JP2937951B2 - Method for manufacturing multilayer printed wiring board - Google Patents

Method for manufacturing multilayer printed wiring board

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JP2937951B2
JP2937951B2 JP15508997A JP15508997A JP2937951B2 JP 2937951 B2 JP2937951 B2 JP 2937951B2 JP 15508997 A JP15508997 A JP 15508997A JP 15508997 A JP15508997 A JP 15508997A JP 2937951 B2 JP2937951 B2 JP 2937951B2
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は多層印刷板の製造方
法に関し、特に外層をロールラーミネーションにより形
成する多層印刷配線板の製造方法に関するものである。
The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed circuit board, and more particularly to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board having an outer layer formed by roll lamination.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の多層印刷配線板の製造方法を4層
の多層印刷配線板を例に説明する。まず、回路を形成し
た内層回路基板を黒化処理し、この内層回路基板にプリ
プレグ呼ばれる半硬化の接着剤シートを介して積層プレ
スで銅箔を熱圧着し、内層回路入り銅張積層板(以下、
多層シールド基板と呼ぶ))を作製する。この銅箔の熱
圧着の工程では、内層回路基板、プリプレグ、銅箔、離
型フィルム等を組み合わせる複雑な作業が必要であり、
また、熱圧着時間が長いなどの問題があった。
2. Description of the Related Art A conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board will be described by taking a multilayer printed wiring board having four layers as an example. First, the inner layer circuit board on which the circuit is formed is blackened, and a copper foil is thermocompressed to the inner layer circuit board via a semi-cured adhesive sheet called a prepreg by a lamination press to obtain a copper-clad laminate with an inner layer circuit (hereinafter, referred to as a “clad laminate”). ,
(Referred to as a multilayer shield substrate)). In the process of thermocompression bonding of copper foil, complicated work is necessary to combine the inner layer circuit board, prepreg, copper foil, release film, etc.
In addition, there is a problem that the thermocompression bonding time is long.

【0003】これらの問題を解決する多層印刷配線板の
製造方法として、 特開平7−336054号公報、特
開平7−307576号公報、、特開平7−24548
5号公報には、接着シートをロールラミネーションによ
り熱圧着する方法(以下、これらの方法を第1の工法と
呼ぶ)が開示されている。図5はその1例で、多層シー
ルド基板の作製方法を工程順に示した図である。まず、
図5(A)に示すように、回路を形成した内層回路基板
3の内層回路1表面を樹脂密着性を向上させるために黒
化処理により粗化する。次に、紫外線硬化性樹脂4aを
内層回路基板3の片面に塗布し、紫外線硬化炉で指触乾
燥させる(図5(B))。同様にして、内層回路基板3
のもう片面にも紫外線硬化性樹脂4aを塗布し、乾燥さ
せた状態を図5(C)に示す。次に、内層回路基板3の
両面にアディティブめっき用の接着剤樹脂5aと銅箔
6、または接着剤樹脂5a付き銅箔6等をロールラミネ
ーションにより熱圧着し、4層の積層体(図5(D))
とし、さらに、この積層体を加熱処理することで、多層
シールド基板7が得られる(図5(E))。
[0003] As a method of manufacturing a multilayer printed wiring board which solves these problems, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-336054, 7-307576, and 7-24548.
No. 5 discloses a method of thermocompression bonding an adhesive sheet by roll lamination (hereinafter, these methods are referred to as a first method). FIG. 5 is a view showing one example of a method of manufacturing a multilayer shield substrate in the order of steps. First,
As shown in FIG. 5A, the surface of the inner layer circuit 1 of the inner layer circuit board 3 on which the circuit is formed is roughened by a blackening process in order to improve the resin adhesion. Next, the ultraviolet curable resin 4a is applied to one surface of the inner circuit board 3, and is dried by touch in an ultraviolet curing furnace (FIG. 5B). Similarly, the inner-layer circuit board 3
FIG. 5 (C) shows a state where the ultraviolet curable resin 4a is applied to the other side and dried. Next, an adhesive resin 5a for additive plating and a copper foil 6, or a copper foil 6 with an adhesive resin 5a, etc., are thermocompression-bonded to both surfaces of the inner layer circuit board 3 by roll lamination, and a four-layer laminate (FIG. D))
Then, the multilayer body is subjected to a heat treatment to obtain a multilayer shield substrate 7 (FIG. 5E).

【0004】また、他の方法として、特開平5−678
81号公報には前述の第1の工法における、紫外線硬化
性樹脂4の代わりに熱硬化性樹脂を用いた多層シールド
基板の作製方法(以下、第2の工法と呼ぶ)が開示され
ている。図6はその1例で、多層シールド基板の作製方
法を工程順に示した図である。まず、図6(A)に示す
ように、銅箔回路1を形成した内層回路基板3を黒化処
理し、図6(B)に示すように熱硬化性樹脂11を内層
回路基板3の片面に塗布し、べーキング炉で指触乾燥さ
せる。同様にして、内層回路基板3のもう片面にも熱硬
化性樹脂11を塗布し、乾燥させた状態を図6(C)に
示す。先述の内層回路基板3にアディティブめっき用接
着剤樹脂と銅箔、または接着剤付き銅箔5などをロール
ラミネーションにより熱圧着し、4層の積層体とする
(図6(D))。次に、この積層体を加熱処理し、多層
シールド基板6を得る(図6(E))。
Another method is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-678.
No. 81 discloses a method for manufacturing a multilayer shield substrate using a thermosetting resin instead of the ultraviolet-curable resin 4 in the first method (hereinafter, referred to as a second method). FIG. 6 is a view showing an example of a method of manufacturing a multilayer shield substrate in the order of steps. First, as shown in FIG. 6A, the inner layer circuit board 3 on which the copper foil circuit 1 is formed is subjected to blackening treatment, and the thermosetting resin 11 is applied to one side of the inner layer circuit board 3 as shown in FIG. And dried by touch in a baking oven. Similarly, FIG. 6C shows a state where the thermosetting resin 11 is applied to the other surface of the inner circuit board 3 and dried. An adhesive resin for additive plating and a copper foil, or a copper foil with an adhesive 5 or the like is thermally bonded to the inner layer circuit board 3 by roll lamination to form a four-layer laminate (FIG. 6D). Next, this laminate is subjected to a heat treatment to obtain a multilayer shield substrate 6 (FIG. 6E).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記第1の工法の問題
点は、紫外線硬化性樹脂を最終硬化させる際に気泡12
(積層ボイド)が多層シールド基板中に発生することで
ある。この気泡12は実装などの熱衝撃により剥離異常
を引き起こし、また、穴あけ工程で、多層シールド基板
のスルーホール加工部に気泡が存在する場合、その気泡
を介してめっき液が多層シールド基板6中に染み込み、
多層印刷配線板の内層ショート異常を発生させることが
知られている。
The problem with the first method is that when the ultraviolet curable resin is finally cured, bubbles 12
(Laminate voids) occur in the multilayer shield substrate. The bubbles 12 cause peeling abnormalities due to thermal shock during mounting or the like, and when bubbles are present in the through-hole processing portion of the multilayer shield substrate in the drilling step, the plating solution is introduced into the multilayer shield substrate 6 through the bubbles. Soak,
It is known to cause an inner layer short-circuit abnormality of a multilayer printed wiring board.

【0006】上記第1の工法における前記気泡の発生原
因としては、紫外線硬化性樹脂を紫外線照射し硬化させ
た後、直接、接着剤樹脂または接着剤樹脂付き銅箔を内
層回路基板に熱圧着するため、紫外線硬化性樹脂中の吸
湿分が、多層シールド基板を加熱処理する際に蒸発、気
化するためと考えられる。
As a cause of the generation of the bubbles in the first method, an ultraviolet curable resin is cured by irradiating ultraviolet rays, and then an adhesive resin or a copper foil with the adhesive resin is directly thermocompression-bonded to the inner circuit board. Therefore, it is considered that the moisture absorption in the ultraviolet curable resin evaporates and evaporates during the heat treatment of the multilayer shield substrate.

【0007】また、内層回路基板の樹脂表面にはその基
板材料に使用されるガラスクロスや銅箔のプロファイル
により表面凹凸が形成されており、この部分に塗布され
た紫外線硬化性樹脂の表面もこの表面凹凸のために凹凸
が形成される。表面粗さ計にて測定された、粗さのプロ
ファイル上における最大変化量(粗さの最大値)をRm
axとすると、紫外線硬化性樹脂の表面の粗さは10〜
15μm(Rmax)程度である。
[0007] The resin surface of the inner layer circuit board has surface irregularities due to the profile of glass cloth or copper foil used for the board material, and the surface of the ultraviolet curable resin applied to this portion also has this surface. Irregularities are formed due to surface irregularities. The maximum variation (maximum roughness) on the roughness profile measured by the surface roughness meter is Rm.
ax, the surface roughness of the ultraviolet curable resin is 10 to
It is about 15 μm (Rmax).

【0008】内層回路基板に接着剤樹脂付き銅箔をラミ
ネーションする際、このレベルの凹凸により紫外線硬化
性樹脂とその銅箔間に空気が保持され、これが気泡とな
り、上記吸湿分と同様に多層印刷配線板の内層剥離異常
やショート異常を発生させる原因となる。上記第2の工
法における問題点は、熱硬化性樹脂の指触乾燥による作
業時間の増加や、基板加熱による多層シールド基板や最
終製品の多層印刷配線板の反りや寸法挙動が大きいこと
である。
When laminating a copper foil with an adhesive resin on the inner layer circuit board, air is held between the ultraviolet curable resin and the copper foil due to the unevenness at this level, and the air bubbles are formed, and multi-layer printing is performed similarly to the above-mentioned moisture absorption. This may cause an inner layer peeling abnormality or a short circuit abnormality of the wiring board. The problems with the second method are that the working time is increased due to touch drying of the thermosetting resin, and that the multilayer shield substrate and the multilayer printed wiring board of the final product due to the heating of the substrate have large warpage and dimensional behavior.

【0009】本発明の目的は、上記の従来技術の問題点
を解決した外層をロールラミネーションによリ形成する
多層印刷配線板の製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which an outer layer which solves the above-mentioned problems of the prior art is formed by roll lamination.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の多層印刷配線板
の製造方法は、銅張積層板をエッチングし、所望の内層
回路を有する内層回路基板を形成する工程と、前記内層
回路基板の表面に光・熱硬化性樹脂を被覆し、前記光・
熱硬化性樹脂の表面紫外線を照射する工程と、前記紫
外線を照射する工程の後に前記内層回路基板を加熱処理
して前記光・熱硬化性樹脂の水分を除去すると同時に前
記光・熱硬化性樹脂の表面を平滑化する工程と、熱硬化
性樹脂を主成分とする接着剤樹脂付き銅箔を前記接着剤
樹脂面を接着面にして前記内層回路基板に熱圧着後、加
熱し、多層シールド基板を形成する工程と、前記多層シ
ールド基板に穴あけ、銅めっき後、最外層回路を形成す
る工程からなることを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising the steps of: etching a copper-clad laminate to form an inner circuit board having a desired inner circuit; Coated with a light / thermosetting resin,
Irradiating ultraviolet rays to the surface of the thermosetting resin, the purple
After the step of irradiating the outside line, the inner layer circuit board is heat-treated.
At the same time as removing water from the photo-thermosetting resin
A step of smoothing the surface of the photo-thermosetting resin, and after thermocompression bonding the copper foil with an adhesive resin containing a thermosetting resin as a main component to the inner layer circuit board with the adhesive resin surface as an adhesive surface. , Heating to form a multilayer shield substrate, and forming holes in the multilayer shield substrate, copper plating, and then forming an outermost layer circuit.

【0011】前記内層回路基板を加熱処理する工程は、
紫外線照射硬化後の前記光・熱硬化性樹脂の吸湿水分を
除去すると同時に、前記光・熱硬化性樹脂表面を熱溶融
し平滑化することで、ラミネーション時のエア巻き込み
を防止し、多層シールド基板を加熱し、最終硬化する際
にその基板内に気泡の発生を防止することができる。
The step of heat-treating the inner-layer circuit board includes:
At the same time as removing the moisture-absorbed moisture of the photo-thermosetting resin after the ultraviolet irradiation curing, the surface of the photo-thermosetting resin is thermally melted and smoothed, thereby preventing air entrapment during lamination, and a multilayer shield substrate. Can be heated to prevent the formation of air bubbles in the substrate when it is finally cured.

【0012】前記光・熱硬化性樹脂を紫外線照射する工
程の後に前記内層回路基板を加熱処理して前記光・熱硬
化樹脂の表面を平滑化する工程において、前記加熱処理
後の前記光・熱硬化樹脂の表面の粗さのRmaxが5μ
m未満に平滑化されることによって本発明に大きな効果
が得られる。
A process for irradiating the photo-thermosetting resin with ultraviolet rays;
After that, the inner layer circuit board is heat-treated to
In the step of smoothing the surface of the cured resin, the heat treatment
The roughness Rmax of the surface of the photo-thermosetting resin is 5 μm.
By smoothing to less than m , a great effect can be obtained in the present invention.

【0013】なお、前記光・熱硬化性樹脂としては、エ
ポキシ樹脂を主成分とする樹脂を使用することができ、
その前記内層回路基板上への塗布方法は、スクリーン印
刷法、カーテンコート法やロールコート法を使用でき
る。
As the photo-thermosetting resin, a resin containing an epoxy resin as a main component can be used.
The coating method on the inner layer circuit board can be a screen printing method, a curtain coating method or a roll coating method.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1及び図2は、本発明の
第1の実施の形態の多層印刷配線板の製造方法を説明す
るための図面で、図1(A)〜図1(F)は内層回路板
形成〜多層シールド基板を形成するまでの工程の基板要
部の断面図であり、図2(A)〜図2(C)は多層シー
ルド基板の貫通孔形成〜外層回路形成までの工程の基板
要部の断面図である。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 and 2 are drawings for explaining a method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to a first embodiment of the present invention. FIGS. 1A to 1F are diagrams for forming an inner circuit board to a multilayer. FIG. 2A to FIG. 2C are cross-sectional views of a main part of a substrate in a process from forming a through hole to forming an outer layer circuit of a multilayer shield substrate. FIG.

【0015】本発明の第1の実施の形態では、光・熱硬
化性樹脂を内層回路基板上に形成する方法として、スク
リーン印刷を使用した。
In the first embodiment of the present invention, screen printing is used as a method for forming the photo-thermosetting resin on the inner circuit board.

【0016】まず、図1(A)に示すように、エポキシ
ガラス基材の銅張積層板を通常の方法でエッチングし、
基材1上に内層回路2を有する内層回路基板3を形成す
る。基材1表面には基材のガラスクロスや銅箔のプロフ
ァイルの影響より、凹凸が形成されている。次に、塩化
第二銅水溶液に内層回路基板3を浸漬して内層回路2の
表面を針状結晶化(粗面化)する。この処理は、次の工
程における内層回路基板3の内層回路2と光・熱硬化性
樹脂との密着性を向上させるために行う。
First, as shown in FIG. 1A, a copper-clad laminate of an epoxy glass substrate is etched by a usual method.
An inner circuit board 3 having an inner circuit 2 is formed on a substrate 1. Irregularities are formed on the surface of the substrate 1 due to the effect of the profile of the glass cloth or copper foil of the substrate. Next, the surface of the inner circuit 2 is needle-like crystallized (roughened) by immersing the inner circuit board 3 in an aqueous cupric chloride solution. This process is performed to improve the adhesion between the inner layer circuit 2 of the inner layer circuit board 3 and the photo-thermosetting resin in the next step.

【0017】次に、エポキシ樹脂を主成分とする光・熱
硬化性樹脂4を内層回路基板3の片面にスクリーン印刷
法により塗布し、紫外線硬化炉で指触乾燥させる(図1
(B))。この際、スクリーン印刷条件はスクリーンメ
ッシュ:80〜100メッシュ、スキージ硬度:70
度、塗布速度:0.05〜0.1m/secとする。光
・熱硬化性樹脂4は20℃において粘度10〜20ポア
ズであり、紫外線硬化後に加熱した場合の熱溶融開始温
度が80〜100℃、溶融粘度が10,000〜50,
000ポアズである樹脂を使用することが重要である。
光・熱硬化性樹脂4の指触乾燥の際は、樹脂表面の平滑
度の向上および樹脂中の消泡のために樹脂塗布後15分
以上の放置時間をとることが好ましい。なお、光・熱硬
化性樹脂4の厚みは内層回路2上において約20μmの
厚みに設定する。
Next, a photo-thermosetting resin 4 containing an epoxy resin as a main component is applied to one surface of the inner circuit board 3 by a screen printing method, and dried by touch in an ultraviolet curing oven (FIG. 1).
(B)). At this time, screen printing conditions were as follows: screen mesh: 80 to 100 mesh, squeegee hardness: 70
Degree, coating speed: 0.05 to 0.1 m / sec. The photo-thermosetting resin 4 has a viscosity of 10 to 20 poise at 20 ° C., a heat melting start temperature of 80 to 100 ° C. when heated after ultraviolet curing, and a melt viscosity of 10,000 to 50,
It is important to use a resin that is 000 poise.
At the time of touch-drying of the photo-thermosetting resin 4, it is preferable to leave a standing time of 15 minutes or more after application of the resin in order to improve the smoothness of the resin surface and defoam the resin. The thickness of the photo-thermosetting resin 4 is set to about 20 μm on the inner circuit 2.

【0018】次に光量1〜3J/cm2 の条件にて紫外
線照射し、指触乾燥を行う。同様にして、内層回路基板
3のもう片面にも光・熱硬化性樹脂4を塗布し、指触乾
燥させた状態を図1(C)に示す。基材2上の光・熱硬
化性樹脂4の表面粗さは塗布直後の状態において10〜
15μm(Rmax)程度になる。
Next, ultraviolet irradiation is performed under the condition of a light amount of 1 to 3 J / cm 2 , and touch drying is performed. Similarly, FIG. 1C shows a state in which the photo-thermosetting resin 4 is applied to the other surface of the inner-layer circuit board 3 and dried by touch. The surface roughness of the light / thermosetting resin 4 on the substrate 2 is 10 to 10 in a state immediately after coating.
It is about 15 μm (Rmax).

【0019】次に、光・熱硬化性樹脂4を塗布し指触乾
燥させた内層回路基板3を加熱処理する。その加熱処理
における加熱条件は、接着剤樹脂付き銅箔を光・熱硬化
性樹脂4に熱圧着する際、その密着性を確保するために
重要である。そのために、光・熱硬化性樹脂4が熱圧着
時に溶融するように、光・熱硬化性樹脂4の紫外線照射
とその後の加熱における硬化度を管理しておく。表1は
光・熱硬化性樹脂4の適正な加熱条件である。
Next, the inner layer circuit board 3 coated with the photo-thermosetting resin 4 and dried by touch is heat-treated. The heating conditions in the heat treatment are important for ensuring the adhesion when the copper foil with the adhesive resin is thermocompression-bonded to the light / thermosetting resin 4. For this purpose, the degree of curing of the photo-thermosetting resin 4 in ultraviolet irradiation and subsequent heating is controlled so that the photo-thermosetting resin 4 is melted during thermocompression bonding. Table 1 shows appropriate heating conditions for the photo-thermosetting resin 4.

【0020】図1(D)は加熱処理後の基板の状態であ
る。加熱処理により光・熱硬化性樹脂4は熱溶融しその
表面粗さはRmaxが5μm未満に平滑化される。ま
た、この加熱処理により、光・熱硬化性樹脂4中の吸湿
成分が除去されることが確認されている。これにより、
ラミネーション時の密着反応が阻害されるレベルの、過
度な樹脂硬化が防止できることが確認されている。
FIG. 1D shows the state of the substrate after the heat treatment. By the heat treatment, the photo-thermosetting resin 4 is thermally melted and its surface roughness is smoothed so that Rmax is less than 5 μm. In addition, it has been confirmed that this heat treatment removes the moisture-absorbing component in the photo-thermosetting resin 4. This allows
It has been confirmed that excessive resin curing at a level at which the adhesion reaction during lamination is inhibited can be prevented.

【0021】[0021]

【表1】 [Table 1]

【0022】次に、加熱処理後の内層回路基板3に接着
剤樹脂5付き銅箔6をロールラミネーションにより熱圧
着後、温度140〜160℃で30〜60分間さらに加
熱処理し、図1(E)に示すように4層の多層シールド
基板7とする。尚、吸湿防止のため、加熱処理後の内層
回路基板3は温度20〜25℃、相対湿度50〜60%
の雰囲気下において2時間以内に、銅箔6の熱圧着をお
こなうことが好ましい。また、銅箔6の密着性向上のた
め、赤外線やロール加熱などの方法によりロールラミネ
ーション前の内層回路基板3上の光・熱硬化性樹脂4の
表面温度が50〜70℃に制御する。ロールラミネーシ
ョンの条件は、ラミネーションロール温度100〜12
0℃、ラミネーション圧カ3〜6Kg/cm2 、ラミネー
ション速度0.5〜2.0m/分に設定した。
Next, after heat-pressing the copper foil 6 with the adhesive resin 5 on the inner layer circuit board 3 after the heat treatment by roll lamination, it is further heat-treated at a temperature of 140 to 160 ° C. for 30 to 60 minutes, and FIG. 4), the multilayer shield substrate 7 has four layers. In order to prevent moisture absorption, the inner layer circuit board 3 after the heat treatment has a temperature of 20 to 25 ° C. and a relative humidity of 50 to 60%.
It is preferable to perform thermocompression bonding of the copper foil 6 within 2 hours in the atmosphere described above. Further, in order to improve the adhesion of the copper foil 6, the surface temperature of the photo-thermosetting resin 4 on the inner circuit board 3 before the roll lamination is controlled to 50 to 70 ° C. by a method such as infrared rays or roll heating. The conditions for roll lamination are lamination roll temperature 100 to 12
The temperature was set at 0 ° C., the lamination pressure was 3 to 6 kg / cm 2 , and the lamination speed was 0.5 to 2.0 m / min.

【0023】次に多層シールド基板7に貫通孔8を形成
し(図2(A))、銅のパネルめっきを施し、スルーホ
ール9を形成する(図2(B))。さらに通常のエッチ
ング法により最外層回路10を形成し、目的の多層印刷
配線板11を得る(図2(C))。
Next, a through hole 8 is formed in the multilayer shield substrate 7 (FIG. 2A), and a copper panel plating is performed to form a through hole 9 (FIG. 2B). Further, the outermost layer circuit 10 is formed by a normal etching method to obtain a target multilayer printed wiring board 11 (FIG. 2C).

【0024】次に、本発明の第2の実施形態について、
図3および図4を参照して説明する。上記第1の発明の
実施の形態においては、光・熱硬化性樹脂の塗布はスク
リーン印刷法を使用したが、本実施の形態では、ロール
コート法を使用する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
This will be described with reference to FIGS. In the first embodiment of the present invention, the photo-thermosetting resin is applied by the screen printing method, but in the present embodiment, the roll coating method is used.

【0025】まず、上記第1の実施の形態と同様に基材
1上に内層回路2を有する内層回路基板3を形成する。
次いで、塩化第二銅水溶液に内層回路基板3を浸漬して
内層回路2の表面を針状結晶化(粗面化)する(図3
(A))。
First, an inner circuit board 3 having an inner circuit 2 is formed on a substrate 1 in the same manner as in the first embodiment.
Next, the surface of the inner circuit 2 is needle-like crystallized (roughened) by immersing the inner circuit board 3 in an aqueous cupric chloride solution (FIG. 3).
(A)).

【0026】次に、光・熱硬化性樹脂4をロールコータ
ーにより内層回路基板3の両面に同時塗布し、これを両
面紫外線硬化炉で指触乾燥させる(図3(B))。ロー
ルコーターを使用することにより、両面同時塗布による
作業時間の短縮が図れ、また、コンペア一環ラインとし
た時、スクリーン印刷などに比べて省スペースでの生産
が可能であり、製造ライン面積の有効化が図れる。光・
熱硬化性樹脂4はスクリーン印刷で使用する場合と同様
の性状のものが必要である。
Next, a photo-thermosetting resin 4 is simultaneously applied to both sides of the inner circuit board 3 by a roll coater, and this is touch-dried in a double-sided ultraviolet curing oven (FIG. 3B). By using a roll coater, the work time can be shortened by simultaneous application on both sides, and when it is a part of the compare line, it can be produced in a smaller space than screen printing, etc., making the production line area effective Can be achieved. light·
The thermosetting resin 4 needs to have the same properties as those used in screen printing.

【0027】しかし、光・熱硬化性樹脂4の粘度につい
ては、上記第1の実施の形態の光・熱硬化性樹脂より小
さく、20℃において1〜10ポアズに調整される。こ
れにより、ロールスリットの深さを10〜50μmの間
で調整して、樹脂厚みが内層回路2上において約20μ
mとなるように樹脂厚を制御する。その樹脂表面平滑度
の向上および消泡のため樹脂塗布後の放置時間は15分
以上とる。次の指触乾燥については実施例1と同様に、
光量1〜3J/cm2 の条件にて紫外線照射をおこな
う。アンダーコートの表面形状も実施例1と同様に、1
0〜15μm程度の凹凸がある。
However, the viscosity of the photo-thermosetting resin 4 is smaller than that of the photo-thermosetting resin of the first embodiment, and is adjusted to 1 to 10 poise at 20 ° C. Thereby, the depth of the roll slit is adjusted between 10 and 50 μm, and the resin thickness is about 20 μm on the inner layer circuit 2.
The resin thickness is controlled so as to be m. The standing time after application of the resin is set to 15 minutes or more for improving the resin surface smoothness and defoaming. For the next touch drying, as in Example 1,
Ultraviolet irradiation is performed under the conditions of a light amount of 1 to 3 J / cm 2 . The surface shape of the undercoat was 1 in the same manner as in Example 1.
There are irregularities of about 0 to 15 μm.

【0028】次に、内層回路基板3を表1の加熱条件で
加熱処理した状態を図3(C)に示す。加熱時の熱溶融
により光・熱硬化性樹脂の表面は平滑化し、その表面粗
さはRmaxが5μm未満に軽減される。また、加熱処
理により、光・熱硬化性樹脂4の吸湿成分が除去され
る。尚、光・熱硬化性樹脂の硬化度の調節については上
記第1の実施の形態と同様に表1の加熱条件をそのまま
適用することが可能である。この樹脂硬化度の調節によ
り、樹脂の過度な硬化が防止でき、ラミネーション時の
銅箔の密着性が確保される。
Next, FIG. 3C shows a state in which the inner-layer circuit board 3 has been heat-treated under the heating conditions shown in Table 1. The surface of the photo-thermosetting resin is smoothed by the thermal melting at the time of heating, and the surface roughness Rmax of the resin is reduced to less than 5 μm. The heat treatment removes the moisture absorbing component of the photo-thermosetting resin 4. As for the adjustment of the degree of curing of the photo-thermosetting resin, the heating conditions in Table 1 can be applied as they are, as in the first embodiment. By adjusting the degree of resin curing, excessive curing of the resin can be prevented, and the adhesion of the copper foil during lamination is ensured.

【0029】次に、上記第1の実施の形態と同様に接着
剤5付き銅箔6をロールラミネーションにより内層回路
基板3に熱圧着後、温度140〜160℃で30〜60
分間さらに加熱処理し、図3(D)に示すように4層の
多層シールド基板7とする。尚、ロールラミネーション
の条件等は第1の実施の形態と同様とした。この多層シ
ールド基板7に貫通孔8を形成し(図4(A))、銅の
パネルめっきを施し、スルーホール9を形成する(図4
(B))。さらにエッチングにより最外層回路10を形
成し、多層印刷配線板11を得る(図4(C))。
Next, the copper foil 6 with the adhesive 5 is thermocompression-bonded to the inner circuit board 3 by roll lamination in the same manner as in the first embodiment.
Further heat treatment is performed for another minute to form a multilayer shield substrate 7 having four layers as shown in FIG. The conditions for roll lamination were the same as in the first embodiment. A through hole 8 is formed in the multilayer shield substrate 7 (FIG. 4A), and a copper panel plating is performed to form a through hole 9 (FIG. 4).
(B)). Further, the outermost layer circuit 10 is formed by etching to obtain a multilayer printed wiring board 11 (FIG. 4C).

【0030】以上のようにロールコーターを用いて両面
同時に光・熱硬化性樹脂を塗布することにより、さらな
る作業時間の短縮が可能となり、第1の実施の形態と品
質的に同等な多層印刷配線板を製造することができる。
As described above, by simultaneously applying the light / thermosetting resin on both sides using the roll coater, the working time can be further reduced, and the multilayer printed wiring which is equivalent in quality to the first embodiment can be obtained. Boards can be manufactured.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明の第1の効果は、光・熱硬化性樹
脂4を塗布し指触乾燥させた内層回路基板3を加熱処理
することにより、光・熱硬化性樹脂の吸湿水分が除去で
き、吸湿分の気化による積層ボイドの発生が防止される
ことである。
The first effect of the present invention is that the moisture absorption of the photo-thermosetting resin is reduced by heating the inner circuit board 3 coated with the photo-thermosetting resin 4 and dried by touch. That is, it is possible to remove the laminated voids due to vaporization of moisture absorption.

【0032】本発明の第2の効果は上記内層回路基板を
加熱処理することにより、紫外線照射硬化後の光・熱硬
化性樹脂表面を熱溶融し平滑化することで、ラミネーシ
ョン時における凹凸への気泡巻き込みがなくなり、気泡
巻き込みによる積層ボイドの発生が防止されることであ
る。
The second effect of the present invention is that the inner layer circuit board is subjected to heat treatment to thermally melt and smooth the surface of the photo-thermosetting resin after curing by irradiation with ultraviolet rays, thereby reducing unevenness during lamination. This is to prevent bubbles from being entrained and prevent the occurrence of laminated voids due to entrainment of bubbles.

【0033】本発明の第3の効果は、従来方法と比較し
て処理時間が短くなり、作業効率が向上することであ
る。
A third effect of the present invention is that the processing time is shorter and the working efficiency is improved as compared with the conventional method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の多層印刷配線板の
製造方法を説明するための図で、内層回路板形成〜多層
シールド基板を形成するまでの工程の基板要部の断面図
である。
FIG. 1 is a diagram for explaining a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to a first embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view of a main part of a substrate in a process from formation of an inner circuit board to formation of a multilayer shield substrate. It is.

【図2】本発明の第1の実施の形態の多層印刷配線板の
製造方法における図1の多層シールド基板形成後の工程
の基板要部の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part of a substrate after the formation of the multilayer shield substrate of FIG. 1 in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施の形態の多層印刷配線板の
製造方法を説明するための図で、内層回路板形成〜多層
シールド基板を形成するまでの工程の基板要部の断面図
である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to a second embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view of a main part of a substrate in steps from formation of an inner circuit board to formation of a multilayer shield substrate. It is.

【図4】本発明の第2の実施の形態の多層印刷配線板の
製造方法における図3の多層シールド基板形成後の工程
の基板要部の断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part of a substrate after a step of forming the multilayer shield substrate of FIG. 3 in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the second embodiment of the present invention.

【図5】従来の第1の工法の多層シールド基板の作製工
程を説明する基板要部の断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a main part of a substrate, for explaining a step of manufacturing a multilayer shield substrate according to a first conventional method.

【図6】従来の第2の工法の多層シールド基板の作製工
程を説明する基板要部の断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part of a substrate, for explaining a step of manufacturing a multilayer shield substrate according to a second conventional method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基材 2 内層回路 3 内層回路基板 4 光・熱硬化性樹脂 4a 紫外線硬化性樹脂 4b 熱硬化性樹脂 5 接着剤 6 銅箔 7 多層シールド基板 8 貫通孔 9 スルーホール 10 最外層回路 11 多層印刷配線板 12 気泡 Reference Signs List 1 base material 2 inner layer circuit 3 inner layer circuit board 4 light / thermosetting resin 4a ultraviolet curing resin 4b thermosetting resin 5 adhesive 6 copper foil 7 multilayer shield board 8 through hole 9 through hole 10 outermost layer circuit 11 multilayer printing Wiring board 12 Bubbles

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 銅張積層板をエッチングし、所望の内層
回路を有する内層回路基板を形成する工程と、前記内層
回路基板の表面に光・熱硬化性樹脂を被覆し、前記光・
熱硬化性樹脂の表面紫外線を照射する工程と、前記紫
外線を照射する工程の後に前記内層回路基板を加熱処理
して前記光・熱硬化性樹脂の水分を除去すると同時に前
記光・熱硬化性樹脂の表面を平滑化する工程と、熱硬化
性樹脂を主成分とする接着剤樹脂付き銅箔を前記接着剤
樹脂面を接着面にして前記内層回路基板に熱圧着後、加
熱し、多層シールド基板を形成する工程と、前記多層シ
ールド基板に穴あけ、銅めっき後、最外層回路を形成す
る工程からなることを特徴とする多層印刷配線板の製造
方法。
A step of etching a copper-clad laminate to form an inner layer circuit board having a desired inner layer circuit; and coating the surface of the inner layer circuit board with a light / thermosetting resin;
Irradiating ultraviolet rays to the surface of the thermosetting resin, the purple
After the step of irradiating the outside line, the inner layer circuit board is heat-treated.
At the same time as removing water from the photo-thermosetting resin
A step of smoothing the surface of the photo-thermosetting resin, and after thermocompression bonding the copper foil with an adhesive resin containing a thermosetting resin as a main component to the inner layer circuit board with the adhesive resin surface as an adhesive surface. And heating to form a multilayer shield substrate, and forming a hole in the multilayer shield substrate, copper plating, and then forming an outermost layer circuit.
【請求項2】 銅張積層板をエッチングし、所望の内層
回路を有する内層回路基板を形成する工程と、前記内層
回路基板の表面に光・熱硬化性樹脂を被覆し、前記光・
熱硬化性樹脂の表面に紫外線を照射する工程と、前記紫
外線を照射する工程の後に前記内層回路基板を加熱処理
して前記光・熱硬化性樹脂を溶融さsてその表面を平滑
化する工程と、前記平滑化する工程の後に熱硬化性樹脂
を主成分とする接着剤樹脂付き銅箔を前記接着剤樹脂面
を接着面にして前記内層回路基板に熱圧着する工程と、
前記熱圧着後に加熱して前記光・熱硬化性樹脂および前
記接着剤樹脂を熱硬化し、多層シールド基板を形成する
工程と、前記多層シールド基板に最外層回路を形成する
工程とを有することを特徴とする多層印刷配線板の製造
方法。
2. The copper clad laminate is etched to form a desired inner layer.
Forming an inner circuit board having a circuit; and
The surface of the circuit board is coated with a light / thermosetting resin,
Irradiating the surface of the thermosetting resin with ultraviolet light;
After the step of irradiating the outside line, the inner layer circuit board is heat-treated.
And melt the light / thermosetting resin to smooth its surface.
And a thermosetting resin after the smoothing step.
Copper foil with an adhesive resin whose main component is the adhesive resin surface
A step of thermocompression bonding to the inner layer circuit board with an adhesive surface,
After the thermocompression bonding, heat the light and thermosetting resin and
Thermosetting the adhesive resin to form a multilayer shield substrate
Forming an outermost layer circuit on the multilayer shield substrate
And a process for producing a multilayer printed wiring board.
【請求項3】 平滑化する工程における前記加熱処理に
より前記光・熱硬化樹脂の表面の粗さはRmaxが5μ
m未満に平滑化されることを特徴とする請求項記載の
多層印刷配線板の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the heat treatment in the smoothing step is performed.
The surface roughness of the light / thermosetting resin is Rmax of 5 μm.
3. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 2 , wherein the surface is smoothed to less than m .
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