | 2015-11-12 | 株式会社ニイタカ | 非イオン性界面活性剤及び非イオン性界面活性剤の製造方法 |
-
1998
- 1998-12-25 JP JP36930398A patent/JP4097821B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4670366B2 (ja) * | 2005-01-24 | 2011-04-13 | 日油株式会社 | 皮膚化粧料 |
| JP2006199665A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Nof Corp | 皮膚化粧料 |
| JP2006206494A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Nof Corp | 毛髪化粧料 |
| JP4670369B2 (ja) * | 2005-01-27 | 2011-04-13 | 日油株式会社 | 毛髪化粧料 |
| JP2006225324A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Nof Corp | メイクアップ化粧料 |
| JP4670385B2 (ja) * | 2005-02-17 | 2011-04-13 | 日油株式会社 | メイクアップ化粧料 |
| JP2006232717A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Nof Corp | クレンジング料 |
| JP4670391B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2011-04-13 | 日油株式会社 | クレンジング料 |
| JP2006241412A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Nof Corp | 洗浄剤組成物 |
| JP2008188557A (ja) * | 2007-02-07 | 2008-08-21 | Nof Corp | ポリグリセリン誘導体を含む界面活性剤 |
| JP2010100818A (ja) * | 2008-04-17 | 2010-05-06 | Daicel Chem Ind Ltd | 温度感受性高分子化合物及び温度感受性薬剤放出システム |
| JP2013224455A (ja) * | 2008-04-17 | 2013-10-31 | Daicel Corp | ポリグリセリン誘導体 |
| WO2015170638A1 (ja) * | 2014-05-08 | 2015-11-12 | 株式会社ニイタカ | 非イオン性界面活性剤及び非イオン性界面活性剤の製造方法 |
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