JP2000180206A - 磁気検出装置 - Google Patents

磁気検出装置

Info

Publication number
JP2000180206A
JP2000180206A JP10362485A JP36248598A JP2000180206A JP 2000180206 A JP2000180206 A JP 2000180206A JP 10362485 A JP10362485 A JP 10362485A JP 36248598 A JP36248598 A JP 36248598A JP 2000180206 A JP2000180206 A JP 2000180206A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
detection device
elements
terminal
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10362485A
Other languages
English (en)
Inventor
Izuru Shinjo
出 新條
Masahiro Yokoya
昌広 横谷
Takuji Nada
拓嗣 名田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP10362485A priority Critical patent/JP2000180206A/ja
Publication of JP2000180206A publication Critical patent/JP2000180206A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
  • Measuring Magnetic Variables (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被検出体と、検出体と、検出体の出力信号を
異なる信号形態に変換する信号処理回路を備え、検出体
と信号処理回路が同一チップ上に形成されている磁気検
出装置において、低分解能用と高分解能用のチップを共
用化することが可能な磁気検出装置を得る。 【解決手段】 チップに複数個の検出体3を形成するた
めの領域を設け、この領域に信号処理回路と接続するた
めの端子を複数個設け、一部の端子に選択的に検出体を
接続する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば歯車状の
磁性回転体の回転角度や回転位置を検出する磁気検出装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図16及び図17は、従来の磁気検出装
置を示す磁気回路の模式図、図18はその磁気検出装置
の電気回路図である。図16は低分解能タイプの磁気検
出装置であり、(a)乃至(c)はその側面図、斜視
図、部分平面図である。また、図17は高分解能タイプ
の磁気検出装置であり、(a)乃至(c)はその側面
図、斜視図、部分平面図である。
【0003】この従来の磁気検出装置は、図16及び図
17に示すように、直方体形状の磁石1と、この磁石1
の上面に設けられ、検出体である磁気検出素子3と、半
導体集積回路よりなる信号処理回路5(図18)が内蔵
されたチップ7とを有している。図18に示すように、
信号処理回路5は、差動増幅回路5a、交流結合回路5
b、比較回路5c、出力回路5d等により構成される。
【0004】この従来の磁気検出装置では、磁気検出装
置に接近して設けられた歯車状の磁性回転体9の回転に
より、磁性回転体9の凹部9aと凸部9bとがチップ7
の磁気検出素子3に交互に接近し、そのため磁石1から
磁気検出素子3に印加される磁界が変化する。この磁界
の変化が磁気検出素子3により電圧の変化として検出さ
れ、この電圧の変化が、図18に示すチップ7内の信号
処理回路5、すなわち差動増幅回路5a、交流結合回路
5b、比較回路5c、出力回路5dを経てパルス波の電
気信号として外部に出力される。この電気信号は、コン
ピュータユニット(図示せず)に送られ、そこで電気信
号に基づいて磁性回転体9の回転位置すなわち回転角度
が検出される。
【0005】以下、この従来の磁気検出装置の詳細につ
いて説明する。
【0006】一般的に、磁気検出素子3には、磁気抵抗
素子(以下、MR素子という)、もしくは巨大磁気抵抗
素子(以下、GMR素子という)が用いられるが、その
動作はほぼ同じであるため、以下、MR素子を用いた場
合の動作について詳細に説明する。
【0007】MR素子は、例えば、Ni−Fe、Ni一
Co等の強磁性体の薄膜の磁化方向と電流方向のなす角
度によって抵抗値が変化する素子である。このMR素子
は、電流方向と磁化方向が直角に交わるときに抵抗値が
最小になり、0度すなわち電流方向と磁化方向が同一あ
るいは全く逆方向になるとき抵抗値が最大になる。この
抵抗値の変化をMR変化率と呼び、一般に、Ni−Fe
で2〜3%、Ni−Coで5〜6%である。
【0008】磁性回転体9が回転することにより、MR
素子に印加される磁界が変化し、抵抗値が変化する。そ
こで、磁界の変化を検出するために、MR素子(MR素
子A及びMR素子B)によりブリッジ回路を形成し、こ
のブリッジ回路に定電圧、定電流の電源を接続し、MR
素子の抵抗値変化を電圧変化に変換して、これらのMR
素子に作用している磁界変化を検出することが考えられ
る。
【0009】このような磁気検出装置は、図18に示す
ように、MR素子を用いたブリッジ回路3aと、このブ
リッジ回路3aの出力を増幅する差動増幅回路5aと、
この差動増幅回路5aの出力の直流成分を除去する交流
結合回路5bと、この交流結合回路5bの出力を基準値
と比較して“0”または“1”の信号を出力する比較回
路5c、この比較回路5cの出力を受けてスイッチング
する出力回路5dとを備える。
【0010】ブリッジ回路3aは、2つのMR素子A、
MR素子Bを有し、一方は電源端子VCCに接続され、
他方は接地され、それぞれの他端は接続点である中点A
に接続される。そして、ブリッジ回路5aの中点Aが抵
抗器11を介して差動増幅回路5aのアンプ13の反転
入力端子に接続される。また、アンプ13の非反転入力
端子は、抵抗器15を介して基準電源を構成する分圧回
路17に接続され、更に抵抗器19を介して接地され
る。分圧回路17は、電源端子VCCと接地間に互いに
直列に接続された抵抗器17a,17bよりなり、これ
ら抵抗器17a,17bの接続点に抵抗器15の一端が
接続されている。アンプ13の出力端子は抵抗器21を
介して自己の反転入力端子に接続されると共に、交流結
合回路5bのコンデンサ23に接続される。交流結合回
路5bは1つのコンデンサ23と抵抗器25とから構成
され、コンデンサ23の他端は抵抗器25と接続されて
比較回路5cのアンプ27の反転入力端子に接続され
る。また、抵抗器25の他端は比較回路5cの基準電源
を構成する分圧回路29に接続される。分圧回路29
は、電源端子VCCと接地間に互いに直列に接続された
抵抗器29a,29bよりなり、これら抵抗器29a,
29bの接続点に抵抗器25の一端が接続されている。
比較回路5cのアンプ27の非反転入力端子は基準電源
を構成する分圧回路29に接続されると共に、抵抗器3
1を介して自己の出力端子に接続される。そして、アン
プ27の出力端子は抵抗器33を介して電源端子VCC
に接続されると共に、出力回路5dのトランジスタ35
のべースに接続され、そのコレクタは出力端子37に接
続されると共に、抵抗器39を介して電源端子VCCに
接続され、そのエミッタは接地される。
【0011】なお、図16の低分解能タイプと図17の
高分解能タイプとでは、磁性回転体9の外周に形成され
る凹凸部の間隔すなわち個数が異なっており、低分解能
タイプでは凹凸部の間隔が広く、高分解能用タイプでは
凹凸部の間隔が狭くなっている。そして、これに対応し
て磁気検出素子3を構成するMR素子A,Bの配置が異
なっている。すなわち、低分解能タイプでは、図16に
示すように、MR素子A,Bが磁性回転体9の外周の凹
凸部9a,9bと対向する方向に整列して配置されてお
り、また、高分解能用タイプでは、図17に示すよう
に、MR素子A,Bは磁性回転体9の外周の凹凸部9
a,9bと対向する方向に直交する方向に整列して配置
されている。
【0012】図19、図20は磁性回転体9が回転して
いる時の波形処理動作を示す波形図である。磁性回転体
9が回転することで、MR素子A、MR素子Bには磁界
変化が与えられ、差動増幅回路5aの出力側には、図1
9(b)及び図20(b)に示す様な、図19(a)及
び図20(a)に示す磁性回転体9の凹凸部9a,9b
に対応した出力が得られる。この差動増幅回路5aの出
力は交流結合回路5bに供給され、直流成分が除去され
ると同時に、基準電圧(例えば1/2VCC)が直流成
分として印加される。そして、この交流結合回路5bの
出力は比較回路5cに供給され、図19(c)及び図2
0(c)に示す様に、比較レベルである基準値と比較さ
れて、“0”または“1”の信号に変換され、この信号
は更に出力回路5dで波形成形され、この結果、その出
力端子37には、図19(d)及び図20(d)に示す
ように、その立上り、立下りの急峻な”0”または
“1”の出力が得られる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の磁気検出装
置においては、図16、図17からも明らかなように、
低分解能用と高分解能用では、MR素子の配設位置が異
なるため、それぞれに対し異なるチップが必要であると
いう問題点があった。
【0014】この発明は、前述のような問題点を解決し
ようとするものであり、低分解能用と高分解能用のチッ
プを共用化した磁気検出装置を得ることを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め、この発明の磁気検出装置は、回転する被検出体と、
前記被検出体との磁気的相互作用により、該被検出体の
回転位置を検出する検出体と、検出体の出力信号を異な
る信号形態に変換する信号処理回路とを備え、前記検出
体と前記信号処理回路とは同一チップ上に形成され、さ
らに前記チップには、複数個の検出体を形成するための
領域を設けたものである。
【0016】前記検出体を形成する領域に信号処理回路
と接続するための端子を複数個設け、一部の端子に選択
的に前記検出体を接続したものである。
【0017】前記端子の少なくとも1つは電源端子もし
くは接地端子としたものである。
【0018】前記端子の少なくとも1つはブリッジの中
点としたものである。
【0019】前記端子に前記検出体を直接接続したもの
である。
【0020】前記端子と前記検出体の接続に導電性樹脂
を用いたものである。
【0021】前記端子と前記検出体の接続に金属ワイヤ
を用いたものである。
【0022】前記被検出体は、外周部に凹凸を設けた磁
性回転体よりなり、前記検出体はブリッジ状に接続され
た複数のMR素子或いはGMR素子を備えるものであ
る。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て添付図面を参照して説明する。以下の説明において、
上述の従来例と同一或いは対応する部分は同一の符号を
付した。
【0024】実施の形態1.図1、図2はこの発明の実
施の形態1に係る磁気検出装置のチップレイアウトを示
す図であり、図1は低分解能用、図2は高分解能用であ
る。図1、図2中の(a)、(b)はMR素子A、Bの
接続を変更した時の具体的なレイアウトである。
【0025】本実施の形態1においては、検出体として
の1つの磁気検出素子30は一対のMR素子A、Bで構
成され、信号処理回路を内蔵した半導体チップ7の表面
には、一対のMR素子A、Bの搭載のための領域が低分
解能用と高分解能用のために2ヶ所設けてられている。
一対の低分解能用の領域は、半導体チップ7を磁石1に
取り付けたときに、磁性回転体9の凹凸9a,9bに対
向する方向に整列して設けられており、また一対の高分
解能用の領域は、磁性回転体9の凹凸9a,9bに対向
する方向と直交するように整列して設けられており、一
対の高分解能用の領域は、それらの間に低分解能用の領
域を挟むようにしてその両側に配置されている。なお、
半導体チップ7に内蔵される信号処理回路は、図18に
示される、前述した従来例の信号処理回路5と同様のも
のである。
【0026】また、各領域内には、信号処理回路5と接
続するための端子となる電源端子VCCと接地端子すな
わちグランド及び、一対のMR素子A、Bを互いに接続
する際の接続点となる中点がそれぞれ設けている。
【0027】図3、図4は低分解能用において接続を変
えた時の動作波形を示しており、図3は、図1(a)に
示すように、MR素子AをVCC側に接続すると共にM
R素子Bをグランド側に接続した時の信号処理回路の動
作波形を示しており、また、図4は、図1(b)に示す
ように、MR素子Aをグランド側に接続すると共にMR
素子BをVCC側に接続した時の信号処理回路の動作波
形を示している。図3,4において、(a)は磁性回転
体の凹凸部の位置を表し、(b)は比較回路の入力信号
の波形を表し、(c)は比較回路の出力信号の波形を表
している。
【0028】図3に示されるように、MR素子A、Bの
図1のような接続状態では、磁気検出素子30が磁性回
転体の凸部を検出したときに、出力信号が高レベルとな
り、凹部を検出したときに、出力信号が低レベルとな
る。
【0029】他方、図4に示されるように、MR素子
A、Bの図2のような接続状態では、磁気検出素子30
が磁性回転体の凸部を検出したときに、出力信号が低レ
ベルとなり、凹部を検出したときに、出力信号が高レベ
ルとなる。
【0030】このように、MR素子A、Bの電源端子V
CC及び接地端子(グランド)の接続を変更することに
より、出力信号の位相を反転させることが可能となるの
で、必要な信号形態にあわせて接続する端子を選択すれ
ばよい。
【0031】なお、符号41は半導体チップ7の表面に
設けられたワイヤボンディングパッドである。
【0032】実施の形態2.図5は、この発明の実施の
形態2に係る磁気検出装置を示す電気回路図、図6はそ
の磁気検出装置のチップレイアウトを示す図である。図
6中の(a)、(b)は接続を変更した時の具体的なレ
イアウトである。
【0033】本実施の形態2では、信号処理回路50は
図6に示されるように構成され、上記実施の形態1の信
号処理回路(図18のもの)と対比して、ブリッジ回路
30a及び差動増幅回路50aの構成が一部異なってい
るが、その他の構成、すなわち交流結合回路50b、比
較回路50c及び出力回路50dは図18の交流結合回
路5b、比較回路5c及び出力回路5dと同様である。
【0034】本実施の形態2のブリッジ回路50aは、
電源端子VCCと接地端子(グランド)間に互いに直列
に接続された第1のMR素子A、Bと、これらの第1の
MR素子A、Bとは別個に設けられ、VCCとグランド
間に互いに直列に接続された第2のMR素子C、Dとか
らなり、また、差動増幅回路50aは、反転入力端子を
抵抗器11を介して第1のMR素子A、Bの接続点であ
る中点Aに接続される共に、その非反転入力端子は抵抗
器12を介して第2のMR素子C,Dの接続である中点
Bに接続され、またその出力端子は抵抗器21を介して
自己の反転入力端子に接続されると共に、交流結合回路
50bのコンデンサ23に接続される。交流結合回路5
0b以降の構成は図18の構成と同じである。なお、図
6に示されるように、MR素子A、Dは互いに平行な葛
折り(ジグザグ)状の線路から構成され、またMR素子
B,Cも互いに平行な葛折り(ジグザグ)状の線路から
構成される。
【0035】上記実施の形態1では接続を変更するため
の端子として電源端子VCC及び接地端子(グランド)
を用いたが、本実施の形態2では、ブリッジ回路30a
の中点Aと中点Bの接続を変更することにより、同様に
出力信号の位相を反転させることが可能となる。出力信
号波形については、上記実施の形態1と同様であるので
省略する。また、ここでは低分解能用で説明したが、高
分解能用においても、同様のレイアウトとすることによ
り同じ効果を得ることが可能である。
【0036】実施の形態3.図7、図8はこの発明の実
施の形態3に係る磁気検出装置の製造過程を示すチップ
レイアウト図である。図7は低分解能用、図8は高分解
能用である。これらの図7,8において、(a)はチッ
プ購入時の状態を示し、(b)はMR素子を成膜した
後、パターニングした状態を示し、(c)は保護膜形成
後にワイヤボンディングパッドを開口させて形成した状
態を示している。また、図13(a)は高分解能用にお
けるMR素子と端子との電気的接続状態を示す、図8
(c)のAA線による断面図である(高分解用のみを示
すが、低分解能用においても同一である)。
【0037】本実施の形態3においては、購入したチッ
プ70(実際にはウエハ状態で購入し、プロセス終了後
に各チップにダイシングするが、ここではチップ状態で
購入するものとして説明する)上にMR素子A,Bをス
パッタ等にて成膜し、その後、写真製版技術を用いてパ
ターニングする。このとき、図13に示すように、回路
側端子上に対してはMR素子Aが重なった状態で成膜さ
れており、この部分において電気的に接続されている。
その後、酸化膜等の保護膜をスパッタ等にて成膜し、ワ
イヤボンディングパッド41のみを写真製版技術を用い
て開口する。本実施の形態3では、MR素子と処理回路
側端子との接続のために特別な工程を設ける必要がない
ので、生産性が向上し、同時にコストの低減が可能とな
る。但し、端子に対してMR素子を直接接続するので、
低分解能用と高分解能用とで写真製版用のマスクを分け
る必要がある。
【0038】実施の形態4.図9、図10は、この発明
の実施の形態4に係る磁気検出装置の製造過程を示すチ
ップレイアウト図である。図9は低分解能用、図10は
高分解能用である。これらの図9,10において、
(a)はチップ購入時の状態を示し、(b)はMR素子
を成膜した後、パターニングした状態を示し、(c)は
保護膜形成後にワイヤボンディングパッドを開口させる
と共に、導電性樹脂を塗布した状態を示している。ま
た、図14は低分解能用におけるMR素子と端子の電気
的接続状態を示す、図9(c)のBB線による断面図で
ある(低分解能用のみを示すが、高分解能用においても
同一である)。
【0039】本実施の形態4においては、購入したチッ
プ70(実際にはウエハ状態で購入し、プロセス終了後
に各チップにダイシングするが、ここではチップ状態で
購入するものとして説明する)上にMR素子をスパッタ
等にて成膜し、その後写真製版技術を用いてパターニン
グする。このとき、図14に示すように、MR素子の一
方の端部は処理回路側端子上に重なった状態で成膜され
ており、他方は孤立した端子上に重なった状態で成膜さ
れている。その後、酸化膜等の保護膜をスパッタ等にて
成膜し、ワイヤボンディングパッドと後工程で導電性樹
脂を塗布する領域(MR素子の端部とこれに電気的に接
続するべき接続用端子とを含む領域)とを写真製版技術
を用いて開口する。この工程までは、低分解能用、高分
解能用を区別することなく全く同一工程で行うことがで
きる。最後に、電気的な接続が必要な部分のみに選択的
に導電性樹脂を塗布し、高温下でキュアして樹脂を硬化
させる。本実施の形態4では、低分解能用、高分解能用
で写真製版用マスクを共用することが可能となり、生産
性が向上し、同時にコストの低減が可能となる。
【0040】実施の形態5.図11、図12はこの発明
の実施の形態5に係る磁気検出装置の製造過程を示すチ
ップレイアウト図である。図11は低分解能用、図12
は高分解能用である。これらの図11、12において、
(a)はチップ購入時の状態を示し、(b)はMR素子
を成膜した後、パターニングした状態を示し、(c)は
保護膜形成後にワイヤボンディングパッドを開口させる
と共に、MR素子と端子とをワイヤボンディングにより
接続した状態を示している。また、図15は低分解能用
におけるMR素子と端子との電気的接続状態を示す、図
11(c)のCC線による断面図である(低分解能用の
みを示すが、高分解能用においても同一である)。
【0041】上記実施の形態4においては導電性樹脂を
用いたが、ここでは保護膜形成後に開口された領域のM
R素子の端部と接続用端子とを金属ワイヤを用いてワイ
ヤボンディングにより電気的に接続する。一般的に金属
ワイヤとしては金、もしくはアルミが用いられる。本実
施の形態5では金属ワイヤを用いたのでキュアが不要と
なり、生産性が向上し、同時にコストの低減が可能とな
る。なお、この実施の形態5の製造過程は、上記ワイヤ
ボンディングを行う前までの工程は、上記実施の形態4
の製造過程と同様である。
【0042】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の磁気検
出装置によれば、チップ上に複数個の検出体を形成する
ための領域を設けたので、低分解能用と高分解能用にお
いてチップを共用化することができ、コストの低減が可
能となる。
【0043】また、検出体を形成する領域に信号処理回
路と接続するための端子を複数個設け、一部の端子に選
択的に検出体を接続したので、検出体に接続する端子を
任意に選択することにより、出力信号形態を変えること
ができ、その自由度を増大させることができる。
【0044】また、端子の少なくとも1つは電源端子も
しくは接地端子とすることにより、少ない端子数で済む
ためチップサイズを小さくでき、コストの低減が可能と
なる。
【0045】また、端子の少なくとも1つはブリッジの
中点とすることにより、少ない端子数で済むためチップ
サイズを小さくでき、コストの低減が可能となる。
【0046】また、端子に検出体を直接接続することに
より、特別な接続工程は不要となり、生産性が向上し、
同時にコストの低減が可能となる。
【0047】また、端子と検出体の接続に導電性樹脂を
用いることにより、低分解能用と高分解能用とで検出体
形成用マスクの兼用が可能となり、生産性が向上する。
【0048】また、端子と検出体の接続に金属ワイヤを
用いることにより、検出体形成用マスクの兼用が可能と
なり、さらにはキュア工程を廃止することができ、生産
性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1の磁気検出装置を余
す低分解能用チップレイアウト図である。
【図2】 この発明の実施の形態1の磁気検出装置を示
す高分解能用チップレイアウト図である。
【図3】 この発明の実施の形態1の磁気検出装置の波
形処理動作を示す波形図である。
【図4】 この発明の実施の形態1の磁気検出装置の波
形処理動作を示す波形図である。
【図5】 この発明の実施の形態2の磁気検出装置を示
す電気回路図である。
【図6】 この発明の実施の形態2の磁気検出装置を示
す低分解能用チップレイアウト図である。
【図7】 この発明の実施の形態3の磁気検出装置の製
造過程を示す低分解能用チップレイアウト図である。
【図8】 この発明の実施の形態3の磁気検出装置の製
造過程を示す高分解能用チップレイアウト図である。
【図9】 この発明の実施の形態4の磁気検出装置の製
造過程を示す低分解能用チップレイアウト図である。
【図10】 この発明の実施の形態4の磁気検出装置の
製造過程を示す高分解能用チップレイアウト図である。
【図11】 この発明の実施の形態5の磁気検出装置の
製造過程を示す低分解能用チップレイアウト図である。
【図12】 この発明の実施の形態5の磁気検出装置の
製造過程を示す高分解能用チップレイアウト図である。
【図13】 この発明の実施の形態3の磁気検出装置を
示すチップ断面図である。
【図14】 この発明の実施の形態4の磁気検出装置を
示すチップ断面図である。
【図15】 この発明の実施の形態5の磁気検出装置を
示すチップ断面図である。
【図16】 従来の磁気検出装置を示す低分解能用磁気
回路の模式図である。
【図17】 従来の磁気検出装置を示す低分解能用磁気
回路の模式図である。
【図18】 従来の磁気検出装置を示す電気回路図であ
る。
【図19】 従来の低分解能用磁気検出装置の波形処理
動作を示す波形図である。
【図20】 従来の高分解能用磁気検出装置の波形処理
動作を示す波形図である。
【符号の説明】
1 磁石、3 磁気検出素子(検出体)、5 信号処理
回路、7 チップ、9磁性回転体(被検出体)、9a
凹部、9b 凸部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 名田 拓嗣 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 2F063 AA35 BD16 CA40 DA01 DB07 DD05 DD09 EA03 GA52 GA61 GA67 GA69 GA79 GA80 2F077 AA26 AA43 CC08 NN02 NN21 NN24 PP14 QQ02 TT32 TT35 VV33 WW02 2G017 AA03 AA10 AB07 AD55 BA09

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転する被検出体と、 前記被検出体との磁気的相互作用により、該被検出体の
    回転位置を検出する検出体と、 検出体の出力信号を異なる信号形態に変換する信号処理
    回路と、を備え、 前記検出体と前記信号処理回路とは同一チップ上に形成
    されており、さらに前記チップには、複数個の検出体を
    形成するための領域を設けたことを特徴とする磁気検出
    装置。
  2. 【請求項2】 請求項1の磁気検出装置において、前記
    検出体を形成する領域に前記信号処理回路と接続するた
    めの端子を複数個設け、一部の端子に選択的に前記検出
    体を接続したことを特徴とする磁気検出装置。
  3. 【請求項3】 請求項2の磁気検出装置において、前記
    端子の少なくとも1つは電源端子もしくは接地端子であ
    ることを特徴とする磁気検出装置。
  4. 【請求項4】 請求項2の磁気検出装置において、前記
    端子の少なくとも1つはブリッジの中点であることを特
    徴とする磁気検出装置。
  5. 【請求項5】 請求項2の磁気検出装置において、前記
    端子に前記検出体を直接接続したことを特徴とする磁気
    検出装置。
  6. 【請求項6】 請求項2の磁気検出装置において、前記
    端子と前記検出体とを導電性樹脂により接続したことを
    特徴とする磁気検出装置。
  7. 【請求項7】 請求項2の磁気検出装置において、前記
    端子と前記検出体とを金属ワイヤにより接続したことを
    特徴とする磁気検出装置。
  8. 【請求項8】 請求項1の磁気検出装置において、前記
    被検出体は、外周部に凹凸を設けた磁性回転体よりな
    り、前記検出体はブリッジ状に接続された複数のMR素
    子或いはGMR素子を備えることを特徴とする磁気検出
    装置。
JP10362485A 1998-12-21 1998-12-21 磁気検出装置 Pending JP2000180206A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10362485A JP2000180206A (ja) 1998-12-21 1998-12-21 磁気検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10362485A JP2000180206A (ja) 1998-12-21 1998-12-21 磁気検出装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000180206A true JP2000180206A (ja) 2000-06-30

Family

ID=18476973

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10362485A Pending JP2000180206A (ja) 1998-12-21 1998-12-21 磁気検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000180206A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008153004A1 (ja) 2007-06-11 2008-12-18 Alps Electric Co., Ltd. 磁気検出装置及び電気製品
JP2014185884A (ja) * 2013-03-22 2014-10-02 Seiko Epson Corp 検出回路、半導体集積回路装置、磁界回転角検出装置、及び、電子機器

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008153004A1 (ja) 2007-06-11 2008-12-18 Alps Electric Co., Ltd. 磁気検出装置及び電気製品
US7800365B2 (en) 2007-06-11 2010-09-21 Alps Electric Co., Ltd. Magnetic detection device and electrical product
JP2014185884A (ja) * 2013-03-22 2014-10-02 Seiko Epson Corp 検出回路、半導体集積回路装置、磁界回転角検出装置、及び、電子機器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4970033B2 (ja) 統合型セット/リセットドライバーと磁気抵抗センサー
JP4028971B2 (ja) 磁気センサの組立方法
JP2004125635A (ja) 回転角検出装置
TWI685667B (zh) 磁場感測裝置
JPH06148301A (ja) 磁気センサ
WO2006010014A1 (en) Integrated magnetoresitive speed and direction sensor
JP2000180206A (ja) 磁気検出装置
US5422569A (en) Rotation detecting apparatus using magnetroresistive element with an arrangement of detection units
CN105051500B (zh) 磁传感器装置
JPH11325960A (ja) 磁気検出素子とその製造方法および磁気検出装置
JP3004926B2 (ja) 磁気エンコーダ
JPH06177454A (ja) 強磁性薄膜磁気抵抗素子とそれを用いた磁気センサ
JPH09231517A (ja) 磁気抵抗センサ
JPH0329875A (ja) 強磁性体磁気抵抗素子
TWI723412B (zh) 磁場感測裝置
JP2630251B2 (ja) 集積化磁気抵抗センサ
JPH0730170A (ja) 強磁性磁気抵抗素子
JP3016468B2 (ja) 磁電変換装置
JP2936684B2 (ja) 回転センサ
JPS625284B2 (ja)
JP2000155038A (ja) 磁気検出装置
JP3029581B2 (ja) 磁気エンコーダ
JP2923959B2 (ja) 磁気方位検出装置
JPH0352565B2 (ja)
JPH06174752A (ja) 電流センサ