JP2000183534A - Manufacture of wiring board - Google Patents

Manufacture of wiring board

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JP2000183534A
JP2000183534A JP36255498A JP36255498A JP2000183534A JP 2000183534 A JP2000183534 A JP 2000183534A JP 36255498 A JP36255498 A JP 36255498A JP 36255498 A JP36255498 A JP 36255498A JP 2000183534 A JP2000183534 A JP 2000183534A
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JP
Japan
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insulating resin
hole
wiring board
resin
insulating
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Application number
JP36255498A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuji Maeda
修二 前田
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simply fill non-penetrating holes by, after supplying insulating resin to the surface of a substrate, compressing it toward the bottom of the non-penetrating holes and thereby solidifying it. SOLUTION: A compressing body 30 made of rigid material has its portion corresponding to insulating resin 22 at an area on the surface of a substrate 10 where a non-penetrating hole 12 is exposed before the insulating resin 22 is supplied, formed into protruded shape. The compressing body 30 is brought into contact with the insulting resin 22, supplied to the surface of the substrate 10, under pressure. When the insulating resin 22 is compressed toward the bottom of the non-penetrating hole 12, form E remaining in the non-penetrating through hole 12 is pressed out, and the interior of the non-penetrating hole 12 is filled with the insulating resin 22. Then the insulating resin 22 is heated and solidified to form an insulating layer. Thus the interior of the non- penetrating hole is simply filled.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、非貫通スルーホー
ルを有する多層の配線板の製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer wiring board having non-through holes.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より多層の配線板は、金属箔張り積
層板の表面の金属箔をエッチングして内層用の導体回路
を形成した後、その導体回路を形成した内層用基板の表
裏に、基材にエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を含浸した
プリプレグを所要枚数重ねると共に、銅箔等の金属箔を
その片側又は両側に配して積層し、次いで、加熱加圧し
て成形を行うことによって多層の積層板を製造した後、
ドリル加工によりその多層の積層板を貫通するスルーホ
ールを形成し、次いで、そのスルーホールの壁面にメッ
キ等を施して内層用の導体回路と外層の金属箔間の電気
的接続を行った後、外層の金属箔をエッチングして外層
用の導体回路を形成する方法で製造されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a multilayer wiring board is formed by forming a conductive circuit for an inner layer by etching a metal foil on a surface of a metal foil-clad laminate, and then forming the conductive circuit on the front and back of the inner layer substrate on which the conductive circuit is formed. By stacking a required number of prepregs impregnated with a thermosetting resin such as an epoxy resin on the base material, and arranging and laminating a metal foil such as a copper foil on one or both sides thereof, and then molding by heating and pressing After manufacturing multilayer laminates,
After forming a through hole through the multi-layer laminate by drilling, and then performing plating etc. on the wall surface of the through hole to make an electrical connection between the conductor circuit for the inner layer and the metal foil of the outer layer, It is manufactured by a method of forming a conductive circuit for an outer layer by etching an outer metal foil.

【0003】近年の配線板の高密度化や、生産性向上の
要求に伴い、内層用の導体回路と外層の導体回路の間
に、基材を用いない樹脂単独の絶縁層を形成した、一般
にビルドアップ配線板と呼ばれる多層の配線板が検討さ
れている。このビルドアップ配線板は、任意の層の導体
回路間を貫通し、配線板全体では非貫通のスルーホール
を用いる配線板であり、基材の厚みに制限されないため
絶縁層の厚みを薄くできるという特徴や、メッキプロセ
スによる導体回路の微細化が可能であるという特徴があ
り、増加しつつある。
With the recent demand for higher density and higher productivity of wiring boards, an insulating layer made of a resin alone without using a base material is generally formed between a conductor circuit for an inner layer and a conductor circuit for an outer layer. A multilayer wiring board called a build-up wiring board is being studied. This build-up wiring board is a wiring board that penetrates between conductor circuits of an arbitrary layer and uses a non-penetrating through hole in the entire wiring board, and is not limited to the thickness of the base material, so that the thickness of the insulating layer can be reduced. There are features and the feature that the conductor circuit can be miniaturized by a plating process, and it is increasing.

【0004】このビルドアップ配線板の製造方法として
は、例えば特開平4−148590号に記載されたよう
に、導体回路及び非貫通スルーホールが表面に形成され
た内層用基板の表面に絶縁樹脂を塗布する工程と、塗布
した絶縁樹脂を固化させて絶縁層を形成する工程と、そ
の絶縁層の一部を除去して非貫通スルーホールを形成す
る工程と、絶縁層の表面及び非貫通スルーホールの壁面
にメッキを施して導体回路を形成する工程とを必要な回
数繰り返すことにより、樹脂単独の絶縁層と導体層と
を、交互に積み上げながら製造する方法で行われてい
る。
As a method of manufacturing this build-up wiring board, for example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-148590, an insulating resin is formed on the surface of an inner layer substrate on which a conductive circuit and a non-through through hole are formed. A step of applying, a step of solidifying the applied insulating resin to form an insulating layer, a step of removing a part of the insulating layer to form a non-through through hole, a surface of the insulating layer and a non-through through hole The process of forming a conductor circuit by plating on the wall surface of the resin is repeated a required number of times, so that an insulating layer made of a resin alone and a conductor layer are alternately stacked and manufactured.

【0005】しかしこの方法の場合、塗布した絶縁樹脂
が、非貫通スルーホールの内側に充分に埋まらない場合
があり、得られた配線板は、耐熱性試験において非貫通
スルーホールの部分で膨れが発生する場合があるという
問題や、非貫通スルーホールの表面部分に形成した絶縁
層に窪みが生じて、部品実装の信頼性及び導体回路の信
頼性が低下する恐れがあるという問題があった。
However, in this method, the applied insulating resin may not be sufficiently buried inside the non-through-hole, and the obtained wiring board may be swollen at the non-through-hole in a heat resistance test. There is a problem that this may occur, and there is a problem that a recess is formed in the insulating layer formed on the surface portion of the non-through through hole, and the reliability of component mounting and the reliability of the conductor circuit may be reduced.

【0006】そのため、例えば、特開平6−31488
3号に記載されたような、非貫通スルーホールの内側の
開穴部をメッキ金属で充填した後、絶縁樹脂を塗布して
絶縁層を形成する方法や、特開平7−115279号に
記載されたような、非貫通スルーホールの内側の開穴部
を導電性粉及び樹脂硬化物等で充填した後、絶縁樹脂を
塗布して絶縁層を形成する方法等が提案されている。
Therefore, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 6-31488
JP-A No. 7-115279 describes a method of filling an opening portion inside a non-through through hole with a plating metal and then applying an insulating resin to form an insulating layer as described in JP-A No. Such a method has been proposed in which an opening portion inside a non-through through hole is filled with a conductive powder and a cured resin, and then an insulating resin is applied to form an insulating layer.

【0007】しかし、これらの方法の場合、非貫通スル
ーホールの内側に充填するメッキ金属や導電性粉等が必
要となるため、コストアップになるという問題や、工程
増加によって、得られる配線板の歩留まりが低下すると
いう問題があった。
However, these methods require a plating metal or conductive powder to fill the inside of the non-through-hole, which leads to an increase in cost and an increase in the number of steps, resulting in an increase in the wiring board obtained. There was a problem that the yield was reduced.

【0008】また、特開平9−232758号に記載さ
れたような、非貫通スルーホールの凹部の内壁を溶媒で
濡らすことにより塗布した絶縁樹脂の置換を促進させ
て、非貫通スルーホールの内側を絶縁樹脂で充填する方
法も提案されている。しかし、この方法の場合、溶媒の
塗布量の管理が困難であるという問題があった。以上の
ように、従来提案されている方法の場合、工程増加、コ
ストアップ、条件管理の困難さ等の問題が生じており、
より簡便な方法で、非貫通スルーホールの内側を充填す
ることが可能な配線板の製造方法が求められている。
Further, as described in JP-A-9-232758, the inner wall of the concave portion of the non-through-hole is wetted with a solvent to promote the replacement of the applied insulating resin, and the inside of the non-through-hole is reduced. A method of filling with an insulating resin has also been proposed. However, this method has a problem that it is difficult to control the amount of the solvent applied. As described above, in the case of the conventionally proposed method, there are problems such as an increase in the number of steps, an increase in cost, and difficulty in managing conditions.
There is a need for a method of manufacturing a wiring board that can fill the inside of a non-through hole with a simpler method.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を改善するために成されたもので、その目的とするとこ
ろは、表面に非貫通スルーホールが形成された基板の表
面に、絶縁樹脂を供給して絶縁層を形成すると共に、そ
の絶縁層の表面に導体回路を形成して製造する配線板の
製造方法であって、簡便な方法で非貫通スルーホールの
内側を充填することが可能な、配線板の製造方法を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an insulating film having a non-through-hole formed on the surface thereof. A method of manufacturing a wiring board in which a resin is supplied to form an insulating layer and a conductive circuit is formed on the surface of the insulating layer, and the inside of the non-through-hole is filled by a simple method. It is an object of the present invention to provide a possible method of manufacturing a wiring board.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
配線板の製造方法は、表面に非貫通スルーホールが形成
された基板の表面に、絶縁樹脂を供給して絶縁層を形成
すると共に、その絶縁層の表面に導体回路を形成して製
造する配線板の製造方法において、基板の表面に絶縁層
を形成する方法が、基板の表面に絶縁樹脂を供給した
後、その供給した絶縁樹脂を非貫通スルーホールの底面
側に向かって加圧し、次いで、絶縁樹脂を固化させて形
成する方法であることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a wiring board, wherein an insulating layer is formed by supplying an insulating resin to a surface of a substrate having a non-through through hole formed on the surface. In addition, in a method of manufacturing a wiring board for manufacturing by forming a conductive circuit on the surface of the insulating layer, the method of forming the insulating layer on the surface of the substrate is as follows. The method is characterized in that the resin is pressed toward the bottom side of the non-through hole, and then the insulating resin is solidified to form the resin.

【0011】本発明の請求項2に係る配線板の製造方法
は、請求項1記載の配線板の製造方法において、絶縁樹
脂を加圧する方法が、絶縁樹脂の表面のうち、絶縁樹脂
を供給する前に基板の表面に非貫通スルーホールが露出
していた部分の絶縁樹脂を、絶縁樹脂の表面のうち、そ
の他の部分より、高い圧力で加圧する方法であることを
特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the method for manufacturing a wiring board according to the first aspect, the method of pressing the insulating resin comprises supplying the insulating resin from the surface of the insulating resin. The method is characterized in that a portion of the insulating resin where the non-through through-hole is exposed on the surface of the substrate before is pressed at a higher pressure than other portions of the surface of the insulating resin.

【0012】本発明の請求項3に係る配線板の製造方法
は、請求項1又は請求項2記載の配線板の製造方法にお
いて、絶縁樹脂を加圧する方法が、柔軟性材料製又は剛
直性材料製の加圧体を、絶縁樹脂に加圧接触させる方法
であることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the method for manufacturing a wiring board according to the first or second aspect, the method of pressing the insulating resin is preferably made of a flexible material or a rigid material. The method is a method in which a pressurizing member made of a resin is brought into pressure contact with an insulating resin.

【0013】本発明の請求項4に係る配線板の製造方法
は、請求項3記載の配線板の製造方法において、加圧体
の絶縁樹脂と接触する部分に、絶縁樹脂に対して非密着
性の表面処理を施していることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a wiring board according to the third aspect, wherein a portion of the pressurizing body which is in contact with the insulating resin has non-adhesiveness to the insulating resin. Characterized in that the surface treatment is performed.

【0014】本発明の請求項5に係る配線板の製造方法
は、請求項1又は請求項2記載の配線板の製造方法にお
いて、絶縁樹脂を加圧する方法が、粒子状物質、液状物
質及び気体からなる群の中から選ばれた少なくとも1種
の物質を、絶縁樹脂に衝突させる方法であることを特徴
とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a wiring board according to the first or second aspect, the method for pressurizing the insulating resin comprises the steps of: Wherein at least one kind of substance selected from the group consisting of

【0015】本発明の請求項6に係る配線板の製造方法
は、請求項1から請求項5のいずれかに記載の配線板の
製造方法において、絶縁樹脂を加圧する方法が、絶縁樹
脂に対して非密着性のシート状物質を絶縁樹脂と接触す
る部分に配し、そのシート状物質を介して絶縁樹脂を加
圧する方法であることを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a wiring board according to any one of the first to fifth aspects, the method of pressurizing the insulating resin comprises: The method is characterized in that a non-adhesive sheet material is disposed at a portion in contact with the insulating resin, and the insulating resin is pressed through the sheet material.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明に係る配線板の製造方法を
図面に基づいて説明する。図1〜図3は本発明に係る配
線板の製造方法の一実施の形態を説明する工程図であ
り、図4は本発明に係る配線板の製造方法の他の実施の
形態の、工程の一部を説明する断面図であり、図5は本
発明に係る配線板の製造方法の更に他の実施の形態の、
工程の一部を説明する断面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method for manufacturing a wiring board according to the present invention will be described with reference to the drawings. 1 to 3 are process diagrams illustrating one embodiment of a method for manufacturing a wiring board according to the present invention, and FIG. 4 is a process diagram illustrating another embodiment of the method for manufacturing a wiring board according to the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view partially illustrating the method of manufacturing a wiring board according to still another embodiment of the present invention.
It is sectional drawing explaining a part of process.

【0017】本発明に係る配線板の製造方法の一実施の
形態は、図1(a)に示すような、表面に非貫通スルー
ホール12が形成されると共に、表面に内層用導体回路
14が形成された基板10を用いる。この基板10の製
造方法としては、例えば、図3に示すような工程で製造
されており、金属箔張り積層板を用いて所定の部分の金
属箔をエッチングすることにより、図3(a)に示すよ
うな、表面に内層用導体回路14aが形成された内層板
16を製造する。なお、金属箔が張られていない内層板
16の表面に金属メッキを行って内層用導体回路14a
を形成しても良い。
In one embodiment of the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, as shown in FIG. 1A, a non-through through hole 12 is formed on the surface and a conductor circuit 14 for an inner layer is formed on the surface. The formed substrate 10 is used. As a method for manufacturing the substrate 10, for example, it is manufactured in a process as shown in FIG. 3, and by etching a predetermined portion of the metal foil using a metal foil-clad laminate, as shown in FIG. As shown, an inner layer plate 16 having an inner layer conductor circuit 14a formed on its surface is manufactured. The surface of the inner layer plate 16 on which the metal foil is not stretched is plated with metal to form the inner layer conductor circuit 14a.
May be formed.

【0018】この金属箔張り積層板又は金属箔が張られ
ていない内層板16としては、例えば、エポキシ樹脂
系、フェノール樹脂系、ポリイミド樹脂系、不飽和ポリ
エステル樹脂系、ポリフェニレンエーテル樹脂系等の熱
硬化性樹脂や、ポリ塩化ビニール、ポリエチレン等の熱
可塑性樹脂や、これらの樹脂に無機充填材等を配合した
樹脂等の各種樹脂組成物を用いたシートの表面に必要に
応じて金属箔が張られている板や、ガラス等の無機質繊
維やポリエステル、ポリアミド、木綿等の有機質繊維の
クロス、ペーパー等の基材を、上記熱硬化性樹脂や上記
熱可塑性樹脂等で接着し、必要に応じてその表面に金属
箔が張られている板等が挙げられる。なお、金属箔張り
積層板又は金属箔が張られていない内層板16の内層に
も、導体回路を有していても良い。
The metal foil-clad laminate or the inner layer plate 16 not covered with a metal foil is made of, for example, epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, unsaturated polyester resin, polyphenylene ether resin or the like. If necessary, a metal foil may be applied to the surface of a sheet made of a curable resin, a thermoplastic resin such as polyvinyl chloride or polyethylene, or a resin in which an inorganic filler is blended with these resins. Plates, inorganic fibers such as glass, polyester, polyamide, cloth of organic fibers such as cotton, and a substrate such as paper are adhered with the above-mentioned thermosetting resin or the above-mentioned thermoplastic resin, and if necessary. A plate or the like having a metal foil stretched on its surface may be used. Note that a conductor circuit may also be provided on the inner layer of the metal foil-clad laminate or the inner layer plate 16 on which the metal foil is not provided.

【0019】次いで、図3(b)に示すように、表面に
内層用導体回路14aが形成された内層板16の表面に
絶縁樹脂22を供給した後、図3(c)に示すように、
加熱して絶縁樹脂22を固化させて絶縁層20を形成す
ると共に、その絶縁層20の一部を除去して所定の位置
に非貫通スルーホール12を形成し、次いで、図3
(d)に示すように、金属メッキを行って、非貫通スル
ーホール12の壁面に金属皮膜を形成すると共に、絶縁
層20の表面の所定の位置に内層用導体回路14を形成
することにより、表面に非貫通スルーホール12が形成
されると共に、表面に内層用導体回路14が形成された
基板10を製造する。
Next, as shown in FIG. 3 (b), after supplying the insulating resin 22 to the surface of the inner layer plate 16 having the inner layer conductor circuit 14a formed on the surface, as shown in FIG. 3 (c),
Heating is performed to solidify the insulating resin 22 to form the insulating layer 20, and a part of the insulating layer 20 is removed to form the non-through through hole 12 at a predetermined position.
As shown in (d), by performing metal plating to form a metal film on the wall surface of the non-penetrating through hole 12 and to form the inner layer conductor circuit 14 at a predetermined position on the surface of the insulating layer 20, The substrate 10 having the non-through through-holes 12 formed on the surface and the inner layer conductor circuits 14 formed on the surface is manufactured.

【0020】なお、非貫通スルーホール12を形成する
方法としては、例えば、フォトプロセスを使用して、露
光しなかった部分の絶縁層20を薬液等で除去して形成
する方法や、レーザー光を照射して絶縁層20を除去し
て形成する方法等が挙げられる。なお、絶縁樹脂22を
供給しない部分を設けて非貫通スルーホール12を形成
するようにしても良い。また、図示しないが、金属箔張
り積層板又は金属箔が張られていない内層板を用いて、
ドリルビットの切り込み深さを調整して穴あけする方法
により、表面に非貫通スルーホールを形成するようにし
ても良い。
The non-penetrating through-holes 12 may be formed by, for example, removing the unexposed portions of the insulating layer 20 with a chemical solution using a photo process, or forming a laser beam. A method of forming the insulating layer 20 by irradiating the insulating layer 20 may be used. The non-through through hole 12 may be formed by providing a portion to which the insulating resin 22 is not supplied. Also, although not shown, using a metal foil-clad laminate or an inner layer plate on which the metal foil is not stretched,
A non-penetrating through hole may be formed on the surface by a method of drilling by adjusting the cutting depth of the drill bit.

【0021】そして、この表面に非貫通スルーホール1
2が形成された基板10を用いて配線板を製造するに当
たっては、図1(b)に示すように、基板10の表面に
絶縁樹脂22を供給して、非貫通スルーホール12の表
面を絶縁樹脂22で覆う。この絶縁樹脂22としては、
例えば、エポキシ樹脂系、フェノール樹脂系、ポリイミ
ド樹脂系、不飽和ポリエステル樹脂系、ポリフェニレン
エーテル樹脂系等の単独、変性物、混合物のように、熱
硬化性樹脂全般が用いられる。なおこの絶縁樹脂22中
には、必要に応じてシリカ、炭酸カルシウム、水酸化ア
ルミニウム、タルク、ガラス繊維等の無機充填材を含有
していてもよい。なお、絶縁樹脂22がエポキシ樹脂系
の場合、得られる配線板の電気特性及び接着性のバラン
スが良好であり好ましい。なお、絶縁層20の除去をフ
ォトプロセスを使用して行う場合には、感光性の樹脂を
使用する。
A non-penetrating through hole 1 is formed on this surface.
When a wiring board is manufactured using the substrate 10 on which the through holes 2 are formed, as shown in FIG. 1B, an insulating resin 22 is supplied to the surface of the substrate 10 to insulate the surface of the non-through-hole 12. Cover with resin 22. As the insulating resin 22,
For example, thermosetting resins in general are used, such as epoxy resins, phenol resins, polyimide resins, unsaturated polyester resins, polyphenylene ether resins, and the like, alone, modified products, and mixtures. The insulating resin 22 may contain an inorganic filler such as silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, talc, or glass fiber, if necessary. In addition, when the insulating resin 22 is an epoxy resin type, it is preferable because the electrical characteristics and the adhesiveness of the obtained wiring board are well balanced. When the insulating layer 20 is removed using a photo process, a photosensitive resin is used.

【0022】なお、基板10の表面に絶縁樹脂22を供
給しても、絶縁樹脂22を供給する前に基板10の表面
に露出していた非貫通スルーホール12の内部には、絶
縁樹脂22が充分に供給されず、気泡Eが残留する場合
がある。
Even if the insulating resin 22 is supplied to the surface of the substrate 10, the insulating resin 22 is provided inside the non-through through-hole 12 exposed on the surface of the substrate 10 before supplying the insulating resin 22. There is a case where the bubbles E are not sufficiently supplied and the bubbles E remain.

【0023】そのため、次いで、図1(c)に示すよう
に、絶縁樹脂22を供給する前に基板10の表面に非貫
通スルーホール12が露出していた部分の絶縁樹脂22
に対応する部分が、突出した形状に形成された剛直性材
料製の加圧体30を、基板10の表面に供給した絶縁樹
脂22に加圧接触させることにより、絶縁樹脂22を非
貫通スルーホール12の底面側に向かって加圧すると、
非貫通スルーホール12内に残留した気泡Eが押し出さ
れて、非貫通スルーホール12の内側が絶縁樹脂22で
充填され、加圧体30を絶縁樹脂22から離した後も、
図1(d)に示すように、非貫通スルーホール12の内
側が、絶縁樹脂22で充填された状態が保持される。
Therefore, as shown in FIG. 1C, the portion of the insulating resin 22 where the non-through through-holes 12 were exposed on the surface of the substrate 10 before the insulating resin 22 was supplied.
By pressing a pressurizing member 30 made of a rigid material having a protruding shape at a portion corresponding to the pressure contact with the insulating resin 22 supplied to the surface of the substrate 10, the insulating resin 22 passes through the non-through-hole. When pressurized toward the bottom side of 12,
Even after the bubbles E remaining in the non-penetrating through-hole 12 are extruded, the inside of the non-penetrating through-hole 12 is filled with the insulating resin 22, and the pressing body 30 is separated from the insulating resin 22,
As shown in FIG. 1D, the state where the inside of the non-through through hole 12 is filled with the insulating resin 22 is maintained.

【0024】次いで、絶縁樹脂22を加熱して固化させ
ることにより、図2(a)に示すように、絶縁層20を
形成する。なおこのとき、非貫通スルーホール12の内
側に気泡Eが残留していた場合には、加熱したときに気
泡Eが膨張したり、非貫通スルーホール12の底面側に
絶縁樹脂22が流動して、絶縁層20の表面に大きな凹
凸が形成されるが、本発明によると、非貫通スルーホー
ル12の内側が絶縁樹脂22で充填されているため、表
面がほぼ平滑化した絶縁層20が形成される。
Next, the insulating resin 22 is heated and solidified to form an insulating layer 20 as shown in FIG. At this time, if the bubbles E remain inside the non-through-hole 12, the bubbles E expand when heated or the insulating resin 22 flows to the bottom side of the non-through-hole 12. According to the present invention, since the inside of the non-through through hole 12 is filled with the insulating resin 22, the insulating layer 20 having a substantially smooth surface is formed. You.

【0025】次いで、所定の位置の絶縁層20を除去す
ることによって、新たな非貫通スルーホール12aを表
面に形成する。この新たな非貫通スルーホール12aを
形成する方法としては、上記と同様に、フォトプロセス
を使用して、露光しなかった部分の絶縁層20を薬液等
で除去して形成する方法や、レーザー光を照射して絶縁
層20を除去して形成する方法等が挙げられ、絶縁樹脂
22を供給しない部分を設けて非貫通スルーホール12
を形成するようにしても良い。
Next, a new non-through hole 12a is formed on the surface by removing the insulating layer 20 at a predetermined position. As a method of forming the new non-penetrating through hole 12a, similarly to the above, a method of removing the unexposed portion of the insulating layer 20 with a chemical solution using a photo process, or a method of forming a laser beam Irradiation of the insulating layer 20 to remove the insulating layer 20 is provided.
May be formed.

【0026】次いで、図2(b)に示すように、金属メ
ッキを行って、新たに形成した非貫通スルーホール12
aの壁面に金属皮膜を形成すると共に、絶縁層20の表
面の所定の位置に導体回路24を形成することにより、
非貫通スルーホールの内側が充填されると共に、表面が
ほぼ平滑化した導体回路24を有する配線板が得られ
る。そのため、非貫通スルーホールの内側をメッキ金属
等で充填する工程がなくとも、非貫通スルーホールの内
側が充填された配線板が得られ、簡便な方法で非貫通ス
ルーホールの内側を充填することが可能な、配線板の製
造方法となっている。なお、導体回路24等を形成する
金属としては、電気的信頼性より銅が好ましい。
Next, as shown in FIG. 2B, metal plating is performed to form the newly formed non-penetrating through hole 12.
a, by forming a metal film on the wall surface and forming a conductor circuit 24 at a predetermined position on the surface of the insulating layer 20,
A wiring board having the conductor circuit 24 in which the inside of the non-through through hole is filled and whose surface is substantially smoothed is obtained. Therefore, even without a step of filling the inside of the non-through-hole with plating metal or the like, it is possible to obtain a wiring board in which the inside of the non-through-hole is filled, and to fill the inside of the non-through-hole with a simple method. Is a method of manufacturing a wiring board. The metal forming the conductor circuit 24 and the like is preferably copper from the viewpoint of electrical reliability.

【0027】なお、上記実施の形態は、絶縁樹脂22の
表面のうち、絶縁樹脂22を供給する前に基板10の表
面に非貫通スルーホール12が露出していた部分の絶縁
樹脂22に、加圧体30を加圧接触させ、その他の部分
は接触させないことにより、絶縁樹脂22の表面のう
ち、絶縁樹脂22を供給する前に基板10の表面に非貫
通スルーホール12が露出していた部分の絶縁樹脂22
を、絶縁樹脂22の表面のうち、その他の部分より、高
い圧力で加圧するようになっている。そのため、小さな
圧力で効率的に非貫通スルーホール12の内側を充填す
ることができるようになっている。
In the above embodiment, the insulating resin 22 is added to the portion of the surface of the insulating resin 22 where the non-through through-holes 12 are exposed on the surface of the substrate 10 before the insulating resin 22 is supplied. The pressure body 30 is brought into contact with the pressure and the other parts are not brought into contact with each other, so that the portion of the surface of the insulating resin 22 where the non-through through-hole 12 is exposed on the surface of the substrate 10 before the insulating resin 22 is supplied. Insulating resin 22
Is pressed at a higher pressure than other portions of the surface of the insulating resin 22. Therefore, the inside of the non-penetrating through hole 12 can be efficiently filled with a small pressure.

【0028】なお、図4(a)に示すように、柔軟性材
料製の加圧体30を用いて、絶縁樹脂22を加圧するよ
うにしても良い。柔軟性材料製の加圧体30を用いた場
合、柔軟性材料が変形して非貫通スルーホール12内の
絶縁樹脂22を加圧するため、凹凸追従性が優れ、より
確実に非貫通スルーホール12内に残留した気泡Eが押
し出されるので、非貫通スルーホール12の内側がより
確実に絶縁樹脂22で充填され好ましい。
As shown in FIG. 4A, the insulating resin 22 may be pressed by using a pressing member 30 made of a flexible material. When the pressurizing body 30 made of a flexible material is used, the flexible material is deformed and presses the insulating resin 22 in the non-through-hole 12, so that the unevenness followability is excellent, and the non-through-hole 12 is more reliably formed. Since the bubbles E remaining inside are extruded, the inside of the non-penetrating through hole 12 is more reliably filled with the insulating resin 22, which is preferable.

【0029】また、図4(b)に示すように、粒子状物
質32を絶縁樹脂22の表面に衝突させる方法で加圧す
るようにしても良い。この場合も、粒子状物質32が非
貫通スルーホール12内の絶縁樹脂22を加圧するた
め、上記と同様に非貫通スルーホール12内に残留した
気泡Eが押し出されて、非貫通スルーホール12の内側
が、絶縁樹脂22で充填される。なお、粒子状物質32
に代えて、液状物質や気体を絶縁樹脂22に衝突させて
も良い。この場合も同様に、非貫通スルーホール12の
内側が、絶縁樹脂22で充填される。
Further, as shown in FIG. 4B, pressure may be applied by a method in which the particulate matter 32 collides with the surface of the insulating resin 22. Also in this case, since the particulate matter 32 presses the insulating resin 22 in the non-through-hole 12, the air bubbles E remaining in the non-through-hole 12 are extruded as described above, and The inside is filled with the insulating resin 22. In addition, the particulate matter 32
Alternatively, a liquid substance or gas may be caused to collide with the insulating resin 22. In this case, similarly, the inside of the non-through-hole 12 is filled with the insulating resin 22.

【0030】なお、粒子状物質32、液状物質及び気体
からなる群の中から選ばれた少なくとも1種の物質を、
絶縁樹脂22に衝突させる場合には、絶縁樹脂22に対
して非密着性の材質又は非密着性の表面処理が施してあ
るシート状物質34を絶縁樹脂22と接触する部分に配
し、そのシート状物質34に粒子状物質32、液状物質
及び気体からなる群の中から選ばれた少なくとも1種の
物質を衝突させることにより、シート状物質34を介し
て絶縁樹脂22を加圧すると、粒子状物質32等が絶縁
樹脂22に付着して残留することが発生しにくくなり好
ましい。
It is to be noted that at least one substance selected from the group consisting of the particulate substance 32, the liquid substance and the gas is
When colliding with the insulating resin 22, a sheet-like substance 34 having a non-adhesive material or a non-adhesive surface treatment with respect to the insulating resin 22 is disposed at a portion in contact with the insulating resin 22, and the sheet When the insulating resin 22 is pressurized through the sheet material 34 by colliding the material 34 with at least one kind of material selected from the group consisting of the particulate material 32, the liquid material, and the gas, It is preferable that the substance 32 and the like adhere to and remain on the insulating resin 22 because it hardly occurs.

【0031】同様に、加圧体30を絶縁樹脂22に加圧
接触させる場合にも、同様の非密着性のシート状物質3
4を介して絶縁樹脂22を加圧すると、加圧体30に絶
縁樹脂22が付着しにくくなるため、洗浄作業や、洗浄
液の絶縁樹脂22表面への付着等を軽減することができ
好ましい。また、加圧体30の絶縁樹脂22と接触する
部分に、絶縁樹脂22に対して非密着性の表面処理を施
していても良い。この場合も、洗浄作業や、洗浄液の絶
縁樹脂22表面への付着等を軽減することができ好まし
い。
Similarly, when the pressing member 30 is brought into contact with the insulating resin 22 under pressure, the same non-adhesive sheet material 3 is used.
When the insulating resin 22 is pressurized through the insulating resin 4, the insulating resin 22 hardly adheres to the pressurized body 30, so that it is possible to reduce the cleaning work and the adhesion of the cleaning liquid to the surface of the insulating resin 22, which is preferable. In addition, a portion of the pressing body 30 that is in contact with the insulating resin 22 may be subjected to a non-adhesive surface treatment with respect to the insulating resin 22. Also in this case, the cleaning work and the adhesion of the cleaning liquid to the surface of the insulating resin 22 can be reduced, which is preferable.

【0032】なお、上記の実施の形態は、金属メッキを
行って、絶縁層20の表面に導体回路24を形成する実
施の形態を説明したが、金属箔の表面に絶縁樹脂22を
塗布した絶縁樹脂付き金属箔を用いて、この絶縁樹脂付
き金属箔を基板10に圧着する方法により、基板10の
表面に絶縁樹脂22を供給した後、加熱して絶縁樹脂2
2を固化させて絶縁層20を形成しても良い。この場合
も、絶縁樹脂付き金属箔を基板10に圧着してから、絶
縁樹脂22を固化させる迄の間に、金属箔を介して絶縁
樹脂22を非貫通スルーホール12の底面側に向かって
加圧すると、非貫通スルーホールの内側を絶縁樹脂22
で充填することができ、簡便な方法で非貫通スルーホー
ルの内側を充填することが可能な、配線板の製造方法と
なる。
Although the above embodiment has been described with reference to the embodiment in which the conductive circuit 24 is formed on the surface of the insulating layer 20 by performing metal plating, the insulating resin 22 is coated on the surface of the metal foil. The insulating resin 22 is supplied to the surface of the substrate 10 by a method of pressing the insulating resin-coated metal foil to the substrate 10 by using the resin-coated metal foil, and then heated to form the insulating resin 2.
2 may be solidified to form the insulating layer 20. Also in this case, the insulating resin 22 is applied via the metal foil toward the bottom side of the non-through-hole 12 between the time when the metal foil with the insulating resin is pressed on the substrate 10 and the time when the insulating resin 22 is solidified. When pressed, the inside of the non-penetrating through hole becomes insulating resin 22
And the inside of the non-through-hole can be filled by a simple method.

【0033】[0033]

【実施例】(実施例1)絶縁樹脂として、チバガイギー
社製「プロビマー52」を5000重量部、同社製艶消
し剤「DW91T」を1600重量部、同社製硬化剤
「XJ9001」を1000重量部及びシンナー(シク
ロヘキサノン25重量%とメチルセロソルブ75重量%
の混合溶媒)を1300重量部秤量し、これらを混合す
ることによってエポキシ樹脂系の感光性絶縁樹脂液を調
製した。
EXAMPLES Example 1 5000 parts by weight of Ciba-Geigy "Provimer 52", 1600 parts by weight of a matting agent "DW91T", 1000 parts by weight of a curing agent "XJ9001" by Ciba-Geigy as insulating resin. Thinner (cyclohexanone 25% by weight and methyl cellosolve 75% by weight
Was mixed and mixed to prepare an epoxy resin-based photosensitive insulating resin liquid.

【0034】そして、エポキシ樹脂銅張り積層板を用い
て所定の部分の銅箔をエッチングすることにより形成し
た、表面に内層用導体回路が形成された内層板の片面
に、上記感光性絶縁樹脂液をカーテンコーターを用いて
塗布した後、90℃で20分間乾燥することによって、
厚み40μmの絶縁層を形成した。また、内層板の他方
の片面にも同様にして厚み40μmの絶縁層を形成し
た。
The photosensitive insulating resin liquid is applied to one side of an inner layer plate having an inner conductor circuit formed on the surface by etching a predetermined portion of copper foil using an epoxy resin copper-clad laminate. Is applied using a curtain coater, and then dried at 90 ° C. for 20 minutes.
An insulating layer having a thickness of 40 μm was formed. An insulating layer having a thickness of 40 μm was formed on the other side of the inner layer plate in the same manner.

【0035】次いで、絶縁層の表面にポジ型マスクを配
置して露光した後、現像を行い、直径150μmの非貫
通スルーホールを形成した。この後、パネルメッキ法で
絶縁層の表面に内層用導体回路を形成すると共に、非貫
通スルホールの壁面に金属皮膜を形成することによっ
て、表面に非貫通スルーホールが形成されると共に、表
面に内層用導体回路が形成された基板を製作した。
Next, after a positive type mask was arranged on the surface of the insulating layer and exposed, development was performed to form a non-through hole having a diameter of 150 μm. Thereafter, a conductor circuit for the inner layer is formed on the surface of the insulating layer by panel plating, and a metal film is formed on the wall surface of the non-through through hole, so that a non-through through hole is formed on the surface, and the inner layer is formed on the surface. A substrate on which a conductor circuit was formed was manufactured.

【0036】次いで、基板の表面に上記感光性絶縁樹脂
液をカーテンコーターを用いて塗布した後、10分間の
風乾を行った。その後、図1(c)に示すような、絶縁
樹脂の表面のうち、絶縁樹脂を供給する前に基板の表面
に非貫通スルーホールが露出していた部分に対応した凸
型構造を有する剛直性材料製の加圧体を、絶縁樹脂に加
圧接触させて、絶縁樹脂を非貫通スルーホールの底面側
に向かって加圧した。なお、基板の両面をそれぞれ加圧
した。この加圧体は、直径500μm、高さ5mmのス
テンレス製円柱部分から構成されており、絶縁樹脂を供
給する前に基板の表面に非貫通スルーホールが露出して
いた部分に対応した位置に各々対応するように、平板か
ら突出するように配置されている。
Next, the photosensitive insulating resin solution was applied to the surface of the substrate using a curtain coater, and then air-dried for 10 minutes. Thereafter, as shown in FIG. 1C, a rigid structure having a convex structure corresponding to a portion of the surface of the insulating resin where the non-through through hole was exposed on the surface of the substrate before supplying the insulating resin. A pressing body made of a material was brought into pressure contact with the insulating resin, and the insulating resin was pressed toward the bottom surface of the non-through-hole. In addition, both surfaces of the substrate were pressed. This pressurizing body is composed of a stainless steel cylindrical portion having a diameter of 500 μm and a height of 5 mm, and is provided at a position corresponding to a portion where a non-through through hole is exposed on the surface of the substrate before supplying the insulating resin. Correspondingly, they are arranged to protrude from the flat plate.

【0037】次いで、加圧体を絶縁樹脂から離間させた
後、90℃で20分乾燥することによって、厚み40μ
mの絶縁層を基板の表裏に形成した。
Next, after the pressing body is separated from the insulating resin, it is dried at 90 ° C. for 20 minutes to have a thickness of 40 μm.
m insulating layers were formed on the front and back of the substrate.

【0038】次いで、絶縁層の表面にポジ型マスクを配
置して露光した後、現像を行い、直径150μmの非貫
通スルーホールを形成した。この後、パネルメッキ法で
絶縁層の表面に導体回路を形成すると共に、表面に露出
する非貫通スルホールの壁面に金属皮膜を形成すること
によって配線板を得た。
Next, after a positive type mask was arranged on the surface of the insulating layer and exposed, development was performed to form a non-through hole having a diameter of 150 μm. Thereafter, a conductive circuit was formed on the surface of the insulating layer by a panel plating method, and a metal film was formed on the wall surface of the non-through through hole exposed on the surface to obtain a wiring board.

【0039】(実施例2)加圧体の絶縁樹脂と接触する
部分にフッ素樹脂をコーティングすることにより、絶縁
樹脂に対して非密着性の表面処理を施した加圧体を用い
たこと以外は実施例1と同様にして配線板を得た。
(Example 2) Except for using a pressurized body having a non-adhesive surface treatment to the insulating resin by coating a portion of the pressurized body that is in contact with the insulating resin with a fluororesin. A wiring board was obtained in the same manner as in Example 1.

【0040】(実施例3)加圧体の絶縁樹脂と接触する
部分が、直径1000μm、高さ5mmのブチルゴム製
円柱部分から構成されている柔軟性材料製の加圧体を用
いたこと以外は実施例1と同様にして配線板を得た。
(Example 3) A pressurizing member made of a flexible material was used in which a portion of the pressurizing member that contacts the insulating resin was a butyl rubber column having a diameter of 1000 µm and a height of 5 mm. A wiring board was obtained in the same manner as in Example 1.

【0041】(実施例4)ステンレス製加圧体で絶縁樹
脂を加圧することに代えて、図5(a)に示すような、
絶縁樹脂22を供給する前に基板10の表面に非貫通ス
ルーホール12が露出していた部分に対応した平面位置
に開口部38を有し、基板10と反対側の面にシリコー
ンゴム膜36を接着したステンレス薄板製のマスク37
を絶縁樹脂22の上に設置した後、そのマスク37の上
に水35を供給して上部から水圧を掛け、開口部38を
介してシリコーンゴム膜36を突出させて絶縁樹脂22
に加圧接触させることにより、絶縁樹脂22を供給する
前に基板10の表面に非貫通スルーホール12が露出し
ていた部分の絶縁樹脂22を非貫通スルーホール12の
底面側に向かって加圧したこと以外は実施例1と同様に
して配線板を得た。
(Example 4) Instead of pressing the insulating resin with a stainless steel pressing body, as shown in FIG.
Before supplying the insulating resin 22, the substrate 10 has an opening 38 at a plane position corresponding to a portion where the non-through through hole 12 is exposed on the surface, and a silicone rubber film 36 is provided on the surface opposite to the substrate 10. Bonded stainless steel mask 37
Is placed on the insulating resin 22, water 35 is supplied onto the mask 37, water pressure is applied from above, and the silicone rubber film 36 is projected through the opening 38 to form the insulating resin 22.
Pressurizes the portion of the insulating resin 22 where the non-penetrating through-hole 12 was exposed on the surface of the substrate 10 before supplying the insulating resin 22 toward the bottom surface of the non-penetrating through-hole 12. A wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.

【0042】(実施例5)ステンレス製加圧体で絶縁樹
脂を加圧することに代えて、図5(b)に示すような、
絶縁樹脂22を供給する前に基板10の表面に非貫通ス
ルーホール12が露出していた部分に対応した平面位置
に開口部38を有するステンレス薄板製のマスク37を
絶縁樹脂22の上に設置した後、そのマスク37の上部
から窒素ガス39を供給して絶縁樹脂22に窒素ガス3
9を衝突させることにより、絶縁樹脂22を供給する前
に基板10の表面に非貫通スルーホール12が露出して
いた部分の絶縁樹脂22を非貫通スルーホール12の底
面側に向かって加圧したこと以外は実施例1と同様にし
て配線板を得た。
(Example 5) Instead of pressing the insulating resin with a stainless steel pressing body, as shown in FIG.
Before supplying the insulating resin 22, a thin stainless steel mask 37 having an opening 38 at a plane position corresponding to a portion where the non-through-hole 12 was exposed on the surface of the substrate 10 was set on the insulating resin 22. Thereafter, a nitrogen gas 39 is supplied from above the mask 37 to supply the insulating resin 22 with the nitrogen gas 3.
9, the portion of the insulating resin 22 where the non-through through-hole 12 was exposed on the surface of the substrate 10 before the supply of the insulating resin 22 was pressed toward the bottom surface of the non-through through hole 12. Except for this, a wiring board was obtained in the same manner as in Example 1.

【0043】(比較例1)加圧体で絶縁樹脂を加圧する
ことなしに加熱して絶縁層を形成したこと以外は実施例
1と同様にして配線板を得た。
(Comparative Example 1) A wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the insulating resin was heated without pressurizing the insulating resin with a pressurizing body to form an insulating layer.

【0044】(評価、結果)各実施例及び比較例1で得
られた配線板について、非貫通スルーホール内側の充填
性の評価として、耐熱性試験を行った。その方法は、得
られた配線板を121℃、100%RHの条件下で30
分プレッシャークッカーテストを行った後、その配線板
を260℃半田浴に10秒間浸漬し、配線板の外観を目
視で観察した。
(Evaluation and Results) With respect to the wiring boards obtained in Examples and Comparative Example 1, a heat resistance test was performed to evaluate the filling property inside the non-through-hole. The method is as follows: the obtained wiring board is kept at 121 ° C. and 100% RH for 30 minutes.
After performing a minute pressure cooker test, the wiring board was immersed in a 260 ° C. solder bath for 10 seconds, and the appearance of the wiring board was visually observed.

【0045】その結果は、各実施例で得られた配線板
は、外観の異常は観測されなかったが、比較例1で得ら
れた配線板は、絶縁層内の非貫通スルーホールの部分で
膨れが発生しており、各実施例で得られた配線板は比較
例1で得られた配線板と比べて、非貫通スルーホール内
側の充填性が優れていることが確認された。
As a result, the wiring board obtained in each of the examples did not show any abnormal appearance, but the wiring board obtained in the comparative example 1 had a non-through hole portion in the insulating layer. Swelling was observed, and it was confirmed that the wiring board obtained in each of the examples was superior to the wiring board obtained in Comparative Example 1 in filling the inside of the non-through-hole.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明に係る配線板の製造方法は、基板
の表面に絶縁樹脂を供給した後、その供給した絶縁樹脂
を非貫通スルーホールの底面側に向かって加圧し、次い
で、絶縁樹脂を固化させて形成するため、非貫通スルー
ホールの内側をメッキ金属等で充填する工程がなくと
も、非貫通スルーホールの内側が充填された配線板を得
ることができ、簡便な方法で非貫通スルーホールの内側
を充填することが可能な配線板の製造方法となる。
According to the method of manufacturing a wiring board of the present invention, after supplying an insulating resin to the surface of a substrate, the supplied insulating resin is pressed toward the bottom side of the non-through-hole, and then the insulating resin is supplied. The wiring board filled with the inside of the non-penetrating through hole can be obtained without the step of filling the inside of the non-penetrating through hole with plating metal or the like. A method of manufacturing a wiring board capable of filling the inside of a through hole is provided.

【0047】本発明の請求項2に係る配線板の製造方法
は、上記の効果に加え、小さな圧力で効率的に非貫通ス
ルーホールの内側を充填することが可能となる。
According to the method of manufacturing a wiring board according to the second aspect of the present invention, in addition to the above effects, it is possible to efficiently fill the inside of the non-through through hole with a small pressure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る配線板の製造方法の一実施の形態
を説明する工程図である。
FIG. 1 is a process diagram illustrating one embodiment of a method for manufacturing a wiring board according to the present invention.

【図2】本発明に係る配線板の製造方法の一実施の形態
を説明する工程図である。
FIG. 2 is a process diagram illustrating one embodiment of a method for manufacturing a wiring board according to the present invention.

【図3】本発明に係る配線板の製造方法の一実施の形態
を説明する工程図である。
FIG. 3 is a process diagram illustrating one embodiment of a method for manufacturing a wiring board according to the present invention.

【図4】本発明に係る配線板の製造方法の他の実施の形
態の、工程の一部を説明する断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a part of a process in another embodiment of the method for manufacturing a wiring board according to the present invention.

【図5】本発明に係る配線板の製造方法の更に他の実施
の形態の、工程の一部を説明する断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a part of a process in still another embodiment of the method for manufacturing a wiring board according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 基板 12 非貫通スルーホール 14 内層用導体回路 16 内層板 20 絶縁層 22 絶縁樹脂 24 導体回路 30 加圧体 32 粒子状物質 34 シート状物質 35 水 36 シリコーンゴム膜 37 マスク 38 開口部 39 窒素ガス E 気泡 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 12 Non-through through hole 14 Conductor circuit for inner layer 16 Inner layer plate 20 Insulating layer 22 Insulating resin 24 Conductor circuit 30 Pressed body 32 Particulate matter 34 Sheet material 35 Water 36 Silicone rubber film 37 Mask 38 Opening 39 Nitrogen gas E bubbles

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に非貫通スルーホールが形成された
基板の表面に、絶縁樹脂を供給して絶縁層を形成すると
共に、その絶縁層の表面に導体回路を形成して製造する
配線板の製造方法において、基板の表面に絶縁層を形成
する方法が、基板の表面に絶縁樹脂を供給した後、その
供給した絶縁樹脂を非貫通スルーホールの底面側に向か
って加圧し、次いで、絶縁樹脂を固化させて形成する方
法であることを特徴とする配線板の製造方法。
1. A wiring board manufactured by supplying an insulating resin to form an insulating layer on a surface of a substrate having a non-through through hole formed on the surface, and forming a conductive circuit on the surface of the insulating layer. In the manufacturing method, the method of forming an insulating layer on the surface of the substrate is such that after supplying the insulating resin to the surface of the substrate, the supplied insulating resin is pressed toward the bottom side of the non-through-hole, A method for manufacturing a wiring board, wherein the method is a method of solidifying a wiring board.
【請求項2】 絶縁樹脂を加圧する方法が、絶縁樹脂の
表面のうち、絶縁樹脂を供給する前に基板の表面に非貫
通スルーホールが露出していた部分の絶縁樹脂を、絶縁
樹脂の表面のうち、その他の部分より、高い圧力で加圧
する方法であることを特徴とする請求項1記載の配線板
の製造方法。
2. A method of pressurizing an insulating resin, comprising the steps of: removing a portion of the insulating resin from which a non-through through hole is exposed on the surface of the substrate before supplying the insulating resin; 2. The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein said method is a method of applying a pressure higher than other parts.
【請求項3】 絶縁樹脂を加圧する方法が、柔軟性材料
製又は剛直性材料製の加圧体を、絶縁樹脂に加圧接触さ
せる方法であることを特徴とする請求項1又は請求項2
記載の配線板の製造方法。
3. The method for pressurizing an insulating resin is a method in which a pressurizing member made of a flexible material or a rigid material is brought into pressure contact with the insulating resin.
The method for manufacturing the wiring board according to the above.
【請求項4】 加圧体の絶縁樹脂と接触する部分に、絶
縁樹脂に対して非密着性の表面処理を施していることを
特徴とする請求項3記載の配線板の製造方法。
4. The method for manufacturing a wiring board according to claim 3, wherein a portion of the pressurizing body that is in contact with the insulating resin is subjected to a surface treatment that does not adhere to the insulating resin.
【請求項5】 絶縁樹脂を加圧する方法が、粒子状物
質、液状物質及び気体からなる群の中から選ばれた少な
くとも1種の物質を、絶縁樹脂に衝突させる方法である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の配線板の
製造方法。
5. The method for pressurizing an insulating resin is a method in which at least one substance selected from the group consisting of a particulate substance, a liquid substance, and a gas is caused to collide with the insulating resin. A method for manufacturing a wiring board according to claim 1.
【請求項6】 絶縁樹脂を加圧する方法が、絶縁樹脂に
対して非密着性のシート状物質を絶縁樹脂と接触する部
分に配し、そのシート状物質を介して絶縁樹脂を加圧す
る方法であることを特徴とする請求項1から請求項5の
いずれかに記載の配線板の製造方法。
6. A method of pressurizing an insulating resin, wherein a sheet-like substance which is not adhered to the insulating resin is disposed at a portion in contact with the insulating resin, and the insulating resin is pressed through the sheet-like substance. The method for manufacturing a wiring board according to any one of claims 1 to 5, wherein
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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