JP2954163B1 - Method for manufacturing multilayer printed wiring board - Google Patents

Method for manufacturing multilayer printed wiring board

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JP2954163B1
JP2954163B1 JP14378998A JP14378998A JP2954163B1 JP 2954163 B1 JP2954163 B1 JP 2954163B1 JP 14378998 A JP14378998 A JP 14378998A JP 14378998 A JP14378998 A JP 14378998A JP 2954163 B1 JP2954163 B1 JP 2954163B1
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将人 小田
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

【要約】 【課題】 平坦な絶縁層表面を有し、ボイドの発生しに
くい多層印刷配線板の製造方法を提供する。 【解決手段】 ビルドアップ多層印刷配線板の製造方法
において、光または熱硬化性樹脂、特に紫外線硬化性樹
脂をアンダーコート4として内層基板3に塗布する際、
ビアホール2が形成された内層基板3の一面と他面とに
分けて塗布し、ビアホール2を両側から充填することに
よりボイドをなくし、表面を平坦にする。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board having a flat insulating layer surface and less likely to generate voids. SOLUTION: In a method for manufacturing a build-up multilayer printed wiring board, when applying a light or thermosetting resin, particularly an ultraviolet curable resin, as an undercoat 4 to an inner layer substrate,
The coating is applied separately on one surface and the other surface of the inner substrate 3 in which the via holes 2 are formed, and the via holes 2 are filled from both sides to eliminate voids and flatten the surface.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層印刷配線板の
製造方法に関し、特に、ビルドアップ多層印刷配線板の
製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, and more particularly, to a method for manufacturing a build-up multilayer printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ビルドアップ多層印刷配線板は次
のように製造されていた。まず、内層基板の形成は、回
路を形成した銅張積層板,プリプレグ,銅箔を積層プレ
スで加熱圧着することで得られる。この内層基板の所望
の位置にドリリングなどにより穴あけをおこない、これ
を銅めっきすることにより層間を接続させる。内層基板
上にビルドアップ樹脂を均一に塗布するため、ビアホー
ル内に熱硬化性樹脂を充填させ、ベーキングによる硬化
後、基板表面を研磨し平滑にする。次に、内層基板の表
層を回路形成した後、ビルドアップ樹脂塗布,ビアホー
ル形成,めっき,最外層回路形成をおこない、ビルドア
ップ多層印刷配線を作成する。
2. Description of the Related Art Conventionally, build-up multilayer printed wiring boards have been manufactured as follows. First, the formation of the inner layer substrate is obtained by heat-pressing a copper-clad laminate, a prepreg, and a copper foil on which a circuit is formed by a lamination press. Drilling is performed at a desired position on the inner layer substrate by drilling or the like, and copper plating is performed to connect the layers. In order to uniformly apply the build-up resin on the inner substrate, the via holes are filled with a thermosetting resin, and after curing by baking, the substrate surface is polished and smoothed. Next, after forming a circuit on the surface layer of the inner layer substrate, a build-up resin is applied, a via hole is formed, plating is performed, and an outermost layer circuit is formed.

【0003】上述した方法は、研磨による内層導体厚の
変動を伴い、また、内層基板の寸法変動が大きいという
問題があったが、これらの問題を克服した製造方法が開
示されている。
[0003] The above-mentioned method involves the problem that the thickness of the inner conductor is fluctuated due to polishing, and the dimensional fluctuation of the inner substrate is large. A manufacturing method that overcomes these problems has been disclosed.

【0004】その一例として、特開平7−202433
号公報に、内層基板に液状充填剤を供給し、これにフィ
ルム状の接着シートをラミネートする製造方法であり、
図7,図8は、その一例として、4層ビルドアップ多層
印刷配線板の製造方法を、(a)〜(h)と工程順に示
した図である。
[0004] As an example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-202433 is disclosed.
JP-A No. 5-2, a manufacturing method in which a liquid filler is supplied to an inner layer substrate, and a film-like adhesive sheet is laminated thereon.
7 and 8 are diagrams showing, as an example, a method of manufacturing a four-layer build-up multilayer printed wiring board in the order of steps (a) to (h).

【0005】まず、図7(a),(b),(c)に示す
ように、公知のサブトラクティブ法により、銅張積層板
1にビアホール2およびパターンを形成した内層基板3
の銅箔表面を黒化処理により粗化する。この黒化処理
は、ビルドアップ樹脂密着性を向上させることを目的と
している。尚、内層基板3の穴径はφ0.2mmとす
る。
First, as shown in FIGS. 7 (a), 7 (b) and 7 (c), an inner substrate 3 having via holes 2 and patterns formed in a copper-clad laminate 1 by a known subtractive method.
Is roughened by a blackening treatment. The purpose of this blackening treatment is to improve the adhesion of the build-up resin. The inner substrate 3 has a hole diameter of 0.2 mm.

【0006】次に、図7(d)に示すように、紫外線硬
化性樹脂11を、ディッピング,ロールコーターなどに
より前記内層基板の両面に塗付する。さらに、図7
(e)に示すように、この内層基板に、厚さ40μmの
フィルム状の紫外線硬化性樹脂シート12(以下、樹脂
シート)を真空度2〜3トルの減圧下で、ロール温度8
0℃,ロール圧力3kgf/cm2 でロールラミネーシ
ョンにより熱圧着し、絶縁層間厚40μmの4層の積層
体とする。その後、図7(f)に示すように、露光量3
00mJで露光することで紫外線硬化性樹脂11および
樹脂シート12を硬化させて、露光により硬化した紫外
線硬化性樹脂13とする。次に、図8(g)に示すよう
に、硬化後の紫外線硬化性樹脂13を、現像,UVキュ
ア,加熱処理を行い、フォトリソグラフィー法による孔
14を形成する。これを、図8(h)に示すように、ク
ロム酸で表面粗化した後、パラジウム触媒を付与し、樹
脂厚さ40μmのドライフィルムレジストを熱圧着し、
露光,現像,UVキュア,熱処理を行いレジスト層15
を形成して、めっき厚25μmの無電解銅めっき処理を
施し、フォトビアホール16を有するビルドアップ多層
印刷配線板10を製造する。
Next, as shown in FIG. 7D, an ultraviolet curable resin 11 is applied to both surfaces of the inner layer substrate by dipping, a roll coater or the like. Further, FIG.
As shown in (e), a film-shaped ultraviolet curable resin sheet 12 (hereinafter referred to as a resin sheet) having a thickness of 40 μm is rolled on the inner layer substrate under a reduced pressure of 2-3 torr and a roll temperature of 8.
Thermocompression bonding is performed by roll lamination at 0 ° C. and a roll pressure of 3 kgf / cm 2 to form a four-layer laminate having an insulating interlayer thickness of 40 μm. Thereafter, as shown in FIG.
The ultraviolet curable resin 11 and the resin sheet 12 are cured by exposing at 00 mJ, and the ultraviolet curable resin 13 cured by exposure is obtained. Next, as shown in FIG. 8G, the cured ultraviolet curing resin 13 is subjected to development, UV curing, and heat treatment to form holes 14 by photolithography. After roughening the surface with chromic acid as shown in FIG. 8 (h), a palladium catalyst was applied thereto, and a dry film resist having a resin thickness of 40 μm was thermocompressed.
Exposure, development, UV curing and heat treatment are performed and the resist layer 15
Is formed and subjected to an electroless copper plating treatment with a plating thickness of 25 μm to manufacture the build-up multilayer printed wiring board 10 having the photovia hole 16.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来例では、
感光性液状樹脂の両面同時塗布後、樹脂シートを減圧下
でロールラミネーションし絶縁層を形成する場合、絶縁
層表面に窪みが発生する。絶縁層に窪みが存在すると、
ビルドアップ多層印刷配線板の表層にフォトリソグラフ
ィー法で回路形成する場合、感光性レジスト樹脂層(ド
ライフィルムのロールラミネーション、または液状樹脂
の塗布にて形成)の露光においてパターンフィルムと樹
脂表面との密着性が低下し、ボケによるショート,断線
などの様々なパターン異常が発生するという問題があっ
た。
In the above-mentioned conventional example,
When the insulating layer is formed by roll lamination of the resin sheet under reduced pressure after the simultaneous application of the photosensitive liquid resin on both sides, a depression is generated on the surface of the insulating layer. If there is a depression in the insulating layer,
When a circuit is formed by photolithography on the surface layer of a build-up multilayer printed wiring board, the exposure of the photosensitive resist resin layer (formed by roll lamination of a dry film or application of a liquid resin) causes the adhesion between the pattern film and the resin surface However, there is a problem that various patterns such as short-circuit and disconnection due to blur occur.

【0008】また、表層にアディティブめっきにより回
路形成する場合、ビルドアップ多層印刷配線板の表面を
粗化,触媒処理し、感光性レジストを形成した後の露光
において、前述と同様にレジスト樹脂表面とパターンフ
ィルムとの密着性が低下することによるボケが発生し、
これによるパターン異常が発生するという問題があっ
た。
When a circuit is formed on the surface layer by additive plating, the surface of the build-up multilayer printed wiring board is roughened, catalyzed, and exposed after forming a photosensitive resist. Blur occurs due to reduced adhesion to the pattern film,
This causes a problem that a pattern abnormality occurs.

【0009】このように、従来工法で平坦化できない理
由は、ラミネーション時の減圧により、ビアホール内、
およびその周辺の感光性液状樹脂が表裏を通じて流動す
るためである。この部分の樹脂が不足すると、これが原
因で絶縁層の窪みが発生することになる。
As described above, the reason why the flattening cannot be performed by the conventional method is that the inside of the via hole is
And the surrounding photosensitive liquid resin flows through the front and back. If the resin in this portion is insufficient, a dent of the insulating layer will occur due to this.

【0010】次に、ビアホール内部にボイドが発生しや
すいということである。すなわち、ビルドアップ樹脂層
形成後の貫通スルーホールまたはSVH(Surfac
e−Via−Hole)のめっきにおいて、めっき液が
ボイドに染み込む可能性があり、これによりめっきショ
ート異常やめっき液残査による不良が発生するという問
題があった。
[0010] The second problem is that voids are easily generated inside the via hole. That is, the through-hole or SVH (Surfac) after the build-up resin layer is formed.
In the plating of e-Via-Hole), there is a possibility that the plating solution may permeate into the voids, thereby causing a problem of short-circuiting of the plating and a failure due to a residue of the plating solution.

【0011】このように、従来工法でボイドが発生する
理由は、ビアホール内に両面同時に樹脂を充填する場
合、ビアホール内の気泡が逃げにくく、気泡が残ったま
ま、樹脂が硬化されることがあるためである。
[0011] As described above, the reason why voids are generated in the conventional method is that when the resin is simultaneously filled into the via hole on both sides, bubbles in the via hole are difficult to escape, and the resin may be cured while the bubbles remain. That's why.

【0012】そこで、本発明の目的は、平坦な絶縁層表
面を有し、ボイドの発生しにくい多層印刷配線板を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a multilayer printed wiring board having a flat insulating layer surface and less likely to cause voids.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の多層印刷配線板は、ビアホールおよびパタ
ーンが形成された内層基板よりなるビルドアップ多層印
刷配線板の製造方法において、前記内層基板の一面側に
光硬化性樹脂を塗布する工程と、内層基板の他面側から
紫外線を照射してビアホール内の光硬化性樹脂をキュア
する工程と、内層基板の他面側に光硬化性樹脂を塗布す
る工程とを含み、ビアホール内部にけるボイドの発生を
防止したことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a multilayer printed wiring board according to the present invention comprises a method of manufacturing a build-up multilayer printed wiring board comprising an inner layer substrate having via holes and patterns formed thereon. On one side of the board
Step of applying photocurable resin and from the other side of the inner layer substrate
UV curing to cure the photo-curable resin in the via hole
And applying a photocurable resin to the other side of the inner layer substrate.
The generation of voids inside the via holes.
It is characterized by prevention .

【0014】また、光硬化性樹脂が、紫外線硬化性樹脂
であるのが好ましい。
Preferably, the photocurable resin is an ultraviolet curable resin.

【0015】さらに、ビアホールおよびパターンが形成
された内層基板の一面に紫外線硬化性樹脂を塗布し、か
つ、ビアホール内に紫外線硬化性樹脂を充填させる工程
と、内層基板の他面から紫外線硬化性樹脂を硬化させる
工程と、内層基板の一面に再度紫外線硬化性樹脂を塗布
し、塗布面を紫外線により再度硬化させる工程と、内層
基板の他面に紫外線硬化性樹脂を塗布し、塗布面を紫外
線により硬化させる工程と、内層基板をベーキング処理
により紫外線硬化性樹脂の吸湿分を除去し、レベリング
により紫外線硬化性樹脂の表面を平滑化する工程と、内
層基板に、接着樹脂付き銅箔をロールラミネータで加熱
圧着する工程と、接着樹脂付き銅箔を熱硬化させ、内層
回路入り銅張積層板を作成する工程とを含むのが好まし
い。
Furthermore, a step of applying an ultraviolet curable resin to one surface of the inner layer substrate having the via hole and the pattern formed thereon and filling the via hole with the ultraviolet curable resin; Curing the UV curable resin on one surface of the inner layer substrate again, and curing the applied surface again with UV light, applying the UV curable resin on the other surface of the inner layer substrate, and applying UV light to the applied surface. A step of curing, a step of removing moisture absorption of the ultraviolet curable resin by baking treatment of the inner layer substrate, and a step of smoothing the surface of the ultraviolet curable resin by leveling, and a step of laminating a copper foil with an adhesive resin on the inner layer substrate by a roll laminator. It is preferable to include a step of thermocompression bonding and a step of thermosetting a copper foil with an adhesive resin to form a copper-clad laminate with an inner layer circuit.

【0016】またさらに、銅張積層板の銅箔の表面を亜
塩素酸ソーダおよび苛性ソーダの混合液中に浸積するこ
とにより針条結晶化するのが好ましい。
Furthermore, it is preferable that the surface of the copper foil of the copper-clad laminate is immersed in a mixed solution of sodium chlorite and caustic soda to be subjected to needle crystallization.

【0017】また、内層回路入り銅張積層板の表面銅箔
の全面をエッチング処理する工程と、紫外線硬化性樹脂
に、炭酸レーザまたはエキシマレーザを照射することに
よりレーザ孔を形成する工程と、レーザ孔に銅パネルめ
っきを施しレーザビアホールを形成する工程と、内層基
板の最外層をエッチング処理し最外層パターンを形成す
る工程とをさらに含むのが好ましい。
A step of etching the entire surface of the surface copper foil of the copper-clad laminate containing the inner layer circuit; a step of irradiating the ultraviolet curable resin with a carbon dioxide laser or an excimer laser to form a laser hole; It is preferable that the method further includes a step of forming a laser via hole by plating the hole with a copper panel, and a step of forming an outermost layer pattern by etching the outermost layer of the inner substrate.

【0018】さらに、紫外線硬化性樹脂が、ビアホール
内に毛細管現象により浸入する塗布条件を有し、かつ、
これに適した樹脂粘度を有するのが好ましい。
Further, there is a coating condition under which the ultraviolet curable resin infiltrates into the via hole by a capillary phenomenon, and
It is preferable to have a resin viscosity suitable for this.

【0019】またさらに、紫外線硬化性樹脂を、ビザホ
ールの周辺にのみ塗布するのが好ましい。
Further, it is preferable to apply the ultraviolet curable resin only around the visa hole.

【0020】また、ビアホールが、貫通スルーホールで
あるのが好ましい。
Preferably, the via hole is a through-hole.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】次に、図1〜図3を参照して、本
発明の第1の実施例について説明する。(a)〜(n)
と工程順に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. (A) to (n)
Will be described in the order of steps.

【0022】まず、図1(a),(b),(c)に示す
ように、銅箔および基材で構成される銅張積層板1に穴
をあけ、この穴をめっきすることによりφ0.2〜0.
8mmのビアホール2を形成し、銅張積層板1をエッチ
ングしてパターン形成し内層基板3を作成する。次に、
この内層基板3のパターン表面を強アルカリにて黒化処
理する。銅箔の表面は、亜塩素酸ソーダ,苛性ソーダの
混合液中に3〜10分間浸漬することにより針状結晶化
し、次工程にて塗布する樹脂の密着性を向上させる。
First, as shown in FIGS. 1 (a), 1 (b) and 1 (c), a hole is formed in a copper-clad laminate 1 composed of a copper foil and a base material, and the hole is plated. 0.2-0.
An 8 mm via hole 2 is formed, and a pattern is formed by etching the copper clad laminate 1 to form an inner layer substrate 3. next,
The pattern surface of the inner layer substrate 3 is blackened with a strong alkali. By immersing the surface of the copper foil in a mixed solution of sodium chlorite and caustic soda for 3 to 10 minutes, the surface of the copper foil is needle-like crystallized, and the adhesion of the resin applied in the next step is improved.

【0023】次に、図1(d)に示すように、紫外線硬
化性のアンダーコート樹脂4を、スクリーン印刷法を用
いて内層基板3の片面全体に塗布する。この際のスクリ
ーン印刷条件は、スクリーンメッシュは80〜100メ
ッシュ、スキージ硬度は70度、塗布速度は0.1〜
0.05m/secとする。また、アンダーコート樹脂
4は、20℃において粘度10〜30ポアズ,TI値
1.0〜1.5であり、紫外線の露光量1〜3J/cm
2 にて硬化し(以下、UVキュアとする)、UVキュア
後に加熱した場合の熱溶融開始温度が80〜100℃付
近、溶融粘度が10,000〜50,000ポアズであ
る物質を使用する。尚、最終硬化後の樹脂層に気泡が混
入するのを防止するため、アンダーコート樹脂4は無溶
剤タイプであることが必要条件である。このようなアン
ダーコート樹脂4の例を表1に示す。
Next, as shown in FIG. 1D, an ultraviolet-curable undercoat resin 4 is applied to one entire surface of the inner substrate 3 by using a screen printing method. The screen printing conditions at this time are as follows: screen mesh is 80 to 100 mesh, squeegee hardness is 70 degrees, application speed is 0.1 to 100 mesh.
0.05 m / sec. The undercoat resin 4 has a viscosity of 10 to 30 poise at 20 ° C., a TI value of 1.0 to 1.5, and an exposure amount of ultraviolet light of 1 to 3 J / cm.
A material having a curing temperature of about 80 to 100 ° C. and a melt viscosity of 10,000 to 50,000 poise when heated after being cured (hereinafter referred to as UV cure) and heated after UV cure is used. In order to prevent air bubbles from being mixed into the resin layer after the final curing, it is a necessary condition that the undercoat resin 4 is a solventless type. Table 1 shows an example of such an undercoat resin 4.

【0024】[0024]

【表1】 [Table 1]

【0025】アンダーコート樹脂は、エポキシ樹脂とし
て液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂、アクリレート
樹脂としてビスフェノールA型エポキシアクリレート,
ノボラック型エポキシアクリレート、エポキシ樹脂硬化
剤として2−エチル−4−メチルイミダソール,2−メ
チルイミダソール、光重合開始剤として1−ヒドロキシ
シクロヘキシルアセトフェノン,2,2−ジメトキシ−
1,2−ジフェニルエタン−1−オンを用いることがで
きる。
The undercoat resin is a liquid bisphenol A epoxy resin as an epoxy resin, a bisphenol A epoxy acrylate as an acrylate resin,
Novolak type epoxy acrylate, 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-methylimidazole as epoxy resin curing agents, 1-hydroxycyclohexyl acetophenone, 2,2-dimethoxy- as photopolymerization initiator
1,2-diphenylethan-1-one can be used.

【0026】また、UVキュアの際は、表面平滑度の向
上および消泡のため、樹脂塗布後15〜60分の間をと
る。尚、ビアホール径に応じて塗布条件、例えばスキー
ジ角度,スクリーンギャップなどを設定し、ビアホール
およびパターンのない基板上のUVキュア後の樹脂厚み
(以下、樹脂厚とする)が、表2に示す値になるように
調節する。
In the case of UV curing, it takes 15 to 60 minutes after application of the resin in order to improve the surface smoothness and defoam. The coating conditions such as the squeegee angle and the screen gap are set in accordance with the diameter of the via hole, and the resin thickness after UV curing on the substrate without the via hole and the pattern (hereinafter referred to as resin thickness) is shown in Table 2. Adjust so that

【0027】[0027]

【表2】 [Table 2]

【0028】すなわち、ビアホール径がφ0.2〜0.
5mmならば、1回目塗布の樹脂厚は20μm、2回目
塗布の樹脂厚は25μmとし、ビアホール径がφ0.5
〜0.8mmならば、1回目塗布の樹脂厚は30μm、
2回目塗布の樹脂厚は25μmとする。
That is, when the via hole diameter is φ0.2 to 0.2.
If it is 5 mm, the resin thickness of the first application is 20 μm, the resin thickness of the second application is 25 μm, and the via hole diameter is φ0.5.
If it is ~ 0.8 mm, the resin thickness of the first application is 30 μm,
The resin thickness of the second application is 25 μm.

【0029】次に、図1(e)に示すように、紫外線の
露光量1〜3J/cm2 の条件にてUVキュアをおこな
う。この際、塗布面の裏面のみ照射するよう、コンベア
式両面UVキュア炉で下側ランプのみ作動させるなどし
て、ビアホール内のアンダーコート樹脂5のみをUVキ
ュアさせる。ビアホール内へ樹脂が浸入するため、前述
の塗布面はビアホール周辺の樹脂が不足しており、φ
0.2〜0.5mmで約20μm、φ0.5〜0.8m
mで約30μmの窪みが発生している。
Next, as shown in FIG. 1E, UV curing is performed under the conditions of an exposure amount of ultraviolet light of 1 to 3 J / cm 2 . At this time, only the under lamp 5 in the via hole is UV-cured by operating only the lower lamp in a conveyor-type double-side UV curing furnace so as to irradiate only the back surface of the application surface. Since the resin penetrates into the via hole, the above-mentioned coating surface lacks the resin around the via hole, and φ
Approximately 20 μm at 0.2 to 0.5 mm, 0.5 to 0.8 m
A depression of about 30 μm occurs at m.

【0030】次に、図1(f)に示すように、窪みの発
生した面の基板全面にスクリーン印刷でアンダーコート
樹脂4の2回目の塗布をおこない、窪みが発生している
部分を埋め込む。尚、この塗布は表2の塗布条件でおこ
なう。この結果、2回目塗布後の樹脂厚は、UVキュア
後のパターン上樹脂厚で20μm以上になる。尚、パタ
ーン上の樹脂厚が20μm必要な理由は、パターン上樹
脂厚と基材上の樹脂厚との樹脂厚をより平均化すること
により、後工程の銅箔シートラミネーションでエアーを
巻き込み、ボイドとなることを防止するためである。
Next, as shown in FIG. 1F, a second application of the undercoat resin 4 is performed by screen printing on the entire surface of the substrate on which the dents have occurred, and the portions where the dents have occurred are buried. This coating is performed under the coating conditions shown in Table 2. As a result, the resin thickness after the second application is 20 μm or more as the resin thickness on the pattern after UV curing. The reason why the resin thickness on the pattern is required to be 20 μm is that, by averaging the resin thickness between the resin thickness on the pattern and the resin thickness on the base material, air is entrapped in the copper foil sheet lamination in a later step, and voids are formed. This is to prevent that.

【0031】同様にして、図1(g)に示すように、樹
脂が塗布されていない面の基板全面にアンダーコート樹
脂4をスクリーン印刷で塗布する。尚、この際の樹脂厚
は20〜25μmとなるよう塗布条件を調整する。
Similarly, as shown in FIG. 1 (g), an undercoat resin 4 is applied by screen printing on the entire surface of the substrate on which the resin is not applied. The application conditions are adjusted so that the resin thickness at this time is 20 to 25 μm.

【0032】次に、図2(h)に示すように、内層基板
3をUVキュア処理させ、内層基板3に対し、80〜1
20℃の温度,20〜30分の加熱時間でベーキング処
理を施し、アンダーコート樹脂表面のレベリングおよび
吸湿成分の除去をおこなう。
Next, as shown in FIG. 2H, the inner layer substrate 3 is subjected to a UV curing process, and
A baking treatment is performed at a temperature of 20 ° C. for a heating time of 20 to 30 minutes to perform leveling of the undercoat resin surface and removal of moisture-absorbing components.

【0033】次に、図2(i)にて熱圧着する銅箔シー
ト6との密着性を確保するため、アンダーコート樹脂表
面は、熱圧着時に溶融することが前提となるが、樹脂は
ベーキング処理により熱硬化が進行し溶融しにくくなる
ため、硬化レベルを調節する必要がある。また、熱硬化
反応はUVキュア時にも進行しているため、紫外線照射
条件とベーキング条件とを関連づけて表3のように条件
設定した。
Next, in order to secure adhesion to the copper foil sheet 6 to be thermocompressed in FIG. 2 (i), it is assumed that the surface of the undercoat resin is melted during thermocompression, but the resin is baked. It is necessary to adjust the curing level because the heat curing proceeds and the melting becomes difficult due to the treatment. In addition, since the thermosetting reaction also proceeds during UV curing, the conditions were set as shown in Table 3 in association with the ultraviolet irradiation conditions and the baking conditions.

【0034】[0034]

【表3】 [Table 3]

【0035】表3に示すように、紫外線露光量1,2,
3J/cm2 に対して、ベーキング条件として加熱時
間,基板表面温度は、それぞれ25分未満,80℃以
上、20分未満,昇温、15分未満,昇温である。
As shown in Table 3, the amount of UV light exposure 1,2,2
For 3 J / cm 2 , the baking conditions include a heating time and a substrate surface temperature of less than 25 minutes, 80 ° C. or more and less than 20 minutes, a rise in temperature, less than 15 minutes, and a rise in temperature.

【0036】この条件で硬化することにより、ラミネー
ション時の密着反応を阻害する過度な樹脂硬化を防止で
きることが確認されている。
It has been confirmed that by curing under these conditions, it is possible to prevent excessive resin curing that inhibits the adhesion reaction during lamination.

【0037】また、図2(i)に示すように、ベーキン
グ後の内層基板に銅箔シート6をロールラミネーション
により熱圧着し4層の積層体とする。尚、吸湿防止のた
め、ベーキング後の内層基板は、20〜25℃,50〜
60%RH(相対湿度)の雰囲気下において、2時間以
内に銅箔シート6の熱圧着をおこなう。また、密着性向
上のため、IR(赤外線)加熱,ロール加熱などの方法
によりラミネーション前の内層基板の表面温度(アンダ
ーコート樹脂の表面温度)は、70〜90℃に昇温させ
る。ラミネーションの条件は、ラミネーションロール温
度100〜120℃,ラミネーション圧力3〜6kg/
cm2 ,ラミネーション速度0.3〜1.0m/分に設
定した。
Further, as shown in FIG. 2 (i), a copper foil sheet 6 is thermocompression-bonded by roll lamination to the baked inner layer substrate to form a four-layer laminate. In addition, in order to prevent moisture absorption, the inner layer substrate after baking is at 20 to 25 ° C and 50 to 25 ° C.
The thermocompression bonding of the copper foil sheet 6 is performed within 2 hours in an atmosphere of 60% RH (relative humidity). In order to improve the adhesion, the surface temperature of the inner substrate (the surface temperature of the undercoat resin) before lamination is increased to 70 to 90 ° C. by a method such as IR (infrared) heating or roll heating. The lamination conditions are as follows: lamination roll temperature 100 to 120 ° C, lamination pressure 3 to 6 kg /
cm 2 and a lamination speed of 0.3 to 1.0 m / min.

【0038】次に、図2(j)に示すように、この積層
体を140〜160℃,30〜60分の条件で加熱処理
することにより、表面が平坦で信頼性の高い内層回路入
り銅張積層板7が得られ、その後、図2(k)に示すよ
うに、この内層回路入り銅張積層板7の表面銅箔の全面
をエッチング処理する。次に、図2(l)に示すよう
に、炭酸レーザーまたはエキシマレーザー等によるレー
ザー孔8を形成する。その後、図3(m)に示すよう
に、銅パネルめっきを施し、レーザービアホール9を形
成する。さらに、図3(n)のように、エッチング処理
により最外層パターンを形成し、ビルドアップ多層印刷
配線板10を得る。
Next, as shown in FIG. 2 (j), the laminate is subjected to a heat treatment at 140 to 160 ° C. for 30 to 60 minutes to obtain a highly reliable copper having an inner layer circuit with a flat surface. After that, as shown in FIG. 2 (k), the entire surface of the surface copper foil of the copper-clad laminate 7 with the inner layer circuit is subjected to an etching treatment. Next, as shown in FIG. 2 (l), a laser hole 8 is formed by a carbon dioxide laser or an excimer laser. Thereafter, as shown in FIG. 3 (m), copper panel plating is performed to form a laser via hole 9. Further, as shown in FIG. 3 (n), an outermost layer pattern is formed by an etching process to obtain a build-up multilayer printed wiring board 10.

【0039】次に、本発明の第2の実施例について、図
4〜図6を参照して説明する。(a)〜(n)と工程順
に説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. (A) to (n) will be described in the order of steps.

【0040】まず、図4(a),(b),(c)のよう
に、次工程で表面に塗布するアンダーコート樹脂との密
着性を向上させるため、銅箔と基材とにより構成される
銅張積層板1に穴をあけ、めっきすることによりビアホ
ール2を形成し、パターン形成し、作成した内層基板3
を黒化処理する。
First, as shown in FIGS. 4 (a), 4 (b) and 4 (c), in order to improve the adhesiveness with the undercoat resin applied to the surface in the next step, it is composed of a copper foil and a base material. A hole is formed in the copper-clad laminate 1, and a via hole 2 is formed by plating, the pattern is formed, and the formed inner layer substrate 3 is formed.
Is blackened.

【0041】次に、図4(d)に示すように、ビアホー
ル2の周辺のみ塗布できるよう製版したスクリーンを使
用して、紫外線硬化性かつ無溶剤タイプのアンダーコー
ト樹脂4を内層基板の片面にスクリーン印刷する。次
に、図4(e)に示すように、塗布面の裏面のみ紫外線
照射することでビアホール2内のアンダーコート樹脂4
をUVキュアさせ、UVキュア後のアンダーコート樹脂
5とする。この際、スクリーン印刷条件は、スクリーン
メッシュは80〜100メッシュ、スキージ硬度は70
度、塗布速度は0.1〜0.05m/secとする。ア
ンダーコート樹脂4は、20℃において粘度10〜30
ポアズ,TI値1.0〜1.5であり、紫外線照射量1
〜3J/cm2 にて硬化し、紫外線硬化後に加熱した場
合の熱溶融開始温度が80〜100℃付近、溶融粘度が
10,000〜50,000ポアズである物質を使用す
る。表面平滑度の向上および消泡のため樹脂塗布後15
〜60分の放置時間をとった後、露光量1〜3J/cm
2 の条件にてUVキュアする。尚、塗布条件は「ビアホ
ールおよびパターンなしの基板に対する1回塗布におけ
る基板上樹脂厚」が、表2に示す値になる条件に設定す
る。この後、図4(f)に示すように、基板全体に塗布
できるようベタのパターンに製版したスクリーンを使用
して、前述の塗布面に再度アンダーコート樹脂4の塗布
をおこない、塗布面側に紫外線を照射しUVキュアさ
せ、図4(g)に示すように、前述と同様にして樹脂が
塗布されていない片面にもスクリーン印刷法でアンダー
コート樹脂4を塗布する。
Next, as shown in FIG. 4D, a UV-curable and solventless type undercoat resin 4 is applied to one surface of the inner layer substrate by using a screen made so that only the periphery of the via hole 2 can be coated. Screen print. Next, as shown in FIG. 4 (e), the undercoat resin 4 in the via hole 2 is irradiated with ultraviolet rays only on the back surface of the coating surface.
Is subjected to UV curing to obtain an undercoat resin 5 after UV curing. At this time, the screen printing conditions are as follows: screen mesh is 80 to 100 mesh, squeegee hardness is 70.
And the coating speed is 0.1 to 0.05 m / sec. The undercoat resin 4 has a viscosity of 10 to 30 at 20 ° C.
Poise, TI value 1.0 to 1.5, UV irradiation dose 1
A substance which has a melting start temperature of about 80 to 100 ° C. and a melt viscosity of 10,000 to 50,000 poise when it is cured at 3 J / cm 2 and heated after ultraviolet curing is used. 15 after resin application to improve surface smoothness and defoam
After a leaving time of 分 の 60 minutes, an exposure amount of 1 to 3 J / cm
UV cure under the conditions of 2 . The application conditions are set so that “the resin thickness on the substrate in a single application to the substrate without via holes and patterns” has the value shown in Table 2. Thereafter, as shown in FIG. 4 (f), the undercoat resin 4 is again applied to the above-mentioned application surface by using a screen made in a solid pattern so that it can be applied to the entire substrate. As shown in FIG. 4 (g), the undercoat resin 4 is applied by screen printing to one surface on which no resin is applied, as shown in FIG. 4 (g).

【0042】次に、図5(h)に示すように、アンダー
コート樹脂4をUVキュアさせる。尚、ベタパターンの
塗布条件は両面ともに、樹脂厚が表2の値の条件になる
ように設定する。UVキュアさせた後の図5(h)の内
層基板に対し、80〜120℃の温度,20〜30分間
の加熱時間でベーキング処理を施し、アンダーコート樹
脂表面のレベリングおよび吸湿成分の除去をおこなう。
尚、ラミネーション密着性を阻害する過度な樹脂硬化を
防止するため、ベーキング条件は表3に従って条件設定
する。次に、図5(i)に示すように、熱処理後の内層
基板に銅箔シート6をロールラミネーションにより熱圧
着し4層の積層体とする。尚、ベーキング後の内層基板
は20〜25℃,50〜60%RHの雰囲気下において
2時間以内に、銅箔シート6の熱圧着をおこなう。ま
た、密着性向上のため、IR加熱,ロール加熱などの方
法によりラミネーション前の内層基板の表面温度(アン
ダーコート樹脂の表面温度)は70〜90℃に昇温させ
る。ロールラミネーションの条件は、ラミネーションロ
ール温度100〜120℃,ラミネーション圧力3〜6
kg/cm2 ,ラミネーション速度0.3〜1.0m/
分に設定する。最終硬化として、図5(j)に示すよう
に、140〜160℃,30〜60分の条件で加熱処理
し、内層回路入り銅張積層板7が得られる。次に、図5
(k)に示すように、内層回路入り銅張積層板7の両面
の銅箔全てをエッチングする。 図5(l)は、エッチ
ングの結果形成されたレーザー孔8を示す。また、図6
(m)では、銅パネルめっきを施し、レーザービアホー
ル9を形成する。さらに、図6(n)では、フォトリソ
グラフィー法によりエッチング、パターン形成し、ビル
ドアップ多層印刷配線板10を得る。
Next, as shown in FIG. 5H, the undercoat resin 4 is UV cured. The solid pattern application conditions are set so that the resin thickness of both sides is the condition of the values in Table 2. After the UV curing, the inner layer substrate shown in FIG. 5H is baked at a temperature of 80 to 120 ° C. for a heating time of 20 to 30 minutes to level the undercoat resin surface and remove moisture-absorbing components. .
The baking conditions are set according to Table 3 in order to prevent excessive resin curing that inhibits lamination adhesion. Next, as shown in FIG. 5 (i), the copper foil sheet 6 is thermocompression-bonded to the inner layer substrate after the heat treatment by roll lamination to form a four-layer laminate. The inner substrate after baking is subjected to thermocompression bonding of the copper foil sheet 6 within 2 hours in an atmosphere of 20 to 25 ° C. and 50 to 60% RH. In order to improve adhesion, the surface temperature of the inner layer substrate (the surface temperature of the undercoat resin) before lamination is increased to 70 to 90 ° C. by a method such as IR heating or roll heating. Roll lamination conditions are lamination roll temperature 100 to 120 ° C. and lamination pressure 3 to 6.
kg / cm 2 , lamination speed 0.3-1.0m /
Set to minutes. As a final curing, as shown in FIG. 5 (j), a heat treatment is performed at 140 to 160 ° C. for 30 to 60 minutes to obtain a copper-clad laminate 7 with an inner layer circuit. Next, FIG.
As shown in (k), all the copper foils on both sides of the copper-clad laminate 7 with the inner layer circuit are etched. FIG. 5 (l) shows the laser hole 8 formed as a result of the etching. FIG.
In (m), a copper via plating is performed to form a laser via hole 9. Further, in FIG. 6 (n), etching and pattern formation are performed by a photolithography method to obtain a build-up multilayer printed wiring board 10.

【0043】なお、以上説明したビアホールは、IVH
(Interstitial Via Hall)にも
適用できることは言うまでもない。
Note that the via holes described above correspond to the IVH
Needless to say, the present invention can be applied to (Interstitial Via Hall).

【0044】以上の結果として、表4に示すように、特
開平7−202433号公報に記載の両面同時塗布の従
来例では、絶縁層表面窪み(φ0.4mmビアホール部
の表面窪み)が10〜20μmに対して、本発明の方法
によると、5〜10μmとなる。
As a result, as shown in Table 4, in the conventional example of simultaneous coating on both sides described in JP-A-7-202433, the surface dent of the insulating layer (the surface dent of the via hole of φ0.4 mm) was 10 to 10%. According to the method of the present invention, it is 5 to 10 μm for 20 μm.

【0045】[0045]

【表4】 [Table 4]

【0046】なお、この値は、絶縁層表面における内層
ビアホール部〜内層回路部の凹凸差を測定したものであ
る。
Note that this value is obtained by measuring the unevenness difference between the inner layer via hole portion and the inner layer circuit portion on the insulating layer surface.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明により、平坦な絶縁層表面が得ら
れ、これにより、ショート,断線などのパターン形成異
常が5〜20%低減されるという効果を奏する。
According to the present invention, a flat surface of the insulating layer can be obtained, whereby the pattern formation abnormality such as short circuit or disconnection can be reduced by 5 to 20%.

【0048】また、ビアホール内部における樹脂ボイド
発生が30〜50%から約5%に防止され、ボイドに起
因するショート異常が防止できるという効果を奏する。
In addition, the generation of resin voids in the via holes is prevented from 30% to 50% to about 5%, so that there is an effect that a short circuit caused by voids can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例の製造工程を示す断面図
である。(a)は加工前の銅張積層板の断面図、(b)
はビアホール形成後の内層基板の断面図、(c)は回路
形成後の内層基板の断面図、(d)は1回目アンダーコ
ート塗布を示す断面図、(e)は塗布裏面からのUVキ
ュアを示す断面図、(f)は2回目アンダーコート塗布
を示す断面図、(g)は未塗布面のアンダーコート塗布
を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a manufacturing process of a first embodiment of the present invention. (A) is a cross-sectional view of the copper-clad laminate before processing, (b)
Is a cross-sectional view of the inner layer substrate after the formation of the via hole, (c) is a cross-sectional view of the inner layer substrate after the circuit is formed, (d) is a cross-sectional view showing the first undercoat coating, and (e) is a UV cure from the back surface of the coating. FIG. 7F is a cross-sectional view showing a second undercoat application, and FIG. 8G is a cross-sectional view showing an undercoat application on an uncoated surface.

【図2】本発明の第1の実施例の製造工程を示す断面図
である。(h)はUVキュアを示す断面図、(i)銅箔
シートのラミネーションを示す断面図、(j)はポスト
ベーキングを示す断面図、(k)は外層銅箔のエッチン
グを示す断面図、(l)はレーザー孔の形成を示す断面
図である。
FIG. 2 is a sectional view illustrating a manufacturing process of the first embodiment of the present invention. (H) is a cross-sectional view showing UV curing, (i) is a cross-sectional view showing lamination of a copper foil sheet, (j) is a cross-sectional view showing post-baking, (k) is a cross-sectional view showing etching of an outer layer copper foil, 1) is a sectional view showing the formation of a laser hole.

【図3】本発明の第1の実施例の製造工程を示す断面図
である。(m)は最外層のめっきを示す断面図、(n)
は最外層をフォトリソグラフィー法でパターン形成した
ビルドアップ多層印刷配線板を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the first embodiment of the present invention. (M) is a sectional view showing plating of the outermost layer, (n)
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a build-up multilayer printed wiring board in which the outermost layer is patterned by photolithography.

【図4】本発明の第2の実施例の製造工程を示す断面図
である。(a)は加工前の銅張積層板の断面図、(b)
はビアホール形成後の内層基板の断面図、(c)は回路
形成後の内層基板の断面図、(d)はビアホール部への
1回目アンダーコート塗布を示す断面図、(e)は塗布
裏面からのUVキュアを示す断面図、(f)は2回目ア
ンダーコート塗布を示す断面図、(g)は未塗布面のア
ンダーコート塗布を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process according to a second embodiment of the present invention. (A) is a cross-sectional view of the copper-clad laminate before processing, (b)
Is a cross-sectional view of the inner layer substrate after the formation of the via hole, (c) is a cross-sectional view of the inner layer substrate after the formation of the circuit, (d) is a cross-sectional view showing the first undercoat application to the via hole portion, and (e) is a cross-sectional view from the back side of the application. FIG. 7F is a cross-sectional view showing UV curing, FIG. 7F is a cross-sectional view showing a second undercoat application, and FIG. 7G is a cross-sectional view showing an undercoat application on an uncoated surface.

【図5】本発明の第2の実施例の製造工程を示す断面図
である。(h)はUVキュアを示す断面図、(i)は銅
箔シートのラミネーションを示す断面図、(j)はポス
トベーキングを示す断面図、(k)は外層銅箔のエッチ
ングを示す断面図、(l)はレーザー孔の形成を示す断
面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a manufacturing process according to a second embodiment of the present invention. (H) is a cross-sectional view showing UV cure, (i) is a cross-sectional view showing lamination of a copper foil sheet, (j) is a cross-sectional view showing post-baking, (k) is a cross-sectional view showing etching of an outer layer copper foil, (L) is a sectional view showing the formation of a laser hole.

【図6】本発明の第2の実施例の製造工程を示す断面図
である。(m)は最外層のめっきを示す断面図、(n)
は最外層をフォトリソグラフィー法でパターン形成した
ビルドアップ多層印刷配線板を示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view illustrating a manufacturing process according to a second embodiment of the present invention. (M) is a sectional view showing plating of the outermost layer, (n)
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a build-up multilayer printed wiring board in which the outermost layer is patterned by photolithography.

【図7】従来例の製造工程を示す断面図である。(a)
は加工前の銅張積層板の断面図、(b)はビアホール形
成後の内層基板の断面図、(c)は回路形成後の内層基
板の断面図、(d)は紫外線硬化性樹脂の両面塗布を示
す断面図、(e)は紫外線硬化性樹脂シートのラミネー
ションを示す断面図、(f)はフォトリソグラフィー法
による紫外線露光を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of a conventional example. (A)
Is a cross-sectional view of the copper-clad laminate before processing, (b) is a cross-sectional view of the inner substrate after forming the via hole, (c) is a cross-sectional view of the inner substrate after forming the circuit, and (d) is both surfaces of the ultraviolet curable resin. FIG. 3E is a cross-sectional view illustrating application, FIG. 4E is a cross-sectional view illustrating lamination of an ultraviolet-curable resin sheet, and FIG. 4F is a cross-sectional view illustrating ultraviolet exposure by photolithography.

【図8】従来例の製造工程を示す断面図である。(g)
は現像による孔形成を示す断面図、(h)は最外層にレ
ジスト層を形成しめっきによるパターン形成をしたビル
ドアップ多層印刷配線板を示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing a manufacturing process of a conventional example. (G)
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the formation of holes by development, and FIG. 4H is a cross-sectional view showing a build-up multilayer printed wiring board in which a resist layer is formed on the outermost layer and a pattern is formed by plating.

【符号の説明】 1 銅張積層板 2 ビアホール 3 内層基板 4 アンダーコート樹脂 5 UVキュア後のアンダーコート樹脂 6 銅箔シート 7 内層回路入り銅張積層板 8 レーザ孔 9 レーザビアホール 10 ビルドアップ多層印刷配線板 11 紫外線硬化性樹脂 12 紫外線硬化性樹脂シート 13 露光により硬化した紫外線硬化性樹脂 14 フォトリソグラフィー法による孔 15 レジスト層 16 フォトビアホール[Description of Signs] 1 Copper-clad laminate 2 Via hole 3 Inner substrate 4 Undercoat resin 5 Undercoat resin after UV curing 6 Copper foil sheet 7 Copper-clad laminate with inner layer circuit 8 Laser hole 9 Laser via hole 10 Build-up multilayer printing Wiring board 11 UV-curable resin 12 UV-curable resin sheet 13 UV-curable resin cured by exposure 14 Hole by photolithography method 15 Resist layer 16 Photo via hole

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ビアホールおよびパターンが形成された内
層基板よりなるビルドアップ多層印刷配線板の製造方法
において、前記内層基板の一面側に光硬化性樹脂を塗布する工程
と、 前記内層基板の他面側から紫外線を照射して前記ビアホ
ール内の光硬化性樹脂をキュアする工程と、 前記内層基板の他面側に光硬化性樹脂を塗布する工程
と、 を含み、前記ビアホール内部におけるボイドの発生を防
止した ことを特徴とするビルドアップ多層印刷配線板の
製造方法。
1. A method of manufacturing a build-up multilayer printed wiring board comprising an inner layer substrate having a via hole and a pattern formed thereon, wherein a photocurable resin is applied to one surface of the inner layer substrate.
And irradiating ultraviolet light from the other side of the inner layer substrate to form the via hole.
Curing the photo-curable resin in the tool and applying the photo-curable resin to the other surface of the inner layer substrate.
And preventing generation of voids inside the via hole.
A method for manufacturing a build-up multilayer printed wiring board, wherein the method is stopped .
【請求項2】前記光硬化性樹脂が、紫外線硬化性樹脂で
あることを特徴とする、請求項1に記載の多層印刷配線
板の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the photocurable resin is an ultraviolet curable resin.
【請求項3】前記ビアホールおよびパターンが形成され
た内層基板の一面に前記紫外線硬化性樹脂を塗布し、か
つ、前記ビアホール内に前記紫外線硬化性樹脂を充填さ
せる工程と、 前記内層基板の他面から前記紫外線硬化性樹脂を硬化さ
せる工程と、 前記内層基板の前記一面に再度紫外線硬化性樹脂を塗布
し、塗布面を紫外線により再度硬化させる工程と、 前記内層基板の前記他面に紫外線硬化性樹脂を塗布し、
塗布面を紫外線により硬化させる工程と、 前記内層基板をベーキング処理により紫外線硬化性樹脂
の吸湿分を除去し、レベリングにより紫外線硬化性樹脂
の表面を平滑化する工程と、 前記内層基板に、接着樹脂付き銅箔をロールラミネータ
で加熱圧着する工程と、 前記接着樹脂付き銅箔を熱硬化させ、内層回路入り銅張
積層板を作成する工程と、 を含むことを特徴とする、請求項2に記載の多層印刷配
線板の製造方法。
3. A step of applying the ultraviolet curable resin to one surface of the inner substrate on which the via hole and the pattern are formed, and filling the via hole with the ultraviolet curable resin; and the other surface of the inner substrate. Curing the ultraviolet-curable resin from above; applying the ultraviolet-curable resin to the one surface of the inner layer substrate again, and curing the applied surface again with ultraviolet light; and ultraviolet-curing the other surface of the inner layer substrate. Apply resin,
A step of curing the application surface with ultraviolet light, a step of removing moisture absorption of the ultraviolet curable resin by baking treatment of the inner layer substrate, and a step of leveling the surface of the ultraviolet curable resin by leveling, an adhesive resin on the inner layer substrate. The method according to claim 2, further comprising: a step of heating and pressing the attached copper foil with a roll laminator; and a step of thermally curing the copper foil with the adhesive resin to form a copper-clad laminate with an inner layer circuit. Of manufacturing a multilayer printed wiring board.
【請求項4】前記銅張積層板の銅箔の表面を亜塩素酸ソ
ーダおよび苛性ソーダの混合液中に浸積することにより
針条結晶化したことを特徴とする、請求項3に記載の多
層印刷配線板の製造方法。
4. The multilayer according to claim 3, wherein the surface of the copper foil of the copper-clad laminate is immersed in a mixture of sodium chlorite and caustic soda to be subjected to needle crystallization. Manufacturing method of printed wiring board.
【請求項5】前記内層回路入り銅張積層板の表面銅箔の
全面をエッチング処理する工程と、前記紫外線硬化性樹
脂に、炭酸レーザまたはエキシマレーザを照射すること
によりレーザ孔を形成する工程と、前記レーザ孔に銅パ
ネルめっきを施しレーザビアホールを形成する工程と、
前記内層基板の最外層をエッチング処理し最外層パター
ンを形成する工程とをさらに含むことを特徴とする、請
求項3または4に記載の多層印刷配線板の製造方法。
5. A step of etching the entire surface of the surface copper foil of the copper-clad laminate containing the inner layer circuit, and a step of forming a laser hole by irradiating the ultraviolet curable resin with a carbon dioxide laser or an excimer laser. Forming a laser via hole by applying copper panel plating to the laser hole,
The method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 3, further comprising a step of forming an outermost layer pattern by etching an outermost layer of the inner substrate.
【請求項6】前記紫外線硬化性樹脂が、前記ビアホール
内に毛細管現象により浸入する塗布条件を有し、かつ、
これに適した樹脂粘度を有することを特徴とする、請求
項2〜5のいずれかに記載の多層印刷配線板の製造方
法。
6. An application condition under which the ultraviolet-curable resin penetrates into the via hole by a capillary phenomenon, and
The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 2 to 5, wherein the method has a resin viscosity suitable for this.
【請求項7】前記紫外線硬化性樹脂を、前記ビアホール
の周辺にのみ塗布することを特徴とする、請求項2〜6
のいずれかに記載の多層印刷配線板の製造方法。
7. The method according to claim 2, wherein the ultraviolet curable resin is applied only around the via hole.
The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of the above.
【請求項8】前記ビアホールが、貫通スルーホールであ
ることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の
多層印刷配線板の製造方法。
8. The method according to claim 1, wherein said via hole is a through-hole.
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