JP2000171744A

JP2000171744A - 光走査装置及び画像形成装置

Info

Publication number: JP2000171744A
Application number: JP36005698A
Authority: JP
Inventors: Naoki Kozuka; 直樹小塚
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1998-12-03
Filing date: 1998-12-03
Publication date: 2000-06-23

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は画像に影響を与える振動を簡単な構成
でかつ安価に抑制する光走査装置及び画像形成装置を提
供する。【解決手段】光走査装置１は、複数の光学部品３〜６を
搭載するベース２に遮光及び防塵を行うカバー８が取付
固定されており、カバー８は、その共振周波数が複数の
光学部品のうち少なくとも１つの光学部品３〜６の共振
周波数あるいはベース２と一致した状態で取付固定され
ている。光走査装置１は、高い精度が要求されず、か
つ、遮光等の目的で必ず取り付けられるカバー８に、光
学部品３〜６を搭載するベース２の振動を流して、光学
部品３〜６あるいはベース２を共振させる振動エネルギ
ーをカバー８で発散させることができ、安価かつ簡単な
構成で光学部品３〜６やベース２の振動を低減させて、
光走査性能を向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置及び画
像形成装置に関し、詳細には、画像に影響を与える振動
を簡単な構成で、かつ安価に抑制する光走査装置及び画
像形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザープリンタ、複写機及びフ
ァクシミリなど電子写真プロセスを用いて記録紙に画像
を記録する画像形成装置においては、被走査面（感光
体）をレーザー光等で走査して静電潜像を形成する光走
査装置で生じる振動が感光体ドラム等の被走査面の潜像
に重畳し、結果的に画像の振動を発生させることが知ら
れている。

【０００３】この画像の振動は、画像上にピッチ性を持
つムラであり、ジッター・バンディングと呼ばれる。こ
のジッター・バンディング現象は、光源と光学部品間、
光源単体、光源部品単体、あるいは、光走査装置と感光
体ドラム等の被走査面との間に生じる振動により光路の
振れが生じることに起因する。ここでいう光学部品に
は、光を走査するポリゴンミラー、光路の拡大・縮小を
行うレンズ、光路の曲げを行う反射ミラー及び主として
防塵目的であるが光を通過させるガラスなどが含まれ
る。

【０００４】従来、上記ジッター・バンディング現象に
対して、主としてミラー部を振動に強い適当な構造にす
ることで対処したり、光走査装置自体を本体に取り付け
る際に防振取付を行ったり、あるいは、光学部品の共振
周波数を画像ムラが目立たない周波数域に変更する等の
光走査装置及び光査光学装置が提案されている（特開昭
６０−２４４９２１号公報、特開平２−２５３２７４号
公報、特開平９−２６９４６０号公報及び特開平１０−
２２１６２７号公報等参照）。

【０００５】例えば、従来の緩衝剤を用いる方法は、図
１６に示すように、振動する部材（ターゲット）ＴＧに
振動吸収体ＭＧを接触させ、振動吸収体ＭＧの他面を拘
束板ＫＧ等で拘束している。

【０００６】この方法によると、図１６に破線矢印で示
すように外部から入ってくる振動の変位エネルギーを、
図１７に示すように、緩衝材等の振動吸収体ＭＧの内部
損失として消散させることができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の技術にあっては、意図する周波数の振動を簡
単な構成で、安価に、かつ、適切に抑制して、ジッター
・バンディングを適切に防止する上で、なお不十分であ
った。

【０００８】すなわち、上記緩衝材等の振動吸収体を用
いる方法は、特定の周波数成分、例えば、反射ミラーの
共振エネルギーや反射ミラーが外部から受ける特定周波
数の振動エネルギー等を選択的になくすことができな
い。すなわち、反射ミラーが共振を起こす場合は、ま
ず、反射ミラーを共振させて反射ミラーに振動振幅を与
え、その振動エネルギーを低減するというメカニズムに
基づいている。したがって、効率よく振動エネルギーを
低減するには、振動エネルギーを十分吸収させるため
に、緩衝材等の振動吸収体の実行面積を大きくする必要
があり、コストが高くなったり、本来大きさの面で設計
の自由度の小さい機能部品に対処する必要性から大きさ
に制約があり、所望する振動吸収を十分行うことができ
ないという問題があった。

【０００９】また、従来の共振周波数をずらす方法にあ
っても、上記同様に、精度的に厳しく、また設置スペー
スが極めて限定されている機能部品（光学部品）を、光
透過や光反射の機能を維持しながら配置する必要があ
り、設計の自由度が低く、汎用性に欠けるという問題が
あった。

【００１０】そこで、請求項１記載の発明は、複数の光
学部品を搭載するベース部材に遮光及び防塵を行うカバ
ー部材を取付固定する際、カバー部材を、その共振周波
数が複数の光学部品のうち少なくとも１つの光学部品の
共振周波数と一致した状態で取付固定することにより、
高い精度が要求されず、かつ、遮光等の目的で必ず取り
付けられるカバー部材に、光学部品を搭載するベース部
材の振動を流して、光学部品を共振させる振動エネルギ
ーをカバー部材で発散させ、安価かつ簡単な構成で光学
部品の振動を低減させて、光走査性能の良好な光走査装
置を提供することを目的としている。

【００１１】請求項２記載の発明は、複数の光学部品を
搭載するベース部材に遮光及び防塵を行うカバー部材を
取付固定する際、カバー部材を、その共振周波数がベー
ス部材の共振周波数と一致した状態で取付固定すること
により、高い精度が要求されず、かつ、遮光等の目的で
必ず取り付けられるカバー部材に、光学部品を搭載する
ベース部材の振動を流して、ベース部材を共振させる振
動エネルギーをカバー部材で発散させ、安価かつ簡単な
構成でベース部材の振動を低減させて、光走査性能の良
好な光走査装置を提供することを目的としている。

【００１２】請求項３記載の発明は、カバー部材を、ベ
ース部材との取付固定部に所定の金属部材が介在する状
態でベース部材に取付固定することにより、ベース部材
からカバー部材への振動伝達をより一層効率的に行い、
光学部品あるいはベース部材を共振させる振動エネルギ
ーをカバー部材でより一層適切に発散させ、安価かつ簡
単な構成で光学部品あるいはベース部材の振動を低減さ
せて、光走査性能の良好な光走査装置を提供することを
目的としている。

【００１３】請求項４記載の発明は、カバー部材の表面
に、所定の高分子材料を取り付けることにより、カバー
部材でより一層広範囲の振動を吸収するとともに、吸収
強度の周波数に対するバラツキを押さえて、光走査性能
のより一層良好な光走査装置を提供することを目的とし
ている。

【００１４】請求項５記載の発明は、カバー部材を、ベ
ース部材に所定の取付固定部でのみ取付固定し、当該取
付固定部以外のカバー部材とベース部材との接触部分
に、所定の発泡性部材を配設することにより、カバー部
材の共振周波数を光学部品あるいはベース部材の共振周
波数により一層適切に合わせ、カバー部材による振動エ
ネルギーの吸収性能をより一層向上させて、光走査性能
のより一層良好な光走査装置を提供することを目的とし
ている。

【００１５】請求項６記載の発明は、カバー部材を、複
数の光学部品あるいはベース部材の共振周波数に合わせ
た共振周波数を有する状態でそれぞれ個別にベース部材
に取付固定された複数のカバー部材で形成するととも
に、当該複数のカバー部材を、相互に非接触の状態でベ
ース部材に取付固定することにより、複数のカバー部材
で複数の光学部品やベース部材を共振させる振動エネル
ギーを発散させ、安価かつ簡単な構成で複数の光学部品
やベース部材の振動をより一層低減させて、光走査性能
のより一層良好な光走査装置を提供することを目的とし
ている。

【００１６】請求項７記載の発明は、画像形成装置の被
走査体の被走査面に潜像を形成する光走査装置として、
請求項１から請求項６のいずれかに記載の光走査装置を
用いることにより、安価かつ簡単な構成でジッター・バ
ンディングを適切に抑制して、画像品質を向上させるこ
とのできる画像形成装置を提供することを目的としてい
る。

【００１７】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明の光
走査装置は、光源から出射された光を主走査方向に走査
させ、当該走査させた光を被走査面に案内する前記光源
から前記被走査面までの複数の光学部品が所定のベース
部材に取り付けられ、当該ベース部材に遮光及び防塵を
行うカバー部材が取付固定された光走査装置において、
前記カバー部材は、その共振周波数を前記複数の光学部
品のうち少なくとも１つの光学部品の共振周波数と合わ
せた状態で取付固定されていることにより、上記目的を
達成している。

【００１８】上記構成によれば、複数の光学部品を搭載
するベース部材に遮光及び防塵を行うカバー部材を取付
固定する際、カバー部材を、その共振周波数が複数の光
学部品のうち少なくとも１つの光学部品の共振周波数と
一致した状態で取付固定しているので、高い精度が要求
されず、かつ、遮光等の目的で必ず取り付けられるカバ
ー部材に、光学部品を搭載するベース部材の振動を流し
て、光学部品を共振させる振動エネルギーをカバー部材
で発散させることができ、安価かつ簡単な構成で光学部
品の振動を低減させて、光走査性能を向上させることが
できる。

【００１９】請求項２記載の発明の光走査装置は、光源
から出射された光を主走査方向に走査させ、当該走査さ
せた光を被走査面に案内する前記光源から前記被走査面
までの複数の光学部品が所定のベース部材に取り付けら
れ、当該ベース部材に遮光及び防塵を行うカバー部材が
取付固定された光走査装置において、前記カバー部材
は、その共振周波数を前記ベース部材の共振周波数と合
わせた状態で取付固定されていることにより、上記目的
を達成している。

【００２０】上記構成によれば、複数の光学部品を搭載
するベース部材に遮光及び防塵を行うカバー部材を取付
固定する際、カバー部材を、その共振周波数がベース部
材の共振周波数と一致した状態で取付固定しているの
で、高い精度が要求されず、かつ、遮光等の目的で必ず
取り付けられるカバー部材に、光学部品を搭載するベー
ス部材の振動を流して、ベース部材を共振させる振動エ
ネルギーをカバー部材で発散させることができ、安価か
つ簡単な構成でベース部材の振動を低減させて、光走査
性能を向上させることができる。

【００２１】上記各場合において、例えば、請求項３に
記載するように、前記カバー部材は、前記ベース部材と
の取付固定部に所定の金属部材が介在する状態で前記ベ
ース部材に取付固定されていてもよい。

【００２２】上記構成によれば、カバー部材を、ベース
部材との取付固定部に所定の金属部材が介在する状態で
ベース部材に取付固定しているので、ベース部材からカ
バー部材への振動伝達をより一層効率的に行って、光学
部品あるいはベース部材を共振させる振動エネルギーを
カバー部材でより一層適切に発散させることができ、安
価かつ簡単な構成で光学部品あるいはベース部材の振動
をより一層低減させて、光走査性能をより一層向上させ
ることができる。

【００２３】また、例えば、請求項４に記載するよう
に、前記カバー部材は、その表面に所定の高分子材料が
取り付けられていてもよい。

【００２４】上記構成によれば、カバー部材の表面に、
所定の高分子材料を取り付けているので、高分子材料の
作用でカバー部材でより一層広範囲の振動を吸収するこ
とができるとともに、吸収強度の周波数に対するバラツ
キを押さえることができ、光走査性能をより一層向上さ
せることができる。

【００２５】さらに、例えば、請求項５に記載するよう
に、前記光走査装置は、前記カバー部材が、前記ベース
部材に所定の取付固定部でのみ取付固定され、当該取付
固定部以外の前記カバー部材と前記ベース部材との接触
部分には、所定の発泡性部材が配設されていてもよい。

【００２６】上記構成によれば、カバー部材を、ベース
部材に所定の取付固定部でのみ取付固定し、当該取付固
定部以外のカバー部材とベース部材との接触部分に、所
定の発泡性部材を配設しているので、カバー部材の共振
周波数を光学部品あるいはベース部材の共振周波数によ
り一層適切に合わせることができ、カバー部材による振
動エネルギーの吸収性能をより一層向上させて、光走査
性能をより一層向上させることができる。

【００２７】また、例えば、請求項６に記載するよう
に、前記カバー部材は、前記複数の光学部品あるいは前
記ベース部材の共振周波数に合わせた共振周波数を有す
る状態でそれぞれ個別に前記ベース部材に取付固定され
た複数のカバー部材で形成されているとともに、当該複
数のカバー部材は、相互に非接触の状態で前記ベース部
材に取付固定されていてもよい。

【００２８】上記構成によれば、カバー部材を、複数の
光学部品あるいはベース部材の共振周波数に合わせた共
振周波数を有する状態でそれぞれ個別にベース部材に取
付固定された複数のカバー部材で形成するとともに、当
該複数のカバー部材を、相互に非接触の状態でベース部
材に取付固定しているので、複数のカバー部材で複数の
光学部品やベース部材を共振させる振動エネルギーを発
散させることができ、安価かつ簡単な構成で複数の光学
部品やベース部材の振動をより一層低減させて、光走査
性能をより一層向上させることができる。

【００２９】請求項７記載の発明の画像形成装置は、被
走査体の被走査面に光走査装置により光を走査して潜像
を形成し、当該潜像の形成された被走査面に現像剤を付
着させて現像して、当該被走査面上の現像剤画像を用紙
に転写して画像を形成する画像形成装置において、前記
被走査体の被走査面に前記潜像を形成する光走査装置と
して、前記請求項１から請求項６のいずれかに記載の光
走査装置を備えることにより、上記目的を達成してい
る。

【００３０】上記構成によれば、画像形成装置の被走査
体の被走査面に潜像を形成する光走査装置として、請求
項１から請求項６のいずれかに記載の光走査装置を用い
ているので、安価かつ簡単な構成でジッター・バンディ
ングを適切に抑制することができ、画像品質を向上させ
ることができる。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本
発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定す
る旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもので
はない。

【００３２】図１〜図８は、本発明の光走査装置及び画
像形成装置の第１の実施の形態を示す図であり、本実施
の形態は、請求項１から請求項４及び請求項７に対応す
るものである。

【００３３】図１は、本発明の装置の第１の実施の形態
を適用した光走査装置１の分解斜視図、図２は、図１の
光走査装置１のカバーを外した状態の斜視図、図３は、
図１の光走査装置の光学系の斜視図である。

【００３４】図１〜図３において、光走査装置１は、ベ
ース部材２に光源３、ポリゴンミラー４、拡大レンズ群
５、反射ミラー６及び被走査体７等が取り付けられてお
り、ベース部材２は、プラスチックあるいは金属板で上
部が開放された箱形状に形成されている。光走査装置１
は、半導体レーザ等の光源３から画像データにより変調
されたレーザー光がポリゴンミラー４に向かって出射さ
れ、回転されるポリゴンミラー４により光源３から入射
されるレーザー光を主走査方向に偏向して拡大レンズ群
５に入射させる。拡大レンズ群５は、入射されるレーザ
ー光を拡大して反射ミラー６に入射させ、反射ミラー６
は、入射されるレーザー光を被走査体７方向に反射し
て、被走査体７をレーザー光により走査する。

【００３５】光走査装置１は、図１に示すように、箱形
状のベース部材２の上部を覆うようにカバー（カバー部
材）８がベース部材２にネジ止め等により取り付けられ
ており、カバー８は、所定のプラスチックあるいは金属
により板状に形成されている。カバー８は、通常、防塵
や遮光を目的として一般の光走査装置にも設けられる
が、本実施の形態の光走査装置１では、防塵や遮光だけ
でなく、アクティブダンパーの共振構造体としての機能
を持たせて、光走査装置１の振動を抑制している。

【００３６】このカバー８は、ベース部材２がプラスチ
ック性である場合には、図示しないが、振動伝達率の良
好な金属をカバー８との取り付け面の間に配設した状態
でベース部材２に取り付けられており、ベース部材２の
振動がカバー８に流れやすい状態となっている。この場
合、ベース部材２が樹脂モールドで作成されるときに
は、樹脂モールドによるプラスチック製のベース２に金
属のインサーションを設け、このインサーションにネジ
によりカバー８を取り付けて、ベース部材２にカバー８
を取り付けることが最適である。すなわち、インサーシ
ョンは、樹脂モールドに対して、通常圧入されるため、
接着層等の特別な界面を有することなく、ベース部材２
の振動をカバー８に伝達させることができる。

【００３７】次に、本実施の形態の作用を説明する。光
走査装置１は、上述のように、光源３から画像データに
より変調されたレーザー光をポリゴンミラー４に向かっ
て出射させて、ポリゴンミラー４によりレーザー光を主
走査方向に偏向して拡大レンズ群５に入射させ、拡大レ
ンズ群５及び反射ミラー６を介して被走査体７に照射す
る。

【００３８】この光走査装置１は、電子写真プロセスに
より画像を形成する複写機、プリンタ及びファクシミリ
装置等の画像形成装置に適用される。

【００３９】そして、画像形成装置では、被走査体７と
して回転駆動される感光体ドラムが一般に用いられ、感
光体ドラムである被走査体７には、照射されたレーザー
光により静電潜像が形成される。この静電潜像の形成さ
れた被走査体７にトナーを付着させて現像し、当該トナ
ー画像を記録紙に転写した後、記録紙上のトナー画像を
加熱・加圧して定着させる。

【００４０】このような光走査装置１や光走査装置１の
適用される画像形成装置においては、その光走査動作や
画像形成動作において、ポリゴンミラー４や被走査体７
等の駆動部分から振動が発生し、この振動が光路中の光
の揺れを発生させて、直接的に被走査体７へのレーザー
光の潜像の揺れとなり、画像上でピッチ性を有する濃度
ムラ（ジッター・バンディング）を生じる。

【００４１】この光路に揺れが発生する原因としては、
光源３から反射ミラー６に至る光学系内の部品の相対振
動、光学系内の部品単体の振動及び光源３自体の振動等
がある。

【００４２】これらの振動は、図４に示すように、光学
系内の駆動部品あるいは光学系外の駆動部品やギア・ベ
ルト等の動力伝達部品である１次振動源ＭＶ１で発生す
る１次振動が、筐体・ベース２及び動力伝達部品である
振動伝達系ＴＶを介して、個々の部品に伝わり、部品は
その振動に同調して剛体的に振動する。さらに、これら
伝達された振動の周波数が部品単体あるいは部品を取り
付けた状態での共振周波数に近い場合、振動を受けた部
品が共振し、２次振動源ＭＶ２となり、振動を増幅して
他の部品へと振動を伝える。

【００４３】したがって、光路の揺れを低減するために
は、１次振動を小さくする方法、伝達効率を低減する方
法及び共振を抑える方法等がある。

【００４４】また、画像形成装置の場合、たとえ光路に
揺れを生じてもその周波数が高いと、人間の目がある水
準以下のピッチ性を認識できないため、形成された画像
上では、人の目では知覚不可能な周波数が存在すること
となる。

【００４５】この人の目では知覚不可能な周波数の上限
（上限周波数）ｆ_MAXは、被走査体７上での線速度を
ｖ、人間が認識できるピッチの上限をχとすると、次式
で与えられる。

【００４６】ｆ_MAX＝ｖ／χ・・・（１）ここで、例えば、χ≒０．２ｍｍとすると、一般的な被
走査体７上での線速度ｖは、２５０ｍｍ／ｓ以下である
ため、上限周波数ｆ_MAXは、上記（１）式から、ｆ_MAX
＝１．２ｋＨｚ程度となる。したがって、たとえ、光路
が振動してもその周波数が、上記上限周波数ｆ_MAX以上
であれば、光走査装置１あるいは光走査装置１を適用し
た画像形成装置において、当該振動は問題とはならな
い。

【００４７】ところが、光走査装置１においては、実際
には、特に、反射ミラー６やベース２がその寸法的な条
件と材料条件により、上限周波数ｆ_MAX以下に共振周波
数を持つことが多く、共振が発生したり、振動伝達率が
増大する原因となる。

【００４８】そこで、本実施の形態の光走査装置１及び
光走査装置１を適用した画像形成装置においては、これ
ら拡大レンズ５や反射ミラー６等の光学部品及びベース
２等に伝わる振動を、主としてベース２内への遮光と防
塵を行う目的で必ず使われるカバー８に逃がすことで、
光学部品やベース２に伝搬され、消費される振動エネル
ギーを小さくして、光学部品の振動を抑制することで画
像ムラの発生を抑制している。

【００４９】すなわち、図５に示すように、振動系を構
成するターゲットＴＧに、ターゲットＴＧとは異なる共
振周波数を有する振動系ＳＧを付加すると、図５に破線
矢印で示すように、振動のパス（経路）が振動系ＳＧに
変更し、ターゲットＴＧの振動を抑制することができ
る。

【００５０】一般に、振動系に異なる共振周波数を有す
る振動系を付加すると、付加した系の共振周波数に等し
い成分の振動エネルギーが付加系に流れ、付加系に共振
を起こして、付加系で振動エネルギーを発散するアクテ
ィブダンパーが知られており、光走査装置１は、上記遮
光や防塵として必ず用いられるカバー８をこの付加系と
して利用している。

【００５１】このアクティブダンパーは、図６に示すよ
うに、一般的に、メイン構造体１００（質量Ｍ₂、剛性
Ｋ₂のバネ１０１及び減衰率Ｃ₂の減衰器１０２）に、
図７及び図８に示すように、共振構造体２００（質量Ｍ
₁、剛性Ｋ₁のバネ２０１及び減衰率Ｃ₁の減衰器２０
２）を取り付けることにより作成され、図７に示すよう
に、共振構造体２００に減衰器２０２を有しない場合を
非減衰系、図８に示すように、共振構造体２００に減衰
器２０２を有する場合を減衰系という。実際の光走査装
置１や光走査装置１を適用した画像形成装置の構造にお
いては、メイン構造体１００の質量（Ｍ₂）部分は、フ
レームやベース２等の構造自体を、そのバネ２０１の剛
性Ｋ₂は、その構造の有する剛性を、減衰器２０２の減
衰率Ｃ₂は、その構造の有する減衰率を示しており、共
振構造体２００は、これらのフレームやベース２の共振
を押さえるために付加的に付けられる構造であり、本実
施の形態では、カバー８である。なお、図６、図７及び
図８では、振動モデルとして一般化して示している。

【００５２】ここで、メイン構造体１００に入力される
任意の周波数の振動ωの振動変位Ｘ_stに対する応答倍率
｜Ｘ／Ｘ_st｜を示す振動伝達率は、次式により算出さ
れ、当該振動ωと振動伝達率は、グラフで表示すると、
図９から図１１に示すように表示される。

【００５３】｜Ｘ／Ｘ_st｜＝β²｛［（１−α²）²＋４ｈ₁₂α²］／［（１−α²）（β ² −α²）−μα²−４ｈ₁ｈ₂βα²］＋４α²［ｈ₁（β²−α²）＋ｈ₂ β（１−α²）−ｈ₁μα²］｝^1/2・・・（１）ただし、ω₁＝（Ｋ₁／Ｍ₁）^1/2、ω₂＝（Ｋ₂／
Ｍ₂）^1/2、μ＝Ｍ₁／Ｍ₂、ｈ₁＝Ｃ／２（Ｍ₁Ｋ₁）
^1/2、ｈ₂＝Ｃ₂／２（Ｍ₂Ｋ₂）^1/2、α＝ω／
ω₁、β＝ω₂／ω₁である。

【００５４】図９から図１１において、縦軸は、メイン
構造体１００の振動の増幅割合をデシベルで示してお
り、横軸は、メイン構造体１００に入力（伝達）される
振動の周波数ωとメイン構造体１００の共振周波数ω₂
の比（ω／ω₂）である。振動伝達率は、その値が小さ
いほどメイン構造体１００に振動が伝わりにくくなり、
メイン構造体１００の振動振幅が小さくなる。したがっ
て、振動伝達率の値が「０」になると、メイン構造体１
００は、その周波数で全く振動しないこととなる。

【００５５】以下、アクティブダンパーの機能について
説明する。まず、振動ダンパー（共振構造体２００）を
取り付ける前は、メイン構造体１００の振動伝達率は、
図９に無制御の場合、すなわち、メイン構造体１００に
共振構造体２００が付加されていない場合のグラフとし
て示すように、メイン構造体１００に入力する振動の周
波数をω、メイン構造体１００の共振周波数をω₂とし
たとき、ω／ω₂≒１であると、メイン構造体１００自
身が共振を起こして、図９に無制御の場合として実線で
示すように、振動を激しく増幅することとなる。このと
きの振動伝達率は、図９のグラフの縦軸の倍率となる。
例えば、図９に実線で示す場合では、ω／ω₂＝１で、
伝達率は、２５ｄＢ＝３１６倍となる。ところが、この
２５ｄＢという伝達率は、メイン構造体１００の有する
減衰率Ｃ₂の減衰器、すなわち、メイン構造体１００の
構造や材質で左右され、メイン構造体１００が通常のフ
レーム等の構造体である場合には、２０ｄＢ（１００
倍）〜６０ｄＢ（１００万倍）の値となる。すなわち、
メイン構造体１００が共振すると、入力された振動が極
端に増幅して、その増幅された振動がフレームに固定さ
れている別の部材に伝達される。例えば、入力される振
動の振幅が１０μｍであり、振動伝達率が２５ｄＢであ
ると、増幅後の振動の振幅は、３ｍｍとなる。

【００５６】そして、複写機やプリンタ等の画像形成装
置においては、画像ムラは、伝達された振動量に敏感で
あるため、伝達される振動量が少なくなるほどジッター
・バンディングを抑制する上で有利である。すなわち、
ベース２等の光学系を支持する支持部材に要求される性
能としては、たとえ振動を増幅しうる周波数帯が広くて
も、極端に振動を大きく増幅する周波数が無いこと、す
なわち、極端に振動伝達率の高い周波数がないことが重
要である。

【００５７】次に、図７の場合のように、非減衰系の共
振構造体２００をメイン構造体１００に取り付けた場合
について説明する。メイン構造体１００に非減衰系の共
振構造体２００を取り付けて、メイン構造体１００の振
動を吸収させて、メイン構造体１００の共振周波数ω₂
で共振しないようにするためには、非減衰系の共振構造
体２００はその共振周波数ω₁でメイン構造体１００の
振動を吸収するので、非減衰系の共振構造体２００の共
振周波数ω₁をメイン構造体１００の共振周波数ω₂に
合わせる、すなわち、ω₁＝ω₂とする必要がある。

【００５８】このように非減衰系の共振構造体２００の
共振周波数ω₁をメイン構造体１００の共振周波数ω₂
に合わせた状態で、メイン構造体１００に周波数ωなる
振動が入力された場合のメイン構造体１００上の振動伝
達率は、図９に非減衰系の場合として破線で示すよう
に、入力される振動の周波数ωが、ω＝ω₂（＝ω₁）
となる周波数で、振動伝達率が「０」となる反共振点
（メイン構造体１００が全く振動しない周波数）を生
じ、反共振点の近傍で振動伝達率が「１」よりも小さい
（振動伝達率＜１）領域を生じる。この反共振点は、上
述のように、付加系である非減衰系の共振構造体２００
（振動ダンパー）に振動エネルギーが流れ、付加系の共
振で振動エネルギーが消散するために形成される。

【００５９】ところが、非減衰系の共振構造体２００を
付加した場合は、図９の破線で示したように、反共振点
の周囲に２つの振動伝達率の高い領域が生じ、上述した
ように、フレームやベース２等に要求される性能に反し
て、ジッター・バンディングを抑制する上で不適当であ
る。

【００６０】そして、図８に示した減衰系の共振構造体
２００をメイン構造体１００に取り付けた場合には、減
衰器２０２の減衰率Ｃ₁の値と共振構造体２００の共振
周波数ω₁及び共振構造体２００の質量Ｍ₁とメイン構
造体の質量Ｍ₂の質量比（約Ｍ₁／Ｍ₂）を適切に設定
することにより、図１０に示すように、メイン構造体１
００上の振動伝達率を小さく抑制することができる。な
お、この場合においても、振動ダンパーである共振構造
体２００は、メイン構造体１００がその共振周波数ω₂
で共振しないようにするために、減衰系の共振構造体２
００の共振周波数ω₁は、をメイン構造体１００の共振
周波数ω₂に調整（ω₁＝ω₂）されている。

【００６１】なお、図１０において、実線、破線及び一
点鎖線で示す各波形は、上記（１）式において、μ＝
０．０５、β＝１．０５の場合であり、特に、実線で示
した最適状態は、ｈ₁＝０．３０とした場合である。

【００６２】この減衰系の共振構造体２００をメイン構
造体１００に取り付けた場合には、図１０からも分かる
ように、メイン構造体１００上での振動伝達率は広い周
波数範囲で増幅傾向にあるが、増幅率は小さく、フレー
ムやベース２等の光学系の支持体に要求される性能に適
合しており、ジッター・バンディングを抑制する上で適
当である。また、共振構造体２００の調整が不適当な場
合には、図１０に破線及び一点鎖線で示すように、比較
的振動伝達率の増幅率の高い部分を生じるが、その増幅
率は、１０ｄＢ（＝１０倍）以下であり、ジッター・バ
ンディングを抑制する上で問題となる大きさではない。
さらに、図１１に破線や一点鎖線で示すような調整が不
良の場合であっても、このような調整の問題を決定する
部分は、メイン構造体１００ではなく、共振構造体２０
０、すなわち、アクティブダンパーを光走査装置１や光
走査装置１を用いた画像形成装置に適用する場合、メイ
ン構造体１００として機能するベース２ではなく、共振
構造体２００として機能するカバー２を調整することに
より、図１０の実線で示した最適状態に設定することが
でき、最適状態への設定を容易に行うことができる。

【００６３】なお、メイン構造体１００に共振構造体２
００を取り付けない場合においても、メイン構造体１０
０の共振器１０２の減衰率Ｃ₂を大きくすることによ
り、図１１に減衰を増加した場合のメイン構造体１００
の振動伝達率で示すように、ジッター・バンディングを
抑制することは理論的には実現することができる。

【００６４】ところが、実際には、メイン構造体１００
であるカバー８以外の光走査装置１が複雑であり、減衰
率Ｃ₂の大きさを制御することが困難であること及び振
動伝達率のピークを１０ｄＢ以下に抑えるほどの減衰率
に設定することが実際の光走査装置１や光走査装置１を
適用した画像形成装置のベース２やフレーム等ではコス
トや形状・材質面で現実性が困難であることから、メイ
ン構造体１００のみでジッター・バンディングを抑制す
ることが困難である。

【００６５】次に、メイン構造体１００の共振周波数が
非常に高いか、あるいは、非常に低く、メイン構造体１
００の共振が画像ムラの発生する周波数帯域から外れて
おり、共振による振動増幅が問題にならない状態のとき
に、共振構造体２００がメイン構造体１００に取り付け
られている場合について説明する。

【００６６】まず、メイン構造体１００の共振周波数が
非常に高い（ω／ω₂が小さい）場合には、メイン構造
体１００単体では、図９に示したように、メイン構造体
１００の振動伝達率は、「１」となり、外部から入って
きた振動をそのまま伝えることとなる。すなわち、メイ
ン構造体１００の共振を抑えるために共振構造体２００
を制御する必要がない。このとき、メイン構造体１００
上に共振構造体２００が取り付けられると、共振構造体
２００は、上述のように、振動吸収の原理により、メイ
ン構造体１００に入ってきた振動を吸収する。このとき
の周波数帯と吸収量は、図９に横軸をω／ω₁で置き換
えたときの縦軸の量に相当する。したがって、共振構造
体２００が取り付けられたメイン構造体１００は、共振
構造体２００で吸収される振動成分を減衰させて振動を
伝えることになり、振動吸収の効果を期待することがで
きる。

【００６７】逆に、メイン構造体１００の共振周波数が
非常に低い（ω／ω₂が大きい）場合には、メイン構造
体１００単体の振動伝達率は、「０」となり、外部から
入ってきた振動を全く伝えない。したがって、メイン構
造体１００上に共振構造体２００を取り付けても、共振
構造体２００自体に伝達される振動成分がないため、共
振構造体２００は、特に振動成分を減衰させる効果を発
揮させないが、悪影響を与えることもない。

【００６８】このように、メイン構造体１００に共振構
造体２００を取り付けることにより、メイン構造体１０
０に発生して振動を適切に減衰させることができる。

【００６９】そこで、本実施の形態の光走査装置１は、
カバー８を共振構造体２００として用いることにより、
光走査装置１及び光走査装置１を適用した画像形成装置
の振動を減衰させている。

【００７０】すなわち、カバー８は、その共振周波数に
相当する周波数の振動成分を、拡大レンズ５や反射ミラ
ー６等の光学部品の搭載されているベース２から吸収
し、吸収した振動を発散させる。

【００７１】そして、カバー８自体は、通常、遮光と防
塵以外に主たる機能を有していないため、振動変位をい
くら有していてもよいため、カバー８の共振周波数を適
宜設定することができる。このカバー８の共振周波数
は、その材料、カバー８とベース２との固定位置及びそ
の形状等で決定され、有限要素法等による振動計算から
容易に求めることができる。また、カバー８は、その板
厚や形状を変更したり、後述するように、枚数を増やす
ことが容易であり、設計の自由度が高い。さらに、カバ
ー８の共振周波数は、１つではなく、１次共振周波数、
２次共振周波数、・・・、ｎ次共振周波数と複数存在す
るため、光走査装置１の構成部品の振動に合わせて、カ
バー８の各次の共振周波数を設定することができる。

【００７２】そこで、本実施の形態の光走査装置１は、
カバー８の共振周波数を、光路の振れに対して敏感な拡
大レンズ５や反射ミラー６に代表される光学部品の共振
周波数に合わせている。そして、拡大レンズ５や反射ミ
ラー６との光学部品は、一般的に、ベース２に対して直
接取り付けられてはおらず、図示しない板ばねによる押
しつけや緩衝材や接着剤を介して間接的に取り付けられ
ており、このような間接的な取付は、ミクロ的に見る
と、取付面で摩擦接触していることを意味し、振動伝達
の見地からは、抵抗となる。したがって、光学部品は、
ベース２に直接取り付けられた同じ共振周波数を有する
カバー８と比較すると、カバー８よりも振動が伝達され
にくい状態となっている。すなわち、ベース２から伝わ
る振動は、光学部品よりも振動が流れやすいカバー８に
流れ、光学部品を共振させにくくする効果を有してい
る。

【００７３】このように、本実施の形態の光走査装置１
は、複数の光学部品、すなわち、光源３、ポリゴンミラ
ー４、拡大レンズ５及び反射ミラー６を搭載するベース
２に遮光及び防塵を行うカバー８を取付固定する際、カ
バー８を、その共振周波数が複数の光学部品３〜６のう
ち少なくとも１つの光学部品３〜６の共振周波数と一致
した状態で取付固定している。

【００７４】したがって、高い精度が要求されず、か
つ、遮光等の目的で必ず取り付けられるカバー８に、光
学部品３〜６を搭載するベース２の振動を流して、光学
部品３〜６を共振させる振動エネルギーをカバー８で発
散させることができ、安価かつ簡単な構成で光学部品３
〜６の振動を低減させて、光走査性能を向上させること
ができる。

【００７５】また、光走査装置１においては、カバー８
は、その１次共振周波数ｆ_c1を、反射ミラー６の１次共
振周波数ｆ_M1にあわせ、その２次共振周波数ｆ_c2を、拡
大レンズ５の１次共振周波数ｆ_L1にあわせるようにして
もよいし、また、カバー８の１次共振周波数ｆ_c1と２次
共振周波数ｆ_c2を、反射ミラー６の１次共振周波数ｆ_M1
と２次共振周波数ｆ_M2にあわせてもよい。さらに、カバ
ー８の１次共振周波数ｆ_c1と２次共振周波数ｆ_c2を、拡
大レンズ５の１次共振周波数ｆ_L1と２次共振周波数ｆ_L2
にあわせてもよい。

【００７６】このようにすると、各光学部品３〜６の振
動をカバー８で適切に吸収して、より一層光走査性能を
向上させることができる。

【００７７】さらに、光走査装置１において、カバー８
は、その共振周波数を、ベース２の共振周波数に合わせ
てもよい。この場合、カバー８のベース２への取り付け
は、振動伝達率の良好な直付けが好ましいが、一般的に
は、プラスチックは金属に比較して、材料的な内部損失
が大きく、振動伝達率が悪いため、光走査装置１では、
上述のように、ベース２が樹脂モールド製のプラスチッ
クである場合には、樹脂モールド製のベース２にインサ
ーションを設けて、このインサーションにネジによりカ
バー８を取り付けることにより、振動伝達率の良好な金
属をカバー８との取り付け面に設けて、ベース２の振動
をカバー８に流しやすくすることができる。

【００７８】このように、カバー８の共振周波数をベー
ス２の共振周波数に合わせると、ベース２の振動を共振
構造体２００であるカバー８に流して、カバー８の共振
で振動エネルギーを消散させることができ、ジッター・
バンディングを抑制することができる。そして、カバー
８と樹脂モールド製のベース２との取り付け面に金属を
介在させると、ベース２の振動をより一層効率的にカバ
ー８に流して、ベース２の振動をより一層抑制すること
ができ、ジッター・バンディングをより一層抑制するこ
とができる。

【００７９】また、光走査装置１において、カバー８の
表面に、振動を減衰する効果を有する高分子材料を取り
付けてもよい。この高分子材料としては、例えば、一般
的なプラスチック、ゲル、発泡性樹脂等を用いることが
できる。

【００８０】このように、カバー８の表面に振動を減衰
する効果を有する高分子材料を取り付けると、カバー８
自体に振動を減衰させる機能を持たせることができ、よ
り一層ジッター・バンディングを抑制することができ
る。

【００８１】さらに、カバー８は、それ自体精度的に
も、大きさ的にも、設計の自由度を大きくすることがで
き、振動低減効果を有効に作用させる形状寸法を構成す
ることができる。したがって、光走査装置１の設計上の
自由度を大きくすることができる。

【００８２】図１２及び図１３は、本発明の光走査装置
及び画像形成装置の第２の実施の形態を示す図であり、
本実施の形態は、ベースに取り付けるカバーとベースと
の境界部分に発泡材料を介在させたもので、請求項５に
対応するものである。

【００８３】なお、本実施の形態は、上記第１の実施の
形態と同様の光走査装置に適用したものであり、本実施
の形態の説明において、上記実施の形態の構成と同様の
構成部分には、同一の符号を用いて説明する。

【００８４】図１２は、本発明の光走査装置及び画像形
成装置の第２の実施の形態を適用した光走査装置２０の
上面図、図１３は、図１２の光走査装置２０の側面断面
図である。

【００８５】図１２及び図１３において、光走査装置２
０は、図示しない光源３、ポリゴンミラー４、拡大レン
ズ群５、反射ミラー６及び被走査体７等が取り付けられ
た上部が開放された箱形状のベース２を備え、このベー
ス２の上部開放部分にカバー８が取り付けられて、防塵
・遮光が行われている。カバー８は、複数の所定の取付
固定位置でそれぞれネジ２１によりベース２に取付固定
されており、このカバー８とベース２との接触境界部分
には、発泡性材料２２が取り付けられている。この発泡
性材料２２としては、例えば、光を透過させないウレタ
ン等を用いることができ、カバー８として本来有してい
る遮光性・防塵性を確保でき、かつ、後述する振動伝達
率の低い部材であれば、適宜使用することができる。

【００８６】本実施の形態の光走査装置２０のカバー８
は、上述のように、防塵及び遮光を目的として取り付け
るだけでなく、カバー８にベース２に発生する振動を流
して、カバー８で振動を発散させる目的を有している。
このカバー８は、その共振特性を十分活かすためには、
ベース２への取付固定位置、すなわち、ネジ２１による
取付固定位置以外の部分で、ベース２に接触する部分、
すなわち、ベース２と接触する外周部分での振動伝達が
極度に低いことが要求される。

【００８７】すなわち、この取付固定位置以外の部分
で、カバー８がベース２に直接接触したり、固定されて
いると、振動伝達率が高くなるとともに、カバー８の変
形が拘束されることとなり、カバー８の共振周波数が静
的あるいは動的に変化して、ベース２の振動エネルギー
を適切に発散させることができなくなる。

【００８８】そこで、本実施の形態の光走査装置２０
は、カバー８をベース２に取付固定する際、取付固定位
置であるネジ２１の取付部分以外でカバー８とベース２
が直接接触する部分に発泡性材料２２を配設している。

【００８９】このように、本実施の形態の光走査装置２
０は、カバー８を、ベース２に予め決定した取付固定部
でのみネジ２１により取付固定し、当該取付固定部以外
のカバー８とベース２との接触部分に、発泡性材料２２
を配設している。

【００９０】したがって、カバー８の共振周波数を光学
部品３〜６あるいはベース２の共振周波数により一層適
切に合わせることができ、カバー８による振動エネルギ
ーの吸収性能をより一層向上させて、光走査性能をより
一層向上させることができる。

【００９１】図１４及び図１５は、本発明の光走査装置
及び画像形成装置の第３の実施の形態を示す図であり、
本実施の形態は、複数のカバーをベースに取り付けたも
ので、請求項に対応するものである。

【００９２】なお、本実施の形態は、上記第１の実施の
形態と同様の光走査装置に適用したものであり、本実施
の形態の説明において、上記実施の形態の構成と同様の
構成部分には、同一の符号を用いて説明する。

【００９３】図１４は、本発明の光走査装置及び画像形
成装置の第３の実施の形態を適用した光走査装置３０の
分解斜視図、図１５は、図１４の光走査装置３０の側面
図である。

【００９４】図１４及び図１５において、光走査装置３
０は、光源３、ポリゴンミラー４、拡大レンズ群５、反
射ミラー６及び被走査体７等が取り付けられた上部が開
放された箱形状のベース２を備え、このベース２の上部
開放部分にカバー３１とカバー３２が取り付けられて、
防塵・遮光が行われている。

【００９５】カバー３１は、ベース２のポリゴンミラー
４と拡大レンズ群５が収納されている部分以外の部分の
上部開放部分を閉止する形状に形成されて、ポリゴンミ
ラー４と拡大レンズ群５が収納されている部分以外の部
分の上部開放部分を閉止する状態で図示しないネジ等に
よりベース２に直接取付固定されており、カバー３２
は、ベース２のポリゴンミラー４と拡大レンズ群５が収
納されている部分の上部開放部分を閉止するとともに、
図１５に示すように、所定量だけカバー３１の縁部分に
重なり合う大きさに形成されて、当該ポリゴンミラー４
と拡大レンズ群５が収納されている部分の上部開放部分
を閉止する状態で図示しないネジ等によりベース２に直
接取付固定されている。

【００９６】また、カバー３１とカバー３２は、相互に
直接接触しないように所定の間隔を空けるか、所定の発
泡性部材を間に挟んだ状態でベース２に取付固定されて
おり、カバー３１とカバー３２のそれぞれの共振周波数
に応じて、振動して、ベース２から伝達される振動エネ
ルギーを消散する。

【００９７】そして、カバー３１及びカバー３２は、振
動を抑制する対象の光学部品、例えば、拡大レンズ群
５、ポリゴンミラー４や反射ミラー６等あるいはベース
２の共振周波数に合わせた共振周波数をカバー３１とカ
バー３２のそれぞれが有するように設定されている。

【００９８】このように、本実施の形態の光走査装置３
０は、カバー３１及びカバー３２は、上述のように、防
塵及び遮光を目的として取り付けるだけでなく、カバー
３１及びカバー３２にベース２に発生する振動を流し
て、カバー３１及びカバー３２で振動を発散させる目的
を有している。このカバー３１及びカバー３２は、振動
を抑制する光学部品３〜６やベース２の共振周波数に応
じた共振周波数を有するとともに、相互に接触しない状
態で取付固定されているため、カバー３１とカバー３２
の共振周波数の振動エネルギーを消散させて、当該光学
部品３〜６やベース２の振動を抑制する。

【００９９】したがって、複数のカバー３１、３２で複
数の光学部品３〜６やベース２を共振させる振動エネル
ギーを発散させることができ、安価かつ簡単な構成で複
数の光学部品３〜６やベース２の振動をより一層低減さ
せて、光走査性能をより一層向上させることができる。

【０１００】なお、本実施の形態においては、ベース２
に２枚のカバー３１、３２を取り付けているが、取り付
けるカバーの枚数は、２枚に限るものではなく、振動を
抑制する光学部品３〜６やベース２に応じて、当該光学
部品３〜６やベース２の数だけの数を取り付けてもよ
い。

【０１０１】以上、本発明者によってなされた発明を好
適な実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
上記のものに限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。

【０１０２】

【発明の効果】請求項１記載の発明の光走査装置によれ
ば、複数の光学部品を搭載するベース部材に遮光及び防
塵を行うカバー部材を取付固定する際、カバー部材を、
その共振周波数が複数の光学部品のうち少なくとも１つ
の光学部品の共振周波数と一致した状態で取付固定して
いるので、高い精度が要求されず、かつ、遮光等の目的
で必ず取り付けられるカバー部材に、光学部品を搭載す
るベース部材の振動を流して、光学部品を共振させる振
動エネルギーをカバー部材で発散させることができ、安
価かつ簡単な構成で光学部品の振動を低減させて、光走
査性能を向上させることができる。

【０１０３】請求項２記載の発明の光走査装置によれ
ば、複数の光学部品を搭載するベース部材に遮光及び防
塵を行うカバー部材を取付固定する際、カバー部材を、
その共振周波数がベース部材の共振周波数と一致した状
態で取付固定しているので、高い精度が要求されず、か
つ、遮光等の目的で必ず取り付けられるカバー部材に、
光学部品を搭載するベース部材の振動を流して、ベース
部材を共振させる振動エネルギーをカバー部材で発散さ
せることができ、安価かつ簡単な構成でベース部材の振
動を低減させて、光走査性能を向上させることができ
る。

【０１０４】請求項３記載の発明の光走査装置によれ
ば、カバー部材を、ベース部材との取付固定部に所定の
金属部材が介在する状態でベース部材に取付固定してい
るので、ベース部材からカバー部材への振動伝達をより
一層効率的に行って、光学部品あるいはベース部材を共
振させる振動エネルギーをカバー部材でより一層適切に
発散させることができ、安価かつ簡単な構成で光学部品
あるいはベース部材の振動をより一層低減させて、光走
査性能をより一層向上させることができる。

【０１０５】請求項４記載の発明の光走査装置によれ
ば、カバー部材の表面に、所定の高分子材料を取り付け
ているので、高分子材料の作用でカバー部材でより一層
広範囲の振動を吸収することができるとともに、吸収強
度の周波数に対するバラツキを押さえることができ、光
走査性能をより一層向上させることができる。

【０１０６】請求項５記載の発明の光走査装置によれ
ば、カバー部材を、ベース部材に所定の取付固定部での
み取付固定し、当該取付固定部以外のカバー部材とベー
ス部材との接触部分に、所定の発泡性部材を配設してい
るので、カバー部材の共振周波数を光学部品あるいはベ
ース部材の共振周波数により一層適切に合わせることが
でき、カバー部材による振動エネルギーの吸収性能をよ
り一層向上させて、光走査性能をより一層向上させるこ
とができる。

【０１０７】請求項６記載の発明の光走査装置によれ
ば、カバー部材を、複数の光学部品あるいはベース部材
の共振周波数に合わせた共振周波数を有する状態でそれ
ぞれ個別にベース部材に取付固定された複数のカバー部
材で形成するとともに、当該複数のカバー部材を、相互
に非接触の状態でベース部材に取付固定しているので、
複数のカバー部材で複数の光学部品やベース部材を共振
させる振動エネルギーを発散させることができ、安価か
つ簡単な構成で複数の光学部品やベース部材の振動をよ
り一層低減させて、光走査性能をより一層向上させるこ
とができる。

【０１０８】請求項７記載の発明の画像形成装置によれ
ば、画像形成装置の被走査体の被走査面に潜像を形成す
る光走査装置として、請求項１から請求項６のいずれか
に記載の光走査装置を用いているので、安価かつ簡単な
構成でジッター・バンディングを適切に抑制することが
でき、画像品質を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光走査装置及び画像形成装置の第１の
実施の形態を適用した光走査装置の分解斜視図。

【図２】図１の光走査装置のカバーを外した状態の斜視
図。

【図３】図１の光走査装置の光学系の斜視図。

【図４】図１の光走査装置における振動の伝達系路を模
式的に示す図。

【図５】図１の光走査装置における振動の抑制原理を模
式的に示す図。

【図６】一般的なアクティブダンパーのメイン構造体の
模式図。

【図７】図６のメイン構造体に非減衰系の共振構造体を
付加したアクティブダンパーを模式的に示す図。

【図８】図６のメイン構造体に減衰系の共振構造体を付
加したアクティブダンパーを模式的に示す図。

【図９】図６のメイン構造体及び図７の非減衰系の共振
構造体を付加したアクティブダンパーでの共振振幅と加
振振動数比との関係を示すグラフ。

【図１０】図６のメイン構造体と図８の減衰系の共振構
造体を付加したアクティブダンパーでの共振振幅と加振
振動数比との関係を示すグラフ。

【図１１】図８の減衰系の共振構造体を付加したアクテ
ィブダンパーで共振構造体の減衰定数を変化させた場合
の共振振幅と加振振動数比との関係を示すグラフ。

【図１２】本発明の光走査装置及び画像形成装置の第２
の実施の形態を適用した光走査装置の上面図。

【図１３】図１２の光走査装置の側面断面図。

【図１４】本発明の光走査装置及び画像形成装置の第３
の実施の形態を適用した光走査装置の分解斜視図。

【図１５】図１４の光走査装置の側面図。

【図１６】従来の振動減衰原理を模式的に示す図。

【図１７】図１６の従来の振動減衰原理の模式図で振動
を減衰している状態を示す図。

【符号の説明】

１光走査装置２ベース部材３光源４ポリゴンミラー５拡大レンズ群６反射ミラー７被走査体８カバー２０光走査装置２１ネジ２２発泡性材料３０光走査装置３１、３２カバー

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源から出射された光を主走査方向に走査
させ、当該走査させた光を被走査面に案内する前記光源
から前記被走査面までの複数の光学部品が所定のベース
部材に取り付けられ、当該ベース部材に遮光及び防塵を
行うカバー部材が取付固定された光走査装置において、
前記カバー部材は、その共振周波数を前記複数の光学部
品のうち少なくとも１つの光学部品の共振周波数と合わ
せた状態で取付固定されていることを特徴とする光走査
装置。
【請求項２】光源から出射された光を主走査方向に走査
させ、当該走査させた光を被走査面に案内する前記光源
から前記被走査面までの複数の光学部品が所定のベース
部材に取り付けられ、当該ベース部材に遮光及び防塵を
行うカバー部材が取付固定された光走査装置において、
前記カバー部材は、その共振周波数を前記ベース部材の
共振周波数と合わせた状態で取付固定されていることを
特徴とする光走査装置。
【請求項３】前記カバー部材は、前記ベース部材との取
付固定部に所定の金属部材が介在する状態で前記ベース
部材に取付固定されていることを特徴とする請求項１ま
たは請求項２記載の光走査装置。
【請求項４】前記カバー部材は、その表面に所定の高分
子材料が取り付けられていることを特徴とする請求項１
から請求項３のいずれかに記載の光走査装置。
【請求項５】前記光走査装置は、前記カバー部材が、前
記ベース部材に所定の取付固定部でのみ取付固定され、
当該取付固定部以外の前記カバー部材と前記ベース部材
との接触部分には、所定の発泡性部材が配設されている
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記
載の光走査装置。
【請求項６】前記カバー部材は、前記複数の光学部品あ
るいは前記ベース部材の共振周波数に合わせた共振周波
数を有する状態でそれぞれ個別に前記ベース部材に取付
固定された複数のカバー部材で形成されているととも
に、当該複数のカバー部材は、相互に非接触の状態で前
記ベース部材に取付固定されていることを特徴とする請
求項１から請求項５のいずれかに記載の光走査装置。
【請求項７】被走査体の被走査面に光走査装置により光
を走査して潜像を形成し、当該潜像の形成された被走査
面に現像剤を付着させて現像して、当該被走査面上の現
像剤画像を用紙に転写して画像を形成する画像形成装置
において、前記被走査体の被走査面に前記潜像を形成す
る光走査装置として、前記請求項１から請求項６のいず
れかに記載の光走査装置を備えていることを特徴とする
画像形成装置。