JP2000173907A - マスクに対するワークの位置制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マスクに対するワークの平行出しを非接触で
実現する。 【解決手段】 マスク１５に対するワーク面１の傾きを
非接触で検出するセンサー１７を備えたキャリブレーシ
ョン装置２６をマスクとワーク間に対して進退自在に設
けると共に、センサーにより検出したワーク面の傾きに
応じてワークの角度を補正する角度調節手段１６、１８
を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体や
水晶振動子、或いは光ディスクなどの製造工程におい
て、回路パターンなどのマスクパターンをウエハなどの
露光基板（以下、「ワーク」と称する。）に投影露光し
て焼き付ける装置に係わる。より詳細には、マスクパタ
ーンをワークに投影露光する際、固定されたマスクに対
してワークの位置制御を行い、平行度及び平行間隔を適
正値に設定した平行出しを行い、高解像焼付けを可能と
する装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】微細なＬＳＩ回路などのマスクパターン
をワークに高解像焼付けするためには、マスクとワーク
を平行にし密着状態で露光することが望ましい。このよ
うな平行出しを行う手段として、従来は鋼球やキャリブ
レータなどの治具を用い、マスクとワークを治具に圧接
する方法が採用されていた。

【０００３】図２５及び２６は鋼球を用いてマスクとワ
ークの平行出しを行う従来例を示す図である。ここにお
いては、マスクＭとワークＷの間に鋼球５１を保持した
キャリブレーション部材５２を介在させて、マスクとワ
ークにより鋼球５を挟み込むことにより平行出しを行っ
ている。

【０００４】図２７及び２８は吸引圧力を用いてマスク
とワークの平行出しを行う従来例を示す図である。ここ
においては、マスクＭを保持したマスクホルダー６０
と、ワークＷを保持したワークホルダー６２の間にキャ
リブレーション装置６２を挿入し、ワークホルダーの吸
引口６１から空気を吸引することによりワークをキャリ
ブレーション装置に密着させて平行出しを行っている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術の前者については鋼球がマスク及びワークに圧
接され、又、後者についてはキャリブレーション装置が
ワークに圧接されるので圧接時に摩擦が生じ、高価なマ
スクやワークの表面を損傷させてしまうおそれがあっ
た。

【０００６】ところで、露光前にはマスクとワークのア
ライメントを行い相対関係を正しい位置に調整する必要
がある。この場合、マスクアライナを例にとれば、マス
ク及びワークにそれぞれ付記したアライメント用のマー
クを顕微鏡で拡大し、ワークを搭載したステージを左右
前後移動及び平面回転移動し、固定されたマスク上のマ
ークを基準にワーク上のマークを重ね合わせてアライメ
ントを行っている。ところが、上記の従来技術の場合、
マスク及びワーク間にはキャリブレーション装置が挿入
されているので、そのままの状態ではアライメントマー
クの反射光を遮光してしまい、これを抜き出すことが必
要となる。この場合、そのままキャリブレーション装置
を抜き出すことは摩擦によりマスクやワークに損傷を生
じさせてしまうので行えない。そこで、キャリブレーシ
ョン装置を抜き出す場合は、ワークもしくはワークホル
ダーを一旦引き下げてから、更にキャリブレーション装
置をマスクもしくはマスクホルダーからも引き離す必要
があり制御が複雑となる。そして、制御も正逆駆動とな
り、駆動減速歯車などのバックラッシュによる誤差も発
生し平行出しの精度に影響を生じさせるおそれがあっ
た。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明は以上の従来技
術の問題点に鑑みて創作されたものであり、マスクとワ
ークに直接接触することなく平行出しが行える位置制御
装置を提供する。即ち、この発明の位置制御装置はマス
クに対するワーク面の傾きを非接触で検出するセンサー
を備えたキャリブレーション装置をマスクとワーク間に
対して進退自在に設けると共に、センサーにより検出し
たワーク面の傾きに応じてワークの角度を補正する角度
調節手段を設けたことを特徴とする。

【０００８】詳細には、基準面であるマスク面に対して
平行平面を精度的に確保したマスクのホルダー下面にキ
ャリブレーション装置の基準面である上面を当接し、キ
ャリブレーション装置にはレーザ発光素子と分割受光素
子からなるセンサーをワーク面内に一定の傾きをもって
複数個搭載する。そして、センサーに対してワーク面を
上昇移動させ検出信号が得られる状態まで接近する。こ
のように、光センサーを複数内蔵したキャリブレーショ
ン装置を用いてワーク面の傾きを非接触状態で検出し、
ワークのホルダーの底面を支持する複数個の駆動シリン
ダーを個別に制御して傾きを補正して平行出しを行う。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、この発明の具体的実施例を
半導体のウエハにマスクパターンを焼き付けるマスクア
ライナを例にとり説明する。先ずこの発明が実施される
マスクアライナの概略も含めて装置全体の概略を説明す
ることとする。

【００１０】図１はこの発明がマスクアライナの平面
図、図２はこの発明の実施部分の外観斜視図である。こ
のマスクアライナは露光のための水銀灯光源部１０、ウ
エハ１を露光のためにセットするセッティング部２、マ
スク１５とウエハ１のアライメントのためのアライメン
トスコープ９を主要構成部とする。マスクアライナの上
面には、未露光ウエハ１と露光済みウエハ１Ｘなどを区
分けして収納した複数のウエハ収納カセット１４が設け
られる。これらのウエハ収納カセット１４とセッティン
グ部２間のウエハの搬送及びセットはアーム５Ａにより
ウエハを保持して搬送する搬送ロボット５により行われ
る。搬送ロボット５は未露光ウエハ１を選択してオリフ
ラアライメント部３にセットし、所定のオリフラ位置に
回転制御した後、セッティング部２のウエハホルダー４
にセットする。

【００１１】図１０乃至図１８はこの発明の実施部分と
なる上記のセッティング部の詳細を示す一部切り欠き側
面図である。マスクホルダー６はウエハホルダー４の上
部に位置し、マスク１５を収納する部分にはウエハ１に
透過光を与え露光するための開口部２９とマスクとマス
クホルダーとの接触部の空気を抜き取るための吸引溝
（図示せず）が設けられる。

【００１２】セッティング部には外方からマスク１５と
ウエハ１間に向かってレール７が敷設され、このレール
７上をキャリブレーション装置８を搭載した走行基台２
６が走行する。ウエハ１が搬送ロボット５によってウエ
ハホルダー４上にセットされると走行基台２６が走行
し、キャリブレーション装置８をマスクホルダー６及び
ウエハホルダー４の位置まで移動する。キャリブレーシ
ョン装置８には複数個の電気シリンダー２５が搭載され
ており、マスクホルダー６下面にキャリブレーション装
置８上面を圧接する時に動作して、平行基準面を構成す
る。この平行基準面に対して、マスクに対するワーク面
の傾きを非接触で検出するセンサー１７とセンサーによ
り検出したワーク面の傾きに応じてワークの角度を補正
する角度調節手段からなる位置制御装置を駆動しウエハ
面の平行出しを行うこととなる。この位置制御装置がこ
の発明の実施部分となるものであり、その詳細は後記す
る。

【００１３】平行出し完了後は電気シリンダー２５を下
降させ、キャリブレーション装置８を元の位置まで退避
させ、前方に退避しているアライメントスコープ９をマ
スク１５及びウエハ１のアライメントマークが読み取れ
る位置まで移動する。前記位置制御装置の粗動及び微動
装置を駆動して焦点深度内まで上昇させ、アライメント
マーク信号をＣＣＤで検出する。検出信号を基に画像処
理アルゴリズムを動作し、位置制御装置が搭載されてい
る移動ステージを左右、前後、回転移動制御しマスク１
５とウエハ１のマークパターンを合致させ自動的にアラ
イメント処理を行う。

【００１４】アライメント動作終了後は、アライメント
スコープ９を元の位置に退避させる。その後、微動装置
でさらに位置制御装置を上昇させて、マスク１５にウエ
ハ１を密着させる。この位置では、マスクホルダー６の
下面に設けた環状のゴムよりなるシールド部材３０（詳
細は後記する）とウエハホルダー４のフランジ部が密着
し、マスク１５とウエハ１が接触した周辺の室を気密状
態にする。この状態で室内の空気を吸引することでマス
ク１５とウエハ１が平行状態を保って完全密着し高解像
度の焼き付けが可能となる。

【００１５】露光は水銀灯光源部１０内部にある高圧水
銀ランプを制御点灯して焼き付ける。露光後は再び搬送
ロボット５を動作作動させて露光済みウエハ１Ｘをカセ
ット１４に収納する。片面焼き付け後、裏面側を露光す
る場合も同様のプロセスで行うことができる。

【００１６】以下、この発明の実施部分である位置制御
装置の詳細を説明する。図３はキャリブレーション装置
８の下面に設けられるセンサー１７の詳細を示す図であ
る。このセンサ１７はマスクに対するワーク面の傾きを
非接触で検出する機能を果たせば種類は問わないが、こ
の実施例においてはレーザ発光素子１７Ａと分割受光素
子１７Ｂを採用し、図では水平面に対する発光素子１７
Ａの入射角θを４５度に設定した場合を示している。こ
の場合、反射角は４５度となることから受光素子１７Ｂ
の受光面は水平面に対して４５度に設定する。このセン
サー１７は発光中心面と受光中心面が一致するよう垂直
面を調整しキャリブレーション装置８内に固定される。

【００１７】この場合、図３に示すようにウエハ１がウ
エハホルダー４にセットされる時点では、受光位置から
外れた位置にあり点線で示す受光水準の位置までウエハ
１を上昇させる。この時点でウエハ面に傾きが生じてい
る場合は、反射角が所定の４５度からズレることから受
光外となる。そこでウエハホルダー４の下面に設置され
た各電気シリンダー１８を駆動し、水平状態に角度調整
して受光範囲内に収める。

【００１８】図４は受光素子１７Ｂの受光状態を示す図
である。受光素子１７Ｂは、受光部ＡとＢの２つの素子
に分割されており双方の素子（受光部Ａ、Ｂ）に反射光
が均等に入射し、出力が等しくなった時点が反射角が４
５度になったときである。この時の出力信号を検知し上
記のウエハホルダー４の角度調整用の電気シリンダー１
８の駆動を停止する。

【００１９】図５及び図６はセンサー１７の配列を示す
図である。ウエハホルダー４の下面（正確にはウエハホ
ルダーを載置した部材の下面）には、回動自在の軸受１
６が設置され、その前方に角度調整用の電気シリンダー
１８が２個配置され、ウエハホルダーを３点で支持して
いる。一方、キャリブレーション装置８下面にして軸受
１６と各電気シリンダー１８を結ぶ線上の近傍及び軸受
１６近傍には上記のセンサー１７を複数個配置すること
により、軸受１６と各電気シリンダー１８方向の傾き及
び電気シリンダー１８間の傾きを個々に検出し、この検
出値に基づきそれぞれの角度を調整しマスクに対する水
平出しを行う。尚、ウエハホルダー４の支持手段は３点
支持に限らず、全ての支持部材を電気シリンダーとした
４点支持であってもよいことは勿論である。

【００２０】図７はウエハに対するセンサーの配列関係
を示す図である。センサー１７はウエハ１の大きさに対
応して配列間隔を設定することが望ましい。ここでは各
ウエハサイズに対応した複数種の配列間隔を有する、セ
ンサー１７のキャリブレーション装置８への着脱手段
（ここではセンサーを嵌め込む固定穴を採用している）
を予め設定し、使用するウエハサイズに対応して設置位
置を変更できるようにしている。例えば、図７において
はａ、ｂ、ｃで示すセンサー１７の配列は小サイズのウ
エハ１Ｂに対応し、Ａ、Ｂ、Ｃで示す配列は大サイズの
ウエハ１Ａに対応する配列を示している。別の方法とし
て、センサー１７を保持する部材に移動調整可能な固定
穴を設け、使用するサイズに応じて固定位置を調整する
ようにしても良い。又、全てのサイズに対応したセンサ
ー１７を多数配列し取り付けて、選択的に使用すること
も可能である。

【００２１】図８及び図９はセンサーの設置角度と露光
パターンの関係を示す図である。多層露光する場合は、
露光済みパターンＰの上に感光層Ｒを再びコートする。
この場合、センサー１７の発光素子１７Ａの入射角θが
４５度を超えると図８に示すように、感光層Ｒを透過し
てパターン層に入りパターンＰからの反射光が受光素子
１７Ｂに入り込むため、傾きの正確な検出が出来ない。
そこで、図９に示すように発光素子１７Ａの入射角を４
５度以下に設定し、パターン層からの反射ノイズを無く
す工夫をしている。

【００２２】図１１乃至図１８はこの発明の位置制御装
置の各部材の構成及び作用を示す図である。先ず、図１
１に基づき各部材の構成を説明する。この位置制御部材
はウエハを露光のためにセットする前記のセッティング
部２と一体をなすものである。装置の基部２１には、ウ
エハを回転方向に移動させる回転ステージ２３が回動自
在に固定され、この上面にはウエハをＸＹ方向に移動さ
せるＸＹステージ２２が搭載される。搭載順位はＸＹス
テージの上に回転ステージが搭載されていても良い。Ｘ
Ｙステージ２２上にはガイド軸３１、３２が突設され、
各ガイド軸にはウエハを昇降させる移動台２７及び移動
台２８が摺動軸受を介して摺動自在に外挿される。この
場合、移動台２７にはそれに載置される移動台２８、ウ
エハホルダー４の荷重が加わるので、この荷重負担を軽
減するためにＸＹステージ２２との間にスプリング３３
を設けている。

【００２３】ＸＹステージ２２には粗動用エアーシリン
ダー２４が搭載され、移動台２７及び移動台２８を昇降
方向に粗動する。一方、移動台２７には電気シリンダー
１９が搭載され移動台２８を昇降方向に微動する。この
移動台２８には、自在軸受１６及び電気シリンダー１８
で支持されたウエハホルダー４が搭載される。ウエハホ
ルダー４の下面にして自在軸受１６と対向する位置に
は、移動台２８より突設された複数の電気シリンダー１
８の先端部が当接している。この場合、移動台２８とウ
エハホルダー４の間には板バネ３４の両端がそれぞれ固
定されることにより両者を引っ張り、電気シリンダー１
８の先端にウエハホルダー４の底面が当接するべく付勢
している。又、板バネ３４の固定によって、ウエハホル
ダー４は自在軸受１６に対して水平方向の回転が規制さ
れ、垂直方向のみの移動が許されることとなる。

【００２４】ウエハホルダー４の位置する高さの近傍に
は、レール７上を走行する走行基台２６に搭載されたキ
ャリブレーション装置８が配され、このキャリブレーシ
ョン装置の下面にはセンサー１７が複数個設けられる。

【００２５】キャリブレーション装置８の上方にして基
部２１に固定された柱上には、マスクホルダー６が固定
される。マスクホルダー６にはマスク１５が設置され、
マスクの下には露光用の開口部２９が設けてある。マス
クホルダー４の溝底平面には図示しないマスク位置決め
ピンとマスクを吸着するための空気吸入溝及び空気吸入
用の孔を多数設けている。

【００２６】次に、図１１乃至図１８に基づきこの発明
の位置制御装置の作用を説明する。尚、図１１の説明に
入る前に、搬送ロボット５からウエハホルダー４にウエ
ハ１が受け渡される動作を図１９乃至図２２に基づいて
先ず説明する。ウエハ１は、搬送ロボット５のアーム５
Ａによって真空吸着された状態でウエハホルダー４の真
上の位置まできて停止する。この時、ウエハホルダー４
はホームポジションの位置から上昇を開始しウエハ近傍
まで来て上昇を停止する（図２０参照）。ウエハホルダ
ー４の上面がウエハ面近傍に到達した時点でウエハホル
ダーの駆動を停止し、ウエハホルダーの中央に同心に位
置する昇降ステージ４Ａをウエハホルダーに対して上昇
させ空気吸引口４Ｂから空気吸引してウエハ１を吸着す
る。この場合、搬送ロボットのアーム５Ａの先端にはこ
の昇降ステージ４Ａの貫通を許す切り欠き５Ｂが設けて
あるので、昇降ステージ４Ａによる吸着までアーム５Ａ
による吸着を継続することが可能となり、ウエハ１の吸
着固定が途切れることが無く、位置ずれの無い正確な受
渡しが可能となる。

【００２７】昇降ステージ４Ａによる吸着後はロボット
のアーム５Ａにより吸引を止めて、アームに保持されて
いたウエハ１を昇降ステージ４Ａに移行させ、更に昇降
ステージ４Ａを下降してウエハをウエハホルダー４上面
に接近させる（図２２参照）。そして、アーム５Ａがウ
エハホルダー４の上面近傍位置まで近づいた段階でアー
ム５Ａをウエハホルダー上から退避させながら、ウエハ
ホルダーの吸引孔４Ｃから空気を吸引しウエハ１をウエ
ハホルダー上面に吸着する。

【００２８】以下、この発明の位置制御の作用を順を追
って説明する。図１１にはウエハホルダー４がロボット
のアーム５Ａから受け渡されたウエハ１を吸着した直後
の状態が図示されている。この時点ではキャリブレーシ
ョン装置８はレール７上のホームポジションで停止して
いるので、キャリブレーション装置が搭載されている走
行基台２６を走行させてキャリブレーション装置８をマ
スクホルダー６とウエハホルダー４間の所定位置に位置
させる（図１２の状態）。

【００２９】次に、走行基台２６上に搭載されているキ
ャリブレーション装置８を電気シリンダー２５により上
昇させてマスクホルダー６の下面に当接させる（図１３
及び図１４の状態）。この場合、マスクホルダー６の下
面とマスク１５の設置面の平行度は加工段階で出されて
おり、キャリブレーション装置８を当接することで双方
の平行出しが行われることとなる。

【００３０】キャリブレーション装置８がマスクホルダ
ー６に当接した後、移動台２７に突設された電気シリン
ダー１９を作動し、ウエハホルダー２６の上部に支持さ
れたウエハ１をキャリブレーション装置８下面のセンサ
ー１７に接近させる。この状態で移動台２８に突設され
た電気シリンダー１８を作動させ、前記した動作原理に
よってウエハホルダー４の傾きを調整する（図１５の状
態）。

【００３１】マスク１５とウエハ１の平行出し作業完了
後は、走行基台２６上の電気シリンダー２５を作動させ
てキャリブレーション装置８をマスクホルダー６への当
接位置から原点位置に下降させ、走行基台２６をホーム
ポジションに走行させる。その後、エアーシリンダー２
４を作動し、アライメントスコープ９の挿入位置で停止
させる（図１６の状態）。

【００３２】アライメントスコープ９を見ながらＸＹス
テージ２２及び回転ステージ２３を作動させマスク１５
とウエハ１の位置合わせを行う。次に移動台２７より突
設した電気シリンダー１９を作動し、マスク１５とウエ
ハ１が接触する位置までウエハホルダー４を上昇させ
る。この状態でマスク１５、マスクホルダー５、シール
ド部材３０及びウエハホルダー４で構成されるウエハ室
内が気密状態となる。そして、マスクホルダー６の吸引
口から吸引することでウエハ室内は真空状態に近づき、
マスク１５とウエハ１は密着する。シールド部材３０は
図３０に示すように環状のゴムからなるものであり、こ
れをマスクホルダー６の開口部２９周囲の下面に設けた
環状の溝６Ａ内に埋め込んでいる（図２９参照）。従
来、このシールドは薄いゴム製のシートによって行って
いたものであるが、この実施例のシールドの場合はより
耐久性が高く、劣化した場合の交換が容易であり、加え
て気密効果が高く、コストも低く済む。尚、シールド部
材３０の材質はゴムに限らずエラストマー先般から採択
可能なことはいうまでもない。

【００３３】上記の状態で露光シャッターを作動し、す
でに安定状態にある水銀灯を受光素子と制御回路からな
る露光装置で照射しウエハ１にマスク１５のパターンを
焼き付ける（図１７の状態）。

【００３４】焼き付け後は、マスクホルダー６に空気を
吹き込み、密着状態を解除した後に移動台２７に搭載の
シリンダー１９及び及びＸＹステージ２２より突設した
エアーシリンダー２４を作動させウエハホルダー４をホ
ームポジションまで下降し一連の露光動作を完了する
（図１８の状態）。

【００３５】２回目以降の焼き付けでは、ウエハホルダ
ー４とマスクホルダー６の平行出しは完了しているの
で、平行出しの工程は省略することができる。

【００３６】尚、以上の作用を実現するための制御はシ
ーケンス制御されるものであり、このシーケンスフロー
を図２３及び図２４に分割して記載する。

【００３７】

【発明の効果】以上の構成よりなるこの発明は次の特有
の効果を奏する。 キャリブレーション装置がマスクとウエハに直接接触
することないので、双方に損傷を与えずに平行・間隔調
整することが可能となる。 極僅かな間隔を高精度で制御ができ、前露光のパター
ンにセンサーが影響を受けないので確かなアライメント
ができる。 露光時には完全密着するので高い解像性が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明を実施したマスクアライナの平面
図。

【図２】 同上、この発明の実施部分の外観斜視図。

【図３】 この発明におけるセンサーの動作原理図。

【図４】 この発明におけるセンサーの動作原理図。

【図５】 この発明におけるキャリブレーション装置
の平面図。

【図６】 同上、側面図

【図７】 この発明におけるキャリブレーション装置
の異なる実施例の平面図。

【図８】 この発明におけるセンサーの動作原理図。

【図９】 この発明におけるセンサーの動作原理図。

【図１０】 この発明の位置制御装置の平面図。

【図１１】 この発明の位置制御装置の一部切り欠き側
面図。

【図１２】 この発明の位置制御装置の一部切り欠き側
面図。

【図１３】 この発明の位置制御装置の一部切り欠き側
面図。

【図１４】 この発明の位置制御装置の一部切り欠き側
面図。

【図１５】 この発明の位置制御装置の一部切り欠き側
面図。

【図１６】 この発明の位置制御装置の一部切り欠き側
面図。

【図１７】 この発明の位置制御装置の一部切り欠き側
面図。

【図１８】 この発明の位置制御装置の一部切り欠き側
面図。

【図１９】 この発明を実施したマスクアライナの搬送
ロボットとウエハの平面図。

【図２０】 同上、一部切り欠き側面図。

【図２１】 同上、一部切り欠き側面図。

【図２２】 同上、一部切り欠き側面図。

【図２３】 この発明の位置制御装置のシーケンスフロ
ー。

【図２４】 この発明の位置制御装置のシーケンスフロ
ー。

【図２５】 従来技術の位置制御装置の平面図。

【図２６】 同上、側面図

【図２７】 同上、平面図

【図２８】 同上、断面図

【図２９】 この発明の位置制御装置のマスクホルダー
部分の断面図。

【図３０】 同上、シールド部材の一部切り欠き斜視
図。

【符号の説明】

１ ウエハ（ワーク） ８ キャリブレーション装置 １５ マスク １７ センサー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柳生 哲朗 東京都板橋区志村２丁目19番17号 ユニオ ン光学株式会社内 (72)発明者 松本 徳嘉 東京都板橋区志村２丁目19番17号 ユニオ ン光学株式会社内 Ｆターム(参考） 5F046 BA01 CA02 CC01 CC02 CC03 CC05 CC06 CC20 CD01 CD04 DA05 DA22 DB05

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マスクに対するワーク面の傾きを非接触
   で検出するセンサーを備えたキャリブレーション装置を
   マスクとワーク間に対して進退自在に設けると共に、セ
   ンサーにより検出したワーク面の傾きに応じてワークの
   角度を補正する角度調節手段を設けたことを特徴とする
   マスクに対するワークの位置制御装置。
2. 【請求項２】 複数の支持点において支持されるホルダ
   ー上にワークを設けると共に、各支持点の支持高さを個
   別に変化させることによりワークを任意の角度に調整可
   能とし、一方、ワーク面の傾きを複数方向において検出
   するためにセンサーを複数個配し、各センサーにより検
   出した複数方向に傾きの値に基づき、各支持点の支持高
   さを個別に補正してワークの角度調節を行う請求項１記
   載のマスクに対するワークの位置制御装置。
3. 【請求項３】 ワークを設けるホルダーは３点支持さ
   れ、この内の一つの支持点の支持部材を軸受けとし、他
   の二つの支持点の支持部材を昇降部材とした請求項２記
   載のマスクに対するワークの位置制御装置。
4. 【請求項４】 センサーはレーザ発光素子と分割受光素
   子からなり、レーザビームの入射角をワーク面に対し４
   ５度以下に配置した請求項１から３の何れかに記載のマ
   スクに対するワークの位置制御装置。
5. 【請求項５】 センサーはキャリブレーション装置に設
   けた着脱手段に対し着脱自在とし、着脱手段を複数種の
   箇所に配することによりワークの大きさに対応してセン
   サーの設置位置を変更できるようにした請求項１から４
   の何れかに記載のマスクに対するワークの位置制御装
   置。
6. 【請求項６】 キャリブレーション装置をマスクとワー
   ク間に対して進退する走行基台上に昇降部材を介して設
   け、センサーによるワーク面の傾きの検出に際し、昇降
   部材によりキャリブレーション装置をマスクを設けたホ
   ルダーに当接して、マスクに対するキャリブレーション
   装置の平行出しを先ず行う請求項１から５の何れかに記
   載のマスクに対するワークの位置制御装置。